JPH0335448A - Magneto-optical recording element - Google Patents

Magneto-optical recording element

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JPH0335448A
JPH0335448A JP17095489A JP17095489A JPH0335448A JP H0335448 A JPH0335448 A JP H0335448A JP 17095489 A JP17095489 A JP 17095489A JP 17095489 A JP17095489 A JP 17095489A JP H0335448 A JPH0335448 A JP H0335448A
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JP
Japan
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layer
metal
magneto
resin
optical recording
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Pending
Application number
JP17095489A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Kyoda
豪 京田
Toshiyuki Shibata
柴田 俊幸
Hisao Arimune
久雄 有宗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Publication of JPH0335448A publication Critical patent/JPH0335448A/en
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Abstract

PURPOSE:To enhance adhesion strength between a metal layer and a resin layer and to maintain excellent magneto-optical characteristics by forming an layer comprising of a metal oxide which constitutes the metal protective layer between the metal protective layer and the resin protective layer. CONSTITUTION:On a plastic substrate 6, there are successively formed dielectric layer 7 comprising of silicon nitride, magneto-optical recording layer 8 comprising of rare earth-transition metal amorphous alloy, and metal layer 9. Further, a metal compd. layer 10 comprising of oxide and/or nitride of the metal which constitutes the metal layer 9, and a resin layer 11 comprising of UV-curing resin are formed. Thereby, adhesion strength between the metal layer and the resin layer is enhanced, and the obtd. medium has excellent magneto-optical characteristics and has no decrease in C/N for a long time.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明は例えば希土類金属と遷移金属の非晶質合金から
戒る光磁気記録層を備えて書換え可能の光磁気記録素子
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a rewritable magneto-optical recording element having a magneto-optical recording layer made of, for example, an amorphous alloy of a rare earth metal and a transition metal.

〔従来技術及びその問題点〕[Prior art and its problems]

第3図は既に提案された光磁気記録素子の層構成であり
、同図中、lはプラスチック基板であり、この基板1の
上に窒化シリコンなどの誘電体層2及び前記非晶質合金
の光磁気記録層3が順次形成され、更に保護層として該
N3の上にTi、AI、Cr+ Ta、 Nb+ y1
g+ Cu、 siあるいはこれらの合金などから戒る
金属層4並びに紫外線硬化型樹脂層5が順次形成される
FIG. 3 shows the layer structure of a magneto-optical recording element that has already been proposed. A magneto-optical recording layer 3 is sequentially formed, and Ti, AI, Cr+ Ta, Nb+ y1 are further formed on the N3 as a protective layer.
A metal layer 4 made of g+ Cu, Si, or an alloy thereof, and an ultraviolet curable resin layer 5 are sequentially formed.

しかしながら、上記層構成によれば、金属層4の上に直
接樹脂層5を形成しており、そのため、両N4,5の間
の密着力が劣るという問題点がある。
However, according to the above layer structure, the resin layer 5 is formed directly on the metal layer 4, and therefore there is a problem that the adhesion between the two layers N4 and N5 is poor.

このような問題点により樹脂層5が剥がれ易くなり、光
磁気特性の劣化をきたし、素子自体の信頼性が著しく低
下する。
Due to such problems, the resin layer 5 tends to peel off, causing deterioration of the magneto-optical properties and significantly reducing the reliability of the element itself.

かかる問題点を解決するため、樹脂を塗布する前に金属
層4の表面にプライ・マー処理を行うことが提案されて
いる。
In order to solve this problem, it has been proposed to perform primer treatment on the surface of the metal layer 4 before applying the resin.

このプライマー処理とは、金属と樹脂のつなぎとなるも
のを金属層4の表面に下塗りすることであり、その下塗
り材としては例えばプライマー樹脂(ポリエステル系樹
脂など)、硬化剤及び希釈剤を適当な割合で4合したも
のがあり、これを金属層4の上にスピンコードで塗布し
、l00℃、1時間で硬化させる。
This primer treatment is to apply an undercoat to the surface of the metal layer 4 with something that connects the metal and resin, and the undercoat material includes, for example, a primer resin (polyester resin, etc.), a hardening agent, and a diluent. There is a mixture of 4 parts, which is applied onto the metal layer 4 using a spin cord and cured at 100°C for 1 hour.

しかしながら、上記プライマー処理を行った場合、製造
工程が複雑になり、製造所要時間が長くなり、これによ
り、製造効率が低下し、製造コストが高くなるという問
題点がある。
However, when the above-mentioned primer treatment is performed, there are problems in that the manufacturing process becomes complicated and the time required for manufacturing becomes longer, thereby reducing manufacturing efficiency and increasing manufacturing costs.

また、高温下でベーキングしたことにより基板1と誘電
体N2の間の密着力が低下するという問題点もある。
Another problem is that the adhesion between the substrate 1 and the dielectric N2 decreases due to baking at a high temperature.

本発明は叙上に鑑みて案出されたものであり、その目的
は保護層として形成する金属層及び樹脂層の間の密着力
を高め、これによって優れた光磁気特性を維持し、しか
も、製造効率及び製造コストを改善した光磁気記録素子
を提供することにある。
The present invention has been devised in view of the above, and its purpose is to increase the adhesion between a metal layer and a resin layer formed as a protective layer, thereby maintaining excellent magneto-optical properties, and An object of the present invention is to provide a magneto-optical recording element with improved manufacturing efficiency and manufacturing cost.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の光磁気記録素子は、基体上に少なくとも光磁気
記録層、金属保護層及び樹脂保護層を順次積層して成り
、この金属保護層と樹脂保護層の間に金属保護層をΔす
金属の酸化物及び/又は窒化物から威る層を形成したこ
とを特徴とする。
The magneto-optical recording element of the present invention comprises at least a magneto-optical recording layer, a metal protective layer and a resin protective layer laminated in sequence on a substrate, and a metal protective layer is provided between the metal protective layer and the resin protective layer. It is characterized by forming a layer of oxide and/or nitride of.

以下本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

第1図は本発明光磁気記録素子の基本的層構成であり、
第2図は実施例に示す光磁気ディスクの層構成を表す。
FIG. 1 shows the basic layer structure of the magneto-optical recording element of the present invention.
FIG. 2 shows the layer structure of the magneto-optical disk shown in the example.

両図ともにプラスチック基板6の上に底膜するが、第2
図においては先ず窒化シリコンから成る誘電体層7を形
成する。そして、希土類金属と遷移金属の非晶質合金か
ら成る光磁気記録層8、金属層9、該金属の酸化物及び
/又は窒化物から戊る金属化合物層10並びに紫外線硬
化型樹脂などから成る樹脂15Illを順次形成する。
In both figures, the bottom film is on the plastic substrate 6, but the second
In the figure, first a dielectric layer 7 made of silicon nitride is formed. A magneto-optical recording layer 8 made of an amorphous alloy of a rare earth metal and a transition metal, a metal layer 9, a metal compound layer 10 made of an oxide and/or nitride of the metal, and a resin made of an ultraviolet curable resin or the like. 15Ill are sequentially formed.

本発明は上記金属化合物層10を金属層9と樹脂層11
の間に介在せしめ、両層9,11の間の密着力を高めた
ことが特徴である。
The present invention combines the metal compound layer 10 with a metal layer 9 and a resin layer 11.
It is characterized in that it is interposed between the layers 9 and 11 to enhance the adhesion between the two layers 9 and 11.

このような金属化合物層10は金属層9を形成した後、
次の3通り(i) (ii) (iii)のいずれかの
方法によって形成することができる。
After forming the metal layer 9, such a metal compound layer 10 is
It can be formed by any of the following three methods (i), (ii), and (iii).

(i)  ・・・金属層9をスパッタリング法により形
成した後、成膜室の内部に、酸素ガス、窒素ガス、二酸
化窒素または空気などを導入し、反応性スパッタリング
法によりN9の表面に酸化物及び/又は窒化物の層を形
成する。
(i) After forming the metal layer 9 by sputtering, oxygen gas, nitrogen gas, nitrogen dioxide, air, etc. are introduced into the film forming chamber, and oxide is formed on the surface of N9 by reactive sputtering. and/or forming a nitride layer.

(i i)・・・金属層9をスパッタリング法や真空蒸
着法などにより形成した後、成膜室の内部に酸素ガスや
窒素ガス、または空気などを導入し、これらのガスに紫
外線を照射して層9の表面に酸化物及び/又は窒化物の
層を形成する。
(i i) ... After forming the metal layer 9 by sputtering method, vacuum evaporation method, etc., oxygen gas, nitrogen gas, air, etc. are introduced into the film forming chamber, and these gases are irradiated with ultraviolet rays. An oxide and/or nitride layer is then formed on the surface of layer 9.

(iii)・・・金属層9をスパッタリング法などによ
り形成した後、層9を成す金属の酸化物及び本発明者等
はこれらの方法により得られた金属化合物NIOが化学
量論&lI威物またはその組成から外れた過剰もしくは
欠損状態の物のいずれでもよいと考える。
(iii) After forming the metal layer 9 by a sputtering method or the like, the metal oxide forming the layer 9 and the metal compound NIO obtained by these methods have a stoichiometry It is thought that it may be either an excess or a deficient substance that deviates from the composition.

上記金属層9の構成元素には種々の金属があるが、とり
わけTi+AI+Cr、Ta、Nbなどの不動態形成元
素が望ましく、これにより、該元素が有する耐腐食性に
より金属層9の酸化が核層の深部へ至るのが阻止され、
その結果、光磁気記録層9の光磁気記録特性が損われな
くなる。
There are various metals as constituent elements of the metal layer 9, but passivation-forming elements such as Ti+AI+Cr, Ta, and Nb are particularly desirable, and due to the corrosion resistance of these elements, the oxidation of the metal layer 9 is prevented from forming the nucleation layer. is prevented from reaching the deep depths of
As a result, the magneto-optical recording characteristics of the magneto-optical recording layer 9 are not impaired.

本発明者等が繰り返し行った実験によれば、金属層9と
金属化合物[10の両層から戒る層厚は300〜150
0人の範囲内に設定するのがよく、この範囲内であれば
、O「、 0”−、HzO,Oxなどのイオン又は分子
に対して十分な遮断効果があり、しかも、この層の内部
応力に起因する膜の剥がれが生じなくなる。
According to experiments repeatedly conducted by the present inventors, the thickness of both the metal layer 9 and the metal compound [10] is 300 to 150.
It is best to set it within the range of 0.If it is within this range, it will have a sufficient blocking effect against ions or molecules such as O", 0"-, HzO, Ox, etc. Peeling of the film due to stress will no longer occur.

また、金属化合物層10の層厚は10〜200人の範囲
内に設定するとよく、この範囲内であれば樹脂層11に
対して優れた密着力が得られる。
Moreover, the layer thickness of the metal compound layer 10 is preferably set within the range of 10 to 200 layers, and within this range, excellent adhesion to the resin layer 11 can be obtained.

その上、上記により設定される金属層9の層厚であれば
、遊離酸素や’am窒素が若干量発生しても、これが光
磁気記録層9に侵入しなくなる。
Moreover, if the thickness of the metal layer 9 is set as described above, even if a small amount of free oxygen or 'am nitrogen is generated, it will not invade the magneto-optical recording layer 9.

かくして本発明の光磁気記録素子によれば、保護層とし
て用いられる金属層及び樹脂層の両層間に金属酸化物、
金属窒化物または金属酸窒化物層を形成することにより
上記両層間の密着力を高め、これにより、優れた光磁気
特性が得られ、しかも、長期間に亘ってC/ Nの低下
がなくなった。
Thus, according to the magneto-optical recording element of the present invention, a metal oxide,
By forming a metal nitride or metal oxynitride layer, the adhesion between the two layers was increased, which resulted in excellent magneto-optical properties and no reduction in C/N over a long period of time. .

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明の実施例を詳述する。 Next, embodiments of the present invention will be described in detail.

(例1) マグネトロンスパッタリング装置を用いてポリカーボネ
ート樹脂ディスク基板(130mmφ)の上に窒化シリ
コンを主成分とする誘電体層を725人の厚みで形威し
、この層の上にGdDyFeT i非晶質合金から威る
垂直磁化膜を600人の厚みで形威し、更にTi金属層
を800 人の厚みで形威した。そして、酸化チタンを
ターゲットにして厚み150人のチタン酸化物層を積層
し、次いでアクリル酸エステル系紫外線硬化型樹脂N(
大日樹脂ンキ■製商品名SD−17)をスピンコード法
により塗布形成し、光磁気ディスク八を作製した。
(Example 1) A dielectric layer mainly composed of silicon nitride is formed to a thickness of 725 mm on a polycarbonate resin disk substrate (130 mmφ) using a magnetron sputtering device, and amorphous GdDyFeTi is formed on this layer. A perpendicular magnetization film made of the alloy was formed to a thickness of 600 mm, and a Ti metal layer was further formed to a thickness of 800 mm. Then, targeting titanium oxide, a titanium oxide layer with a thickness of 150 mm was laminated, and then an acrylic ester-based ultraviolet curable resin N (
Magneto-optical disk 8 was prepared by applying and forming a magneto-optical disc (trade name: SD-17) manufactured by Dainichi Plastics Co., Ltd. (trade name: SD-17) by a spin code method.

ところで保護層として金属酸化物層、金属窒化物層又は
金属酸窒化物層を形成し、その後、その層の上に紫外線
硬化型樹脂を塗布する場合、その塗布をできるだけ早く
行った方がよく、これにより、樹脂層の密着力が向上す
ることを本発明者等は実験上確認した。
By the way, when a metal oxide layer, metal nitride layer, or metal oxynitride layer is formed as a protective layer, and then an ultraviolet curable resin is applied on the layer, it is better to apply the ultraviolet curable resin as soon as possible. The inventors have experimentally confirmed that this improves the adhesion of the resin layer.

そこで本実施例においては、上記保i1J’Wを形威し
た後、樹脂を塗布形成するまでに至る時間を10〜20
分の範囲内に設定するとともにその時間における環境雰
囲気を常温常温に設定した。
Therefore, in this example, after applying the above-mentioned maintenance i1J'W, it took 10 to 20 hours to apply and form the resin.
The temperature was set within a range of 10 minutes, and the environmental atmosphere at that time was set to room temperature.

次に上記光磁気ディスクAを作製するなかでTi金属層
を1000人の厚みで形威し、そして、スパッタリング
法に代えて次のようにチタン酸化物層を形成した。即ち
、ディスクを紫外線照射装置に設定し、酸素雰囲気下で
上記Ti金属層の表面を1分間低圧水銀灯により紫外線
照射(波長150〜350n−1照度4mW/ cab
”) シたところ、核層の表面に厚み約10〜30人の
チタン酸化物層を形成することができた。
Next, in producing the above-mentioned magneto-optical disk A, a Ti metal layer was formed to a thickness of 1000 mm, and a titanium oxide layer was formed in the following manner instead of the sputtering method. That is, the disk was set in an ultraviolet irradiation device, and the surface of the Ti metal layer was irradiated with ultraviolet light (wavelength: 150 to 350n, illuminance: 4mW/cab) for 1 minute using a low-pressure mercury lamp in an oxygen atmosphere.
”) As a result, a titanium oxide layer with a thickness of about 10 to 30 μm could be formed on the surface of the core layer.

また、この光磁気ディスクを作製するに際し、上記チタ
ン酸化物層以外の成膜形成は光磁気ディスクAと同じに
し、かくして光磁気ディスクロを作製した。
Further, in producing this magneto-optical disk, the formation of films other than the above-mentioned titanium oxide layer was the same as in magneto-optical disk A, thus producing a magneto-optical disk.

次に上記光磁気ディスクロを作製するに当たり、紫外線
照射を行わず、その他は全く同じ条件により光磁気ディ
スクを作製し、これを光磁気ディスクCとした。
Next, in producing the above magneto-optical disc, a magneto-optical disc was produced under the same conditions except that ultraviolet irradiation was not performed, and this was designated as magneto-optical disc C.

このようにして作製した3種類の光磁気ディスクを高温
高温(80℃、85XRH)の環境下に設置し、その経
時変化を樹脂層の剥離により確かめたところ、第4図に
示す通りの結果が得られた。
The three types of magneto-optical disks produced in this way were placed in a high temperature environment (80°C, 85XRH), and their changes over time were checked by peeling off the resin layer, and the results shown in Figure 4 were obtained. Obtained.

同図中横軸は時間であり。縦軸は剥離率を表す。The horizontal axis in the figure is time. The vertical axis represents the peeling rate.

この剥離率は各種光磁気ディスクを10枚用意し、個々
の光磁気ディスクの樹脂層表面上にセロハンテープを貼
り付け、このテープを剥がした場合の樹脂層の剥離を目
視観察により確認するという方法により求めており、そ
の場合、1枚のディスク当たり任意の4ケ所の剥離具合
を111認し、かくして各種光磁気ディスクについて4
0ケ所の剥離の有無により決めた。
This peeling rate was determined by a method in which 10 magneto-optical disks of various types were prepared, cellophane tape was pasted on the resin layer surface of each magneto-optical disk, and when the tape was peeled off, the peeling of the resin layer was confirmed by visual observation. In this case, the degree of delamination at four arbitrary locations on one disk is recognized as 111, and thus 4
It was determined based on the presence or absence of peeling at 0 locations.

この40ケ所が全く剥がれなかった場合を剥離率0χと
し、そのすべてが剥がれた場合を剥離率10(Hとした
When these 40 locations were not peeled off at all, the peeling rate was set as 0χ, and when all of them were peeled off, the peeling rate was set as 10 (H).

第4図中、・印、■印、及び○印はそれぞれ光磁気ディ
スクA、B及びCの測定プロントである。
In FIG. 4, the *, ■, and ○ marks are the measurement fronts of the magneto-optical disks A, B, and C, respectively.

同図より明らかな通り、光磁気ディスクAは750時間
経過後もIO2以下の剥離率であり、最も剥離しなかっ
た。然るに光磁気ディスクCについては750時間経過
後約502の剥離率を示した。
As is clear from the figure, magneto-optical disk A had a peeling rate of less than IO2 even after 750 hours, and was the least peeled. However, magneto-optical disk C showed a peeling rate of about 502 after 750 hours.

(例2) 次に本例においては、光磁気ディスクD−Gを次の条件
により作製し、(例1)と同じ高温高湿下の耐環境試験
を行ったところ、第5図に示す通りの結果が得られた。
(Example 2) Next, in this example, a magneto-optical disk D-G was manufactured under the following conditions and subjected to the same high temperature and high humidity environment resistance test as in (Example 1), as shown in Figure 5. The results were obtained.

叉呈1け’47LL (例1)と同様にディスク基板上に主に窒化シリコンか
ら戒る誘電体1i(厚み950人) 、GdDyFeT
i垂直磁化膜(厚み300人)、主に窒化シリコンから
威る誘電体層(厚み400人)並びにAI金属層(厚み
400人)を順次積層し、次いで成膜室に酸素ガス(0
!〉を導入するとともに、スパッタ用ガスであるアルゴ
ンガス(Ar)とのガス比率、即ちArと0□ガ−大流
量比を30:1程度に、しかも、背圧を約5mTorr
に設定し、スパッタリング法によりアルミニウム酸化物
層(T¥み約10〜30人)を形威し、続いて(例1)
と同じアクリル酸エステル系紫外線硬化型樹脂層を塗布
形成した。
Dielectric material 1i (thickness: 950 mm), which is mainly made of silicon nitride, is placed on the disk substrate as in 1-piece '47LL (Example 1), GdDyFeT.
An i-perpendicular magnetization film (thickness: 300 mm), a dielectric layer (400 mm thick) mainly made of silicon nitride, and an AI metal layer (thickness: 400 mm) are sequentially laminated, and then oxygen gas (0 mm) is added to the deposition chamber.
! > was introduced, and the gas ratio with argon gas (Ar), which is the sputtering gas, was adjusted to approximately 30:1, and the back pressure was adjusted to approximately 5 mTorr.
, and form an aluminum oxide layer (about 10 to 30 people) by sputtering method, followed by (Example 1)
The same acrylic ester-based ultraviolet curable resin layer was applied and formed.

蓮41す5C(乙り 光磁気ディスクロの作製のなかでアルミニウム酸化物層
を形成するに当たり、スパッタリング法に代えて次のよ
うにアルミニウム酸化物層を形成した。即ち、厚み40
0 人のA1金属層をスパッタリング法により形威した
後、(例1)にて用いられた紫外線照射装置に設置し、
酸素雰囲気下で上記AI金属層の表面を5分間紫外線照
射(波長150〜350nm、照度4IIIW/c11
2)シたところ、核層の表面に厚み約10〜30人のア
ルミニウム酸化物層を形成することができた。このアル
ミニウム酸化物層の形成以外は光磁気ディスクロと同じ
である。
When forming an aluminum oxide layer in the production of a magneto-optical disk, the aluminum oxide layer was formed as follows instead of the sputtering method.
After shaping the A1 metal layer of 0 people by sputtering method, it was placed in the ultraviolet irradiation device used in (Example 1),
The surface of the AI metal layer was irradiated with ultraviolet rays for 5 minutes in an oxygen atmosphere (wavelength 150 to 350 nm, illumination intensity 4IIIW/c11).
2) As a result, an aluminum oxide layer with a thickness of about 10 to 30 mm could be formed on the surface of the core layer. Other than the formation of this aluminum oxide layer, it is the same as a magneto-optical disc.

光性1し一〇L乞り 光磁気ディスクEを作製するに当たり、紫外線照射を行
わない以外は全く同じ条件により作製した。
A magneto-optical disk E with an optical property of 1 and 10 L was prepared under exactly the same conditions except that no ultraviolet irradiation was performed.

光磁気ディスクG 光磁気ディスクロを作製するに当たり、成膜室内に酸素
ガスを導入する代わりに窒素ガスを導入し、これによっ
てアルミニウム窒化物層を形成し、その他の積層構成を
全く同じにした。
Magneto-Optical Disk G In producing the magneto-optical disk, nitrogen gas was introduced into the film forming chamber instead of oxygen gas, thereby forming an aluminum nitride layer, and the other laminated structures were kept exactly the same.

第5図中、鵬印、回申、目印及びΔ印はそれぞれ光磁気
ディスクD、E、F、Gの測定プロットである。
In FIG. 5, the Peng mark, circular mark, mark, and Δ mark are measurement plots of magneto-optical disks D, E, F, and G, respectively.

同図の結果より明らかな通り、本発明の光磁気ディスク
D、E、Gは経時劣化のない優れた密着力が得られたこ
とが判る。
As is clear from the results shown in the figure, it can be seen that the magneto-optical disks D, E, and G of the present invention had excellent adhesion without deterioration over time.

そして、上記実施例以外に本発明者等が行った実験によ
れば、光磁気ディスクへの作製のなかで用いられた酸化
チタンのターゲットに代え、酸窒化チタン、酸化アルミ
ニウム、酸窒化アルミニウムをターゲットに用いても、
本発明の目的が達成できたことを確認した。
According to experiments conducted by the inventors in addition to the above examples, titanium oxynitride, aluminum oxide, and aluminum oxynitride were used as targets in place of the titanium oxide target used in the production of magneto-optical disks. Even if used for
It was confirmed that the object of the present invention was achieved.

また、光磁気ディスクD、Gの作製に当たり、スパソタ
用反応室内部へ導入するガスとして二酸化窒素ガスや空
気を用いても本発明の目的が達成できた。
Furthermore, the object of the present invention could be achieved even when nitrogen dioxide gas or air was used as the gas introduced into the reaction chamber for the super soter when producing the magneto-optical disks D and G.

更に本発明者等はTi金属層やAI金属層に代えて、C
r金属層、Ta金属層、Nb金属層、Mo金属層、Cr
金属層、Cu金属層、Si金属層を形威し、本実施例と
同様にその酸化物層や窒化物層を形威し、これによって
各種光磁気ディスクを作製した場合についても本例と同
様な作用効果が得られたことを実験上確認した。
Furthermore, the present inventors replaced the Ti metal layer and the AI metal layer with C
r metal layer, Ta metal layer, Nb metal layer, Mo metal layer, Cr
Similar to this example, a metal layer, a Cu metal layer, and a Si metal layer are formed, and the oxide layer and nitride layer thereof are formed in the same way as in this example, and various magneto-optical disks are manufactured using this. It was experimentally confirmed that this effect was obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の通り、本発明によれば、保護層として形成する金
属層と樹脂層との積層間の密着力を高め、これにより、
初期の優れた光磁気特性が維持でき、その結果、高品質
且つ長期信頼性の光磁気記録素子を提供することができ
た。
As described above, according to the present invention, the adhesion between the metal layer and the resin layer formed as a protective layer is increased, and thereby,
The excellent initial magneto-optical properties could be maintained, and as a result, a magneto-optical recording element of high quality and long-term reliability could be provided.

また本発明の光磁気記録素子においては、前述したブラ
イマー処理を行わなくても上記の効果が得られ、これに
より、製造工程がより簡単になり、製造所要時間が短く
なり、その結果、製造効率が高くなり、製造コストが低
減した。
Furthermore, in the magneto-optical recording element of the present invention, the above effects can be obtained without performing the above-mentioned brimer treatment, which simplifies the manufacturing process and shortens the required manufacturing time, resulting in increased manufacturing efficiency. has increased, and manufacturing costs have decreased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図及び第2図は本発明光磁気記録素子の層構成を表
す断面図、第3図は従来の層構成を表す断面図であり、
第4図及び第5図は剥離実験の結果を表す線図である。 1.6・・・プラスチック基板 2.7・・・誘電体層 3.8・・・光磁気記録層 4.9・・・金属層 10   ・・・金属化合物層 5.11・・・樹脂層
1 and 2 are cross-sectional views showing the layer structure of the magneto-optical recording element of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing the conventional layer structure,
FIGS. 4 and 5 are diagrams showing the results of peeling experiments. 1.6...Plastic substrate 2.7...Dielectric layer 3.8...Magneto-optical recording layer 4.9...Metal layer 10...Metal compound layer 5.11...Resin layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基体上に少なくとも光磁気記録層、金属保護層及
び樹脂保護層を順次積層した光磁気記録素子において、
前記金属保護層と樹脂保護層の間に上記金属保護層を成
す金属の酸化物層を形成したことを特徴とする光磁気記
録素子。
(1) In a magneto-optical recording element in which at least a magneto-optical recording layer, a metal protective layer and a resin protective layer are sequentially laminated on a substrate,
A magneto-optical recording element, characterized in that a metal oxide layer constituting the metal protective layer is formed between the metal protective layer and the resin protective layer.
(2)前記酸化物層に代えて前記金属の窒化物層を形成
した請求項(1)記載の光磁気記録素子。
(2) The magneto-optical recording element according to claim 1, wherein a nitride layer of the metal is formed in place of the oxide layer.
(3)前記酸化物層に代えて前記金属の酸窒化物層を形
成した請求項(1)記載の光磁気記録素子。
(3) The magneto-optical recording element according to claim (1), wherein an oxynitride layer of the metal is formed in place of the oxide layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2000020060A1 (en) 1998-10-06 2000-04-13 Nissho Corporation Drug injector

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JPH02128346A (en) * 1988-11-08 1990-05-16 Fuji Photo Film Co Ltd Magneto-optical disk

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