JPH0341403Y2 - - Google Patents

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JPH0341403Y2
JPH0341403Y2 JP1985100134U JP10013485U JPH0341403Y2 JP H0341403 Y2 JPH0341403 Y2 JP H0341403Y2 JP 1985100134 U JP1985100134 U JP 1985100134U JP 10013485 U JP10013485 U JP 10013485U JP H0341403 Y2 JPH0341403 Y2 JP H0341403Y2
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【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、複数の掃引区間を設け、この掃引区
間毎にイオン源に最適な電圧を印加するよう構成
した四重極型質量分析計に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、第5図に示すように、四重極型質量分析
計の四重極電極22に対して、掃引基準電圧発生
回路25から掃引信号VSの通知をうけた電圧発
生回路26が当該掃引信号VSに対応して変化す
る掃引電圧±(U+Vcosωt)を生成して供給して
いた。これにより、四重極電極22に入射したイ
オンのうち、所定の質量数のもののみが掃引電圧
±(U+Vcosωt)にいわば同期した態様で通過し
て検出器23によつて検出され、記録計24によ
りマススペクトラムとして記録させていた。この
際、四重極電極22に印加する掃引電圧±(U+
Vcosωt)の範囲は、予め設定した例えば掃引開
始質量数“E”および掃引幅“F”に対応するも
のであり、一種類しか設定することができなかつ
た。
また、四重極電極22に入射させるイオンを生
成するイオン源21は、第5図に示すように、2
1−1ないし21−5によつて構成されている。
そして、フイラメント21−1を加熱して発生さ
せた電子がグリツド21−2に向かつて加速しつ
つ走行すると共に、電子リペラー21−3によつ
て反発される態様で走行することを繰り返すた
め、効率良好にイオン化される。このようにして
生成されたイオンは、イオン集束電極21−4に
よつて集束され、四重極電極22に向かつて所定
の速度(エネルギー)で入射する。この際、イオ
ン源21に供給する電圧は、可変であはあるが、
夫々の電圧に対して例えば第5図図中“A”、
“B”、“C”および“D”のように、一種類しか
設定することができなかつた。
〔考案が解決しようとする問題点〕
従来の第5図に示す構成では、掃引を開始する
質量数“E”および掃引幅“F”に対応した一種
類の掃引電圧±(U+Vcosωt)を四重極電極22
に供給することができるにすぎなかつた。しか
も、イオン源21に供給した電圧“A”、“B”、
“C”および“D”等によつて決定される一種類
のエネルギーかつ一種類の入射条件のイオンを四
重極電極22に入射させることができるにすぎな
かつた。
このため、質量数の小さいイオンから質量数の
大きいイオンまで一掃引するように掃引開始質量
数“E”および掃引幅“F”を設定した場合に
は、イオンの速度がイオンの質量数の平方根の逆
数に比例するため、質量数の小さいイオンの速度
と、質量数の大きいイオンの速度との差が大きく
なり、両者の間の感度および分解能に大きな差が
生じてしまうという問題点があつた。また、検出
しようとするイオンの質量数が相互に大幅に離れ
ている場合、質量数の小さいイオンから順次質量
数の大きいイオンに向かつていわば連続して掃引
していたのでは、多くの時間を要してしまうとい
う問題点があつた。
更に、集束したイオンをイオン源21から四重
極電極22に入射させる静電レンズの集束作用
は、小さい質量数のイオンから大きい質量数のイ
オンになるに従つて弱くなる。感度および分解能
を良好に保持する入射条件例えば入射角度を保持
するためには、イオン源21に供給する各種電圧
を所定範囲内におさまるように設定する必要があ
る。このため、掃引される質量数の範囲が広くな
るに従つて、感度および分解能を低下させないこ
とでイオン源21に各種電圧を供給することが困
難となつてしまう。従つて、質量数の小さいイオ
ンの検出が重要な場合には、どうしても質量数の
小さいイオンの検出が最適に行われるようにイオ
ン源21の各種電圧を設定して供給せざるを得な
い。同様に、質量数の大きいイオンの検出が重要
な場合には、質量数の大きいイオンの検出が最適
に行われるようにイオン源21の各種電圧を設定
して供給せざるを得ない。このように、質量数の
小さいイオンから大きいイオンまで、全てに最適
な入射条件を満足させることが困難であつた。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は、前記問題点を解決するために、掃引
区間を複数に分割し、この分割した掃引区間毎に
イオン源に対して最適な電圧を供給し得る構成を
採用している。
第1図は本考案の原理的構成図を示す。図中、
1はイオン源、1−1はフイラメント、1−2は
グリツド、1−3は電子リペラー、1−4はイオ
ン集束電極、1−5は電子サプレツサ電極、2は
四重極電極、3は検出器、4は記録計、5,5−
1ないし5−4は電圧設定部、6は掃引設定部、
7は制御部を表す。
第1図において、イオン源1は、所定のエネル
ギー(速度)かつ所定の入射条件のイオンを四重
極電極2に入射させるものであつて、1−1ない
し1−5から構成されている。
電圧設定部5は電圧設定部1,5−1ないし電
圧設定部4,5−4から構成され、掃引設定部6
によつて掃引される複数の区間に対応した最適な
イオンエネルギーおよび入射条件が夫々得られる
ように、予め設定した電圧を出力するように構成
されたものである。
電圧設定部1,5−1は、フイラメント1−1
に対してエミツシヨン電圧VFを印加して加熱し、
所定の電子流を放射させるものである。この電子
流を調整することにより、四重極電極2に入射す
るイオン電流を制御することができる。
電圧設定部2,5−2は、フイラメント1−1
に対して正の電圧VEEをグリツド1−2に印加し
てフイラメント1−1から放射される電子等を加
速するものである。
電圧設定部3,5−3は、接地に対して正の電
圧VIEをグリツド1−2に印加するものである。
イオン源1から四重極電極2に対して入射するイ
オンのエネルギーは、当該電圧VIEよつて与えら
れる。
電圧設定部4,5−4は、接地に対して負の電
圧VIEをイオン集束電極1−4に印加するもので
ある。これにより、図に示すように、イオンを集
束して所定の入射条件で四重極電極2に入射させ
ることができる。
掃引設定部6は、分割された複数の掃引区間に
対応した掃引電圧±(U+Vcosωt)を四重極電極
2に対して供給するものである。
尚、制御部7は上記各種制御を行うものであ
る。
〔作用〕
第1図において、掃引設定部6は、設定した掃
引区間に対応する掃引電圧±(U+Vcosωt)を四
重極電極2に印加し、この掃引区間に対応した質
量数のイオン通過させている。
一方、イオン源1は、前記分割した各掃引区間
に対応した最適な感度と分解能とが夫々得られる
ように、予め設定した夫々のエネルギーのイオン
であつて、かつ所定の入射条件のイオン流を四重
極電極2に入射させている。
イオンの生成は、フイラメント1−1を加熱し
て発生させた電子がグリツド1−2に向かつて加
速される態様で走行すると共に、電子リペラー1
−3によつて反発される態様で走行することを繰
り返すことにより、当該電子がガスに効率良好に
衝突することによつて行われる。この生成された
イオンのエネルギーは、グリツド1−2に印加し
た電圧によつて決定される。また、生成されるイ
オン密度(電流)はフイラメント1−1から放射
する電子密度等に依存するから、電圧設定部1,
5−1がフイラメント1−1に印加するエミツシ
ヨン電圧VFを調整することにより、四重極電極
2に入射するイオン流の密度を所望値に設定する
ことができる。
生成されたイオンは、イオン集束電極1−4に
よつて集束され、所定の入射条件で四重極電極2
に入射される。この入射条件は、イオン源1を構
成するイオン集束電極1−4に印加する電圧等に
よつて決定される。尚、電子サプレツサ電極1−
5は、電子が四重極電極2の方向に放射されない
ように遮断するものである。
以上説明したように、掃引設定部6は、分割し
たいずれかの掃引区間に対応した掃引電圧±(U
+Vcosωt)を四重極電極2に供給している。そ
して、電圧設定部5は、掃引設定部6が供給した
掃引電圧に対応して、最良の感度および分解能を
得るに適合したエネルギーかつ入射条件のイオン
を得るために、予め設定した電圧をイオン源1に
供給している。
〔実施例〕
第2図は本考案の1実施例構成を示す。図中、
6−1は掃引基準電圧発生回路、6−2は電圧発
生回路、A1ないしAo、B1ないしBo、C1ないし
Co、およびD1ないしDoは電圧設定部5よて設定
された設定電圧を示す。尚、図中1ないし5は第
1図に示すものに夫々対応するものである。
第2図において、図中は掃引設定部6内に予
め設定した掃引開始質量数E1ないしEo、および
掃引幅F1ないしFoを示す。
図中ないしは、電圧設定部5内に予め設定
したエミツシヨン設定値、EE電圧設定値、IE電
圧設定値およびIF電圧設定値の内容を夫々示す。
そして、図示に示すエミツシヨン設定値A1
いしAoに対応する電圧が夫々VA1ないしVAoとし
て夫々設けられている。同様に、図示ないし
に示すEE電圧設定値、IE電圧設定値およびIF電
圧設定値に対応する電圧が夫々VB1ないしVBo
VC1ないしVCo、およびVD1ないしVDoとして夫々
設けられている。
以上のような構成のもとで、掃引設定部6が例
えば図示に示す掃引開始質量数E1および掃引
幅F1を選択した場合、電圧設定部5はこれに対
応する図示ないしに示すエミツシヨン設定値
A1、EE電圧設定値B1、IE電圧設定値C1およびIF
電圧設定値D1を自動的に選択し、夫々に対する
電圧VA1、VB1、VC1およびVD1を夫々電圧VF
VEE、VIEおよびVIFとしてイオン源1に対して供
給する。従つて、掃引設定部6が、分割した所定
の掃引区間に対応する掃引電圧±(U+Vcosωt)
を四重極電極2に対して供給した場合、この掃引
区間の質量数のイオンを分析するのに最適なエネ
ルギーを持ち、かつ所定の入射条件を満足するイ
オンがイオン源1から四重極電極2に対して入射
される。
第3図は本考案の他の実施例構成を示す。図
中、7−1ない7−5はD/A変換器、8は
RAM(読み書き可能なメモリ)、9は制御プログ
ラム等を格納したROM(読み出し専用のメモ
リ)、10はキーボード、11はCPU(中央処理
装置)、12−2ないし12−5は電圧設定部を
表す。
第3図において、キーボード10から例えば第
2図図中ないしに示す各設定値を入力する
と、この入力した各設定値は、RAM8中にデジ
タル値として記憶される。また、標準的な各種設
定値がROM9に予め記憶させてあるので、キー
ボード10から設定値を入力しない場合には、こ
の標準的な設定値が使用される。
次に、質量分析の要求をキーボード10から入
力した場合、RAM8中に格納されている所定の
設定値、あるいはRAM8中に設定値が格納され
ていなかつた場合にはROM9中に格納されてい
る標準的な設定値が続み出され、D/A変換器7
−1ないし7−5を介して、電圧発生回路6−
2、電圧発生部12−2ないし12−5に夫々供
給される。そして、四重極電極2に対して所定の
掃引電圧±(U+Vcosωt)が供給されると共に、
イオン源1に対して所定の電圧VF、VEE、VIE
よびVIFが夫々供給される。これにより、イオン
源1は掃引区間に最適なエネルギーのイオンであ
つて、かつ最適な入射条件をもつイオンを四重極
電極2に入射させる。この入射されたイオンのう
ち、四重極電極2を通過したものが検出器3によ
つて検出される。検出された信号は、記録計4に
よつてマススペクトラムとして記録される。この
記録を分析することにより、質量数を知ることが
できる。
第4図は他のイオン源の構成例を示す。第4図
イは、Nier型のイオン源と言われるものであつ
て、フイラメント12を加熱して発生させた電子
をコレクタ13に向かつて加速させるものと、当
該加速した方向に磁界(図示していない)を重畳
して当該電子をいわば螺旋状に旋回させてガスと
の衝突確率を高めるものとがある。そして、発生
させたイオンを引き出し電極15を用いて引き出
し、イオン集束電極16によつて集束し、所定の
イオンエネルギーかつ所定の入射条件のイオンを
四重極電極2に入射させている。この際、入射ア
パチヤー電極17を用いて所定の範囲内のイオン
のみが入射されるようにしている。
第4図ロは、CI(化学イオン化イオン源)およ
びEI(電子衝撃型イオン源)を組み合わせたもの
である。これも、同様にフイラメント12を加熱
して放射させた電子を用いてガスをイオン化さ
せ、引き出し電極15を用いてイオンを引き出
し、所定のイオンエネルギーかつ所定の入射条件
で四重極電極2に入射させている。
このように第4図に示すイオン源等であつて
も、第1図ないし第3図を用いて説明したような
各種電圧(フイラメント12を加熱する電圧、イ
オンエネルギーを生成する電圧、イオンを集束さ
せる電圧等)を供給することにより、分割した掃
引区間に対応した最適なイオンエネルギーをもつ
イオンであつて、かつ最適な入射条件のイオンを
四重極電極に入射させることが可能となる。
〔考案の効果〕
以上説明したように、本考案によれば、掃引区
間を複数に分割し、この分割した掃引区間毎にイ
オン源に対して最適な電圧を印加する構成を採用
しているため、質量分析を行おうとする掃引区間
に対して最適なエネルギーかつ入射条件を具備し
たイオンを四重極電極に入射させることができ
る。このため質量数の小さいイオンから質量数の
大きいイオンに渡つて常に最適な感度および分解
能を保持した状態で質量分析を行うことができる
と共に、分析しようとする所望の質量数の範囲の
みを掃引して迅速に質量分析を行うことができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の原理的構成図、第2図は本考
案の1実施例構成図、第3図は本考案の他の実施
例構成図、第4図は本考案に用いられる他のイオ
ン源構成図、第5図は従来の四重極型質量分析計
の構成図を示す。 図中、1はイオン源、1−1はフイラメント、
1−2はグリツド、1−3は電子リペラー、1−
4はイオン集束電極、1−5は電子サプレツサ電
極、2は四重極電極、3は検出器、4は記録計、
5,5−1ないし5−4は電圧設定部、6は掃引
設定部、7は制御部を表す。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 イオン源によつて生成したイオンを四重極電極
    間に入射し、この四重極電極に供給する電圧を掃
    引して質量数を検出するよう構成した四重極型質
    量分析計において、 質量数を検出する範囲を複数の区間に分割し、
    この分割した各区間に存在する質量数のイオンを
    検出する掃引電圧を予め夫々設定する掃引設定部
    と、 前記分割した各区間に対して、イオン源内でイ
    オン化させる電圧VEEおよびイオンを加速するイ
    オン加速電圧VIEを予め夫々設定する電圧設定部
    とを備え、 前記掃引設定部に予め設定したいずれかの掃引
    電圧を用いて所定の分割した区間を掃引する場合
    に、当該分割した区間に対応した電圧を前記電圧
    設定部からイオン源に供給するよう構成したこと
    を特徴とする四重極型質量分析計。
JP1985100134U 1985-07-02 1985-07-02 Expired JPH0341403Y2 (ja)

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JP1985100134U JPH0341403Y2 (ja) 1985-07-02 1985-07-02

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP3578518B2 (ja) * 1995-06-21 2004-10-20 横河アナリティカルシステムズ株式会社 質量分析装置におけるレンズパラメータの最適化方法及び最適化装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50122985A (ja) * 1974-03-11 1975-09-26

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JPS50122985A (ja) * 1974-03-11 1975-09-26

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