JPH0331085B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0331085B2 JPH0331085B2 JP59164738A JP16473884A JPH0331085B2 JP H0331085 B2 JPH0331085 B2 JP H0331085B2 JP 59164738 A JP59164738 A JP 59164738A JP 16473884 A JP16473884 A JP 16473884A JP H0331085 B2 JPH0331085 B2 JP H0331085B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- cylindrical filter
- introduction pipe
- impeller
- casing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 26
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 86
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009841 combustion method Methods 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は大気または後続の処理装置に放出す
るに適した濃度にシラン系の排ガスを処理する装
置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention This invention relates to a device for treating silane-based exhaust gases to a concentration suitable for release to the atmosphere or subsequent treatment equipment.
（従来の技術）
半導体製造工業分野においては化学的気相成長
プロセスでシラン系ガスを使用している。例えば
SiH4（モノシラン）ガスの使用量の増加率は、１
年当り30％ともいわれており、半導体における重
要材料の１つである。(Prior Art) In the semiconductor manufacturing industry, silane-based gases are used in chemical vapor deposition processes. for example
The rate of increase in the amount of SiH 4 (monosilane) gas used is 1
It is said to be 30% per year, and is one of the important materials in semiconductors.
SiH4ガスの物性数値は、ガス比重は1.11（空気
１）、液密度0.68、沸点−112℃、融点−185℃、
蒸気圧48atm（−35℃）で、その大きな特徴は空
気中で酸素と反応し、自然発火することである。
例えば、この発火の限界濃度は、H2（水素）ベー
スSiH4では、そのSiH4濃度約0.5％で自然発火す
る。一方、N2（窒素）ベースSiH4では約４％で自
然発火する。従つて安全に使用し、且つ一部未反
応なSiH4を含んだ排ガスを安全に処理する事は、
工場災害を防止するという観点より極めて重要で
ある。 The physical properties of SiH 4 gas are: gas specific gravity 1.11 (air 1), liquid density 0.68, boiling point -112℃, melting point -185℃,
It has a vapor pressure of 48 atm (-35°C), and its major feature is that it reacts with oxygen in the air and ignites spontaneously.
For example, the critical concentration for ignition is H 2 (hydrogen)-based SiH 4 , which spontaneously ignites at a SiH 4 concentration of about 0.5%. On the other hand, N 2 (nitrogen)-based SiH 4 spontaneously ignites at about 4%. Therefore, safe use and safe treatment of exhaust gas containing partially unreacted SiH 4 is necessary.
This is extremely important from the perspective of preventing factory accidents.
一般に可燃性ガスSiH4の処理方法には、酸化
吸着とアルカリ洗浄の併用法、燃焼法および加水
分解法がある。 Generally, methods for treating combustible gas SiH 4 include a combined method of oxidation adsorption and alkaline cleaning, a combustion method, and a hydrolysis method.
まず、併用法は現在の処理装置の主流をなして
いるものである。但し、実際の半導体工業レベル
で使用されている大量のSiH4の排ガスの処理を
行なうには、処理装置が大規模で高価なものにな
り、まだ十分に使用されていないのが実状であ
る。 First, the combination method is the mainstream of current processing equipment. However, in order to process the large amount of SiH 4 exhaust gas used in the actual semiconductor industry, processing equipment is large-scale and expensive, and the reality is that it is not yet fully used.
次に、燃焼法は処理方法としては効果的なもの
であるがコスト高、安全性、操作性、酸化物の粉
末によるつまり等があり、実用化には難しい点が
ある。 Next, although the combustion method is effective as a treatment method, it is difficult to put into practical use due to high cost, safety, ease of operation, clogging due to oxide powder, etc.
最後に、加水分解法は水による加水分解を利用
した処理であり、SiH4＋2H2O→SiO2＋4H2と反
応させる。この反応が容易に起こるかどうかにつ
いては議論の分かれどころであるが、我々の実験
によればSiH4が空気と酸化して生成されるSiO2
の反応が現われ、SiO2の粉末が発生する。しか
し十分な加水分解効果は生じない。 Finally, the hydrolysis method is a treatment that utilizes hydrolysis with water, in which SiH 4 +2H 2 O→SiO 2 +4H 2 is reacted. Although it is a matter of debate as to whether this reaction easily occurs, our experiments show that SiO 2 produced when SiH 4 oxidizes with air.
reaction occurs and SiO 2 powder is generated. However, sufficient hydrolysis effect does not occur.
なお、前記併用法および加水分解法ではガス処
理にスクラバーを用いる。スクラバーは装置が大
型であり、ガス処理に多量の水を必要とする。こ
のようにスクラバーは多量の水を使うので一般に
洗浄水を循環して使用する。したがつて、前記反
応によりSiO2が洗浄水に蓄積する。また、シラ
ンガスがSiH2Cl2ガスを含む場合、加水分解によ
りHClが発生し、洗浄水の循環使用によつてHCl
の濃度が高くなる。したがつて、洗浄水の定期的
な処理が必要となり、手間がかかる。 Note that in the combination method and hydrolysis method, a scrubber is used for gas treatment. Scrubbers are large devices and require large amounts of water for gas treatment. Since scrubbers use a large amount of water, the cleaning water is generally circulated. Therefore, SiO 2 accumulates in the wash water due to the reaction. In addition, when silane gas contains SiH 2 Cl 2 gas, HCl is generated by hydrolysis, and HCl is generated by circulating the cleaning water.
concentration increases. Therefore, periodic treatment of the cleaning water is required, which is time-consuming.
（発明が解決しようとする問題点）
上記のように、各シランガス処理方法は安全性
の点でまだ不十分であり、また設備費あるいは処
理費が高額であるという問題もある。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, each silane gas treatment method is still insufficient in terms of safety, and also has the problem of high equipment costs or high processing costs.
そこで、この発明は安全に、かつ多大な費用を
要せずにシランガスを処理することができる装置
を提供しようとするものである。 Therefore, it is an object of the present invention to provide an apparatus that can process silane gas safely and without requiring a large amount of cost.
（問題点を解決するための手段）
この発明のシランガス処理装置は主としてケー
シング、羽根車、羽根車を回転駆動するモータ
ー、ガス導入管、洗浄水導入管、空気導入管およ
びノズルからなつている。(Means for Solving the Problems) The silane gas treatment apparatus of the present invention mainly includes a casing, an impeller, a motor for rotationally driving the impeller, a gas introduction pipe, a wash water introduction pipe, an air introduction pipe, and a nozzle.
ケーシングはガス排出口を備えている。ケーシ
ング内へのガスの導入は下記のガス導入管によ
る。 The casing is equipped with a gas outlet. Gas is introduced into the casing using the gas introduction pipe shown below.
羽根車は相対する側板の間に円筒状フイルター
が固着されている。円筒状フイルターの周囲には
放射状に複数の羽根が取り付けられており、前記
側板の一つにガス導入穴が設けられている。この
ように構成された羽根車は前記ケーシング内に回
転自在に取り付けられている。 The impeller has a cylindrical filter fixed between opposing side plates. A plurality of blades are attached radially around the cylindrical filter, and one of the side plates is provided with a gas introduction hole. The impeller configured in this manner is rotatably mounted within the casing.
上記ケーシング、羽根車およびモーターはフア
ンを構成している。 The casing, impeller and motor constitute a fan.
ガス導入管は前記ケーシング内まで延びて先端
が前記ガス導入穴に向かつて開口している。 The gas introduction pipe extends into the casing, and its tip is open toward the gas introduction hole.
洗浄水導入管および空気導入管は前記円筒状フ
イルター内まで延びており、これらの先端にはそ
れぞれ前記円筒状フイルター内で半径方向に開口
するノズルが設けられている。 The cleaning water inlet pipe and the air inlet pipe extend into the cylindrical filter, and each has a nozzle at its tip that opens in the radial direction within the cylindrical filter.
上記装置に加えて更にケーシング内の温度検出
器、ガス導入管入側の圧力検出器、ガス導入管に
連通するガスバイパス管、ガスバイパス管に設け
られた開閉装置および洗浄水の流量検出器を設け
るようにしてもよい。 In addition to the above devices, there is also a temperature detector inside the casing, a pressure detector on the inlet side of the gas introduction pipe, a gas bypass pipe communicating with the gas introduction pipe, a switch device installed in the gas bypass pipe, and a flow rate detector for cleaning water. It may also be provided.
（作用）
処理するシランガスはガス導入管により羽根車
の円筒状フイルター内まで導かれる。羽根車はモ
ーターで回転されている。洗浄水源の水圧により
洗浄水導入管のノズルから円筒状フイルター内周
面に向かつて洗浄水が放射状に散水される。ま
た、羽根車の回転により吸引された空気は空気導
入管のノズルから円筒状フイルター内周面に向か
つて放射状に吹き出す。(Operation) The silane gas to be treated is guided into the cylindrical filter of the impeller by the gas introduction pipe. The impeller is rotated by a motor. Due to the water pressure of the cleaning water source, cleaning water is sprayed radially from the nozzle of the cleaning water introduction pipe toward the inner peripheral surface of the cylindrical filter. Furthermore, the air sucked in by the rotation of the impeller is blown out radially toward the inner peripheral surface of the cylindrical filter from the nozzle of the air introduction pipe.
円筒状フイルター内周面に一様にノズルから散
水された洗浄水は遠心効果によつて円筒状フイル
ターに浸透し、広いぬれ面積を形成する。同時に
羽根車の回転によつて発生する負圧によつて吸引
されたシランガスは円筒状フイルターを通過する
ときに上記広いぬれ接触面によつて洗浄水と接触
して洗浄される。SiO2の粉末が生じても水滴に
よつて洗浄される。 The cleaning water uniformly sprayed from the nozzle onto the inner circumferential surface of the cylindrical filter permeates the cylindrical filter due to the centrifugal effect, forming a wide wetted area. At the same time, the silane gas sucked in by the negative pressure generated by the rotation of the impeller passes through the cylindrical filter and comes into contact with the cleaning water by the wide wetting contact surface and is cleaned. Even if SiO 2 powder is generated, it is washed away by water droplets.
また、導入されたシランガスは円筒状フイルタ
ー内で空気により希釈される。このように処理さ
れたガスは円筒状フイルターを通つて羽根車から
流出し、さらに羽根車から流出してケーシングの
排出口から大気または後続の処理装置に放出され
る。 Furthermore, the introduced silane gas is diluted with air within the cylindrical filter. The gas thus treated exits the impeller through a cylindrical filter and exits the impeller through an outlet in the casing to the atmosphere or subsequent treatment equipment.
なお、前述のように温度、圧力および流量検出
器、ガスバイパス管ならびに開閉装置などを設け
た場合、ケーシング内でシランガスが発火し、燃
焼すると、ケーシング内の温度が上昇し、前記温
度検出器はこれを検知する。また、円筒状フイル
ターが目詰りすると、ガス導入管入側の圧力が上
昇し、前記圧力検出器はこれを検出する。さらに
また、洗浄水の供給量が下限まで下ると、流量検
出器がこれを検出する。このような場合、自動的
に、あるいは警報により手動でもつて羽根車の回
転を停止するとともに、前記開閉装置を開いてシ
ランガスをガスバイパス管より逃がす。 In addition, when temperature, pressure and flow rate detectors, gas bypass pipes, switching devices, etc. are provided as described above, when the silane gas ignites and burns within the casing, the temperature within the casing increases, and the temperature detector Detect this. Furthermore, when the cylindrical filter becomes clogged, the pressure on the inlet side of the gas introduction pipe increases, and the pressure detector detects this. Furthermore, when the supply amount of wash water falls to a lower limit, the flow rate detector detects this. In such a case, the rotation of the impeller is stopped automatically or manually by an alarm, and the opening/closing device is opened to allow the silane gas to escape from the gas bypass pipe.
（実施例）
第１図および第２図は、この発明のシランガス
処理装置の一例を示している。(Example) FIGS. 1 and 2 show an example of a silane gas treatment apparatus of the present invention.
これら図面に示すようにシランガス処理装置は
主としてケーシング３、ケーシング内の温度検出
器９、羽根車１１、羽根車１１を回転駆動するモ
ーター２１、ガス導入管２５、ガス導入管入側の
圧力検出器２８、前記ガス導入管２５に連通する
ガスバイパス管２９、ガスバイパス管２９に設け
られた開閉装置３０、洗浄水導入管３１および空
気導入管３７、洗浄水の流量検出器３４、ならび
にノズル４１，４３からなつている。 As shown in these drawings, the silane gas treatment device mainly includes a casing 3, a temperature sensor 9 inside the casing, an impeller 11, a motor 21 that rotationally drives the impeller 11, a gas introduction pipe 25, and a pressure detector on the inlet side of the gas introduction pipe. 28, a gas bypass pipe 29 communicating with the gas introduction pipe 25, a switching device 30 provided in the gas bypass pipe 29, a cleaning water introduction pipe 31 and an air introduction pipe 37, a cleaning water flow rate detector 34, and a nozzle 41, It consists of 43.
架台１の上に箱形のケーシング３が固定されて
いる。ケーシング３の頂部は開口しており、ガス
排出口６となつている。ケーシング３内の頂部寄
りに二重フイルター７が取り付けられており、底
部寄りに排水管８が接続されている。 A box-shaped casing 3 is fixed on a pedestal 1. The top of the casing 3 is open and serves as a gas outlet 6. A double filter 7 is attached near the top inside the casing 3, and a drain pipe 8 is connected near the bottom.
ガス排出口６にはケーシング３内のガス温度を
検出する温度検出器９が取り付けられている。 A temperature detector 9 is attached to the gas outlet 6 to detect the temperature of the gas inside the casing 3.
羽根車１１は相対する円板状の側板１６，１８
を備えており、これの間に円筒状フイルター１２
が固着されている。円筒状フイルター１２は金網
１３の内側にフイルター材１４が取り付けられて
いる。フイルター材１４はフエルトなどのよに繊
維を高密度に圧縮したものが好ましい。円筒状フ
イルター１２の周囲には放射状に複数の羽根１９
が取り付けられており、前記側板１６の一つにガ
ス導入穴１７が設けられている。このように構成
された羽根車１１は回転軸を水平にして前記ケー
シング３内に回転自在に取り付けられている。 The impeller 11 has opposing disc-shaped side plates 16 and 18.
between which a cylindrical filter 12 is installed.
is fixed. The cylindrical filter 12 has a filter material 14 attached to the inside of a wire mesh 13. The filter material 14 is preferably made of highly compressed fibers such as felt. A plurality of blades 19 are arranged radially around the cylindrical filter 12.
is attached, and one of the side plates 16 is provided with a gas introduction hole 17. The impeller 11 configured in this manner is rotatably mounted within the casing 3 with its rotating shaft horizontal.
前記架台１上にケーシング３に隣接してモータ
ー２１が配置されており、これの出力軸２２は前
記ケーシング３の後壁５を貫通して先端に羽根車
１１が固着されている。 A motor 21 is arranged on the pedestal 1 adjacent to the casing 3, and its output shaft 22 passes through the rear wall 5 of the casing 3 and has an impeller 11 fixed to its tip.
ガス導入管２５は前記ケーシング３の前壁４に
取り付けられており、その先端はケーシング３内
まで延びて前記羽根車１１の側板１６に設けられ
たガス導入穴１７に向かつて開口している。ガス
導入管２５の先端はガス導入穴１７に近接してい
るので、導入されガスが羽根車１１内に通らずに
直接ケーシング３内に入ることはない。また、シ
ランガスを取り扱う前段の装置（図示しない）か
ら延びてきたガス供給管２７がガス導入管２５の
後端に接続されている。 The gas introduction pipe 25 is attached to the front wall 4 of the casing 3, and its tip extends into the casing 3 and opens toward the gas introduction hole 17 provided in the side plate 16 of the impeller 11. Since the tip of the gas introduction pipe 25 is close to the gas introduction hole 17, the introduced gas does not pass through the impeller 11 and directly enter the casing 3. Further, a gas supply pipe 27 extending from a previous device (not shown) that handles silane gas is connected to the rear end of the gas introduction pipe 25.
上記ガス供給管２７にはガス導入管２５の入側
の圧力、すなわち羽根車１１による吸引力を検出
する圧力検出器２８が取り付けられている。 A pressure detector 28 is attached to the gas supply pipe 27 to detect the pressure on the inlet side of the gas introduction pipe 25, that is, the suction force by the impeller 11.
また、ガス供給管２７には上記ガス導入管２５
とともにガスバイパス管２９が接続されている。 The gas supply pipe 27 also includes the gas introduction pipe 25.
A gas bypass pipe 29 is also connected thereto.
上記ガスバイパス管２９には開閉装置３０が取
り付けられている。 A switching device 30 is attached to the gas bypass pipe 29.
洗浄水導入管３１は上記ガス導入管２５を同軸
に貫通して前記円筒状フイルター１２内まで延び
ており、これの後端は洗浄水供給管３２、電磁弁
３３、流量検出器３４などを介して水道水源（図
示しない）などに接続されている。流量検出器３
４は下限水量を検出する発信器を備えている。 The cleaning water introduction pipe 31 coaxially penetrates the gas introduction pipe 25 and extends into the cylindrical filter 12, and its rear end is connected to a cleaning water supply pipe 32, a solenoid valve 33, a flow rate detector 34, etc. and is connected to a tap water source (not shown). Flow rate detector 3
4 is equipped with a transmitter for detecting the lower limit water amount.
空気導入管３７は２本よりなり、第３図に示す
ように洗浄水導入管３１と並行して上記ガス導入
管２５を貫通し、前記円筒状フイルター１２内ま
で延びている。空気導入管３７の後端は大気に開
放されている。 The air introduction pipe 37 is composed of two pieces, and as shown in FIG. 3, the air introduction pipe 37 passes through the gas introduction pipe 25 in parallel with the washing water introduction pipe 31 and extends into the cylindrical filter 12. The rear end of the air introduction pipe 37 is open to the atmosphere.
これら洗浄水導入管３１および空気導入管３７
の先端にはそれぞれ前記円筒状フイルター１２内
で半径方向に開口するノズル４１，４３が設けら
れている。 These cleaning water introduction pipe 31 and air introduction pipe 37
Nozzles 41 and 43 that open in the radial direction within the cylindrical filter 12 are respectively provided at the tips of the filters.
前記温度検出器９、圧力検出器２８および流量
検出器３４からの信号は架台１に取り付けられた
警報器４５に送られる。 Signals from the temperature detector 9, pressure detector 28 and flow rate detector 34 are sent to an alarm 45 attached to the pedestal 1.
以上のように構成された装置において、処理す
るシランガスはこれを取り扱う前段の装置（図示
しない）からガス供給管２７を経てガス導入管２
５により羽根車１１の円筒状フイルター１２内ま
で導かれる。 In the apparatus configured as described above, the silane gas to be treated is passed from the previous stage equipment (not shown) that handles the silane gas through the gas supply pipe 27 to the gas introduction pipe 2.
5 into the cylindrical filter 12 of the impeller 11.
羽根車１１はモーター２１により高速で回転駆
動されており、円筒状フイルター１２より飛び出
す水滴の速度は、たとえば40m／secになる。円
筒状フイルター１２内では洗浄水導入管３１およ
び空気導入管３７の先端に設けられたノズル４
１，４３から洗浄水および空気が放射状に流出す
る。 The impeller 11 is driven to rotate at high speed by a motor 21, and the speed of water droplets flying out from the cylindrical filter 12 is, for example, 40 m/sec. Inside the cylindrical filter 12, nozzles 4 are provided at the tips of the cleaning water introduction pipe 31 and the air introduction pipe 37.
Cleaning water and air flow out radially from 1 and 43.
導入されたシランガスは円筒状フイルター１２
内で洗浄水と反応し、また空気により希釈され
る。このように処理されたガスは円筒状フイルタ
ー１２を通つて羽根車１１から流出し、さらに二
重フイルター７を通つてケーシング３の排出口６
から大気または後続の処理装置に放出される。 The introduced silane gas passes through a cylindrical filter 12
It reacts with the wash water inside the tank and is also diluted by air. The gas thus treated exits the impeller 11 through a cylindrical filter 12 and further through a double filter 7 to the outlet 6 of the casing 3.
to the atmosphere or subsequent treatment equipment.
シランガスのケーシング３内での燃焼、円筒状
フイルター１２の目詰りあるいは洗浄水の供給量
の低下が生じると、前記検出器９，２８あるいは
３４からの信号により警報器４５が作動する。こ
れより、手動によりモーター２１を停止するとと
もに、開閉装置３０を開いて、シランガスをガス
バイパス管２９より逃がす。 When combustion of silane gas occurs within the casing 3, clogging of the cylindrical filter 12, or a decrease in the amount of cleaning water supplied, the alarm 45 is activated by a signal from the detector 9, 28 or 34. Thereafter, the motor 21 is manually stopped, the opening/closing device 30 is opened, and the silane gas is released from the gas bypass pipe 29.
この発明は上記実施例に限られるものではな
い。たとえば、洗浄水の供給において水圧が十分
得られないならば、ポンプを洗浄水供給管３２に
接続してもよい。また、空気導入管３７からの空
気の吸込み量が不十分ならば、空気導入管３７に
ブロアーなどを接続し、円筒状フイルター１２に
空気を押し込むようにしてもよい。さらにまた、
制御盤を設けて検出器９，２８あるいは３４から
の信号をこれに入力し、モーター２１の停止およ
び開閉装置３０の開放を自動的に行なうようにし
てもよい。 This invention is not limited to the above embodiments. For example, a pump may be connected to the wash water supply pipe 32 if sufficient water pressure cannot be obtained in the wash water supply. Furthermore, if the amount of air sucked from the air introduction pipe 37 is insufficient, a blower or the like may be connected to the air introduction pipe 37 to force air into the cylindrical filter 12. Furthermore,
A control panel may be provided and signals from the detectors 9, 28 or 34 may be input thereto to automatically stop the motor 21 and open the opening/closing device 30.
（発明の効果）
この発明の装置は、シランガスのケーシング内
での燃焼、円筒状フイルターの目詰りあるいは洗
浄水の給水量の低下を検出するよにしているの
で、安全にシランガスを処理することができる。(Effects of the Invention) The device of the present invention is designed to detect combustion of silane gas within the casing, clogging of the cylindrical filter, or decrease in the amount of water supplied for cleaning, so that silane gas can be treated safely. can.
また、吸引フアンとフイルターが一体となつて
いるので、装置はコンパクトかつ廉価となる。 Furthermore, since the suction fan and filter are integrated, the device is compact and inexpensive.
上記のように装置が小型ですむことから、装置
内を処理ガスは高速で流れ、ケーシング、羽根車
などの内側に停留することはない。また、処理ガ
スは円筒状フイルター内に直接導入されて希釈、
加水分解される。したがつて、外気と接触して発
火することはなく、これによつてもシランガスを
安全に処理することができる。 As described above, since the device is small, the processing gas flows at high speed inside the device and does not stay inside the casing, impeller, etc. In addition, the processing gas is directly introduced into the cylindrical filter and diluted.
Hydrolyzed. Therefore, silane gas cannot be ignited upon contact with outside air, and thus silane gas can be safely processed.
さらに、前述のように処理ガスと洗浄水との接
触がよい。循環させずに常に新鮮な洗浄水を円筒
状フイルターに供給するので、シランガスと洗浄
水とは効率よく反応する。したがつて、処理に使
用される水量は従来のスクラバーに比べ著しく少
なくて、たとえば1/10ですむ。また、水量が少い
ので、そのまま廃棄することができスクラバーの
ように廃水処理を必要としない。 Furthermore, as mentioned above, the contact between the processing gas and the cleaning water is good. Since fresh cleaning water is constantly supplied to the cylindrical filter without circulation, the silane gas and cleaning water react efficiently. Therefore, the amount of water used for treatment is significantly less, for example 1/10, compared to conventional scrubbers. In addition, since the amount of water is small, it can be disposed of as is, and unlike scrubbers, wastewater treatment is not required.
さらにまた、洗浄水は円筒状フイルターの内側
から径方向に噴射されるので、円筒状フイルター
に一様に供給される。また、シランガスは霧状の
水の中で空気により希釈されるので、シランガス
が空気と混合する際の発火、爆発が抑えられる。 Furthermore, since the cleaning water is injected radially from the inside of the cylindrical filter, it is uniformly supplied to the cylindrical filter. Furthermore, since the silane gas is diluted with air in the water mist, ignition and explosion when the silane gas mixes with air can be suppressed.
第１図および第２図はこの発明のシランガス処
理装置の一例を示すもので、それぞれ第１図は一
部を断面で示す側面図および第２図は正面図、な
らびに第３図は第１図の−線に沿う断面図で
ある。
３……ケーシング、９……温度検出器、１１…
…羽根車、１３……円筒状フイルター、１６，１
８……羽根車側板、１７……ガス導入穴、１９…
…羽根、２１……モーター、２５……ガス導入
管、２８……圧力検出器、２９……ガスバイパス
管、３０……開閉装置、３１……洗浄水導入管、
３４……流量検出器、３７……空気導入管、４
１，４３……ノズル。
1 and 2 show an example of the silane gas treatment apparatus of the present invention, in which FIG. 1 is a side view partially shown in cross section, FIG. 2 is a front view, and FIG. 3 is a view similar to the one shown in FIG. It is a sectional view along the - line of. 3...Casing, 9...Temperature detector, 11...
... Impeller, 13 ... Cylindrical filter, 16,1
8... Impeller side plate, 17... Gas introduction hole, 19...
... Vane, 21 ... Motor, 25 ... Gas introduction pipe, 28 ... Pressure detector, 29 ... Gas bypass pipe, 30 ... Switching device, 31 ... Cleaning water introduction pipe,
34...Flow rate detector, 37...Air introduction pipe, 4
1,43...Nozzle.
Claims (1)
板の間に配置された円筒状フイルターの周囲に複
数の羽根が放射状に固着され、前記側板の一つに
ガス導入穴が設けられ、前記ケーシング内に回転
自在に取り付けられた羽根車、羽根車を回転駆動
するモーター、前記ケーシング内まで延びて先端
が前記ガス導入穴に向かつて開口するガス導入
管、前記円筒状フイルター内まで延びる洗浄水導
入管および空気導入管、ならびに洗浄水入導管お
よび空気導入管の先端にそれぞれ設けられ、前記
円筒状フイルター内で半径方向に開口するノズル
からなることを特徴とするシランガス処理装置。1 A casing equipped with a gas outlet, a plurality of blades fixed radially around a cylindrical filter arranged between opposing side plates, a gas introduction hole provided in one of the side plates, and a rotating A freely attached impeller, a motor that rotationally drives the impeller, a gas introduction pipe that extends into the casing and opens with its tip facing the gas introduction hole, a wash water introduction pipe that extends into the cylindrical filter, and air. A silane gas treatment device comprising an inlet pipe, and nozzles provided at the tips of the cleaning water inlet pipe and the air inlet pipe, respectively, and opening in the radial direction within the cylindrical filter.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59164738A JPS6142321A (en) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | Apparatus for treating silane gas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59164738A JPS6142321A (en) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | Apparatus for treating silane gas |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6142321A JPS6142321A (en) | 1986-02-28 |
| JPH0331085B2 true JPH0331085B2 (en) | 1991-05-02 |
Family
ID=15798962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59164738A Granted JPS6142321A (en) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | Apparatus for treating silane gas |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6142321A (en) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0344252Y2 (en) * | 1984-12-28 | 1991-09-18 | ||
| DE69921853T2 (en) | 1998-12-01 | 2005-12-08 | Ebara Corp. | DEVICE FOR TREATMENT OF EXHAUST GAS |
| JP4497726B2 (en) | 1998-12-01 | 2010-07-07 | 株式会社荏原製作所 | Exhaust gas treatment equipment |
| JP5750337B2 (en) * | 2011-08-15 | 2015-07-22 | 大陽日酸株式会社 | Gas processing method, gas processing apparatus, fine powder forming method and fine powder forming apparatus |
| CN112915748B (en) * | 2021-02-03 | 2021-10-08 | 湖州加怡新市热电有限公司 | Flue gas desulfurization system |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5312777A (en) * | 1976-07-22 | 1978-02-04 | Sony Corp | Centrifugal gas washing and separation apparatus |
| JPS5657423A (en) * | 1979-10-16 | 1981-05-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Central cleaner |
| JPS5658515A (en) * | 1979-10-17 | 1981-05-21 | Hitachi Ltd | Dust collecting apparatus |
| JPS5684619A (en) * | 1979-12-12 | 1981-07-10 | Seitetsu Kagaku Co Ltd | Nonpolluting method of gas for semiconductor |
| JPS5794323A (en) * | 1980-12-03 | 1982-06-11 | Stanley Electric Co Ltd | Treating method for waste gas of cvd apparatus |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49119869U (en) * | 1973-02-12 | 1974-10-14 | ||
| JPS54101675U (en) * | 1977-12-28 | 1979-07-18 |
-
1984
- 1984-08-06 JP JP59164738A patent/JPS6142321A/en active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5312777A (en) * | 1976-07-22 | 1978-02-04 | Sony Corp | Centrifugal gas washing and separation apparatus |
| JPS5657423A (en) * | 1979-10-16 | 1981-05-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Central cleaner |
| JPS5658515A (en) * | 1979-10-17 | 1981-05-21 | Hitachi Ltd | Dust collecting apparatus |
| JPS5684619A (en) * | 1979-12-12 | 1981-07-10 | Seitetsu Kagaku Co Ltd | Nonpolluting method of gas for semiconductor |
| JPS5794323A (en) * | 1980-12-03 | 1982-06-11 | Stanley Electric Co Ltd | Treating method for waste gas of cvd apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6142321A (en) | 1986-02-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100847916B1 (en) | Effluent gas stream treatment device and mehod having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases | |
| JP3280173B2 (en) | Exhaust gas treatment equipment | |
| TW458803B (en) | Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants | |
| JP4102547B2 (en) | Exhaust gas treatment equipment | |
| US4424069A (en) | Dry and wet dual-purpose dust-collecting device | |
| US3336733A (en) | Gas scrubber | |
| JP3648539B2 (en) | Exhaust flow treatment system for oxidation treatment of semiconductor manufacturing exhaust | |
| JPH10263357A (en) | Gas scrubber and gas treatment by utilizing the same | |
| US3890103A (en) | Anti-pollution exhaust apparatus | |
| JP2017048999A (en) | Integral-type semiconductor exhaust gas cleaning device | |
| JPH0331085B2 (en) | ||
| JPH05192534A (en) | Method and apparatus for making semiconductor exhaust gas harmless | |
| US1908782A (en) | Apparatus for the treatment of flue gases and the like | |
| CN210302841U (en) | Desulphurization unit for exhaust gas purification | |
| US3893829A (en) | Gas purification apparatus | |
| US3910766A (en) | Apparatus for removing noxious substances from chimney exhaust gas | |
| JPH10216471A (en) | Detoxifying apparatus for waste gas of semiconductor production | |
| JP4491696B2 (en) | Exhaust gas treatment equipment | |
| CN109248557B (en) | VOCs-containing waste gas treatment process | |
| JPH03232514A (en) | Device for removing dust and method for removing dust in harmful gas using the same device | |
| KR19980084767A (en) | Waste Gas Dust Collecting Equipment | |
| CN214486273U (en) | Light brick grinds room raise dust processing apparatus | |
| JPS6193310A (en) | Disposal of waste gas | |
| CN221028292U (en) | Natural gas pipeline self-circulation purifying equipment | |
| JPH04290519A (en) | Device for treating exhaust gas |