JPH03290615A - 空間光変調装置 - Google Patents
空間光変調装置Info
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- JPH03290615A JPH03290615A JP9366890A JP9366890A JPH03290615A JP H03290615 A JPH03290615 A JP H03290615A JP 9366890 A JP9366890 A JP 9366890A JP 9366890 A JP9366890 A JP 9366890A JP H03290615 A JPH03290615 A JP H03290615A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、インコヒーレント光をコヒーレント光に変
換する電子管であって、コヒーレント並列光情報処理等
に使用される空間光度1装置に関する。
換する電子管であって、コヒーレント並列光情報処理等
に使用される空間光度1装置に関する。
従来の空間光変調器は、その入出力特性を、光学像書込
み時に、電気光学結晶の結晶表面電位降下速度を変化さ
せるハードクリップモードと、変化させないノーマルモ
ードの選択により変更してたいた。 従って、従来の空間光変調装置において入出力特性(T
特性)は、ノーマルモードにおける線型(sin 2特
性)及びハードクリップモードにおける聞直の2種類の
γ値しか選択できなかった。
み時に、電気光学結晶の結晶表面電位降下速度を変化さ
せるハードクリップモードと、変化させないノーマルモ
ードの選択により変更してたいた。 従って、従来の空間光変調装置において入出力特性(T
特性)は、ノーマルモードにおける線型(sin 2特
性)及びハードクリップモードにおける聞直の2種類の
γ値しか選択できなかった。
口のため、従来の空間光変調装置では、任意のグレース
ケールで画懺処理をすることができないという問題点が
あった。 又、ニューラルネットワークのユニットとして、空間光
変調装置を用いようとする場合に、上記のように入出力
特性の選択幅が少いために、ネットワークが安定するま
での収束時間が長くかかつてしまうという問題点があっ
た。 この発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであ
って、入出力特性の任意の変更が可能であり、従って任
意のグレースケールで画像処理ができると共に、ニュー
ラルネットワークにおいて、その収束時間を短くするこ
とができるようにした空間光変調装置を提供することを
目的とする。 [12題を解決するための手段] この発明は、電子像発生手段と電気光学結晶板とを備え
、その間に前記電気光学結晶板への電荷像形成を妨げな
いように2次電子捕集電極がおかれた空間光変調装置に
おいて、この空間光変調装置の求める入出力特性に応じ
て、前記2次電子捕集電極の電圧を変え、且つ該2次電
子捕集電極の電圧変化に応じて前記電気光学結晶板の背
面電圧をランプ状に変化させる電圧供給手段を設けるこ
とにより上記目的を達成するものである。
ケールで画懺処理をすることができないという問題点が
あった。 又、ニューラルネットワークのユニットとして、空間光
変調装置を用いようとする場合に、上記のように入出力
特性の選択幅が少いために、ネットワークが安定するま
での収束時間が長くかかつてしまうという問題点があっ
た。 この発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであ
って、入出力特性の任意の変更が可能であり、従って任
意のグレースケールで画像処理ができると共に、ニュー
ラルネットワークにおいて、その収束時間を短くするこ
とができるようにした空間光変調装置を提供することを
目的とする。 [12題を解決するための手段] この発明は、電子像発生手段と電気光学結晶板とを備え
、その間に前記電気光学結晶板への電荷像形成を妨げな
いように2次電子捕集電極がおかれた空間光変調装置に
おいて、この空間光変調装置の求める入出力特性に応じ
て、前記2次電子捕集電極の電圧を変え、且つ該2次電
子捕集電極の電圧変化に応じて前記電気光学結晶板の背
面電圧をランプ状に変化させる電圧供給手段を設けるこ
とにより上記目的を達成するものである。
この発明においては、空間光変調装置おける電気光学結
晶板の前面に配置された2次電子捕集電極の電圧を、空
間光変調装置の求める入出力特性に応じて変えると共に
、該2次電子捕集電極の電圧変化に応じて、電気光学結
晶板の背面電圧をランプ状に変化させるようにしたので
、ハードクリップモードにおける入出力特性を任意に変
化させることができ、従って、任意のグレースケールで
画像処理をすることができると共に、ニューラルネット
ワークに利用した場合に、その系に適した入出力関数を
設定することによって、収束時間を短縮することができ
るという優れた効果を有する。 【実施例1 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。 第1図は本発明による空間光変調装置10の構成と動作
を説明するための図で、1は入力像、2はレンズ、3は
光電陰極、4はマイクロチャンネルプレート、5は2次
電子捕集用メツシュ電極、6は電気光学結晶板、6Aは
電荷蓄積面、7はハーフミラ−18は単色光(コヒーレ
ント光〉、9は検光子、1Aは出力像である。 図において、空間光変調装置10の光電陰極3にレンズ
2を介して入射した入力像1は光電子像に変換される。 この光電子像はマイクロチャンネルプレート4で増倍さ
れた後、電気光学結晶板6の電荷蓄積面6Aに電荷パタ
ーンを形成する。その電荷パターンに応じて電気光学結
晶板6を横切る電界が変化し、ポッケルス効果によって
電気光学結晶板6の屈折率が変化する。 前記2次電子捕集用メツシュ電極5には電圧VCが、電
気光学結晶板6の背面には結晶背面電圧Vbがそれぞれ
電圧供給手段14から印加される。 ここで、直線偏光の単色光8を電気光学結晶板6に照射
すると、電荷蓄積面6Aからの反射光は、電気光学結晶
板6の複屈折性により偏光状態が変化しているので、検
光子9を通過させれば、入力像1の光強度に対応した光
強度をもつ出力像1Aが得られる。 次にこのような空間光変調装置10について、本発明と
関連する主要な機能を説明する。 空間光度調装M1oは、電気光学結晶板6の表面の電荷
分布を長い時間保持する記憶機能をもっている。電気光
学結晶板6は非常に高い電気抵抗値を有しているので、
結晶表面6Aの電荷分布を数日以上保持することができ
る。 空間光変調装置10は電気光学結晶板6の表面に正又は
負の電荷分布を選択的に形成することができる。第2図
は電気光学結晶板6の2次電子放出特性を示すグラフで
ある。 図に示すように電荷蓄積面6Aへ入射する1次電子エネ
ルギーEが第1クロスオーバー点E1よりも小さいか、
又は第2クロスオーバー点E2より大きい場合には、1
次電子数が、結晶表面で放出される2次電子数よりも大
きいので〈δ〈1)、結晶表面は負に帯電する。1次電
子のエネルギーがElとE2の間では、2次電子数が1
次電子数よりも多くなるので(δ〉1)、結晶表面は正
に帯電する。 電気光学結晶板6に電荷を蓄積する際に正の電荷で吉込
むか負の電荷で書込むかは、第1図に示すメツシュ電位
Vcと結晶背面電圧Vbの電圧を制御することにより実
行される。ここで最初に負の電圧を書込み、次に正に帯
電させるか、或いは最初に正に帯電させ、次に負の電荷
を書込むかの2つの方法により減算機能を持たすことが
できる。 減算の泊は次の3つの方法により制御できる。 即ち、減算時の入射光強度を変化させる方法、マイクロ
チャンネルプレート4に加える電圧の持続時間を変化さ
せる方法、及びマイクロチャンネルプレート4に加える
電圧を変化させる方法である。 書込み、消去の方法は周知であるが、第2図及び第3図
により正電荷像を例にとって説明する。 なお、2次電子捕集用メツシュ電極5に印加する電圧V
cは、第2図の第2クロスオーバー点E2に設定する。 結晶背面電圧Vbを第2クロスオーバー点E2に相当す
る電位に設定すると、電荷蓄積面6Aにおける結晶表面
電位Vsは、電位E2に書込みによって生じた正電荷の
電位上昇分が加わった値になる。この表面電位の場合、
入射する1次電子のエネルギーはE2以上あるので2次
電子放出比δ〈1となり、表面電位がE2に達するまで
負電荷が蓄積される。電位がE2に達成するとδ=1と
なって平衝状態になり、且つ表面の帯電は雲となる。 結晶背面電圧Vbを第1クロスオーバー点E1と第2ク
ロスオーバー点E2との間でダイナミックレンジが十分
にとれる電圧E′に設定すると、このとき結晶表面電位
VsもほぼE′となるから、入射する1次電子のエネル
ギーはElとE2の間である。従って2次電子放出比δ
〉1となるから正電荷像が形成される。放出された2次
電子はVSよりも高い電位Vcにある2次電子捕集電極
に捕集される。 次に、実時間閾値動作機能(ハードクリップ動作)につ
いて説明する。 空間光変調装置10は、第2図に示すVc及びVbの設
定条件により、実時間閾値動作を実行させることができ
る。メツシュ電極5は結晶表面の近傍に設けられてあり
、これを所定の電位に設定すると、結晶表面に十分な電
子が供給されている場合には結晶表面電位Vsはメツシ
ュ電極5の電位となり、この電位がクロスオーバー点と
なる。 即ち、結晶表面電位VSがメツシュ電極5よりも低い(
第2図VbEの場合:消去)と結晶表面から放出される
2次電子がメツシュ電極5に捕集されるため入射電子に
対して2次電子放出が増加して結晶表面の電位は上昇し
、逆に結晶表面電位Vsがメツシュ電極電位Vcよりも
高い(第2図Vbwの場合:書込)と入射電子が2次電
子よりも多くなって結晶表面電位が下Vsがり、結局結
晶表面電位Vsがメツシュ電極電位Vcに等しくなった
ところで電位は一定となる。つまり、入射光間が十分あ
る場合には、メツシュ電位Vcと、結晶表面電位Vbは
常に同電位となる。 Vcの電圧設定について、VcとVbの相対的電圧は電
気光学結晶板6の厚さに帰因する複屈折性によるもので
あるから(即ちVbw=Vbgの電圧とVcの電圧の相
対関係が電気光学結晶板6の厚さによる)、位相補償管
のようなものを用いて設定電圧を、例えばVc=1.1
(KV)、Vb=1.0〜2.7 (KV)(:ノー
マルモード)とすると、第3図のように電気光学結晶6
の電荷蓄積面6Aは負電位(−0,6KV)となり電子
が到達しなくなる(ロックアウト状態)。 しかし、電圧供給手段14により、Vbをゆっくりとラ
ンプ状に下げていくと(ランプモード)、入射する光の
強度が大きくて多量の電子が供給される部分ては電子が
結晶表面に供給され、2次電子放出が大きくなって負電
位とならず、入射する光の強度が小さくて、供給される
電子の門が少ない部分では電位降下に電子の供給が追い
つかず、そのため結晶表面が負電位となって電子が結晶
表面に到達しなくなる。 従って、光電陰極3に入射する光の強度に対応して結晶
表面が負電位となって書込みが行われない部分と、結晶
表面に電子が到達し、表面が負電位とならずに書込みが
行われる部分とができ、その結果、入射する光の強度に
より閾値操作が実行されることになる。 例えば、第4図のように、結晶の背面電圧Vbの降下速
度(→方向)に電気光学結晶板6の表面電圧Vsの動き
(啼)が追従出来るだけの電子が供給され得るところだ
けが1込み状態となる。つまり結晶背面電圧Vbの降下
速度によって書込める入力光強度(それ以上は書ける、
それに満たないものは書けない)が決定できる。 従って、本発明では、variableγモード(可変
γモード)が、ハードクリップモードにおいてVCの値
を変えることによって得られることになる。 例えば、単位をKVとして、電圧供給装置14により、 ■Vc=1.1 Vb=1. ○〜2.7■V
c””0.6 Vb=0.5〜2.2■Vc=0
.3 Vb=0.2〜1.9■Vc=0.1
Vb=O〜1.7のように、Vcを変え、同時にV
bをランプ降下させ、且つ、その降下速度を一定に設定
すると第5図のようなTが異なる複数の特性曲線(γが
大きい程傾きが小さい)が得られる。 ここで、第5図の特性はマイクロチャンネルプレート4
の入出力特性(第6図参照)の直線部を使っているが、
非直線部を使うと、Iinが増えても、Boutは直線
部より増えないということになり、第7図のようにγが
2よりも小さい特性も得られる(上記と同様な操作でγ
く2の領域でもVariavleγは得られる)。 上記のように、空間光変調装置10の入出力持性γを可
変することにより、ハーフトーンプロセッシングが可能
になる。 即ち、任意のグレースケールでの画像処理、γを変える
画像処理、線形演算における関数変換、及び線形演算、
非線形演算が可能となる(第8図参照)。 又、ニュートラルネットワークのユニットとして、空間
光変調装置10を利用できる。 例えば、ニュートラルネットワークにおけるニューロン
モデルとして第9図のようなものを考える。 ×はユニットiへの入力、Wkiはユニットkからiへ
の結合の強さ(重み>、V+はユニットiからの出力、
θは閾値、uiはユニットiがとっている状態を現わす
と、その関係は、uH=ΣW k iX k−θ
i )y i=f (U i)となる。 ユニットの入出力関数としては第10図のようなものが
用いられる。例えば、第10図(C)のようなロジスチ
ック関数を考えると、その傾きを変えることによってユ
ニットのメカニズムを確率的にできることが知られてい
る(例えば13o1tzman Machine等)
。ホップフィールドモデルのメカニズムを確率的にした
ボルツマンマシンで考えてみると、第11図のような確
率関数で動作させる。つまり入出力関数(Ll iと
Pとの関係)を温度T(変数下は温度と呼ばれる)で確
率的に決定している。 第11図においては王が大きいほどグラフは滑かになり
TがOに近ずくとグラフは閾値関数に近づく。 ホップフィールドモデルのように系の収束条件として初
期値が問題となるようなアルゴリズムでは、初期の動作
を非決定論的にしくT:大に相当)ランダムな動きで初
期値を特定しないような方式をとったり、極小値にトラ
ップされないように初めはランダムな状態で動かしだん
だん決定論的にする(下をだんだん小さくしていく)よ
うな方式ネットワークの安定に至るまでに第11図のよ
うにユニット(空間光変調装置)の入出力特性の傾きを
変えていき、その系に適した入出力関数を設定すること
によって、収束時間を短くすることができる。 ここで可変γモードを使って第11図のような入出力特
性を得るためには、第12図に示される装置が利用され
る。これにより王を変える代わりにVCを変化させ、光
学モデルにおいてユニットの入出力の確率動作や入出力
関数を2次元的に実現することができる。 この図に示される構成例は、前記第1図に示される空間
光変調装置におけるレンズ2と光電陰極3との間に可変
NDフィルター12を設けると共に、前述のような条件
で、ハードクリップモードにおいてメツシュ電極5の電
圧を変え、このメッシュ電極5の電圧変化に応じて、電
気光学結晶板6の背面電圧Vbをランプ状に変化させる
電圧供給手段14を設けたものである。 前記可変NDフィルター12は、NDフィルター12A
を、モータ12Bによりギヤ12Cを介して駆動し、こ
の時のモータ12Bの回転角度をモータ回転面コントロ
ーラ12Dにより調整することによって、光電陰極3に
入射する光入力強度を第13図に示されるようにして、
入圧力特性曲線を揃える。 この場合、前記マイクロチャンネルプレート4への供給
電圧をγ値に応じて可変とするようにしても良い。 又、第12図におけるレンズ2にカメラレンズ等を用い
、その絞りをコントロールすることによって、入力光強
度を調整するようにしてもよい。 更に又、結晶背面電圧Vbの降下速度を遅くすることに
よっても、感度を高くしたのと同等の効果を得ることが
できる。
晶板の前面に配置された2次電子捕集電極の電圧を、空
間光変調装置の求める入出力特性に応じて変えると共に
、該2次電子捕集電極の電圧変化に応じて、電気光学結
晶板の背面電圧をランプ状に変化させるようにしたので
、ハードクリップモードにおける入出力特性を任意に変
化させることができ、従って、任意のグレースケールで
画像処理をすることができると共に、ニューラルネット
ワークに利用した場合に、その系に適した入出力関数を
設定することによって、収束時間を短縮することができ
るという優れた効果を有する。 【実施例1 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。 第1図は本発明による空間光変調装置10の構成と動作
を説明するための図で、1は入力像、2はレンズ、3は
光電陰極、4はマイクロチャンネルプレート、5は2次
電子捕集用メツシュ電極、6は電気光学結晶板、6Aは
電荷蓄積面、7はハーフミラ−18は単色光(コヒーレ
ント光〉、9は検光子、1Aは出力像である。 図において、空間光変調装置10の光電陰極3にレンズ
2を介して入射した入力像1は光電子像に変換される。 この光電子像はマイクロチャンネルプレート4で増倍さ
れた後、電気光学結晶板6の電荷蓄積面6Aに電荷パタ
ーンを形成する。その電荷パターンに応じて電気光学結
晶板6を横切る電界が変化し、ポッケルス効果によって
電気光学結晶板6の屈折率が変化する。 前記2次電子捕集用メツシュ電極5には電圧VCが、電
気光学結晶板6の背面には結晶背面電圧Vbがそれぞれ
電圧供給手段14から印加される。 ここで、直線偏光の単色光8を電気光学結晶板6に照射
すると、電荷蓄積面6Aからの反射光は、電気光学結晶
板6の複屈折性により偏光状態が変化しているので、検
光子9を通過させれば、入力像1の光強度に対応した光
強度をもつ出力像1Aが得られる。 次にこのような空間光変調装置10について、本発明と
関連する主要な機能を説明する。 空間光度調装M1oは、電気光学結晶板6の表面の電荷
分布を長い時間保持する記憶機能をもっている。電気光
学結晶板6は非常に高い電気抵抗値を有しているので、
結晶表面6Aの電荷分布を数日以上保持することができ
る。 空間光変調装置10は電気光学結晶板6の表面に正又は
負の電荷分布を選択的に形成することができる。第2図
は電気光学結晶板6の2次電子放出特性を示すグラフで
ある。 図に示すように電荷蓄積面6Aへ入射する1次電子エネ
ルギーEが第1クロスオーバー点E1よりも小さいか、
又は第2クロスオーバー点E2より大きい場合には、1
次電子数が、結晶表面で放出される2次電子数よりも大
きいので〈δ〈1)、結晶表面は負に帯電する。1次電
子のエネルギーがElとE2の間では、2次電子数が1
次電子数よりも多くなるので(δ〉1)、結晶表面は正
に帯電する。 電気光学結晶板6に電荷を蓄積する際に正の電荷で吉込
むか負の電荷で書込むかは、第1図に示すメツシュ電位
Vcと結晶背面電圧Vbの電圧を制御することにより実
行される。ここで最初に負の電圧を書込み、次に正に帯
電させるか、或いは最初に正に帯電させ、次に負の電荷
を書込むかの2つの方法により減算機能を持たすことが
できる。 減算の泊は次の3つの方法により制御できる。 即ち、減算時の入射光強度を変化させる方法、マイクロ
チャンネルプレート4に加える電圧の持続時間を変化さ
せる方法、及びマイクロチャンネルプレート4に加える
電圧を変化させる方法である。 書込み、消去の方法は周知であるが、第2図及び第3図
により正電荷像を例にとって説明する。 なお、2次電子捕集用メツシュ電極5に印加する電圧V
cは、第2図の第2クロスオーバー点E2に設定する。 結晶背面電圧Vbを第2クロスオーバー点E2に相当す
る電位に設定すると、電荷蓄積面6Aにおける結晶表面
電位Vsは、電位E2に書込みによって生じた正電荷の
電位上昇分が加わった値になる。この表面電位の場合、
入射する1次電子のエネルギーはE2以上あるので2次
電子放出比δ〈1となり、表面電位がE2に達するまで
負電荷が蓄積される。電位がE2に達成するとδ=1と
なって平衝状態になり、且つ表面の帯電は雲となる。 結晶背面電圧Vbを第1クロスオーバー点E1と第2ク
ロスオーバー点E2との間でダイナミックレンジが十分
にとれる電圧E′に設定すると、このとき結晶表面電位
VsもほぼE′となるから、入射する1次電子のエネル
ギーはElとE2の間である。従って2次電子放出比δ
〉1となるから正電荷像が形成される。放出された2次
電子はVSよりも高い電位Vcにある2次電子捕集電極
に捕集される。 次に、実時間閾値動作機能(ハードクリップ動作)につ
いて説明する。 空間光変調装置10は、第2図に示すVc及びVbの設
定条件により、実時間閾値動作を実行させることができ
る。メツシュ電極5は結晶表面の近傍に設けられてあり
、これを所定の電位に設定すると、結晶表面に十分な電
子が供給されている場合には結晶表面電位Vsはメツシ
ュ電極5の電位となり、この電位がクロスオーバー点と
なる。 即ち、結晶表面電位VSがメツシュ電極5よりも低い(
第2図VbEの場合:消去)と結晶表面から放出される
2次電子がメツシュ電極5に捕集されるため入射電子に
対して2次電子放出が増加して結晶表面の電位は上昇し
、逆に結晶表面電位Vsがメツシュ電極電位Vcよりも
高い(第2図Vbwの場合:書込)と入射電子が2次電
子よりも多くなって結晶表面電位が下Vsがり、結局結
晶表面電位Vsがメツシュ電極電位Vcに等しくなった
ところで電位は一定となる。つまり、入射光間が十分あ
る場合には、メツシュ電位Vcと、結晶表面電位Vbは
常に同電位となる。 Vcの電圧設定について、VcとVbの相対的電圧は電
気光学結晶板6の厚さに帰因する複屈折性によるもので
あるから(即ちVbw=Vbgの電圧とVcの電圧の相
対関係が電気光学結晶板6の厚さによる)、位相補償管
のようなものを用いて設定電圧を、例えばVc=1.1
(KV)、Vb=1.0〜2.7 (KV)(:ノー
マルモード)とすると、第3図のように電気光学結晶6
の電荷蓄積面6Aは負電位(−0,6KV)となり電子
が到達しなくなる(ロックアウト状態)。 しかし、電圧供給手段14により、Vbをゆっくりとラ
ンプ状に下げていくと(ランプモード)、入射する光の
強度が大きくて多量の電子が供給される部分ては電子が
結晶表面に供給され、2次電子放出が大きくなって負電
位とならず、入射する光の強度が小さくて、供給される
電子の門が少ない部分では電位降下に電子の供給が追い
つかず、そのため結晶表面が負電位となって電子が結晶
表面に到達しなくなる。 従って、光電陰極3に入射する光の強度に対応して結晶
表面が負電位となって書込みが行われない部分と、結晶
表面に電子が到達し、表面が負電位とならずに書込みが
行われる部分とができ、その結果、入射する光の強度に
より閾値操作が実行されることになる。 例えば、第4図のように、結晶の背面電圧Vbの降下速
度(→方向)に電気光学結晶板6の表面電圧Vsの動き
(啼)が追従出来るだけの電子が供給され得るところだ
けが1込み状態となる。つまり結晶背面電圧Vbの降下
速度によって書込める入力光強度(それ以上は書ける、
それに満たないものは書けない)が決定できる。 従って、本発明では、variableγモード(可変
γモード)が、ハードクリップモードにおいてVCの値
を変えることによって得られることになる。 例えば、単位をKVとして、電圧供給装置14により、 ■Vc=1.1 Vb=1. ○〜2.7■V
c””0.6 Vb=0.5〜2.2■Vc=0
.3 Vb=0.2〜1.9■Vc=0.1
Vb=O〜1.7のように、Vcを変え、同時にV
bをランプ降下させ、且つ、その降下速度を一定に設定
すると第5図のようなTが異なる複数の特性曲線(γが
大きい程傾きが小さい)が得られる。 ここで、第5図の特性はマイクロチャンネルプレート4
の入出力特性(第6図参照)の直線部を使っているが、
非直線部を使うと、Iinが増えても、Boutは直線
部より増えないということになり、第7図のようにγが
2よりも小さい特性も得られる(上記と同様な操作でγ
く2の領域でもVariavleγは得られる)。 上記のように、空間光変調装置10の入出力持性γを可
変することにより、ハーフトーンプロセッシングが可能
になる。 即ち、任意のグレースケールでの画像処理、γを変える
画像処理、線形演算における関数変換、及び線形演算、
非線形演算が可能となる(第8図参照)。 又、ニュートラルネットワークのユニットとして、空間
光変調装置10を利用できる。 例えば、ニュートラルネットワークにおけるニューロン
モデルとして第9図のようなものを考える。 ×はユニットiへの入力、Wkiはユニットkからiへ
の結合の強さ(重み>、V+はユニットiからの出力、
θは閾値、uiはユニットiがとっている状態を現わす
と、その関係は、uH=ΣW k iX k−θ
i )y i=f (U i)となる。 ユニットの入出力関数としては第10図のようなものが
用いられる。例えば、第10図(C)のようなロジスチ
ック関数を考えると、その傾きを変えることによってユ
ニットのメカニズムを確率的にできることが知られてい
る(例えば13o1tzman Machine等)
。ホップフィールドモデルのメカニズムを確率的にした
ボルツマンマシンで考えてみると、第11図のような確
率関数で動作させる。つまり入出力関数(Ll iと
Pとの関係)を温度T(変数下は温度と呼ばれる)で確
率的に決定している。 第11図においては王が大きいほどグラフは滑かになり
TがOに近ずくとグラフは閾値関数に近づく。 ホップフィールドモデルのように系の収束条件として初
期値が問題となるようなアルゴリズムでは、初期の動作
を非決定論的にしくT:大に相当)ランダムな動きで初
期値を特定しないような方式をとったり、極小値にトラ
ップされないように初めはランダムな状態で動かしだん
だん決定論的にする(下をだんだん小さくしていく)よ
うな方式ネットワークの安定に至るまでに第11図のよ
うにユニット(空間光変調装置)の入出力特性の傾きを
変えていき、その系に適した入出力関数を設定すること
によって、収束時間を短くすることができる。 ここで可変γモードを使って第11図のような入出力特
性を得るためには、第12図に示される装置が利用され
る。これにより王を変える代わりにVCを変化させ、光
学モデルにおいてユニットの入出力の確率動作や入出力
関数を2次元的に実現することができる。 この図に示される構成例は、前記第1図に示される空間
光変調装置におけるレンズ2と光電陰極3との間に可変
NDフィルター12を設けると共に、前述のような条件
で、ハードクリップモードにおいてメツシュ電極5の電
圧を変え、このメッシュ電極5の電圧変化に応じて、電
気光学結晶板6の背面電圧Vbをランプ状に変化させる
電圧供給手段14を設けたものである。 前記可変NDフィルター12は、NDフィルター12A
を、モータ12Bによりギヤ12Cを介して駆動し、こ
の時のモータ12Bの回転角度をモータ回転面コントロ
ーラ12Dにより調整することによって、光電陰極3に
入射する光入力強度を第13図に示されるようにして、
入圧力特性曲線を揃える。 この場合、前記マイクロチャンネルプレート4への供給
電圧をγ値に応じて可変とするようにしても良い。 又、第12図におけるレンズ2にカメラレンズ等を用い
、その絞りをコントロールすることによって、入力光強
度を調整するようにしてもよい。 更に又、結晶背面電圧Vbの降下速度を遅くすることに
よっても、感度を高くしたのと同等の効果を得ることが
できる。
第1図は、本発明に係る空間光変調装置の基本的構成及
び作用を示すための略示断面図、第2図は、空間光変調
装置における電気光学結晶板の電荷蓄積面へ入射する1
次層子エネルギーEと、2次電子放出比との関係を示す
線図、第3図は、空間光変調装置における消去及び書込
みの関係を示すブロック図、第4図は、同空間光変調装
置の電気光学結晶板の背面電圧のランプ降下と結晶表面
電圧の動き及び書込み関係を示す線図、第5図は、可変
γモードにおける入出力特性を示す線図、第6図は、マ
イクロチャンネルプレートの一般的な入出力特性線図、
第7図は、マイクロチャンネルプレートの入出力特性に
おける非直線部を利用して、Tが2よりも小さくした場
合の特性線図、第8図は、γを変えた入出力を線形及び
非線形演算に利用した場合の線図、第9図は、本発明を
ニューラルネットワークに利用する場合の、ニューロン
モデルを示す模式図、第10図は、ニューラルネットワ
ークにおけるユニットの入出力関数を示す線図、第11
図は、同シクモイド関数を示す線図、第12図は、本発
明の具体的実施例を示す略示断面図、第13図は、同寅
施例における入出力特性を示す線図である。 図面の浄書(内容に変更なし) 第1図 3・・・光電陰極 4・・・マイクロチャンネルプレート(MCP)、5・
・・メツシュ電極(2次電子捕集電極)、6・・・電気
光学結晶板、 6A・・・電荷蓄積面、 10・・・空間光変調装置、 12・・・可変NDフィルター 14・・・電圧供給手段。 4 第2図
び作用を示すための略示断面図、第2図は、空間光変調
装置における電気光学結晶板の電荷蓄積面へ入射する1
次層子エネルギーEと、2次電子放出比との関係を示す
線図、第3図は、空間光変調装置における消去及び書込
みの関係を示すブロック図、第4図は、同空間光変調装
置の電気光学結晶板の背面電圧のランプ降下と結晶表面
電圧の動き及び書込み関係を示す線図、第5図は、可変
γモードにおける入出力特性を示す線図、第6図は、マ
イクロチャンネルプレートの一般的な入出力特性線図、
第7図は、マイクロチャンネルプレートの入出力特性に
おける非直線部を利用して、Tが2よりも小さくした場
合の特性線図、第8図は、γを変えた入出力を線形及び
非線形演算に利用した場合の線図、第9図は、本発明を
ニューラルネットワークに利用する場合の、ニューロン
モデルを示す模式図、第10図は、ニューラルネットワ
ークにおけるユニットの入出力関数を示す線図、第11
図は、同シクモイド関数を示す線図、第12図は、本発
明の具体的実施例を示す略示断面図、第13図は、同寅
施例における入出力特性を示す線図である。 図面の浄書(内容に変更なし) 第1図 3・・・光電陰極 4・・・マイクロチャンネルプレート(MCP)、5・
・・メツシュ電極(2次電子捕集電極)、6・・・電気
光学結晶板、 6A・・・電荷蓄積面、 10・・・空間光変調装置、 12・・・可変NDフィルター 14・・・電圧供給手段。 4 第2図
Claims (1)
- (1)電子像発生手段と電気光学結晶板とを備え、その
間に前記電気光学結晶板への電荷像形成を妨げないよう
に2次電子捕集電極がおかれた空間光変調装置において
、この空間光変調装置の求める入出力特性に応じて、前
記2次電子捕集電極の電圧を変え、且つ該2次電子捕集
電極の電圧変化に応じて前記電気光学結晶板の背面電圧
をランプ状に変化させる電圧供給手段を設けたことを特
徴とする空間光変調装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9366890A JPH03290615A (ja) | 1990-04-09 | 1990-04-09 | 空間光変調装置 |
US07/682,260 US5170281A (en) | 1990-04-09 | 1991-04-08 | Spatial light modulation device capable of arbitrarily selecting an input/output characteristic |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9366890A JPH03290615A (ja) | 1990-04-09 | 1990-04-09 | 空間光変調装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03290615A true JPH03290615A (ja) | 1991-12-20 |
Family
ID=14088781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9366890A Pending JPH03290615A (ja) | 1990-04-09 | 1990-04-09 | 空間光変調装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03290615A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6091328A (ja) * | 1983-10-25 | 1985-05-22 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光変調装置 |
JPS63165819A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光変調器のシエ−デイング補正方法 |
JPH01189625A (ja) * | 1988-01-25 | 1989-07-28 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光変調器の製造方法 |
-
1990
- 1990-04-09 JP JP9366890A patent/JPH03290615A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6091328A (ja) * | 1983-10-25 | 1985-05-22 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光変調装置 |
JPS63165819A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光変調器のシエ−デイング補正方法 |
JPH01189625A (ja) * | 1988-01-25 | 1989-07-28 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光変調器の製造方法 |
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