JPH03189992A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH03189992A
JPH03189992A JP1330180A JP33018089A JPH03189992A JP H03189992 A JPH03189992 A JP H03189992A JP 1330180 A JP1330180 A JP 1330180A JP 33018089 A JP33018089 A JP 33018089A JP H03189992 A JPH03189992 A JP H03189992A
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power supply
common power
row
line
memory cells
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Sumako Abe
安部 須磨子
Makoto Segawa
瀬川 真
Mikio Eto
江藤 幹夫
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Tosbac Computer System Co Ltd
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Toshiba Corp
Tosbac Computer System Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To easily detect the existing location of a memory cell generating the leakage current by interrupting between a selected common power source line and a power source, connecting other common power source to the power source, supplying the power only to the memory cell except the selected row and detecting the presence of the generation of the leakage current. CONSTITUTION:By making the output S3 from a row decoder 12 to high level, and the output to other row to low level, at the point between the common power source line g1 and the power source is interrupted, at the point between other common power source line and the power source is connected. Consequently, the current does not flow to the memory cells M11-M1n arranged to a first row, and the current flows to the other memory cells. In such a manner, by selecting each row in order and measuring on the leakage current value each time, at the selective row when the value is less than the allowable value, the involving of the inferior memory cells is detected. In such a manner, the location of the inferior memory cells is easily detected.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は半導体記憶装置に係わり、特にスタティック型
ランダムアクセスメモリ(RAM)として好適なものに
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to one suitable as a static random access memory (RAM).

(従来の技術) 半導体記憶装置の集積度は年々向上し、これに伴い様々
な原因によるビット不良の発生確率は高くなってきた。
(Prior Art) The degree of integration of semiconductor memory devices has improved year by year, and as a result, the probability of occurrence of bit defects due to various causes has increased.

このため歩留りの低下が問題となってきている。これを
解決するための手段として、不良ビット救済技術は今日
では必須のものとなっている。この技術は、正規のメモ
リセルの他に予め数行数列に配列されたメモリセルを余
分に備えておき、検査工程において正常に動作しない不
良ビットの存在が明らかにされた場合に、代わりに使用
するというものである。
For this reason, a decrease in yield has become a problem. As a means to solve this problem, defective bit relief technology has become indispensable today. This technology prepares extra memory cells arranged in several rows and columns in addition to regular memory cells, and is used as a replacement when the presence of defective bits that do not function normally is revealed during the inspection process. The idea is to do so.

これに対し、正常に動作し機能的には一応問題はないも
のの、リーク電流が許容値よりも多く流れる場合がある
。このようなメモリセルが1つでも存在すると、待機時
における消費電流の増加を招くことになる。このような
場合には、従来は第3図に示されるように、リーク電流
が流れるメモリセル33の位置をテスタを用いて発見し
、このメモリセル33と電源端子31との間に接続され
ているレーザヒユーズ32を溶断することによってリー
ク経路を断った上で、予備のメモリセルに置き換えて使
用していた。
On the other hand, although the device operates normally and there is no functional problem, the leakage current may flow in an amount greater than the allowable value. The presence of even one such memory cell causes an increase in current consumption during standby. In such a case, conventionally, as shown in FIG. 3, the location of the memory cell 33 through which the leakage current flows is discovered using a tester, and the location of the memory cell 33 connected between this memory cell 33 and the power supply terminal 31 is determined. After cutting off the leakage path by blowing out the laser fuse 32, the memory cell was replaced with a spare memory cell.

(発明が解決しようとする課題) しかし、テスタによりリーク電流が流れるメモリセルを
検出するのでは、テストパターンが複雑なため多大なテ
スト時間を要する。このため、複数のメモリセルにおい
てリーク電流が流れている場合には検出は極めて難しく
、特に集積度が向上した最近の半導体記憶装置において
は事実上不可能な場合もあるという問題があった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, detecting memory cells in which leakage current flows using a tester requires a large amount of testing time because the test pattern is complex. For this reason, there has been a problem in that it is extremely difficult to detect a leakage current flowing in a plurality of memory cells, and it may be virtually impossible to detect it, especially in recent semiconductor memory devices with improved integration.

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、リーク電流
の発生しているメモリセルの存在位置を容易に検出し得
る半導体記憶装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device that can easily detect the location of a memory cell in which a leakage current is generated.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) 本発明の半導体記憶装置は、メモリセルがマトリクス状
に配列されたメモリセルアレイと、行方向にある各メモ
リセルの電流経路を各行毎に接続する共通電源線と、共
通電源線と電源との間に接続され、選択信号を与えられ
て共通電源線と電源との間の接続の切り換えを行う選択
手段とを備え、選択手段は選択信号により共通電源線の
うちのいずれかを選択し、選択された共通電源線と電源
との間を遮断し、他の共通電源線を電源に接続すること
によって選択された行以外のメモリセルにのみ電源を供
給してリーク電流の発生の有無を検出するものであるこ
とを特徴としている。
(Means for Solving the Problems) A semiconductor memory device of the present invention includes a memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix, and a common power supply line that connects the current path of each memory cell in the row direction for each row. , selection means connected between the common power supply line and the power supply and configured to switch the connection between the common power supply line and the power supply in response to a selection signal, and the selection means selects one of the common power supply lines according to the selection signal. Select one of them, cut off the connection between the selected common power line and the power supply, and connect the other common power line to the power supply to supply power only to memory cells other than the selected row to prevent leakage. It is characterized by detecting the presence or absence of current generation.

ここで、メモリセルアレイと共通電源線の他に、行毎に
メモリセルを選択するワード線と、行を選択する行アド
レス信号を装置外部より与えられて解読し、行選択信号
を出力する行デコーダと、共通電源線と電源との間に接
続され動作モード切換信号を装置外部より与えられ、さ
らに行デコーダから行選択信号を与えられて共通電源線
と電源との間の接続の切り換えを行う選択手段と、ワー
ド線と行デコーダの出力側との間に接続され動作モード
切換信号を装置外部より与えられてワード線と行デコー
ダとの間の接続の切り換えを行うワード線切換手段とを
さらに備え、選択手段は動作モード切換信号が検査モー
ドへの切換を指示する場合には行選択信号により共通電
源線のうちのいずれかを選択し選択された共通電源線と
電源との間を遮断し他の共通電源線を電源に接続するこ
とによって選択された行以外のメモリセルにのみ電源を
供給してリーク電流の発生の有無を検出し、動作モード
切換信号がアクセスモードへの切換を指示する場合には
全ての共通電源線を前記電源に接続するものであり、ワ
ード線切換手段は動作モード切換信号が検査モードへの
切り換えを指示する場合にはワード線と行デコーダとの
間を遮断してメモリセルは全て非選択状態にしてリーク
電流の発生するメモリセルの検出を可能な状態にし、動
作モード切換信号がアクセスモードへの切り換えを指示
する場合にはワード線と行デコーダとの間を接続してメ
モリセルを選択し得る状態にしてアクセス動作を可能に
するものであってもよい。
In addition to the memory cell array and common power supply line, there is a word line that selects memory cells for each row, and a row decoder that receives and decodes a row address signal that selects a row from outside the device and outputs a row selection signal. and a selection circuit that is connected between the common power line and the power source, receives an operation mode switching signal from outside the device, and further receives a row selection signal from the row decoder to switch the connection between the common power line and the power source. and word line switching means connected between the word line and the output side of the row decoder and receiving an operation mode switching signal from outside the device to switch the connection between the word line and the row decoder. When the operation mode switching signal instructs switching to the inspection mode, the selection means selects one of the common power supply lines using the row selection signal and cuts off the connection between the selected common power supply line and the power supply. When the common power supply line of the memory cell is connected to the power supply, power is supplied only to memory cells other than the selected row, and the presence or absence of leakage current is detected, and the operation mode switching signal instructs switching to access mode. All the common power supply lines are connected to the power supply, and the word line switching means cuts off between the word line and the row decoder when the operation mode switching signal instructs switching to the inspection mode. All memory cells are set to a non-selected state to enable detection of memory cells that generate leakage current, and when the operation mode switching signal instructs switching to access mode, the word line and row decoder are connected. Alternatively, the memory cell may be put into a selectable state to enable an access operation.

またこれとは逆に、選択された行の共通電源線を電源に
接続し、他の共通電源線と電源との間を遮断することに
よって、選択された行のメモリセルにのみ電源を供給す
る装置であっても、リーク電流の発生するメモリセルの
位置を検出することができる。
Conversely, power is supplied only to the memory cells in the selected row by connecting the common power line in the selected row to the power source and cutting off the power from other common power lines. Even in a device, the position of a memory cell where a leakage current occurs can be detected.

さらに、共通電源線と電源との間にそれぞれ接続された
ヒユーズを備えており、す”−り電流が生じるメモリセ
ルの位置が検出された場合に、そのメモリセルの接続さ
れた行の共通電源線に接続されているヒユーズが溶断さ
れてリーク経路を断つものであってもよい。
Furthermore, fuses are connected between the common power supply line and the power supply, and when the position of a memory cell where a current is generated is detected, the common power supply for the row connected to that memory cell is detected. A fuse connected to the line may be blown to cut off the leak path.

(作 用) 選択信号が選択手段に与えられていずれかの共通電源線
が選択され、選択された共通電源線と電源との間が遮断
されて、他の共通電源線が電源に接続される。このよう
にして、順次共通電源線を選択していき、選択されない
共通電源線に接続されたメモリセルにのみ電源を供給し
ていき、リーク電流が小さくなった場合に、この時点で
選択されている共通電源線に接続されたメモリセルのな
かに、リーク電流の流れるメモリセルが存在することが
わかる。
(Operation) A selection signal is given to the selection means to select one of the common power supply lines, the selected common power supply line and the power supply are cut off, and the other common power supply lines are connected to the power supply. . In this way, common power lines are selected one after another, power is supplied only to memory cells connected to unselected common power lines, and if the leakage current becomes small, the memory cells that are selected at this point are It can be seen that among the memory cells connected to the common power supply line, there are memory cells through which leakage current flows.

ワード線、行デコーダ、及びワード線切換手段をさらに
備えた場合には、通常のアクセスモードと検査モードと
の切換は、選択手段とワード線切換手段とに動作モード
切換信号が与えられることによって行われる。動作モー
ド切換信号が検査モードへの切換を指示するものである
場合には、選択手段は行デコーダの出力した選択信号に
よっていずれかの共通電源線を選択し、選択された共通
電源線と電源との間を遮断し、他の共通電源線を1 2 電源に接続する。そしてワード線切換手段は、ワード線
と行デコーダとの間を遮断して全てのメモリセルを非選
択状態にする。このようにして順次共通電源線を選択し
ていき、選択されない共通電源線に接続されたメモリセ
ルにのみ電源を供給して、リーク電流が小さくなった時
点で選択されている共通電源線に接続されたメモリセル
のなかに、リーク電流の流れるメモリセルが存在するこ
とが検出される。動作モード切換信号がアクセスモード
への切換を指示するものである場合には、選択手段は全
ての共通電源線を電源に接続し、ワード線切換手段はワ
ード線と行デコーダとの間を接続することによって、メ
モリセルの選択が可能となり、通常のアクセス動作が支
障なく行われる。
When a word line, a row decoder, and a word line switching means are further provided, switching between the normal access mode and the inspection mode is performed by applying an operation mode switching signal to the selection means and the word line switching means. be exposed. When the operation mode switching signal instructs switching to the inspection mode, the selection means selects one of the common power supply lines according to the selection signal output from the row decoder, and connects the selected common power supply line and the power supply. 1 2 and connect the other common power supply line to the 1 2 power supply. Then, the word line switching means disconnects the word line and the row decoder to put all memory cells in a non-selected state. In this way, common power lines are selected one after another, power is supplied only to the memory cells connected to the unselected common power lines, and when the leakage current becomes small, the memory cells are connected to the selected common power line. It is detected that there is a memory cell in which a leak current flows among the memory cells that have been leaked. When the operation mode switching signal instructs switching to the access mode, the selection means connects all the common power supply lines to the power supply, and the word line switching means connects between the word line and the row decoder. This makes it possible to select a memory cell, and normal access operations can be performed without any problems.

またこれとは逆に、選択された行の共通電源線を電源に
接続し、他の共通電源線と電源との間を遮断することに
よって、選択された行のメモリセルにのみ電源を供給す
る場合には、リーク電流が大きくなった場合に、この時
点で選択されている共通電源線に接続されたメモリセル
のなかに、リ−り電流の流れるメモリセルが存在するこ
とが検出される。
Conversely, power is supplied only to the memory cells in the selected row by connecting the common power line in the selected row to the power source and cutting off the power from other common power lines. In this case, when the leakage current becomes large, it is detected that there is a memory cell through which leakage current flows among the memory cells connected to the common power supply line selected at this time.

さらに、共通電源線と電源との間にそれぞれ接続された
ヒユーズを備えている場合には、リーク電流が生じるメ
モリセルの位置が検出された後、そのメモリセルの接続
された行の共通電源線に接続されているヒユーズを溶断
することによって、リーク経路を断つことができる。
Furthermore, if a fuse is connected between the common power line and the power supply, the common power line of the row to which the memory cell is connected is detected after the location of the memory cell where the leakage current occurs is detected. The leak path can be cut off by blowing the fuse connected to the

(実施例) 以下に本発明の一実施例について、図面を参照して説明
する。
(Example) An example of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は第1の実施例による半導体記憶装置の回路構成
を示したものである。メモリセルMll〜Mmnがm行
n列に配列されている。各メモリセルは、行方向毎に共
通電源線g1〜gmにより電源の供給を受ける。各々の
共通電源線g1〜gmは、線g1を例にとると、レーザ
ヒユーズF1に接続され、さらにp型トランジスタQ1
を介して電源端子5に接続されている。
FIG. 1 shows the circuit configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment. Memory cells Mll to Mmn are arranged in m rows and n columns. Each memory cell receives power supply from common power supply lines g1 to gm in each row direction. Taking line g1 as an example, each common power supply line g1 to gm is connected to a laser fuse F1, and further connected to a p-type transistor Q1.
It is connected to the power supply terminal 5 via.

このp型トランジスタQ1のゲートには、NOR回路3
の出力S1が入力され、NOR回路3の入力端子のうち
一方にはインバータ回路4の出力S2が接続され、イン
バータ回路4の入力はn型トランジスタQ2を介して行
デコーダ12の出力S3が入力されている。行デコーダ
12の出力S3は、p型トランジスタQ3及びn型トラ
ンジスタQ5を介して、メモリセルを行単位で選択する
ワード線W1に接続されている。さらにこのワード線W
1は、n型トランジスタQ4を介してグランドに接続さ
れている。外部入力回路2は、外部入力端子1を介して
装置の外部より与えられる動作モード切換信号に応じて
、二つの出力S4及びS5を生成するものである。出力
S4は、NOR回路3のもう一方の入力端子及びn型ト
ランジスタQ5のゲートに入力され、出力S5はn型ト
ランジスタQ2、p型トランジスタQ3及びn型トラン
ジスタQ4の各々のゲートに入力される。
A NOR circuit 3 is connected to the gate of this p-type transistor Q1.
The output S1 of the inverter circuit 4 is connected to one of the input terminals of the NOR circuit 3, and the output S3 of the row decoder 12 is input to the input of the inverter circuit 4 via an n-type transistor Q2. ing. An output S3 of the row decoder 12 is connected to a word line W1 for selecting memory cells row by row via a p-type transistor Q3 and an n-type transistor Q5. Furthermore, this word line W
1 is connected to ground via an n-type transistor Q4. The external input circuit 2 generates two outputs S4 and S5 in response to an operation mode switching signal applied from outside the device via the external input terminal 1. The output S4 is input to the other input terminal of the NOR circuit 3 and the gate of the n-type transistor Q5, and the output S5 is input to the gates of each of the n-type transistor Q2, the p-type transistor Q3, and the n-type transistor Q4.

ここで外部入力回路2の入力側とグランドとの間には抵
抗Rが接続されている。選択手段は、外部入力端子1、
外部入力回路2、n型トランジスタQ2、インバータ回
路4、NOR回路3及びp型トランジスタQ1で構成さ
れており、ワード線切換手段は、外部入力端子1、外部
入力回路2、p型トランジスタQ3、n型トランジスタ
Q4及びQ5で構成されている。
Here, a resistor R is connected between the input side of the external input circuit 2 and the ground. The selection means is external input terminal 1,
It consists of an external input circuit 2, an n-type transistor Q2, an inverter circuit 4, a NOR circuit 3, and a p-type transistor Q1, and the word line switching means includes an external input terminal 1, an external input circuit 2, a p-type transistor Q3, an n It consists of type transistors Q4 and Q5.

次ぎに、このような構成を有した本実施例の動作につい
て説明する。先ず動作モードが検査モードの場合である
が、以下のようにしてリーク電流が発生するメモリセル
が接続された行を検出する。
Next, the operation of this embodiment having such a configuration will be explained. First, when the operation mode is the test mode, a row to which a memory cell in which a leakage current occurs is connected is detected in the following manner.

装置外部より、ハイレベルの動作モード切換信号S6が
外部入力端子1を介して外部入力回路2に入力される。
A high-level operation mode switching signal S6 is input from outside the device to the external input circuit 2 via the external input terminal 1.

これにより、外部入力回路2からの出力S4はロウレベ
ルに、出力S5はハイレベルになる。ハイレベルの出力
S5がゲートに入力されたn型トランジスタQ2は導通
状態になり、行デコーダの出力S3が出力S2としてN
OR回路3の一方の入力端子に入力される。
As a result, the output S4 from the external input circuit 2 becomes low level, and the output S5 becomes high level. The n-type transistor Q2, whose gate receives the high-level output S5, becomes conductive, and the output S3 of the row decoder becomes the output S2 of the N-type transistor Q2.
It is input to one input terminal of the OR circuit 3.

ここで、この図に表された第1行目が選択された場合に
ついて考えると、行デコーダ12からの5 6 出力S3はハイレベルに、図示されていない他の行への
出力はロウレベルになる。ハイレベルの出力S3がN0
RIlilfl路3の他方の入力端子に入力され、ハイ
レベルの出力S1がp型トランジスタQ1のゲートに入
力されて、非導通状態になる。
Now, considering the case where the first row shown in this figure is selected, the 5 6 output S3 from the row decoder 12 becomes high level, and the outputs to other rows not shown become low level. . High level output S3 is N0
The high level output S1 is input to the other input terminal of the RIlifl path 3 and is input to the gate of the p-type transistor Q1, which becomes non-conductive.

これにより、この行の共通電源線g1と電源との間が遮
断され、メモリセルMll〜Minには電源は供給され
なくなり、他の図示されていない共通電源線g2〜gm
と電源との間は接続されて、メモリセルM21〜Mmn
には電源が供給される。
As a result, the connection between the common power supply line g1 and the power supply in this row is cut off, power is no longer supplied to the memory cells Mll to Min, and the other common power supply lines g2 to gm (not shown) are disconnected from each other.
and the power supply are connected, and the memory cells M21 to Mmn
is supplied with power.

さらに、ロウレベルの出力S4がn型トランジスタQ5
のゲートに入力され、ノ\イレベルの出力S5がp型ト
ランジスタQ3及びn型トランジスタQ4のゲートに入
力される。n型トランジスタQ5及びp型トランジスタ
Q3は非導通状態にn型トランジスタQ4は導通状態に
なり、この行のワード線W1はグランドレベルとなって
行デコーダ出力S3とは切り離される。
Furthermore, the low level output S4 is output from the n-type transistor Q5.
The output S5 at a noise level is input to the gates of the p-type transistor Q3 and the n-type transistor Q4. The n-type transistor Q5 and the p-type transistor Q3 become non-conductive, and the n-type transistor Q4 becomes conductive, and the word line W1 in this row becomes ground level and is separated from the row decoder output S3.

この結果、この第1行目に配列されているメモリセルM
ll〜M1mには電流は流れず、他のメモリセルM21
〜Mmnには電流が流れることになる。このようにして
各行を順に選択してその都度リーク電流値を測定してい
き、この値が許容値以下であったときの選択行に、不良
のメモリセルが含まれていることが検出される。そして
この行のレーザヒユーズF1を溶断することによって共
通電源線g1と電源との間を遮断し、リーク経路を断っ
た状態にして、予め備えている予備の行に置き換える。
As a result, the memory cells M arranged in this first row
No current flows through ll to M1m, and other memory cells M21
A current will flow through ~Mmn. In this way, each row is selected in turn and the leakage current value is measured each time, and when this value is less than the allowable value, it is detected that the selected row contains a defective memory cell. . Then, by blowing out the laser fuse F1 in this row, the connection between the common power supply line g1 and the power source is cut off, the leakage path is cut off, and the row is replaced with a prepared spare row.

このようにして検査することにより、リーク電流が発生
しているメモリセルの存在位置を、容易に検出すること
ができる。
By testing in this manner, the location of the memory cell in which the leakage current is occurring can be easily detected.

一方、通當のアクセス動作を行う場合には、ロウレベル
の動作モード切換信号S6が外部入力回路2に与えられ
、ハイレベルの出力S4とロウレベルの出力S5とが出
力される。これによりn型トランジスタQ2は非導通状
態となり、NOR回路3にはハイレベルの出力S4が入
力される。p型トランジスタQ1のゲートにはロウレベ
ルの出力S1が入力されて導通し、電源端子5を介して
電源が共通電源線g1に接続され、各メモリセルMに電
源が供給される。さらに、n型トランジスタQ5および
p型トランジスタQ3は導通し、n型トランジスタQ4
は非導通状態になるため、行デコーダ12は各ワード線
w1〜wmと接続され、同等支障なく動作する。
On the other hand, when performing the current access operation, a low-level operation mode switching signal S6 is applied to the external input circuit 2, and a high-level output S4 and a low-level output S5 are output. As a result, the n-type transistor Q2 becomes non-conductive, and a high-level output S4 is input to the NOR circuit 3. A low-level output S1 is input to the gate of the p-type transistor Q1, making it conductive, and a power source is connected to the common power line g1 via the power supply terminal 5, so that power is supplied to each memory cell M. Further, n-type transistor Q5 and p-type transistor Q3 are conductive, and n-type transistor Q4
is in a non-conductive state, so the row decoder 12 is connected to each word line w1 to wm and operates without any problem.

次ぎに、第2の実施例について第2図を用いて説明する
。この実施例は、上述した第1の実施例とは逆に、選択
した行に配列されたメモリセルにのみ電流を流すことに
より、リーク電流が増加した場合に、その選択行に不良
メモリセルが存在することを突き止めるというものであ
る。
Next, a second embodiment will be described using FIG. 2. Contrary to the first embodiment described above, this embodiment allows current to flow only to memory cells arranged in a selected row, so that when leakage current increases, a defective memory cell is detected in the selected row. It is about finding out that it exists.

この場合も同様に、各行の共通電源線g1〜gmに、各
々のメモリセルMll〜Mmnの端子が接続されている
。第1行目の共通電源線g1を例にとると、レーザヒユ
ーズF1とp型トランジスタQ11を介して、電源端子
5に接続されている。このp型トランジスタQ11のゲ
ートには、p型トランジスタQ12及び013と、n型
トランジスタQ14及びQ15とで構成されるNOR回
路14からの出力S14か入力される。
In this case as well, the terminals of the respective memory cells Mll-Mmn are connected to the common power supply lines g1-gm of each row. Taking the common power supply line g1 in the first row as an example, it is connected to the power supply terminal 5 via a laser fuse F1 and a p-type transistor Q11. An output S14 from a NOR circuit 14 composed of p-type transistors Q12 and 013 and n-type transistors Q14 and Q15 is input to the gate of this p-type transistor Q11.

このNOR回路14の入力端子のうち、一方には行デコ
ーダの出力S]が、n型トランジスタQ16を介して出
力S 1−6として入力される。そして他方の端子には
、外部入力端子1を経て、外部入力回路2によって動作
モード切換信号S11が反転された補出力S12が入力
される。ここで、外部入力回路2の入力側とグランドと
の間には、抵抗Rが接続されている。
Output S] of the row decoder is input to one of the input terminals of this NOR circuit 14 as output S1-6 via an n-type transistor Q16. A supplementary output S12 obtained by inverting the operation mode switching signal S11 by the external input circuit 2 is input to the other terminal via the external input terminal 1. Here, a resistor R is connected between the input side of the external input circuit 2 and the ground.

さらに、この第1行目のワード線W1には、p型トラン
ジスタQ17とn型トランジスタQ18を介して行デコ
ーダ12の出力側が接続され、またn型トランジスタQ
19を介してグランドに接続されている。ここで、トラ
ンジスタQ17及びQ19のゲートには、n型トランジ
スタQ16と同様に、外部入力回路2の正出力813が
人力され、n型トランジスタ018のゲートには、補出
力S12が入力される。メモリセルアレイの各行には、
このような回路が同様に構成されている。
Further, the output side of the row decoder 12 is connected to the first row word line W1 via a p-type transistor Q17 and an n-type transistor Q18, and an n-type transistor Q
It is connected to ground via 19. Here, the positive output 813 of the external input circuit 2 is input to the gates of the transistors Q17 and Q19, similarly to the n-type transistor Q16, and the supplementary output S12 is input to the gate of the n-type transistor 018. Each row of the memory cell array has
Such circuits are similarly configured.

この実施例では、選択手段は、外部入力端子1、9 外部入力回路2、NOR回路14、p型トランジスタQ
 1.1で構成され、ワード線切換手段は、外部入力端
子1、外部入力回路2、p型トランジスタQ17、n型
トランジスタQ 1.6、Q18及びQ19で構成され
ている。
In this embodiment, the selection means includes external input terminals 1 and 9, external input circuit 2, NOR circuit 14, and p-type transistor Q.
The word line switching means is composed of an external input terminal 1, an external input circuit 2, a p-type transistor Q17, and n-type transistors Q1.6, Q18, and Q19.

このような構成を有した第2の実施例における動作につ
いて、以下に説明する。
The operation of the second embodiment having such a configuration will be described below.

検査モードの場合には、第1の実施例と同様に、装置外
部からハイレベルの動作モード切換信号S11が外部入
力回路2に入力される。そしてこの外部入力回路2から
は、ハイレベルの正出力313とロウレベルの補出力S
12とが出力される。これにより、トランジスタQ15
、Q17及びQ18は非導通状態に、トランジスタQ1
2、Q16及びQ19は導通状態になる。ワード線はこ
の図示されたWlに限らず、全てロウレベルとなって非
選択状態におかれる。
In the case of the test mode, a high-level operation mode switching signal S11 is input to the external input circuit 2 from outside the apparatus, as in the first embodiment. From this external input circuit 2, a high level positive output 313 and a low level supplementary output S
12 is output. As a result, transistor Q15
, Q17 and Q18 are non-conductive, transistor Q1
2, Q16 and Q19 become conductive. The word lines, not only Wl shown in the figure, are all set to low level and placed in a non-selected state.

そして、行デコーダ12により選択されたこの第1行に
おいてのみ、出力S1が/1イレベルとなる。これによ
り、導通状態にあるトランジスタ0 Q16を介して出力S16の電位はハイレベルとなり、
p型トランジスタQ13は非導通状態、n型トランジス
タQ14は導通状態になり、NOR回路14の出力S1
4はロウレベルとなる。この出力S14をゲートに入力
されて、p型トランジスタ5は導通し、この行のメモリ
セルMll〜MInには共通電源線g1を介して電源が
供給される。
Then, only in this first row selected by the row decoder 12, the output S1 becomes the /1 level. As a result, the potential of the output S16 becomes high level through the transistor 0 Q16 which is in a conductive state.
The p-type transistor Q13 becomes non-conductive, the n-type transistor Q14 becomes conductive, and the output S1 of the NOR circuit 14
4 is a low level. This output S14 is input to the gate, and the p-type transistor 5 becomes conductive, and power is supplied to the memory cells Mll to MIn in this row via the common power supply line g1.

これに対し、他の選択されていない行への出力S1はロ
ウレベルとなり、p型トランジスタQ13は導通し、n
型トランジスタQ14は非導通状態になる。これにより
NOR回路14の出力はハイレベルとなって、p型トラ
ンジスタQ 1’ 1は非導通状態になり、他のメモリ
セルM21〜Mmnには電源が供給されなくなる。この
ようにして各行を順に選択し、その都度測定していった
リーク電流が許容値を超えた場合に、不良のメモリセル
が選択行に存在することが検出される。そして、その選
択行のレーザヒユーズF1を溶断することによって電源
の供給路を断ち、リーク電流が流れないようにした上で
、予備の行のメモリセルと置き換える。このようにして
検査することにより、第1の実施例と同様にリーク電流
が発生しているメモリセルの存在位置を、容易に検出す
ることができる。
On the other hand, the output S1 to other unselected rows becomes low level, the p-type transistor Q13 becomes conductive, and the n
type transistor Q14 becomes non-conductive. As a result, the output of the NOR circuit 14 becomes high level, the p-type transistor Q 1' 1 becomes non-conductive, and power is no longer supplied to the other memory cells M21 to Mmn. In this way, each row is selected in turn, and when the leakage current measured each time exceeds a permissible value, it is detected that a defective memory cell exists in the selected row. Then, by blowing out the laser fuse F1 in the selected row, the power supply path is cut off, leakage current is prevented from flowing, and the memory cells are replaced with the memory cells in the spare row. By testing in this way, the location of the memory cell in which the leakage current is occurring can be easily detected, as in the first embodiment.

通常のアクセス動作を行う場合には、ロウレベルの動作
モード切換信号S11が外部入力回路13に与えられ、
ハイレベルの補出力812とロウレベルの正出力813
とが出力される。これにより、トランジスタQ16は非
導通状態になって、行デコーダ12とNOROR回路1
大0びQ18は導通状態に、トランジスタQ19は非導
通状態になって、行デコーダ12の出力側とワード線w
1とが接続され、アクセスすべきメモリセルの選択が可
能となる。また、NOR回路14には、ハイレベルの補
出力S12が入力されて、トランジスタQ15は導通し
、トランジスタQ12は非導通状態となる。この結果、
NOR回路14の出力S14はロウレベルとなって、ト
ランジスタQllは導通し、全てのメモリセルMll〜
Mmnに電源が供給されて、支障なく動作することがで
きる。
When performing a normal access operation, a low-level operation mode switching signal S11 is applied to the external input circuit 13,
High level supplementary output 812 and low level positive output 813
is output. As a result, transistor Q16 becomes non-conductive, and row decoder 12 and NOROR circuit 1
The output side of the row decoder 12 and the word line w are turned on, and the transistor Q19 is turned off.
1 is connected, and the memory cell to be accessed can be selected. Further, the high-level complementary output S12 is input to the NOR circuit 14, so that the transistor Q15 becomes conductive and the transistor Q12 becomes non-conductive. As a result,
The output S14 of the NOR circuit 14 becomes low level, the transistor Qll becomes conductive, and all the memory cells Mll~
Power is supplied to Mmn and it can operate without any problems.

上述した第1及び第2の実施例はいずれも一例であり、
第1図及び第2図にそれぞれ示された回路構成と異なる
ものであってもよい。例えば、行の選択を一行ずつ行っ
ているが、1行以上を組み合わせて選択し、その行に接
続されたメモリセルにのみ電源を供給することによりリ
ーク電流が生じる不良の行を検出してもよい。
The first and second embodiments described above are both examples,
The circuit configurations may be different from those shown in FIGS. 1 and 2, respectively. For example, rows are selected one by one, but if one or more rows are selected in combination and a defective row that causes leakage current is detected by supplying power only to the memory cells connected to that row. good.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明の半導体記憶装置によれば、
いずれかの共通電源線が選択され、選択された共通電源
線以外の共通電源線に接続されたメモリセルにのみ電源
が供給される。このような選択を順次行っていくことで
、リーク電流が小さくなった時点において、選択された
共通電源線にリーク電流の流れるメモリセルが接続され
ていることがわかるため、容易に不良のメモリセルの位
置を検出することが可能である。これにより、不3 4 良のメモリセルの救済を容易に行うことができ、歩留り
の向上に大きく寄与する。ここで逆に、選択された共通
電源線に接続されたメモリセルにのみ電源を供給し、リ
ーク電流が大きくなった時点で、この共通電源線に不良
のメモリセルが接続されていることを検出することも可
能であり、同様の効果が得られる。
As explained above, according to the semiconductor memory device of the present invention,
One of the common power supply lines is selected, and power is supplied only to memory cells connected to common power supply lines other than the selected common power supply line. By sequentially making selections like this, when the leakage current becomes small, it becomes clear that a memory cell through which leakage current flows is connected to the selected common power supply line, making it easy to identify defective memory cells. It is possible to detect the position of As a result, defective memory cells can be easily repaired, which greatly contributes to improving yield. Conversely, power is supplied only to memory cells connected to the selected common power supply line, and when the leakage current becomes large, it is detected that a defective memory cell is connected to this common power supply line. It is also possible to do so, and the same effect can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例による半導体記憶装置の
構成を示した回路図、第2図は本発明の第2の実施例に
よる半導体記憶装置の構成を示した回路図、第3図は従
来の半導体記憶装置の構成を示した回路図である。 1・・・外部入力端子、2・・・外部入力回路、3,4
・・・インバータ回路、14・・・NOR回路、12・
・・行デコーダ、Ml 1,Ml2・・・メモリセル、
Wl・・・ワード線、gl・・・共通電源線、Fl・・
・レーザヒユーズ、Q1〜Q5,Qll〜Q19・・・
トランジスタ。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the structure of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing the structure of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. The figure is a circuit diagram showing the configuration of a conventional semiconductor memory device. 1... External input terminal, 2... External input circuit, 3, 4
...Inverter circuit, 14...NOR circuit, 12.
・・Row decoder, Ml 1, Ml 2 ・・Memory cell,
Wl...Word line, gl...Common power line, Fl...
・Laser fuse, Q1~Q5, Qll~Q19...
transistor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、メモリセルがマトリクス状に配列されたメモリセル
アレイと、 行方向にある前記各メモリセルの電流経路を各行毎に接
続する共通電源線と、 前記共通電源線と電源との間に接続され、選択信号を与
えられて前記共通電源線と前記電源との間の接続の切り
換えを行う選択手段とを備え、前記選択手段は、前記選
択信号により前記共通電源線のうちのいずれかを選択し
、選択された共通電源線と前記電源との間を遮断し、他
の共通電源線を前記電源に接続することによって、選択
された共通電源線以外の共通電源線に接続されたメモリ
セルにのみ電源を供給してリーク電流の発生の有無を検
出するものであることを特徴とする半導体記憶装置。 2、メモリセルがマトリクス状に配列されたメモリセル
アレイと、 行方向にある前記各メモリセルの電流経路を各行毎に接
続する共通電源線と、 行毎に前期メモリセルを選択するワード線と、前期行を
選択する行アドレス信号を装置外部より与えられて解読
し、選択信号を出力する行デコーダと、 前記共通電源線と電源との間に接続され、動作モード切
換信号を装置外部より与えられ、さらに前記行デコーダ
から前記選択信号を与えられて前記共通電源線と前記電
源との間の接続の切り換えを行う選択手段と、 前記ワード線と前記行デコーダの出力側との間に接続さ
れ、動作モード切換信号を装置外部より与えられて前記
ワード線と前記行デコーダとの間の接続の切り換えを行
うワード線切換手段とを備え、 前記選択手段は、前記動作モード切換信号が検査モード
への切換を指示する場合には、前記選択信号により前記
共通電源線のうちのいずれかを選択し、選択された共通
電源線と前記電源との間を遮断し、他の共通電源線を前
記電源に接続することによって選択された共通電源線以
外の共通電源線に接続されたメモリセルにのみ電源を供
給してリーク電流の発生の有無を検出し、前記動作モー
ド切換信号がアクセスモードへの切換を指示する場合に
は、前記全ての共通電源線を前記電源に接続するもので
あり、 前期ワード線切換手段は、前記動作モード切換信号が検
査モードへの切り換えを指示する場合には、前記ワード
線と前記行デコーダとの間を遮断して前記メモリセルは
全て非選択状態にしてリーク電流の発生するメモリセル
の検出を可能な状態にし、前記動作モード切換信号がア
クセスモードへの切り換えを指示する場合には、前記ワ
ード線と前記行デコーダとの間を接続して、前記メモリ
セルを選択し得る状態にしてアクセス動作を可能にする
ものであることを特徴とする半導体記憶装置。 3、メモリセルがマトリクス状に配列されたメモリセル
アレイと、 行方向にある前記各メモリセルの電流経路を各行毎に接
続する共通電源線と、 前記共通電源線と電源との間に接続され、選択信号を与
えられて前記共通電源線と前記電源との間の接続の切り
換えを行う選択手段とを備え、前記選択手段は、前記選
択信号により前記共通電源線のうちのいずれかを選択し
、選択された共通電源線と前記電源とを接続し、他の共
通電源線と前記電源との間を遮断することによって、選
択された共通電源線に接続されたメモリセルにのみ電源
を供給してリーク電流の発生の有無を検出するものであ
ることを特徴とする半導体記憶装置。 4、メモリセルがマトリクス状に配列されたメモリセル
アレイと、 行方向にある前記各メモリセルの電流経路を各行毎に接
続する共通電源線と、 行毎に前期メモリセルを選択するワード線と、前期行を
選択する行アドレス信号を装置外部より与えられて解読
し、選択信号を出力する行デコーダと、 前記共通電源線と電源との間に接続され、動作モード切
換信号を装置外部より与えられ、さらに前記行デコーダ
から前記選択信号を与えられて前記共通電源線と前記電
源との間の接続の切り換えを行う選択手段と、 前記ワード線と前記行デコーダの出力側との間に接続さ
れ、動作モード切換信号を装置外部より与えられて前記
ワード線と前記行デコーダとの間の接続の切り換えを行
うワード線切換手段とを備え、 前記選択手段は、前記動作モード切換信号が検査モード
への切換を指示する場合には、前記選択信号により前記
共通電源線のうちのいずれかを選択し、選択された共通
電源線と前記電源とを接続し、他の共通電源線と前記電
源との間を遮断することによって選択された共通電源線
に接続されたメモリセルにのみ電源を供給してリーク電
流の発生の有無を検出し、前記動作モード切換信号がア
クセスモードへの切換を指示する場合には、前記全ての
共通電源線を前記電源に接続するものであり、 前期ワード線切換手段は、前記動作モード切換信号が検
査モードへの切り換えを指示する場合には、前記ワード
線と前記行デコーダとの間を遮断して前記メモリセルは
全て非選択状態にしてリーク電流の発生するメモリセル
の検出を可能な状態にし、前記動作モード切換信号がア
クセスモードへの切り換えを指示する場合には、前記ワ
ード線と前記行デコーダとの間を接続して、前記メモリ
セルを選択し得る状態にしてアクセス動作を可能にする
ものであることを特徴とする半導体記憶装置。 5、前記共通電源線と前記電源との間にそれぞれ接続さ
れたヒューズをさらに備え、前記ヒューズは、リーク電
流が生じるメモリセルの位置が検出された場合に、その
メモリセルの接続された行の共通電源線に接続されてい
るものが溶断されてリーク経路を断つものであることを
特徴とする請求項1から4までのうちいずれかに記載の
半導体記憶装置。
[Claims] 1. A memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix, a common power line connecting the current paths of the memory cells in the row direction for each row, and the common power line and the power source. a selection means connected between the common power supply lines and the power source and configured to switch the connection between the common power supply line and the power supply in response to a selection signal; By selecting one of them, cutting off the connection between the selected common power line and the power source, and connecting the other common power line to the power source, the connection to the common power line other than the selected common power line can be made. 1. A semiconductor memory device that detects whether or not a leakage current occurs by supplying power only to memory cells that are connected to the memory cell. 2. A memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix, a common power supply line that connects the current paths of the memory cells in the row direction for each row, and a word line that selects the previous memory cell for each row; A row decoder is connected between the common power supply line and the power supply, and a row decoder is applied from outside the device to decode a row address signal for selecting a previous row, and outputs a selection signal. , further comprising: a selection means that receives the selection signal from the row decoder and switches the connection between the common power supply line and the power supply; and a selection means connected between the word line and the output side of the row decoder; word line switching means for switching the connection between the word line and the row decoder when an operation mode switching signal is applied from outside the device; When instructing switching, one of the common power supply lines is selected by the selection signal, the connection between the selected common power supply line and the power supply is cut off, and the other common power supply line is connected to the power supply. By connecting, power is supplied only to the memory cells connected to the common power supply line other than the selected common power supply line, and the presence or absence of leakage current is detected, and the operation mode switching signal indicates the switching to the access mode. When the operation mode switching signal instructs to switch to the inspection mode, the first word line switching means connects all the common power supply lines to the power supply when the operation mode switching signal instructs switching to the inspection mode. and the row decoder, all of the memory cells are set to a non-selected state, and a memory cell in which a leakage current occurs can be detected, and the operation mode switching signal instructs switching to an access mode. In some cases, the semiconductor memory device is characterized in that the word line and the row decoder are connected to make the memory cell selectable and access operation possible. 3. a memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix; a common power supply line connecting the current paths of the memory cells in the row direction for each row; and a common power supply line connected between the common power supply line and the power supply; a selection means for switching the connection between the common power supply line and the power supply in response to a selection signal; the selection means selects one of the common power supply lines according to the selection signal; By connecting the selected common power line and the power source and cutting off the other common power line and the power source, power is supplied only to the memory cells connected to the selected common power line. A semiconductor memory device that detects the presence or absence of leakage current. 4. A memory cell array in which memory cells are arranged in a matrix, a common power supply line that connects the current paths of the memory cells in the row direction for each row, and a word line that selects a previous memory cell for each row; A row decoder is connected between the common power supply line and the power supply, and a row decoder is applied from outside the device to decode a row address signal for selecting a previous row, and outputs a selection signal. , further comprising: a selection means that receives the selection signal from the row decoder and switches the connection between the common power supply line and the power supply; and a selection means connected between the word line and the output side of the row decoder; word line switching means for switching the connection between the word line and the row decoder when an operation mode switching signal is applied from outside the device; When instructing switching, one of the common power supply lines is selected by the selection signal, the selected common power supply line is connected to the power supply, and the other common power supply line is connected to the power supply. supplying power only to the memory cells connected to the selected common power supply line by cutting off the power supply line, detecting the presence or absence of leakage current, and when the operation mode switching signal instructs switching to the access mode. connects all the common power supply lines to the power supply, and the word line switching means connects the word line and the row decoder when the operation mode switching signal instructs switching to the inspection mode. When the operation mode switching signal instructs switching to access mode, A semiconductor memory device, characterized in that the word line and the row decoder are connected to each other so that the memory cell can be selected and an access operation can be performed. 5. Further comprising a fuse connected between the common power supply line and the power supply, and when the position of the memory cell where the leakage current occurs is detected, the fuse 5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a portion connected to the common power supply line is fused to cut off a leakage path.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002288997A (en) * 2001-03-27 2002-10-04 Toshiba Corp Semiconductor memory
US6576505B2 (en) 1999-11-25 2003-06-10 Imec, Vzw Method for transferring and stacking of semiconductor devices
JP2010198729A (en) * 2010-04-16 2010-09-09 Renesas Electronics Corp Semiconductor memory device

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