JPH0344376A - イミダゾール誘導体の製造法 - Google Patents

イミダゾール誘導体の製造法

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JPH0344376A
JPH0344376A JP1177023A JP17702389A JPH0344376A JP H0344376 A JPH0344376 A JP H0344376A JP 1177023 A JP1177023 A JP 1177023A JP 17702389 A JP17702389 A JP 17702389A JP H0344376 A JPH0344376 A JP H0344376A
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JP
Japan
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formula
compound
expressed
methyl
solvent
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Application number
JP1177023A
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English (en)
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Harumichi Aoki
治道 青木
Noboru Kawasaki
登 川崎
Kenichi Fujii
謙一 藤井
Yoshiaki Noguchi
野口 良昭
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野) 本発明で得られる弐(III) の化合物は、式(IV) で表わされる化合物、即ちN−シアノ−N゛−メチル−
N”−(2−(4−メチル−5−イミダゾリル)メチル
チオノエチル]グアニジン(一般名シメチシン)の製造
原料化合物である。
シメチジンはヒスタミンh受容拮抗作用のある胃および
十二指腸潰瘍治療薬である。
〔従来の技術] 従来、弐(II[)で表わされる化合物の製造法につい
ては、特開昭58−162576 、同62−1328
67等が知られている。
上記の方法では式(V) (式中、R1、Rt、 Rsは同一または異なってもよ
い低級アルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し
、R1およびR1は隣接する窒素原子と共に異項環を形
成してもよい、又Qは酸残基を示す、)の化合物を式(
+)の化合物と反応させて式(It)の化合物を得てい
る。
また、他にも (I)4−メチル−5−クロルメチルイ
ミダゾールとシステア藁ン(式(I)の化合物)を反応
させる方法 (2)過剰な濃塩酸中で4−メチルーイ【ダゾールとシ
ステアミンおよびホルムアルデヒドを閉鎖された系内に
て反応させる方法(特開昭54−132568 )等が
知られている。
〔発明が解決しようとする課題〕
式(V)の化合物を用いて式(III)の化合物を製造
する方法においては式(II) (式中、R1,、p、は同−又は異なってもよい低級ア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、1?、
、 R,は隣接する窒素原子と共に異項環を形成しても
よい、) の化合物を4級アミン化する必要がある0例えば、式(
Vl)の化合物や式(I/l )のような化合物が必要
となるが、これらを得るためには、ヨウ化メチル又は硫
酸ジメチルと式(■)の化合物を反応させなければなら
ない。
しかしながら、この方法では4級化する工程が必要とな
り経済的に有利とは言えないプロセスである。
特に、式(Vl)や式(■)の化合物を用いる場合、メ
チル化剤であるヨウ化メチルや硫酸ジメチルは有毒であ
る為、製造時の保安面でも不利なプロセスである。
次に、前記の4−メチル−5−クロルメチルイミダゾー
ル及びシステアミンを出発原料とする方法も、同様な点
で不利である。なぜならば、4−メチル−5−クロルメ
チルイミダゾールの製造においては、4−メチルイミダ
ゾールとホルムアルデヒドを濃塩酸中で反応させる時に
、収率を上げるためには、常圧系、加圧系に拘らr、反
応系内に塩化水素ガスを導入させる必要があり、かつ反
応生成物から目的とする化合物の単離収率を上げるため
には、塩化水素含有の溶剤を必要とする等、煩雑な操作
を要するからである。
一方、4−メチル−イミダゾールとシステアミンおよび
ホルムアルデヒドを用いる方法においては、反応溶媒が
塩酸であることに限定され、また反応を閉鎖された系の
加圧下で行うことが必要であり、かつ高温反応であるた
め工業化に際して高価な装置が必要となり、経済的に有
利ではない。
(課題を解決するための手段) これまで、式(II)の化合物を、4級アミン化するこ
となく、3級アミンのまま、式([、)の化合物と反応
させて式(I[I)の化合物を得る合成法は報告されて
いなかった。
本発明者等は、式(II)の化合物を式(I)の化合物
と反応させたところ、驚くべきことに高い反応率で式(
、I[l)の化合物が得られることを見出した。
これにより、式(I[)の化合物を4級アくン化するこ
となく式(I[l)の化合物へ導くことが可能となった
すなわち、本発明は式(I) %式%(I) で表される化合物と式(II) (式中、R+、Rtは同−又は異なってもよい低級アル
キル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、R1,R
2は隣接する窒素原子と共に異項環を形成してもよい、
) で表される化合物とを反応させることを特徴とする式(
III) で表されるイミダシールール誘導体の製造法に関するも
のである。
本発明において、式(II)の化合物は以下の方法にま
り台底できる。
式(■) に示す化合物とホルムアルデヒド及び式(IX)(式中
、R1% R2は、同−又は異なってもよい低級アルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、R1、R2
は隣接する窒素原子と共に異項環を形成してもよい、) に示す化合物とを反応させることにより得ることが出来
る。
本発明において、式(II)の化合物を弐(I)の化合
物1.0モルに対して0.9〜1.1 モルの比で反応
させる。
尚、式(I)及び式(It)の化合物は、フリー体を用
いても塩酸塩を用いてもよい。式(I)の化合物の塩酸
塩は市販品であり、容易に入手可能である。
本発明の方法は、通常溶媒中で行うが、溶媒としてはメ
タノール、エタノール、イソプロパツール等のアルコー
ル類及び水又はそれらのd合溶媒が好ましい。
溶液のPHとしては、中性域又はアルカリ性域が望まし
い。
式(I)及び/または式(II)の化合物が塩酸塩の場
合には、アルカリ金属アルコキシド、苛性アルカリ等に
より反応液を中性又はアルカリ性に保つことが望ましい
反応温度は一般には溶媒の還流温度までの任意の温度で
よいが、好ましくは、50°C〜還流温度がよい。
反応時間は、温度により異なるが、通常1〜30時間で
あり、好ましくは窒素雰囲気下で反応を行うのが好まし
い。
〔発明の効果〕
本発明の方法の第一の利点は、式(It)で表わされる
化合物を4級化することなく、式(I)で表わされる化
合物と反応させ、式(Ill)に示すイミダゾール誘導
体を高い生成率で得ることが出来る点である。
第二の利点は、4−メチル−5−クロルメチルイミダヅ
ール及びシステアミンを出発原料とする方法に比べ、本
店は有毒な塩化水素ガスを使用しなくて済み、反応生成
物から目的とする化合物の単離も通常の方法で済む点で
ある。
第三の利点は、4−メチル−イミダゾールとシステアミ
ンおよびホルムアルデヒドを出発原料とする方法に比べ
、本店は常圧反応で済み工業化に際して、高価な装置を
必要しない点である。
〔実施例〕
以下に実施例をあげて、本発明を更に詳しく説明する。
実施例−1 反応フラスコ中でシステアミン塩酸塩45.1g(0,
40モル)及び水酸化ナトリウム8.0 g  (0,
20モル)を水200gにとかした。次に4−メチル5
−(N、N−ジメチルアごツメチル)イミダゾール55
.6g(0,40モル)を加え、還流下に7時間反応を
行った9反応後、反応液について液体クロマトグラフィ
ー分析を行ったところ、4−メチル5−((2−アミノ
エチル)チオメチル〕イ2ダゾールの生成率は87%で
あった。
液体クロマト分析 液体クロマト 島津 LC−5A カラム    Untsil Q−CN4.6ΦX25
0mm 移動相    Cll3CN :水:20%アンモニア
水= 9501d: 50d : 25 g流it  
    1 、 Otd /l* i n検出    
 UV 228na 実施例−2 反応フラスコ中でシステアミン塩酸塩45.2 g(0
,40モル)を水180gにとかした0次に4−メチル
−5−(N、N−ジメチルアミノメチル)イミダゾール
ニ塩酸塩84.6g  (0,40モル)を加え、さら
に水酸化ナトリウム32.0g  (0,80モル)を
加えて還流下に18時間反応を行った。
反応液について液体クロマトグラフィー分析を行ったと
ころ、4−メチル−5−((2−アミノエチル)チオメ
チル〕イξダゾールの生成率は75%であった。
実施例−3 反応フラスコ中でシステアミン塩酸塩45.2g(0,
40モル)及びナトリウムメトキシド(28%メタノー
ル液)38.6g  (0,20モル)をメタノール2
00gにとかした。次に4−メチル−5−(N、Nジメ
チルアミノメチルノイミグゾール55.6g(0,40
モル)を加え、還流下に15時間反応を行った。
反応液について液体クロマトグラフィー分析を行ったと
ころ、4−メチル−5−〔(2−アミノエチル)チオメ
チルコイミダゾールの生成率は58%であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)式( I ) HSCH_2CH_2NH_2( I ) で表わされる化合物と式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1、R_2は同一又は異なってもよい低級
    アルキル基、アルケニル基、アラルキル基を示し、R_
    1、R_2は隣接する窒素原子と共に異項環を形成して
    もよい。)で表される化合物とを反応させることを特徴
    とする式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) で表されるイミダゾール誘導体の製造法。
JP1177023A 1989-07-11 1989-07-11 イミダゾール誘導体の製造法 Pending JPH0344376A (ja)

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