JPH03295099A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路さらにはそれに含まれるヒユ
ーズ型記憶回路に関し、例えば半導体集積回路の冗長選
択やアナログ・ディジタル混載型の半導体集積回路に含
まれる増幅回路のゲイン調整などに適用して有効な技術
しこ関する。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to semiconductor integrated circuits and fuse-type memory circuits included therein, and is applicable to, for example, redundant selection of semiconductor integrated circuits and analog/digital mixed type semiconductor integrated circuits. This article describes techniques that are effective when applied to gain adjustment of the included amplifier circuits.
半導体集積回路に用いられる従来のヒユーズ型記憶回路
の一単位回路は1例えば一対の電源端子Vdd、Vss
の間に、比較的大きな抵抗を構成するためのPチャンネ
ル型MO5FET、一つのヒユーズ、そして抵抗素子が
直列接続され、そのヒユーズの熔断/非熔断何れかの状
態に応じて情報を記憶するようになっていた。このヒユ
ーズ型記憶回路にローレベルの情報を記憶させる場合に
はヒユーズを接続状態に保てば良く、また、ハイレベル
の情報を記憶させるにはこのヒユーズに電圧を印加して
若しくはレーザ光を照射して当該ヒユーズを熔断すれば
よい。One unit circuit of a conventional fuse-type memory circuit used in a semiconductor integrated circuit has one unit, for example, a pair of power supply terminals Vdd and Vss.
In between, a P-channel type MO5FET to form a relatively large resistance, a fuse, and a resistance element are connected in series, and information is stored depending on whether the fuse is fused or not fused. It had become. To store low-level information in this fuse-type memory circuit, it is sufficient to keep the fuse connected, and to store high-level information, apply voltage to this fuse or irradiate it with laser light. Then, the fuse can be blown out.
従来、このようなヒユーズの熔断状態及び非熔断状態の
検査は目視によって行われており、当該ヒユーズを含む
半導体私有積回路の動作試験までは当該ヒユーズ自体の
電気的特性試験は行われず、また、それで充分とされて
いた。Conventionally, the blown and unfused states of such fuses have been visually inspected, and the electrical characteristics of the fuse itself have not been tested until the operation of the semiconductor private product circuit including the fuse has been tested. That was considered sufficient.
尚、ヒユーズ型記憶回路について記載された文献の例と
しては特開昭59−144100号公報がある。An example of a document describing a fuse type memory circuit is Japanese Patent Laid-Open No. 144100/1983.
しかしながら、上記従来技術について本発明者が検討し
たところによれば、以下のような問題点のあることが明
らかにされた。However, according to the inventor's study of the above-mentioned prior art, it has been revealed that there are the following problems.
熔断されるべきヒユーズが完全に熔断されずに、所謂半
熔断状態となっていた場合、その記憶情報は充分なマー
ジンをもったロウレベル又はハイレベルとはならず、当
該ヒユーズ型記憶回路の後段に配置されたレベル判定回
路では、動作試験で所望の論理結果が得られたとしても
、論理スレッショルドレベルの温度変化により、その後
に論理状態が反転してしまうことがある。しかし、上記
従来技術では、このような異常を予め検知することがで
きない。また1表面上は非熔断状態であるが実際には熔
断されている場合やその逆の場合などのような、所謂縦
構造若しくは断面構造的な不具合による特性異常なども
、上記従来の目視検査では検知するのが困難である。If the fuse to be blown is not completely blown and is in a so-called partially fused state, the stored information will not be at a low level or high level with sufficient margin, and the information will not be at a low or high level with a sufficient margin, and the fuse will not be completely blown. Even if a desired logic result is obtained in an operation test, the logic state of the arranged level determination circuit may later be reversed due to a temperature change in the logic threshold level. However, with the above-mentioned conventional technology, such an abnormality cannot be detected in advance. In addition, the conventional visual inspection described above can also detect abnormalities in characteristics due to defects in the so-called vertical structure or cross-sectional structure, such as cases where the surface is not melted but is actually melted, or vice versa. Difficult to detect.
本発明の目的は、ヒユーズ自体の電気的特性試験を容易
に行うことが出来る技術を提供することにある。An object of the present invention is to provide a technique that allows easy testing of the electrical characteristics of the fuse itself.
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細
書の記述並びに添付図面から明らかになるであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば下記の通りである。A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、記憶回路の一部を構成するヒユーズ自体の電
気的特性検査のための通電を可能とするヒユーズ検査用
パッドを設けて半導体集積回路を構成するものである。That is, a semiconductor integrated circuit is constructed by providing a fuse testing pad that enables energization to test the electrical characteristics of the fuse itself, which constitutes a part of the memory circuit.
上記ヒユーズ検査用パッドからヒユーズまでの配線長を
短くすることによりヒユーズの電気的特性試験を良好に
行い得るようにするには、上記ヒユーズ検査用パッドを
当該ヒユーズに近接するように配置すると良い。また、
当該ヒユーズ自体の電気的特性試験を円滑に行うために
は、当該パッドをウェーハの表面保護膜から露出させる
とよい。In order to be able to conduct a good electrical characteristic test of the fuse by shortening the wiring length from the fuse testing pad to the fuse, it is preferable to arrange the fuse testing pad close to the fuse. Also,
In order to smoothly test the electrical characteristics of the fuse itself, it is preferable to expose the pad from the surface protective film of the wafer.
上記した手段によれば、検査用パッドを介してヒユーズ
の電気的特性試験のための通電が可能とされ、このこと
が、ヒユーズ自体の電気的特性試験の容易化を達成する
。According to the above-mentioned means, it is possible to supply electricity for testing the electrical characteristics of the fuse via the test pad, which facilitates the testing of the electrical characteristics of the fuse itself.
第10図には本発明にかかる半導体集積回路の一実施例
である半導体記憶装置が示される。同図に示される半導
体記憶装置は、特に制限されないが、単結晶シリコンな
どの一つの半導体基板に形成される。FIG. 10 shows a semiconductor memory device which is an embodiment of the semiconductor integrated circuit according to the present invention. The semiconductor memory device shown in the figure is formed on one semiconductor substrate made of, but not limited to, single crystal silicon.
メモリセルアレイ4は複数個のメモリセルをアレイ状に
配置して成り、このメモリセルアレイ4のロウアドレス
は、外部からのアドレス信号A。The memory cell array 4 is made up of a plurality of memory cells arranged in an array, and the row address of the memory cell array 4 is an address signal A from the outside.
〜Anをデコードするロウアドレスデコーダ2の出力に
よって指示される。そして、本実施例ではメモリセルア
レイ4の一部に救済不可能な欠陥ビットが含まれている
場合に、それを予備エレメントに置き換えることによっ
て当該半導体記憶装置の歩留まりを改善するために、冗
長メモリセルアレイ3と、冗長ロウアドレスデコーダ1
が設けられている。冗長ロウアドレスデコーダ1には上
記外部からのアドレス信号A。−Anが取り込まれ、こ
のデコーダ1の出力によって、冗長メモリセルアレイ3
のロウアドレスが指定される。これにより、メモリセル
アレイ4に含まれる欠陥ビットが冗長メモリセルアレイ
3の予備エレメントに置き換えられる。It is indicated by the output of the row address decoder 2 which decodes ~An. In this embodiment, when a part of the memory cell array 4 includes a defective bit that cannot be repaired, in order to improve the yield of the semiconductor memory device by replacing it with a spare element, a redundant memory cell array is used. 3 and redundant row address decoder 1
is provided. The redundant row address decoder 1 receives the address signal A from the outside. -An is taken in, and the output of this decoder 1 causes the redundant memory cell array 3
The row address of is specified. As a result, defective bits included in memory cell array 4 are replaced with spare elements of redundant memory cell array 3.
尚、第10ではカラムアドレス系については省略されて
いる。Note that the column address system is omitted in No. 10.
第11図には上記冗長アドレスデコーダ1の詳細な構成
が示される。同図に示されるように冗長アドレスデコー
ダ1は、特に制限されないが、アドレス信号A0〜A、
nに対応して配置されたヒユーズ型記憶部7□〜7nと
、この記憶部7□〜7nの出力とアドレス信号A、〜A
nとが一致するか否かの比較を行う比較部8□〜8nと
、この比較結果に基づいて冗長メモリセルアレイ3のワ
ード線を選択する選択回路9とを含む。FIG. 11 shows a detailed configuration of the redundant address decoder 1. As shown in the figure, the redundant address decoder 1 includes address signals A0 to A, although not particularly limited.
Fuse type storage units 7□ to 7n arranged corresponding to n, outputs of these storage units 7□ to 7n, and address signals A, to A
It includes comparison units 8□ to 8n that perform a comparison to determine whether or not they match, and a selection circuit 9 that selects a word line of the redundant memory cell array 3 based on the comparison result.
第1図には上記ヒユーズ型記憶部7□の詳細な構成例が
示される。FIG. 1 shows a detailed configuration example of the fuse type storage section 7□.
このヒユーズ型記憶部7□は、特に制限されないが、第
1電源Vddと第2電源Vssとの間に。This fuse type storage section 7□ is located between the first power source Vdd and the second power source Vss, although it is not particularly limited.
Pチャンネル型MO8FET (MO3電界効果トラン
ジスタ)Ql、ヒユーズ29、Nチャンネル型MO3F
ETQ2の直列回路を設けて成る。MO8FETQI、
Q2のゲートは、インバータ24の出力端子に共通接続
され、このインバータ24を介して救済判定信号φRE
Dが伝達されるようになっている。この救済判定信号φ
REDは当該半導体集積回路の内部で発生される。P-channel type MO8FET (MO3 field effect transistor) Ql, fuse 29, N-channel type MO3F
A series circuit of ETQ2 is provided. MO8FETQI,
The gate of Q2 is commonly connected to the output terminal of an inverter 24, and the relief determination signal φRE is transmitted through the inverter 24.
D is now transmitted. This relief judgment signal φ
RED is generated inside the semiconductor integrated circuit.
更に本実施例においてはヒユーズ29の電気的特性試験
のための通電を可能とするヒユーズ検査用パッド(以下
単にパッドとも言う)25〜28が設けられている。こ
れらパッド25〜28’は、特に制限されないが、後述
する電気的特性試験において検査用プローブの電気的な
接触を可能とするために、ウェーハ上の表面保護膜の部
分的開口によって露出されている。すなわち、パッド2
5゜26は開口部20において露出され、パッド27は
開口部21において露出され、パッド28は開口部23
において露出される。尚、ヒユーズ29は開口部22に
おいて露出され、レーザ光照射によって熔断可能とされ
る。Furthermore, in this embodiment, fuse test pads (hereinafter also simply referred to as pads) 25 to 28 are provided to enable energization for testing the electrical characteristics of the fuse 29. These pads 25 to 28' are exposed through partial openings in the surface protection film on the wafer in order to enable electrical contact with inspection probes in electrical property tests to be described later, although this is not particularly limited. . That is, pad 2
5° 26 is exposed in opening 20, pad 27 is exposed in opening 21, and pad 28 is exposed in opening 23.
exposed in Note that the fuse 29 is exposed at the opening 22 and can be fused by laser beam irradiation.
ヒユーズが熔断されていない場合には、MO5FTQ1
.Q2はインバータとして動作され、MO8FETQI
とヒユーズ29との結合点(出力ノード)30のレベル
は救済判定信号φREDに等しくなる。しかし、ヒユー
ズ29が熔断されている場合には、出力ノード30のレ
ベルは救済判定信号φREDの状態に拘らずハイレベル
に固定される。If the fuse is not blown, MO5FTQ1
.. Q2 is operated as an inverter and MO8FETQI
The level of the connection point (output node) 30 between the fuse 29 and the fuse 29 becomes equal to the relief determination signal φRED. However, when fuse 29 is blown, the level of output node 30 is fixed at a high level regardless of the state of relief determination signal φRED.
第2図には上記ヒユーズ型記憶部7□における主要部の
レイアウト例が示される。FIG. 2 shows an example of the layout of the main parts of the fuse-type storage section 7□.
パッド26.27はアルミニウム配線層31゜32に夫
々結合され、このアルミニウム配線層31.32を橋絡
するように熔断前のヒユーズ29が設けられている。ヒ
ユーズ29は、特に制限されないが、ポリシリコンなど
によって構成される。The pads 26 and 27 are connected to aluminum wiring layers 31 and 32, respectively, and a fuse 29 before being fused is provided to bridge the aluminum wiring layers 31 and 32. The fuse 29 is made of, but not limited to, polysilicon or the like.
特に第2図に示されるパッド26.27などはアルミニ
ウム配線層31.32と共にヒユーズ29の通電経路を
形成するものであり、ヒユーズ29の電気的特性試験の
精度を高くするにはこの通電経路が可能な限り短くなる
ようにパッド26,27等のイレイアウトを決定するよ
うにする。本実施例ではパッド27.28をヒユーズ2
9に可能な限り近づけている。また、パッド26.27
等はヒユーズ29の電気的特性試験のためにのみ使用さ
れるものであるため、検査用プローブの電気的接触が可
能とされる条件で可能な限り小さくすることにより、ア
ルミニウム配線領域の増大を抑えるようにする。In particular, the pads 26 and 27 shown in FIG. 2, together with the aluminum wiring layers 31 and 32, form the current conduction path of the fuse 29, and in order to increase the accuracy of the electrical characteristic test of the fuse 29, this current conduction path must be The layout of the pads 26, 27, etc. is determined so as to be as short as possible. In this embodiment, pads 27 and 28 are connected to fuse 2.
9 as close as possible. Also, pad 26.27
etc. are used only for testing the electrical characteristics of the fuse 29, so the increase in aluminum wiring area can be suppressed by making them as small as possible under conditions that allow electrical contact with the test probe. Do it like this.
尚、他の記憶部7□〜7nについても上記と同様に構成
される。Note that the other storage units 7□ to 7n are also configured in the same manner as described above.
次に上記ヒユーズ27の電気的特性試験(電気的特性検
査)について説明する。Next, an electrical characteristic test (electrical characteristic test) of the fuse 27 will be explained.
第3図にはヒユーズ29の電圧−電流特性が示される。FIG. 3 shows the voltage-current characteristics of the fuse 29.
同図に示されるように、ヒユーズ29の状態すなわち非
熔断、半熔断、完全熔断によって電圧−電流特性が異な
り、このような性質を利用してヒユーズ29の電気的特
性試験が可能にされる。As shown in the figure, the voltage-current characteristics vary depending on the state of the fuse 29, that is, unfused, partially fused, and fully fused, and it is possible to test the electrical characteristics of the fuse 29 by utilizing such characteristics.
第4図〜第8図には、上記原理に則ったヒユーズ29の
電気的特性試験のうち好適なものが示される。4 to 8 show preferred electrical characteristic tests of the fuse 29 based on the above principle.
第4図に示される試験例では、電流計36、可変電源3
7、固定電源38を含む試験機35Aが使用される。固
定電源の正極側はプローブ50を介してパッド25に結
合され、電流計36の一端はプローブ51を介してパッ
ド26に結合され、可変型g37及び固定電源38の負
極側はプローブ52を介してパット28に結合される。In the test example shown in FIG. 4, an ammeter 36, a variable power supply 3
7. A testing machine 35A including a fixed power source 38 is used. The positive side of the fixed power source is coupled to the pad 25 via the probe 50, one end of the ammeter 36 is coupled to the pad 26 via the probe 51, and the negative side of the variable g37 and the fixed power source 38 are connected via the probe 52. It is coupled to pad 28.
固定電源38の電位は第1電源Vddに等しくされ、従
ってMO3FETQ2はオン状態とされる。この状態に
おいて、電流計36、パッド26、ヒユーズ29、MO
3FETQ2、パッド28を介して電流工□が流れ、こ
の電流工、の値はヒユーズ29の熔断状態によって異な
る(第3図参照)。故に、可変電源37の電圧を適宜に
変更させ、そのときの電流計36の値を読み取ることに
より、ヒユーズ29の熔断状態の検知が可能にされる。The potential of the fixed power supply 38 is made equal to the first power supply Vdd, and therefore the MO3FET Q2 is turned on. In this state, the ammeter 36, pad 26, fuse 29, MO
A current □ flows through the 3FET Q2 and the pad 28, and the value of this current □ varies depending on the blown state of the fuse 29 (see FIG. 3). Therefore, the blown state of the fuse 29 can be detected by appropriately changing the voltage of the variable power supply 37 and reading the value of the ammeter 36 at that time.
即ち、低電位において大電流が流れる場合、ヒユーズ2
9は非熔断状態とされ、電位変化にかかわらず電流が殆
ど流れない場合、ヒユーズ29は完全熔断状態とされる
。また、ヒユーズ完全熔断状態の場合の電流と、ヒユー
ズ非熔断状態の場合の電流との間をとる場合にはヒユー
ズ半熔断状態とされる。That is, when a large current flows at a low potential, fuse 2
9 is in a non-melting state, and when almost no current flows regardless of potential changes, the fuse 29 is in a completely melting state. Further, when the current is between the current when the fuse is completely blown and the current when the fuse is not blown, the fuse is half blown.
第5図に示される試験例では、電流計36、可変電源3
7を含む試験機35Bが使用される。電流計36の一端
はプローブ51を介してパッド26に結合され、可変電
源37の負極側はプローブ52を介してパッド27に結
合される。この試験例においては電流■2の経路にMO
5FETQ2が含まれないため、このMO8FETQ2
をオン状態とするための電源38(第4図参照)は不要
とされる。尚、電流I2の値によってヒユーズ29の熔
断状態の検知が可能とされるのは第4図と同じである。In the test example shown in FIG.
Testing machine 35B containing 7 is used. One end of the ammeter 36 is coupled to the pad 26 via a probe 51, and the negative electrode side of the variable power supply 37 is coupled to the pad 27 via a probe 52. In this test example, MO
Since 5FETQ2 is not included, this MO8FETQ2
The power supply 38 (see FIG. 4) for turning on the power supply is not required. Note that, as in FIG. 4, the blown state of the fuse 29 can be detected based on the value of the current I2.
第6図に示される試験例では、電圧計41、可変抵抗器
40、固定電源38.39を含む試験機35Cが使用さ
れる。固定電源39の正極側は可変抵抗器40及びプロ
ーブ53を介してパッド26に結合される。電圧計41
はプローブ52,53を介してパッド28.26の間に
接続される。In the test example shown in FIG. 6, a tester 35C including a voltmeter 41, a variable resistor 40, and a fixed power source 38, 39 is used. The positive side of the fixed power supply 39 is coupled to the pad 26 via a variable resistor 40 and a probe 53. Voltmeter 41
is connected between pads 28 and 26 via probes 52 and 53.
つまり、ヒユーズ29での降下電位を電圧計41で計測
することによってヒユーズ29の熔断状態の検知を可能
としている。このとき可変抵抗器40はレンジ切換え器
として作用する。したがって、第6図に示される試験例
では、可変抵抗器40によるレンジ切換えにより、電圧
計41の指示が適切となるように調整することができ、
測定精度を高くできる。That is, the blown state of the fuse 29 can be detected by measuring the potential drop across the fuse 29 with the voltmeter 41. At this time, the variable resistor 40 acts as a range switch. Therefore, in the test example shown in FIG. 6, by changing the range using the variable resistor 40, the indication on the voltmeter 41 can be adjusted to be appropriate.
Measurement accuracy can be increased.
第7図に示される試験例では、可変抵抗器4o、電圧計
41、固定電源39を含む試験機35Dが使用される。In the test example shown in FIG. 7, a tester 35D including a variable resistor 4o, a voltmeter 41, and a fixed power source 39 is used.
電圧計41はプローブ53.52を介してパッド26.
27に結合される。この回路では、ヒユーズ29での降
下電位がMO8FETQ2のオンオフにかかわらず測定
可能にされるので、第5図に示されると同様に1M05
FETQ2をオン状態とするための固定電源38は不要
とされる(第6図参照)。Voltmeter 41 is connected to pad 26. through probes 53.52.
27. In this circuit, the potential drop at the fuse 29 can be measured regardless of whether MO8FETQ2 is on or off, so as shown in FIG.
The fixed power supply 38 for turning on the FET Q2 is not required (see FIG. 6).
第8図に示される試験機では、インバータ43と固定電
源38を含む試験機38が使用される。In the testing machine shown in FIG. 8, a testing machine 38 including an inverter 43 and a fixed power supply 38 is used.
インバータ43の論理しきい値は、ヒユーズ29の半熔
断時にパッド26に現れる電位よりも高めに設定される
。ヒユーズ熔断前においてインバータ43の出力状態が
ハイレベルであれば当該ヒユーズは正常とされ、逆にロ
ウレベルであれば当該ヒユーズは異常とされる。尚、記
憶部71〜7nにおけるインバータ43の出力の排他的
論理和を採るようにすれば、記憶部7□〜7n内の複数
のヒユーズ29を同時にチエツクすることができる。The logic threshold of the inverter 43 is set higher than the potential appearing on the pad 26 when the fuse 29 is partially blown. If the output state of the inverter 43 is at a high level before the fuse is blown, the fuse is determined to be normal, and conversely, if it is at a low level, the fuse is determined to be abnormal. If the exclusive OR of the outputs of the inverters 43 in the storage units 71-7n is taken, a plurality of fuses 29 in the storage units 7□-7n can be checked at the same time.
上記実施例によれば以下の作用効果がある。According to the above embodiment, there are the following effects.
(1)パッド26.27又は28等を介してヒユーズ2
9の電気的特性試験のための通電が可能とされるので、
ヒユーズ自体の電気的特性試験を容易に行うことができ
る。(1) Fuse 2 via pad 26, 27 or 28, etc.
Since it is possible to conduct electricity for the electrical characteristic test in 9.
The electrical characteristics of the fuse itself can be easily tested.
(2)特にパッド26.27等からヒユーズ29までの
配線長が短くなるようにパッドのレイアウトを行うよう
にしたので配線の電気的抵抗が少なくて済み、ヒユーズ
29の電気的特性試験を良好に行うことができる。(2) In particular, the pad layout was made so that the wiring length from pads 26, 27, etc. to fuse 29 was shortened, so the electrical resistance of the wiring was reduced, and the electrical characteristics test of fuse 29 was performed well. It can be carried out.
(3)ヒユーズ検査用パッド25〜28をウェーハの表
面保護膜より露出させているので、試験器35A〜35
Eのプローブのバットへの接触を容易に行うことができ
る。(3) Since the fuse inspection pads 25 to 28 are exposed from the wafer surface protective film, the testers 35A to 35
E's probe can easily come into contact with the butt.
(4)上記ヒユーズの電気的特性試験によれば、ヒユー
ズ半熔断状態、更には表面上は非熔断状態であるが実際
には熔断されている場合やその逆の場合などのような、
所謂縦構造的な不具合による特性異常などを容易に検知
することができ、半導体記憶装置の信頼性向上に寄与で
きる。(4) According to the electrical characteristics test of the fuse described above, the fuse may be in a partially fused state, or even in cases where it is ostensibly unfused but actually fused, or vice versa.
Characteristic abnormalities caused by so-called vertical structural defects can be easily detected, contributing to improved reliability of semiconductor memory devices.
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づいて
具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものも
のはなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更
可能であることは言うまでもない。Although the invention made by the present inventor has been specifically described above based on examples, it goes without saying that the present invention is not limited thereto and can be modified in various ways without departing from the gist thereof.
例えば第9図に示されるように、MO5FETQl、Q
2の前段に2人カナンドゲート60を設け、このナント
ゲート60の一方の入力端子をパッド25に結合し、他
方の入力端子に救済判定信号φREDを入力するように
してもよい。かがる構成においては、パッド25がハイ
レベルに固定されている場合にのみナントゲート60は
インバータとして機能するため、救済判定信号φR,E
Dに関する限り上記実施例と等価になる(第1図参照
)。そして、パッド25にロウレベルの信号が入力され
た場合には、MO5FETQ2がオンされ、これにより
、第4図若しくは第6図に示される試験例によってヒユ
ーズ29の検査が可能とされる。尚、この場合、固定電
源38は不要とされ、それに代えて、プローブ50をロ
ウレベルとするように結線される。For example, as shown in FIG.
A two-man Canand gate 60 may be provided at the front stage of the Nand gate 2, one input terminal of the Nand gate 60 may be coupled to the pad 25, and the relief determination signal φRED may be input to the other input terminal. In this configuration, since the Nant gate 60 functions as an inverter only when the pad 25 is fixed at a high level, the relief determination signals φR, E
As far as D is concerned, it is equivalent to the above embodiment (see FIG. 1). When a low level signal is input to the pad 25, the MO5FET Q2 is turned on, thereby making it possible to test the fuse 29 using the test example shown in FIG. 4 or FIG. 6. In this case, the fixed power supply 38 is not required, and instead, the probe 50 is connected to the low level.
また、上記実施例ではパッド25〜28を備えるものに
ついて説明したが、第4図、第6図及び第8図に示され
る試験例によればパッド27は不要とされ、第5図、第
7図の試験例によればパッド25.28は不要とされる
ので、試験方式を限定することによりパッド27若しく
はパッド25゜28を省略してもよい。Further, although the above embodiments have been described as having pads 25 to 28, according to the test examples shown in FIGS. 4, 6, and 8, the pad 27 is unnecessary, and According to the illustrated test example, the pads 25 and 28 are unnecessary, so the pads 27 and 25 and 28 may be omitted by limiting the test method.
以上の説明では本発明者によってなされた発明をその背
景となった利用分野である半導体集積回路に適用した場
合について説明したが、本発明はそれに限定されるもの
ではなく1例えばアナログ・ディジタル混載型の半導体
集積回路に含まれる増幅器のゲイン調整のための回路部
分などにも利用することができ、さらにMO8型半導体
集積回路の他にバイポーラ型やBI−CMO5型などの
半導体集積回路にも適用することができる。本発明は少
なくとも回路機能の変更をヒユーズ回路で行う条件のも
のに適用することができる。In the above explanation, the invention made by the present inventor has been applied to a semiconductor integrated circuit, which is the background field of application, but the present invention is not limited thereto. It can also be used as a circuit for adjusting the gain of amplifiers included in semiconductor integrated circuits, and can also be applied to semiconductor integrated circuits such as bipolar and BI-CMO5 types in addition to MO8 type semiconductor integrated circuits. be able to. The present invention can be applied at least to those in which the circuit function is changed using a fuse circuit.
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows.
すなわち、ヒユーズ検査用のパッドを備えたことにより
、ヒユーズ自体の電気的特性試験を容易に行うことがで
き、ヒユーズの半熔断状態や縦構造的な不具合による特
性異常など、従来の目視検査による場合の種々の欠点を
排除することができる。In other words, by providing a pad for fuse inspection, it is possible to easily test the electrical characteristics of the fuse itself, and it is possible to detect abnormalities in characteristics due to half-blown fuses or defects in the vertical structure using conventional visual inspection. various drawbacks of the above can be eliminated.
第1図は本発明に係る半導体集積回路の一実施例である
半導体記憶装置の主要部構成回路図、第2図は第1図に
示される回路の主要部レイアウトパターン図、
第3図は上記半導体記憶装置に適用されるヒユーズの電
気的特性図、
第4図乃至第8図は上記ヒユーズの電気的特性試験例を
示す回路図、
第9図は第1図に示される回路の変形例回路図、第10
図は第1図若しくは第9図に示される回路が含まれる半
導体記憶装置のm個ブロック図、第11図は第10図に
示される装置の主要部構成ブロック図である。
1・・・冗長デコーダ、2・・・ロウアドレスデコーダ
、3・・・冗長ロウアドレスデコーダ、4・・メモリセ
ルアレイ、7□〜7n・・・ヒユーズ型記憶部、8□〜
8n・・・比較部、9・・選択回路、20〜23・・・
開口部、25〜28 ・ヒユーズ検査用パッド、29・
・・ヒユーズ、30・・・出力ノード、31.32・ア
ルミニウム配線、35A゛〜35E・・・試験機、Vc
ld・・第1電源、Vss・・・第2電源。
第
第
図
図
り
一 」
第
図
V圧(V)
第
図FIG. 1 is a circuit diagram of the main parts of a semiconductor memory device which is an embodiment of the semiconductor integrated circuit according to the present invention, FIG. 2 is a layout pattern diagram of the main parts of the circuit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is the above-mentioned Electrical characteristic diagrams of fuses applied to semiconductor storage devices; FIGS. 4 to 8 are circuit diagrams showing electrical characteristic test examples of the fuses described above; FIG. 9 is a modified example circuit of the circuit shown in FIG. 1. Figure, 10th
The figure is a block diagram of m semiconductor memory devices including the circuits shown in FIG. 1 or 9, and FIG. 11 is a block diagram of the main parts of the device shown in FIG. 10. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Redundant decoder, 2... Row address decoder, 3... Redundant row address decoder, 4... Memory cell array, 7□~7n... Fuse type storage section, 8□~
8n... Comparison section, 9... Selection circuit, 20-23...
Opening, 25-28 ・Fuse inspection pad, 29・
...Fuse, 30...Output node, 31.32.Aluminum wiring, 35A~35E...Testing machine, Vc
ld...first power supply, Vss...second power supply. Figure 1 Figure V pressure (V) Figure
Claims (1)
ューズ型記憶分を含む半導体集積回路において、上記ヒ
ューズ自体の電気的特性試験のための通電を可能とする
ヒューズ検査用パッドを設けたことを特徴とする半導体
集積回路。 2、上記ヒューズ検査用パッドは、当該パッドを介して
通電され得るヒューズに近接するように配置されて成る
請求項1記載の半導体集積回路。 3、上記ヒューズ検査用パッドはウェーハの表面保護膜
の一部開口によって露出されて成る請求項1又は2記載
の半導体集積回路。[Scope of Claims] 1. In a semiconductor integrated circuit including a fuse-type memory component that enables information to be written by blowing the fuse, a fuse testing pad is provided that enables electricity to be applied to test the electrical characteristics of the fuse itself. A semiconductor integrated circuit characterized by: 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the fuse testing pad is located close to a fuse that can be energized through the pad. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1 or 2, wherein the fuse testing pad is exposed through a partial opening in a surface protection film of the wafer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2096457A JPH03295099A (en) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2096457A JPH03295099A (en) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03295099A true JPH03295099A (en) | 1991-12-26 |
Family
ID=14165559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2096457A Pending JPH03295099A (en) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03295099A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100311117B1 (en) * | 1998-06-29 | 2001-12-17 | 박종섭 | Optional Function Test Device for Semiconductor Memory Devices |
-
1990
- 1990-04-13 JP JP2096457A patent/JPH03295099A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100311117B1 (en) * | 1998-06-29 | 2001-12-17 | 박종섭 | Optional Function Test Device for Semiconductor Memory Devices |
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