JPH0345510U - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0345510U
JPH0345510U JP1990088446U JP8844690U JPH0345510U JP H0345510 U JPH0345510 U JP H0345510U JP 1990088446 U JP1990088446 U JP 1990088446U JP 8844690 U JP8844690 U JP 8844690U JP H0345510 U JPH0345510 U JP H0345510U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
optical axis
reflective surface
microwaves
light irradiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1990088446U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0542416Y2 (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JPH0345510U publication Critical patent/JPH0345510U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0542416Y2 publication Critical patent/JPH0542416Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21K—NON-ELECTRIC LIGHT SOURCES USING LUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING ELECTROCHEMILUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING CHARGES OF COMBUSTIBLE MATERIAL; LIGHT SOURCES USING SEMICONDUCTOR DEVICES AS LIGHT-GENERATING ELEMENTS; LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V13/00—Producing particular characteristics or distribution of the light emitted by means of a combination of elements specified in two or more of main groups F21V1/00 - F21V11/00
    • F21V13/02—Combinations of only two kinds of elements
    • F21V13/04—Combinations of only two kinds of elements the elements being reflectors and refractors
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V7/00—Reflectors for light sources
    • F21V7/04—Optical design
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Circuit Arrangements For Discharge Lamps (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は不均等放射線源を使用する表面を均等
に照明するための１つの従来技術の概略的な図で
ある。第２図は不均等放射線源を使用している表
面を均等に例示するための他の従来技術の概略的
な図である。第３図は不均等な光源を使用してい
る表面を均等に照明するための本考案の光照射装
置の概略的な図である。第４図及び第５図は本考
案による光源及び楕円のリフレクターの配置を示
しており、且つ楕円の表面に当たる光線の通路を
例示しているそれぞれ側面図及び正面図の概略的
な図である。第６図及び第７図は、第４図及び第
５図に示されているよりも中心に近い点でリフレ
クターに当たる光線の通路を例示している本考案
による光源及び関連する楕円のリフレクターを示
している、それぞれ側面図及び正面図の概略的な
図である。第８図はアイクロ波空洞内の光源の側
面図の概略的な図である。第８ａ図は第８図の光
源の正面図の概略的な図である。第８ｂ図はマイ
クロ波電場に垂直な方向から第８図のｘ−ｘ線に
沿つて源を見て測光器によつて測定したとき第８
図の光源に対する光の強さの変化を示しているグ
ラフである。第８ｃ図はマイクロ波電場に平行な
ラインに沿つて電源を見て測光器によつて測定し
たときの第８図の光源に対する光の変化を示して
いるグラフである。第８ｄ図は第８ａ図のｙ−ｙ
線に沿つて電源を見て測光器によつて測定したと
きの第８図の光源に対する光の強さの変化を示し
ているグラフである。第９図乃至第１４図は像平
面内にあり、且つ第３図の点Ａ及びＢを通過する
ラインに沿う光の強さの変化を例示している。第
１５図は赤道の近くの位置からの極、赤道、及び
水平線の相対位置を例示している。 １０……光源、１６……コンデンサーレンズ、
１８……対物レンズ、２０……視準レンズ、２２
，４０……像平面、２４ａ，２４ｂ，２４ｃ……
視野レンズ、２８……集光レンズ、３０……放射
光源、３２……リフレクター、３４……マイクロ
波空洞、３５……円筒状本体、３６……スクリー
ン。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 所定の光軸に対し軸対称形状を有する集光性反
    射面を一端部に有すると共に光は透過させるがマ
    イクロ波は透過させないメツシユで開口部を閉塞
    したマイクロ波室を設け、前記マイクロ波室内に
    おける前記集光性反射面の第１焦点上又はその近
    傍に配置させ且つ内部にマイクロ波によつて励起
    されて発光する発光物質を充填した無電極ランプ
    を設けた光照射装置において、前記無電極ランプ
    の表面上の発光分布が前記光軸に関して実質的に
    軸対称的であるように前記マイクロ波室内にマイ
    クロ波を供給し、前記集光性反射面の第２焦点上
    において前記光軸と直交する像平面上に実質的に
    一様な光照射を与えることを特徴とする光照射装
    置。
JP1990088446U 1985-07-23 1990-08-27 Expired - Lifetime JPH0542416Y2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/757,976 US4812957A (en) 1985-07-23 1985-07-23 Optical system for uniform illumination of a plane surface

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0345510U true JPH0345510U (ja) 1991-04-26
JPH0542416Y2 JPH0542416Y2 (ja) 1993-10-26

Family

ID=25049958

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61171935A Pending JPS6265014A (ja) 1985-07-23 1986-07-23 不均等な光源を像平面上に映すための光学的システム
JP1990088446U Expired - Lifetime JPH0542416Y2 (ja) 1985-07-23 1990-08-27

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61171935A Pending JPS6265014A (ja) 1985-07-23 1986-07-23 不均等な光源を像平面上に映すための光学的システム

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4812957A (ja)
JP (2) JPS6265014A (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4975625A (en) * 1988-06-24 1990-12-04 Fusion Systems Corporation Electrodeless lamp which couples to small bulb
US6797971B2 (en) * 2002-07-18 2004-09-28 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation
US6649921B1 (en) 2002-08-19 2003-11-18 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus and method providing substantially two-dimensionally uniform irradiation
US6717161B1 (en) 2003-04-30 2004-04-06 Fusion Uv Systems, Inc. Apparatus and method providing substantially uniform irradiation of surfaces of elongated objects with a high level of irradiance
US6967342B2 (en) * 2003-07-31 2005-11-22 Fusion Uv Systems, Inc. Method and apparatus for improved ultraviolet (UV) treatment of large three-dimensional (3D) objects
CN105223681A (zh) * 2015-11-11 2016-01-06 沈阳理工大学 一种医用电子内窥镜聚光系统

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5760695A (en) * 1980-09-27 1982-04-12 Mitsubishi Electric Corp Microwave discharge light source

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE305151C (ja) *
US3296432A (en) * 1962-08-13 1967-01-03 Trw Inc Radiation beam forming apparatus
US3296923A (en) * 1965-01-04 1967-01-10 Gen Electric Lenticulated collimating condensing system
US3720460A (en) * 1971-04-19 1973-03-13 Optical Radiation Corp Projection light source and optical system
US3911318A (en) * 1972-03-29 1975-10-07 Fusion Systems Corp Method and apparatus for generating electromagnetic radiation
US3872349A (en) * 1973-03-29 1975-03-18 Fusion Systems Corp Apparatus and method for generating radiation
US3941475A (en) * 1974-07-01 1976-03-02 Tamarack Scientific Co., Inc. Optical microcircuit printing system
US4001632A (en) * 1975-04-21 1977-01-04 Gte Laboratories Incorporated High frequency excited electrodeless light source
US4042850A (en) * 1976-03-17 1977-08-16 Fusion Systems Corporation Microwave generated radiation apparatus
JPS5843416A (ja) * 1981-09-10 1983-03-14 Nippon Kogaku Kk <Nikon> ミラ−集光型逆エキスパンドアフオ−カル照明光学系
US4427921A (en) * 1981-10-01 1984-01-24 Gte Laboratories Inc. Electrodeless ultraviolet light source
DE3226580A1 (de) * 1981-12-08 1983-06-16 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Scheinwerfer fuer kraftfahrzeuge
US4485332A (en) * 1982-05-24 1984-11-27 Fusion Systems Corporation Method & apparatus for cooling electrodeless lamps
US4480213A (en) * 1982-07-26 1984-10-30 Gte Laboratories Incorporated Compact mercury-free fluorescent lamp
AU574435B2 (en) * 1984-03-02 1988-07-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Microwave discharge light source apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5760695A (en) * 1980-09-27 1982-04-12 Mitsubishi Electric Corp Microwave discharge light source

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6265014A (ja) 1987-03-24
US4812957A (en) 1989-03-14
JPH0542416Y2 (ja) 1993-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2480178A (en) Light conductor
US4924357A (en) Light source unit for a business machine
US5117312A (en) Apparatus including concave reflectors and a line of optical fibers
JPS60184250A (ja) セグメント化された反射器を有するランプ
JP2018517245A (ja) 無電極単一ｃｗレーザ駆動キセノンランプ
JP3117565B2 (ja) 光束計
US4135228A (en) Underwater illumination device
JPH10190058A (ja) 紫外線照射装置
JPH0345510U (ja)
JPH0620245Y2 (ja) 照明器具
JPS61185857A (ja) 無電極放電灯
JP2729994B2 (ja) 蛍光ランプ
US4069416A (en) Lamp equipped with magnets
US5041755A (en) Gas-discharge lamp
JPS6213284Y2 (ja)
JPH0449222B2 (ja)
JPH0475204A (ja) 電球形蛍光灯装置
JPS6119003A (ja) 照射装置
JP2001319510A (ja) 誘電体バリア放電ランプ装置
JPS58100353A (ja) マイクロ波放電光源装置
JP2729995B2 (ja) 蛍光ランプ
JPH06118379A (ja) 投写用光源装置
JPS62103962A (ja) 白熱電灯
JPH0463364B2 (ja)
JPS63292562A (ja) 無電極放電灯装置