JPH0341786A - 金属蒸気レーザ発振装置 - Google Patents
金属蒸気レーザ発振装置Info
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- JPH0341786A JPH0341786A JP17732689A JP17732689A JPH0341786A JP H0341786 A JPH0341786 A JP H0341786A JP 17732689 A JP17732689 A JP 17732689A JP 17732689 A JP17732689 A JP 17732689A JP H0341786 A JPH0341786 A JP H0341786A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「発明の目的]
(産業上の利用分野)
本梵明は、金属蒸気レーデ発振装謂に関する。
(従来の技術)
金属蒸気レーザ発振装置は、光軸と電流の流れる方向と
が一致している縦励起型と、光軸と電流の流れる方向と
が直交している横励起型とがあり、横励起方式は縦励起
方式に比べ、高ガス圧動作と大電流密度放電が可能であ
るため、縦励起方式より小型になる可能性を持っている
。従来の横励起型の金属蒸気レーザ発振装置は、例えば
第8図に示すように構成されている。この図に示すよう
に、従来の金属蒸気レーザ発振装置では、耐熱性に優れ
たセラミックから成る放電管1は、断熱材2を充填した
保護管3に挿入され、更に保護管3は真空容器4に挿入
されている。放電管1は断熱材5a、5bを介して真空
容器4に支持されており、保護管3はOリング6a 、
6bを介して真空容器4に支持されている。
が一致している縦励起型と、光軸と電流の流れる方向と
が直交している横励起型とがあり、横励起方式は縦励起
方式に比べ、高ガス圧動作と大電流密度放電が可能であ
るため、縦励起方式より小型になる可能性を持っている
。従来の横励起型の金属蒸気レーザ発振装置は、例えば
第8図に示すように構成されている。この図に示すよう
に、従来の金属蒸気レーザ発振装置では、耐熱性に優れ
たセラミックから成る放電管1は、断熱材2を充填した
保護管3に挿入され、更に保護管3は真空容器4に挿入
されている。放電管1は断熱材5a、5bを介して真空
容器4に支持されており、保護管3はOリング6a 、
6bを介して真空容器4に支持されている。
放電管1内には、軸方向に沿ってチャン型状のモリブデ
ン等から成る陽極7と陰極8が対向配置されており、陽
極7と陰極8は、保護管3内に軸方向に沿って配設した
電流導入板9a、9bに、放電管1と一体にねじ10で
固るされている。また、放電管1内の陽極7と陰1々8
の間には、金属塊11が配置される。、78流導入板9
a、9bの一端側は電流導入端子12a、12bを介し
て真空容器4に接続されており、陽極7と陰極8間には
、パルス電源13から真空容器4、電流導入端子12a
、12b、m流導入板9a、9bを通して高電圧パルス
(電圧が数KV〜十数KVで、繰返し周波数が数K 1
−1z〜十数Kl(Z)が印加される。
ン等から成る陽極7と陰極8が対向配置されており、陽
極7と陰極8は、保護管3内に軸方向に沿って配設した
電流導入板9a、9bに、放電管1と一体にねじ10で
固るされている。また、放電管1内の陽極7と陰1々8
の間には、金属塊11が配置される。、78流導入板9
a、9bの一端側は電流導入端子12a、12bを介し
て真空容器4に接続されており、陽極7と陰極8間には
、パルス電源13から真空容器4、電流導入端子12a
、12b、m流導入板9a、9bを通して高電圧パルス
(電圧が数KV〜十数KVで、繰返し周波数が数K 1
−1z〜十数Kl(Z)が印加される。
パルス電源13には、電流波形整形用のコンデンサ14
が並列に接続されている。
が並列に接続されている。
保護管3と真字容器4の間には、貞空所熱室15がロー
タリポンプ(不図示)による()F気によって形成され
ている。また、真空容器4には、陽極7側と陰#j8側
とを電気的に分離する絶縁管16が配設されており、図
面の右側が陽極7側で、左側が陰極8側である。
タリポンプ(不図示)による()F気によって形成され
ている。また、真空容器4には、陽極7側と陰#j8側
とを電気的に分離する絶縁管16が配設されており、図
面の右側が陽極7側で、左側が陰極8側である。
真空容器4の両端面の開口部にはブリュースタ窓17a
、7bが取付けられてJ3す、その外側にはそれぞれ全
反射ミラー1日と出力ミラー1つが配設されている。ブ
リュースタ!1i17a、17bを両端に取付けて密封
された真空容器4内は、ロータリポンプ〈不図示)で排
気されて真空状態に保持され、ガス供給源(不図示)が
らHeやNe等の放電用のバッファガスが供給される。
、7bが取付けられてJ3す、その外側にはそれぞれ全
反射ミラー1日と出力ミラー1つが配設されている。ブ
リュースタ!1i17a、17bを両端に取付けて密封
された真空容器4内は、ロータリポンプ〈不図示)で排
気されて真空状態に保持され、ガス供給源(不図示)が
らHeやNe等の放電用のバッファガスが供給される。
従来の横励起型の金属蒸気レーザ発振5A置は前記のよ
うに構成されており、レーザ発振を行うには先ず、ロー
タリポンプ(不図示)の排気により真空容器4内を高真
空に保持し、ガス供給源(不図示)からNe 、 )l
e等の放電用バッファガスを供給する。そして、予め所
望の金属塊11を放電管1内に配回し、陽極7と陰Ii
8間に高電圧パルスをパルス電源13から真空容器4、
電流導入端子12a、12b、電流導入板9a 、 9
b ヲ介シて印加することにより、WIj極7と陰極8
間に放電を発生させて、放電のジュール加熱により放電
管1内を高温にして金属塊11を蒸気化し、レーザ媒質
となる金属蒸気を生成する。この金属蒸気中の金WAA
子を前記のパルス放電を行うことにより励起し、反転分
布を形成して、ブリュースタ窓17a、17bを通して
その外側に配置した全反則ミラー18と出力ミラー1つ
で構成される光共振器によりレーザ発振を行わせること
により、出力ミラー18側よりレーザ光となって出力さ
れる。
うに構成されており、レーザ発振を行うには先ず、ロー
タリポンプ(不図示)の排気により真空容器4内を高真
空に保持し、ガス供給源(不図示)からNe 、 )l
e等の放電用バッファガスを供給する。そして、予め所
望の金属塊11を放電管1内に配回し、陽極7と陰Ii
8間に高電圧パルスをパルス電源13から真空容器4、
電流導入端子12a、12b、電流導入板9a 、 9
b ヲ介シて印加することにより、WIj極7と陰極8
間に放電を発生させて、放電のジュール加熱により放電
管1内を高温にして金属塊11を蒸気化し、レーザ媒質
となる金属蒸気を生成する。この金属蒸気中の金WAA
子を前記のパルス放電を行うことにより励起し、反転分
布を形成して、ブリュースタ窓17a、17bを通して
その外側に配置した全反則ミラー18と出力ミラー1つ
で構成される光共振器によりレーザ発振を行わせること
により、出力ミラー18側よりレーザ光となって出力さ
れる。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、前記した従来の横励起型の金属蒸気レー
ザ発振装置では、陽1ti7と陰極8間で高ガス圧状態
で大電流密度の放電を行うと、放電が一部分に集中して
不安定になり易く、比較的小出力のものしか作成するこ
とができなかった。
ザ発振装置では、陽1ti7と陰極8間で高ガス圧状態
で大電流密度の放電を行うと、放電が一部分に集中して
不安定になり易く、比較的小出力のものしか作成するこ
とができなかった。
また、金属蒸気の発生源として金属塊の代わり塩化物や
臭化物などの金属塩を用いた場合、放電管1内の温度を
低くすることができるが、放電管1内に塩素や臭素等の
ハロゲンガスが発生ずるので放電がますます不安定にな
り、安定したレーザ発振ができなくなる問題点があった
。
臭化物などの金属塩を用いた場合、放電管1内の温度を
低くすることができるが、放電管1内に塩素や臭素等の
ハロゲンガスが発生ずるので放電がますます不安定にな
り、安定したレーザ発振ができなくなる問題点があった
。
本発明は上記した課題を解決する目的でなされ、高ガス
圧状態と大電流Wi度の放電が可能で小型で高効率で大
出力動作が可能な信頼性の高い金属蒸気レーザ発振装愉
を提供しようとするものである。
圧状態と大電流Wi度の放電が可能で小型で高効率で大
出力動作が可能な信頼性の高い金属蒸気レーザ発振装愉
を提供しようとするものである。
[発明の構成1
(課題を解決するための手段)
前記した課題を解決するために本発明は、放電管内また
は放電室内に光軸に直角に対向設備された2つの電極即
ち陽極と陰極の間で行なうことにより、金属蒸気や金属
蒸気イオンなどのレーザ媒質を励起してレーザ発振を行
なう横励起型の金属蒸気レーザ装置に於いて、前記陽極
と陰極の少なくとも一方側に予備電llt電極を配設し
たことを特徴とする。
は放電室内に光軸に直角に対向設備された2つの電極即
ち陽極と陰極の間で行なうことにより、金属蒸気や金属
蒸気イオンなどのレーザ媒質を励起してレーザ発振を行
なう横励起型の金属蒸気レーザ装置に於いて、前記陽極
と陰極の少なくとも一方側に予備電llt電極を配設し
たことを特徴とする。
(作用〉
本発明によれば、陽極と陰極間で主放電を行う前に、予
備1vyN極と、陽極と陰極の少なくとも一方の電極と
の間で放電させて予備電離を行うことにより、高ガス圧
で、大電流密度においても陽極と陰極間の主放電を安定
化することができる。
備1vyN極と、陽極と陰極の少なくとも一方の電極と
の間で放電させて予備電離を行うことにより、高ガス圧
で、大電流密度においても陽極と陰極間の主放電を安定
化することができる。
(実施例)
以下、本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する
。尚、従来と同一部材には同一符号を付して説明する。
。尚、従来と同一部材には同一符号を付して説明する。
第1図は、本発明の第1実施例に係る横励起型の金属蒸
気レーザ発振装置を示す概略断面図である。この図に示
すように、セラミックから成る円筒状の放電管1は断熱
材2を充電した保護管3に挿入され、保護管3は真空容
器4に挿入されている。放電管1は断熱板5a、5bを
介して真空容器4に支持されており、保護管3は0リン
グ5a。
気レーザ発振装置を示す概略断面図である。この図に示
すように、セラミックから成る円筒状の放電管1は断熱
材2を充電した保護管3に挿入され、保護管3は真空容
器4に挿入されている。放電管1は断熱板5a、5bを
介して真空容器4に支持されており、保護管3は0リン
グ5a。
6bを介して真空容器4に支持されている。
放電管1内には、軸方向に沿って断面がチャン型状のモ
リブデン等から成る陽極7と陰極8が対向配置されてお
り、保護管3内に軸方向に沿って配設した電流導入板9
a 、9bに、放電管1と一体にねじ10で固着されて
いる。
リブデン等から成る陽極7と陰極8が対向配置されてお
り、保護管3内に軸方向に沿って配設した電流導入板9
a 、9bに、放電管1と一体にねじ10で固着されて
いる。
また、11は銅、金、カドミウム、バリウム、ストロン
チウム、ビスマス等の金属塊、12a。
チウム、ビスマス等の金属塊、12a。
12bは電流導入板9a、9bの一端側と真空容器4を
接続する電流導入端子、13は陽極7と陰極8間に高電
圧パルスを印加するパルスN源、ゴ4はコンデンサ、1
5はロータリポンプ(不図示)の排気によって形成され
る真空断熱室、16は真空容器4を絶縁状態に分割する
絶縁管、17a。
接続する電流導入端子、13は陽極7と陰極8間に高電
圧パルスを印加するパルスN源、ゴ4はコンデンサ、1
5はロータリポンプ(不図示)の排気によって形成され
る真空断熱室、16は真空容器4を絶縁状態に分割する
絶縁管、17a。
17bはブリュースタ窓、18.19は全反射ミラーと
出力ミラーである。これらの構成は第8図に示した従来
の金属蒸気レーザ装置装置と同様である。
出力ミラーである。これらの構成は第8図に示した従来
の金属蒸気レーザ装置装置と同様である。
そして、本発明は、陽極7の表面に予備電離電極20を
内側に挿入した誘電体であるセラミック管21を陽極7
の長さ方向に沿って配設し、陽極7にねじ22で固定し
た複数の固定部材23によって支持されている(第2図
参照)。予備電離電極20には、真空容器4の周面に形
成した穴26に絶縁部材33により絶縁状態で挿通され
る電流導入端子28を介してパルス電源24が接続され
ており、真空容器4、電流導入端子12aSt流導入板
9aを介して陽極7との間に高電圧パルスうに構成され
ており、レーザ発振を行う時には、真空容器4内をロー
タリポンプ(不図示)の排気によって高真空に保持して
ガス供給源〈不図示)からHeやNe等の放電用バッフ
ァガスを供給する。そして、予め所望の金属塊11を放
電管1内に配置し、陽極7と陰極8間に、パルス電源1
3から高電圧パルスを真空容器4、電流導入端子12a
、12b、電流導入板9a、9bを介して印加すること
により、陽極7と陰極8間に放電を発生させて、放電の
ジュール加熱により放電管1内を高温にして金属塊11
を加熱することによって金属粒子11を蒸気化し、レー
ザ媒質となる金属蒸気を生成する。このように、本実施
例では、金属粒子11を加熱する加熱手段として放電に
よるジュール加熱が用いられる。そして、この金属蒸気
中の金属原子を前記のパルス放電を行うことにより励起
し、反転分布を形成してブリュースタ窓17a、”17
bを通してその外側に配置した全反射ミラー18と出力
ミラー19で構成される光共振器によりレーザ発振を行
わせることにより。、出力ミラー19側よりレーザ光と
なって発振される。
内側に挿入した誘電体であるセラミック管21を陽極7
の長さ方向に沿って配設し、陽極7にねじ22で固定し
た複数の固定部材23によって支持されている(第2図
参照)。予備電離電極20には、真空容器4の周面に形
成した穴26に絶縁部材33により絶縁状態で挿通され
る電流導入端子28を介してパルス電源24が接続され
ており、真空容器4、電流導入端子12aSt流導入板
9aを介して陽極7との間に高電圧パルスうに構成され
ており、レーザ発振を行う時には、真空容器4内をロー
タリポンプ(不図示)の排気によって高真空に保持して
ガス供給源〈不図示)からHeやNe等の放電用バッフ
ァガスを供給する。そして、予め所望の金属塊11を放
電管1内に配置し、陽極7と陰極8間に、パルス電源1
3から高電圧パルスを真空容器4、電流導入端子12a
、12b、電流導入板9a、9bを介して印加すること
により、陽極7と陰極8間に放電を発生させて、放電の
ジュール加熱により放電管1内を高温にして金属塊11
を加熱することによって金属粒子11を蒸気化し、レー
ザ媒質となる金属蒸気を生成する。このように、本実施
例では、金属粒子11を加熱する加熱手段として放電に
よるジュール加熱が用いられる。そして、この金属蒸気
中の金属原子を前記のパルス放電を行うことにより励起
し、反転分布を形成してブリュースタ窓17a、”17
bを通してその外側に配置した全反射ミラー18と出力
ミラー19で構成される光共振器によりレーザ発振を行
わせることにより。、出力ミラー19側よりレーザ光と
なって発振される。
この際、陽極7と陰極8間にパルス電WA13から高電
圧パルスを印加する少し前(@+ns〜数μs)即ち、
レーザ発振の前に、パルス電源24から高電圧パルスを
陽極7と予備電離電極20間に印加してコロナ放電を発
生させ、fIl電v11内に予め電子を生成する。
圧パルスを印加する少し前(@+ns〜数μs)即ち、
レーザ発振の前に、パルス電源24から高電圧パルスを
陽極7と予備電離電極20間に印加してコロナ放電を発
生させ、fIl電v11内に予め電子を生成する。
このように、陽極7と予備選1!11電極20間にコロ
ナ放電を発生させて予備電離を行うことによって、陽極
7と陰極8間の主放電が安定化され、高ガス圧中で大電
流密度の放電が可能となり、小型で高効率で大出力のレ
ーザ発振を行うことができる。
ナ放電を発生させて予備電離を行うことによって、陽極
7と陰極8間の主放電が安定化され、高ガス圧中で大電
流密度の放電が可能となり、小型で高効率で大出力のレ
ーザ発振を行うことができる。
また、本発明の予備電離電極20を設けたことにより、
陽極7と陰極8間における放電の最大投入電力が予備型
1111tft¥極20を設けない場合に対して5〜1
0倍に増大することが実験でW!認された。
陽極7と陰極8間における放電の最大投入電力が予備型
1111tft¥極20を設けない場合に対して5〜1
0倍に増大することが実験でW!認された。
第3図は、本発明の第2実施例に係る金属蒸気レーザ発
振装置を示す概略断面図である。
振装置を示す概略断面図である。
本例では、予備電離電極20を真空容器4にコンデンサ
25を介して接続し、予備電離電極20間のパルス電源
を、陽極7と陰極8間に高電圧パルスを印加するパルス
電If!!13で共用するように構成したものであり、
パルス電源13により陽極7と陰極8間でtli電を発
生させると共に、コンデンサ25を通して予備型1電極
20に高電圧パルスを印加して予備電離を行う。この際
、主放電電流と予備型m電流の回路インピーダンスの違
いにより、予備型11電流の方が先にピークに達して予
備電離が行われる。他の構成は前記した実施例と同様で
ある。
25を介して接続し、予備電離電極20間のパルス電源
を、陽極7と陰極8間に高電圧パルスを印加するパルス
電If!!13で共用するように構成したものであり、
パルス電源13により陽極7と陰極8間でtli電を発
生させると共に、コンデンサ25を通して予備型1電極
20に高電圧パルスを印加して予備電離を行う。この際
、主放電電流と予備型m電流の回路インピーダンスの違
いにより、予備型11電流の方が先にピークに達して予
備電離が行われる。他の構成は前記した実施例と同様で
ある。
このように、本例においても前記同様予備電離電極20
ヘパルス電源13から高電圧パルスの印加によって予備
電離を行うことにより、高ガス圧中で大電流密度のtl
l電を行うことができる。
ヘパルス電源13から高電圧パルスの印加によって予備
電離を行うことにより、高ガス圧中で大電流密度のtl
l電を行うことができる。
第4図は、本発明の第3実施例に係る金属蒸気レーザ発
振装置を示す概略断面図である。
振装置を示す概略断面図である。
本例では、真空容器4に挿入されたfi電管1内に軸方
向に沿ってチャン型状のモリブデン等から成る陽極7と
陰極8を対向配買し、その背面にそれぞれ固着した各電
流導入端子28bを介して陽極7と陰極8をrli電管
1に固着している。各電流導入端子28bの一端側は、
真空容器4の周面に形成した各式26aにそれぞれ挿入
した各電流導入端子28aに、波形状の薄板から成る電
流導入板27を介して接続されている。穴26aに挿通
された各電流導入端子28aは、真空容器4の表面に絶
縁部材33により固着されている。また、陽極7の表面
には前記同様セラミック管21に挿入したr備電離電極
20が配設されている。
向に沿ってチャン型状のモリブデン等から成る陽極7と
陰極8を対向配買し、その背面にそれぞれ固着した各電
流導入端子28bを介して陽極7と陰極8をrli電管
1に固着している。各電流導入端子28bの一端側は、
真空容器4の周面に形成した各式26aにそれぞれ挿入
した各電流導入端子28aに、波形状の薄板から成る電
流導入板27を介して接続されている。穴26aに挿通
された各電流導入端子28aは、真空容器4の表面に絶
縁部材33により固着されている。また、陽極7の表面
には前記同様セラミック管21に挿入したr備電離電極
20が配設されている。
そして、各電流導入端子28aはパルス電源13とコン
デンサ14に接続されており、パルス電源13から高電
圧パルスが陽極7と陰極8間に印加される。また、真空
容器4の出力ミラー19側の局面には穴26bが形成さ
れている。この穴26bには絶縁部材33を介して電流
導入端子28Cが挿通されており、電流導入端子28c
を通して予備電離電極20にパルス電源24が接続され
、電流導入端子28a、電流導入板27、電流導入端子
28bを介して陽極7との間に高電圧パルスが印加され
る。
デンサ14に接続されており、パルス電源13から高電
圧パルスが陽極7と陰極8間に印加される。また、真空
容器4の出力ミラー19側の局面には穴26bが形成さ
れている。この穴26bには絶縁部材33を介して電流
導入端子28Cが挿通されており、電流導入端子28c
を通して予備電離電極20にパルス電源24が接続され
、電流導入端子28a、電流導入板27、電流導入端子
28bを介して陽極7との間に高電圧パルスが印加され
る。
尚、2は断熱材、11は金属塊、178.17bはブリ
ュースタ窓、18は全反射ミラーである。
ュースタ窓、18は全反射ミラーである。
本例においても、前記実施例同様、真空容器4内をロー
タリポンプ(不図示〉の排気によって高真空に保持して
ガス供給源(不図示)から日eやNe等の放電用バッフ
ァガスを供給する。そして、陽極7と陰極8間に、パル
ス電源13から高電圧パルスを印加して主放電を行う前
(数十ns〜数μs〉に、予備電離電極20にパルス電
源24から高電圧パルスを印加して、予備型11電極2
0と陽極8間にコロナ放電を発生させて予備電離を行う
ことにより、高ガス圧中で大電流密度の放電を行うこと
できる。
タリポンプ(不図示〉の排気によって高真空に保持して
ガス供給源(不図示)から日eやNe等の放電用バッフ
ァガスを供給する。そして、陽極7と陰極8間に、パル
ス電源13から高電圧パルスを印加して主放電を行う前
(数十ns〜数μs〉に、予備電離電極20にパルス電
源24から高電圧パルスを印加して、予備型11電極2
0と陽極8間にコロナ放電を発生させて予備電離を行う
ことにより、高ガス圧中で大電流密度の放電を行うこと
できる。
また、放電管1、真空容器4の周面に形成した穴26a
に挿通される電流導入端子28a、28b、電流導入板
27を通して陽極7と陰極8にパルス電l1Pi13か
ら高電圧パルスが印加されるので、通電回路を短くする
ことができ回路のインダクタンスが減少する。よって、
電流の立上りが速くなって、電流の回路インピーダンス
を大きくすることができるので、より高効率で大出力の
レーザ発振を行うことかできる。
に挿通される電流導入端子28a、28b、電流導入板
27を通して陽極7と陰極8にパルス電l1Pi13か
ら高電圧パルスが印加されるので、通電回路を短くする
ことができ回路のインダクタンスが減少する。よって、
電流の立上りが速くなって、電流の回路インピーダンス
を大きくすることができるので、より高効率で大出力の
レーザ発振を行うことかできる。
第5図は、本発明の第4実施例に係る金属蒸気レーザ発
振装置を示す概略断面図である。
振装置を示す概略断面図である。
本例では、予(、N電離電極20を、穴26bに挿通し
た電流導入端子28C、コンデンサ25を介して陽極7
と陰極8間に高電圧パルスを印加するパルス電源13に
接続して、予備用1電極20用のパルス電源を設けずに
パルス電源13で共用するように構成したものであり、
パルス電源13により陽極7と陰極8間で放電を発生さ
せると共に、コンデンサ25、電流導入端子28Cを通
して予備電t!i電極20に高電圧パルスを印加して予
(!電離を行う。この際、主放電電流と予備電離電流の
回路インピーダンスの違いにより、予備用ll1ff電
流の方が先にピークに達して予備電離が行われる。
た電流導入端子28C、コンデンサ25を介して陽極7
と陰極8間に高電圧パルスを印加するパルス電源13に
接続して、予備用1電極20用のパルス電源を設けずに
パルス電源13で共用するように構成したものであり、
パルス電源13により陽極7と陰極8間で放電を発生さ
せると共に、コンデンサ25、電流導入端子28Cを通
して予備電t!i電極20に高電圧パルスを印加して予
(!電離を行う。この際、主放電電流と予備電離電流の
回路インピーダンスの違いにより、予備用ll1ff電
流の方が先にピークに達して予備電離が行われる。
他の構成は前記した実施例と同様である。
このように、本例においても前記同様子ti電離電極2
0ヘパルス電源13から高電圧パルスの印加によって予
備電離を行うことにより、高ガス圧中で大電流密度の放
電を行うことができる。
0ヘパルス電源13から高電圧パルスの印加によって予
備電離を行うことにより、高ガス圧中で大電流密度の放
電を行うことができる。
第6図は、本発明の第5実施例に係る金属蒸気レーザ発
振装置の要部を示す概略断面図である。
振装置の要部を示す概略断面図である。
本例では、放電管1内に複数の孔7aが形成された陽極
7と断面がチャン型形状の陰極8とを軸方向に沿って対
向配置し、陽極7の陰極8側と反対側の面に誘電体であ
るセラミック板30を介して予備用1Ilt電極31を
配設し、陽極7と陰極8間にパルス電源13とコンデン
サ14を接続すると共に、陽極7と予備電離電極31間
にパルス電源24を接続した構成である。他の構成は前
記第1又は第4図に示した実施例と同様である。
7と断面がチャン型形状の陰極8とを軸方向に沿って対
向配置し、陽極7の陰極8側と反対側の面に誘電体であ
るセラミック板30を介して予備用1Ilt電極31を
配設し、陽極7と陰極8間にパルス電源13とコンデン
サ14を接続すると共に、陽極7と予備電離電極31間
にパルス電源24を接続した構成である。他の構成は前
記第1又は第4図に示した実施例と同様である。
このように、本例においても前記実施例同様、パルス電
源13から高祖F[パルスを印加して主放電を行う前(
数+ns〜数μs)に、予5Nts電極31にパルス電
源24から高電圧パルスを印加して、予備電離Ti極3
1と陽極8間にコロナ放電を発生させて予備電離を行う
ことにより、高ガス圧中で大電流密度の11i電を行う
ことができる。また、陽極7に孔7aを形成する代わり
に陽極7をメツシュ状に形成しても良い。
源13から高祖F[パルスを印加して主放電を行う前(
数+ns〜数μs)に、予5Nts電極31にパルス電
源24から高電圧パルスを印加して、予備電離Ti極3
1と陽極8間にコロナ放電を発生させて予備電離を行う
ことにより、高ガス圧中で大電流密度の11i電を行う
ことができる。また、陽極7に孔7aを形成する代わり
に陽極7をメツシュ状に形成しても良い。
第7図は、本発明の第6実施例に係る金属蒸気レーザ発
振装置の要部を示す概略断面図である。
振装置の要部を示す概略断面図である。
本例では、予備電離電極31を、コンデンサ25を介し
て陽極7と陰極8間に高電圧パルスを印加するパルス電
源13に接続して、予備電離電極31用のパルス電源を
設けずにパルス電源13で共用するよ・)に構成したも
のであり、パルス電源13により陽極7と陰極8間でt
11電を発生させると共に、予備電離電極31に高電圧
パルスを印加して予備電離を行う。この際、主放電電流
と予備ff1liff電流の回路インピーダンスの違い
により、予備用I!!を電流の方が先にピークに達して
予備電離が行われる。他の構成は前記した実施例と同様
である。
て陽極7と陰極8間に高電圧パルスを印加するパルス電
源13に接続して、予備電離電極31用のパルス電源を
設けずにパルス電源13で共用するよ・)に構成したも
のであり、パルス電源13により陽極7と陰極8間でt
11電を発生させると共に、予備電離電極31に高電圧
パルスを印加して予備電離を行う。この際、主放電電流
と予備ff1liff電流の回路インピーダンスの違い
により、予備用I!!を電流の方が先にピークに達して
予備電離が行われる。他の構成は前記した実施例と同様
である。
このように、本例においても前記同様予備電離電極31
ヘパルス電8!13から高電圧パルスの印加によって予
備電離を行うことにより、高ガス圧中で大電流密度の放
電を行うことができる。
ヘパルス電8!13から高電圧パルスの印加によって予
備電離を行うことにより、高ガス圧中で大電流密度の放
電を行うことができる。
また、前記した各実施例では、放電管1内に金属塊11
を配植したが、これに限らず金属の塩化物を用いると低
温動作が可能となる。この場合でも本発明の予備費M電
極20.31によって予備電離を行うことにより、陽極
7と陰極8間の放電が不安定になることはなく、高効率
で安定した低温動作のレーザ発振を行うことができる。
を配植したが、これに限らず金属の塩化物を用いると低
温動作が可能となる。この場合でも本発明の予備費M電
極20.31によって予備電離を行うことにより、陽極
7と陰極8間の放電が不安定になることはなく、高効率
で安定した低温動作のレーザ発振を行うことができる。
また、前記した各実施例では、予備電離心神20.31
を陽極7側に設けたが、陰極8側又は陽極7側と陰惨8
側の両方に設けても良い。
を陽極7側に設けたが、陰極8側又は陽極7側と陰惨8
側の両方に設けても良い。
また、前記した各実施例では、放電管1は円筒状であっ
たが、これに限らず例えば断面が多角形の放電管でも良
い。
たが、これに限らず例えば断面が多角形の放電管でも良
い。
また、前記した各実施例では、予備電離電極20.31
による予@電離はコロナ放電によって行ったがこれに限
らずX線源やアークギャップによる紫外線源或いはプラ
ズマカソード等を用いることも可能である。
による予@電離はコロナ放電によって行ったがこれに限
らずX線源やアークギャップによる紫外線源或いはプラ
ズマカソード等を用いることも可能である。
また、前記した各実施例では、金属粒子を加熱する加熱
手段として放電によるジュール加熱を用いたが、これに
限らずヒータによる加熱、或いは放電によるジュール加
熱とヒータによる加熱の両方で行うこもでき、更にイオ
ンによるスパッタリングにより金属蒸気を発生させる方
法も可能である。
手段として放電によるジュール加熱を用いたが、これに
限らずヒータによる加熱、或いは放電によるジュール加
熱とヒータによる加熱の両方で行うこもでき、更にイオ
ンによるスパッタリングにより金属蒸気を発生させる方
法も可能である。
[発明の効果]
以上、実施例に基づいて具体的に説明したように本発明
によれば、陽極と陰極との少なくとも一方の電極側に設
けた予備電離電極によって予備電離を行うことにより、
jlFjAと陰極間の主放電が安定化するので、高効率
で大出力のレーザ発振を行うことができる。
によれば、陽極と陰極との少なくとも一方の電極側に設
けた予備電離電極によって予備電離を行うことにより、
jlFjAと陰極間の主放電が安定化するので、高効率
で大出力のレーザ発振を行うことができる。
第1図は、本発明に係る金属蒸気レーザ発振装置を示す
概略断面図、第2図は、第1図M−1f線断面図、第3
図乃至第7図は、それぞれ本発明の他の実施例に係る金
属蒸気レーザ発振装置を示す概略断面図、第8図は従来
の金属蒸気レーザ発振装置を示す概略断面図である。 1・・・放電管 3・・・保護管 4・・・真空容器 7・・・陽極 7a・・・孔8・・
・陰極 9a、9b、27・・・電流導入板11・・・
金属粒子 12a、 12b、 28a、 28b。 流導入端子 13.14・・・パルス電源 20.31・・・予備型Il!電極 21・・・セラミック管 26.26a 、26b −=・穴 29・・・短管 30・・・セラミック板28c ・
・・電
概略断面図、第2図は、第1図M−1f線断面図、第3
図乃至第7図は、それぞれ本発明の他の実施例に係る金
属蒸気レーザ発振装置を示す概略断面図、第8図は従来
の金属蒸気レーザ発振装置を示す概略断面図である。 1・・・放電管 3・・・保護管 4・・・真空容器 7・・・陽極 7a・・・孔8・・
・陰極 9a、9b、27・・・電流導入板11・・・
金属粒子 12a、 12b、 28a、 28b。 流導入端子 13.14・・・パルス電源 20.31・・・予備型Il!電極 21・・・セラミック管 26.26a 、26b −=・穴 29・・・短管 30・・・セラミック板28c ・
・・電
Claims (5)
- (1)放電管内または放電室内に光軸に直角に対向設置
された2つの電極即ち陽極と陰極の間で放電を行なうこ
とにより、金属蒸気や金属蒸気イオンなどのレーザ媒質
を励起してレーザ発振を行なう横励起型の金属蒸気レー
ザ発振装置に於いて、前記陽極と陰極の少なくとも一方
側に予備電離電極を配設したことを特徴とする金属蒸気
レーザ発振装置。 - (2)前記予備電離電極が、コロナ放電を利用する電極
であることを特徴とする請求項1記載の金属蒸気レーザ
発振装置。 - (3)前記陽極または陰極またはその両電極の表面に1
本または複数本の誘電体の管が設けられており、その管
の内に挿入された第3の電極である導体棒と前記陽極ま
たは陰極またはその両電極の間にパルス電圧を発生させ
コロナ放電を発生させるようにした予備電離電極を備え
たことを特徴とする請求項2記載の金属蒸気レーザ発振
装置。 - (4)前記陽極または陰極またはその両電極が複数個の
孔の開いた金属板またはメッシュ等から構成されており
、その背面に誘電体を挾んで第3の電極である導体板が
設置されており、その第3の電極と前記複数個の孔の開
いた金属板またはメッシュとの間にパルス電圧を発生さ
せコロナ放電を発生させるようにした予備電離電極を備
えたことを特徴とする請求項2記載の金属蒸気レーザ発
振装置。 - (5)前記レーザ媒質である金属蒸気や金属イオンの発
生手段として、金属塩を放電室内に挿入し加熱すること
により、前記金属蒸気を発生させるようにしたことを特
徴とする請求項1、2、3又は4記載の金属蒸気レーザ
発振装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17732689A JPH0341786A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 金属蒸気レーザ発振装置 |
US07/489,059 US5077749A (en) | 1989-07-10 | 1990-03-07 | Laser apparatus |
GB9005158A GB2233814B (en) | 1989-07-10 | 1990-03-07 | Laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17732689A JPH0341786A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 金属蒸気レーザ発振装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0341786A true JPH0341786A (ja) | 1991-02-22 |
Family
ID=16029020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17732689A Pending JPH0341786A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | 金属蒸気レーザ発振装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0341786A (ja) |
-
1989
- 1989-07-10 JP JP17732689A patent/JPH0341786A/ja active Pending
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