JPH03285388A - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents
多層プリント配線板の製造方法Info
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- JPH03285388A JPH03285388A JP2087933A JP8793390A JPH03285388A JP H03285388 A JPH03285388 A JP H03285388A JP 2087933 A JP2087933 A JP 2087933A JP 8793390 A JP8793390 A JP 8793390A JP H03285388 A JPH03285388 A JP H03285388A
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-
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はポータプルテープレコーダーやビデオカメラ等
の小型電子機器の多層プリント配線板の製造方法に関す
るものである。
の小型電子機器の多層プリント配線板の製造方法に関す
るものである。
従来の技術
近年、電子機器の小型化、高密度実績化に伴いプリント
配線板の薄膜化、高宗度化が要請され、回路基板を何枚
も積層した多層プリント配線板が実用化されている 従来、これらの多層プリント配線板は銅張基板にエツチ
ング等の方法で配線パターンを形成じた複数枚の回路基
板を適当な厚さの絶縁材料(プリプレグ)を介じて上下
の位置合わせを行いながら加熱、加圧して接着、積層し
てまず多層板を作製し、次に各層の電気的接続は上から
下まで貫通したスルホールを開け、この内壁にメツキ等
で導電体層を形成し上下層の短絡を行っていた。
配線板の薄膜化、高宗度化が要請され、回路基板を何枚
も積層した多層プリント配線板が実用化されている 従来、これらの多層プリント配線板は銅張基板にエツチ
ング等の方法で配線パターンを形成じた複数枚の回路基
板を適当な厚さの絶縁材料(プリプレグ)を介じて上下
の位置合わせを行いながら加熱、加圧して接着、積層し
てまず多層板を作製し、次に各層の電気的接続は上から
下まで貫通したスルホールを開け、この内壁にメツキ等
で導電体層を形成し上下層の短絡を行っていた。
これ以外に各層間での任意の位置での短絡法としては、
ガラス・エポキシ等の樹脂基板の場合は一部で第8図に
示す構造のものが使用されている。
ガラス・エポキシ等の樹脂基板の場合は一部で第8図に
示す構造のものが使用されている。
第1層として基板81に配線パターン82を形成した後
、第2層として必要箇所に穴83をあけた基板84(も
しくは穴開けしたプリプレグ)を第1Nと位置合わせし
た後接合し、次に全体をメツキして第2層表面、穴の底
面(第1層の導体層上)および穴の側面に導体層85を
形成する。この後、第2層のメツキ部をエツチング技術
で必要部分のみ残し配線パターンを形成する。以下同様
にして多層化を行い、多層プリント配線板を作製する。
、第2層として必要箇所に穴83をあけた基板84(も
しくは穴開けしたプリプレグ)を第1Nと位置合わせし
た後接合し、次に全体をメツキして第2層表面、穴の底
面(第1層の導体層上)および穴の側面に導体層85を
形成する。この後、第2層のメツキ部をエツチング技術
で必要部分のみ残し配線パターンを形成する。以下同様
にして多層化を行い、多層プリント配線板を作製する。
一方、基板としてアルミナ等のセラミックを用いたもの
の場合は、第9図に示すようにセラミックのグリーンシ
ート91上に銅酸化物等のレジネートで配線パターン9
2を形成する。この上に第2層として第1層との短絡箇
所にベアホールを有し、このベアホール中に吸引しなが
らスクリーン印刷を行い、レジネートを埋め込み、さら
にもう−度通常のスクリーン印刷を行い、配線パターン
93を形成したグリーンシート94を積層する。この様
にベアホールにレジネートが充填されたグリーンシート
を必要枚数だけ正確に位置合わせを行い、積層する。最
後にこの積層シートを加圧しながら焼成し、レジネート
を還元して金属導体化する。例えば、日経ニューマティ
リアル1989年11月20日号p85記事参照。
の場合は、第9図に示すようにセラミックのグリーンシ
ート91上に銅酸化物等のレジネートで配線パターン9
2を形成する。この上に第2層として第1層との短絡箇
所にベアホールを有し、このベアホール中に吸引しなが
らスクリーン印刷を行い、レジネートを埋め込み、さら
にもう−度通常のスクリーン印刷を行い、配線パターン
93を形成したグリーンシート94を積層する。この様
にベアホールにレジネートが充填されたグリーンシート
を必要枚数だけ正確に位置合わせを行い、積層する。最
後にこの積層シートを加圧しながら焼成し、レジネート
を還元して金属導体化する。例えば、日経ニューマティ
リアル1989年11月20日号p85記事参照。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、第1の従来法では各層のプリント配線板
を積層するには、ガラス布にエポキシ樹脂等を半硬化状
態で含浸させたプリプレグを各層間に介在させるため、
基板の厚みがどうしても厚くなり、プリント配線板の薄
膜化を阻害していた。
を積層するには、ガラス布にエポキシ樹脂等を半硬化状
態で含浸させたプリプレグを各層間に介在させるため、
基板の厚みがどうしても厚くなり、プリント配線板の薄
膜化を阻害していた。
さらに上下の層を任意の位置で短絡させるスルホール(
ベアホール)の作製が不可能であり、このため回路設計
が複雑となり、積層数も増加し、コスト高となる欠点を
有していた。
ベアホール)の作製が不可能であり、このため回路設計
が複雑となり、積層数も増加し、コスト高となる欠点を
有していた。
第2の従来法では、任意の位置でのベアホールの作製は
可能であるが、その工程が非常に複雑でコスト高となる
。さらにベアホールの周辺(内壁)のみにメツキがされ
、断線の危険性も高い。
可能であるが、その工程が非常に複雑でコスト高となる
。さらにベアホールの周辺(内壁)のみにメツキがされ
、断線の危険性も高い。
セラミックグリーンシートを用いた第3の従来法では、
工程もかなり簡素化されベアホール部での接続状態も良
いが、材料費が高価であり、基板の重量も重くなる欠点
を持つ。
工程もかなり簡素化されベアホール部での接続状態も良
いが、材料費が高価であり、基板の重量も重くなる欠点
を持つ。
本発明は上記課題に鑑み、工程が簡単でコストが安く任
意の位置にベアホールを形成でき、電気的接合性にも優
れた軽量の多層プリント配線板の製造方法を提供するも
のである。
意の位置にベアホールを形成でき、電気的接合性にも優
れた軽量の多層プリント配線板の製造方法を提供するも
のである。
課題を解決するための手段
本発明は、ヘアホールによる上下層の電気的接合法とは
異なり、直接ワイヤ線で上下層を接続するもので、ワイ
ヤ線の形成方法として第1層(下層)上にワイヤーボン
ドによりバンブを上下層の接続必要箇所に作製する。
異なり、直接ワイヤ線で上下層を接続するもので、ワイ
ヤ線の形成方法として第1層(下層)上にワイヤーボン
ドによりバンブを上下層の接続必要箇所に作製する。
次に、この上にポリイミド等の熱硬化性樹脂をロールコ
ーティング法や噴霧法や浸漬法でバンブの高さより薄く
塗布、硬化させて絶縁層を形成する。この熱硬化性樹脂
が光硬化性であれば硬化が短時間ですみより効率的であ
る。
ーティング法や噴霧法や浸漬法でバンブの高さより薄く
塗布、硬化させて絶縁層を形成する。この熱硬化性樹脂
が光硬化性であれば硬化が短時間ですみより効率的であ
る。
次に、絶縁層上に突出したバンプの頭部をカッター等で
切断し、金属面を露出させる。この上に第2層の配線パ
ターンを形成して上下層の電気的接続を行なう。以下同
様にして多層化を行なう多層プリント配線板の製造方法
を提供するものである。
切断し、金属面を露出させる。この上に第2層の配線パ
ターンを形成して上下層の電気的接続を行なう。以下同
様にして多層化を行なう多層プリント配線板の製造方法
を提供するものである。
作用
絶縁層がキャスティング法によって形成されるため膜厚
が薄くでき多層プリント配線板自体の厚さも薄くするこ
とができる。また、工程も容易で材料費も安く製造コス
トを大幅に低下できる利点もある。さら;二重下層間の
電気的接続も従来のスルホールタイプのものと比べ湯道
断面積が大きく安定している。
が薄くでき多層プリント配線板自体の厚さも薄くするこ
とができる。また、工程も容易で材料費も安く製造コス
トを大幅に低下できる利点もある。さら;二重下層間の
電気的接続も従来のスルホールタイプのものと比べ湯道
断面積が大きく安定している。
実施例
以下に本発明の第1の一実施例について、図面を参照し
ながろ説明する。第1図は本発明の第1の実施例におけ
る配線パターン形成後の概観図、第2図はバンプ形成工
程の概観図、第3図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概観図
、第4図:よバンブの突出部の切断工程の概観図、第5
図は完成した多層プリント配線板の断面図である。ここ
で11はボリイミドフィルム、12は金ペースト、21
はワイヤーボンディング装置、22は金線、23はバン
ブ、31は光硬化性ポリイミド樹脂、32は噴霧器、3
3は紫外線ランプ、41はバンブ、42はポリイミド絶
縁層、43はカッター、51はポリイミド絶縁層、52
は配線パターン、53はバンブ、54はチップ部品であ
る。
ながろ説明する。第1図は本発明の第1の実施例におけ
る配線パターン形成後の概観図、第2図はバンプ形成工
程の概観図、第3図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概観図
、第4図:よバンブの突出部の切断工程の概観図、第5
図は完成した多層プリント配線板の断面図である。ここ
で11はボリイミドフィルム、12は金ペースト、21
はワイヤーボンディング装置、22は金線、23はバン
ブ、31は光硬化性ポリイミド樹脂、32は噴霧器、3
3は紫外線ランプ、41はバンブ、42はポリイミド絶
縁層、43はカッター、51はポリイミド絶縁層、52
は配線パターン、53はバンブ、54はチップ部品であ
る。
ポリイミドフィルム11(東し・デュポン社製カプトン
、膜厚25μm)上に金ペース目2をスクリーン印刷法
で塗布し、配線パターンを形成した。
、膜厚25μm)上に金ペース目2をスクリーン印刷法
で塗布し、配線パターンを形成した。
次に、この形成された配線パターン上において上層(第
2層)との接合(短絡)部にワイヤ・ボンディング装[
21を用い、線径20μmの金線22を先端部に電気放
電によって金ボールを形成させ、これを超音波で第1層
配線パターンの必要箇所に接合し、その後ワイヤ部を直
ちにヘアピン状に湾曲させて切断し、頭部(スタッド)
に尻尾の付いた形状のバンブ23を形成した。このバン
ブ径の大きさは約60μm、高さは約50.czmであ
った。バンブ形状としては、このようなスタッドバンブ
形状に限定されないがスタッドがある方が下地との接着
性に優れ、接触抵抗も小さくなる利点がある。
2層)との接合(短絡)部にワイヤ・ボンディング装[
21を用い、線径20μmの金線22を先端部に電気放
電によって金ボールを形成させ、これを超音波で第1層
配線パターンの必要箇所に接合し、その後ワイヤ部を直
ちにヘアピン状に湾曲させて切断し、頭部(スタッド)
に尻尾の付いた形状のバンブ23を形成した。このバン
ブ径の大きさは約60μm、高さは約50.czmであ
った。バンブ形状としては、このようなスタッドバンブ
形状に限定されないがスタッドがある方が下地との接着
性に優れ、接触抵抗も小さくなる利点がある。
次に、この上に光硬化性ポリイミド樹脂31を噴霧器3
2からイエロールーム内で噴霧、配線パターンを全面的
にバンブの高さより薄くコーティングする。この後、紫
外線ランプ33によって、樹脂上に紫外線を照射しポリ
イミド樹脂を完全硬化させ、絶縁層(膜厚約35μm)
を形成する。しかし、この状態ではポリイミド樹脂上に
突出したバンブの上にも樹脂が存在し、絶縁状態である そこでカッター43によってポリイミド絶縁層42から
突出しているバンブ41を切断し、バンブの金を露出さ
せる。
2からイエロールーム内で噴霧、配線パターンを全面的
にバンブの高さより薄くコーティングする。この後、紫
外線ランプ33によって、樹脂上に紫外線を照射しポリ
イミド樹脂を完全硬化させ、絶縁層(膜厚約35μm)
を形成する。しかし、この状態ではポリイミド樹脂上に
突出したバンブの上にも樹脂が存在し、絶縁状態である そこでカッター43によってポリイミド絶縁層42から
突出しているバンブ41を切断し、バンブの金を露出さ
せる。
次に、このポリイミド絶縁層51および切断されたバン
ブ53の上に再び金ペーストをスクリーン印刷すること
で配線パターンを形成した。以下同様の工程を繰り返し
て多層化を行い、最後の表面部分に抵抗、コイル、コン
デンサおよび半導体等のチップ部品54.54’ 、5
4″を実装して多層プリント配線板を完成した。
ブ53の上に再び金ペーストをスクリーン印刷すること
で配線パターンを形成した。以下同様の工程を繰り返し
て多層化を行い、最後の表面部分に抵抗、コイル、コン
デンサおよび半導体等のチップ部品54.54’ 、5
4″を実装して多層プリント配線板を完成した。
配線材料として金ペーストが使用できるのは今のところ
比抵抗の大きさからデジタル回路に限定されるが、作製
工程が容易で製造コストを大幅に下げることができる。
比抵抗の大きさからデジタル回路に限定されるが、作製
工程が容易で製造コストを大幅に下げることができる。
以上のようにして作製した多層プリント配線板は、絶縁
層の厚みが約35μmで金ペーストからなる配線パター
ンの段差(約15μm)を抑えることができ、より複数
の多層化が可能となった。さらに基板がポリイミドフィ
ルムであるため可とう性があり、湾曲したところへの基
板の配置も可能である。また、多層プリント配線板の製
造コストも大幅に低下した。
層の厚みが約35μmで金ペーストからなる配線パター
ンの段差(約15μm)を抑えることができ、より複数
の多層化が可能となった。さらに基板がポリイミドフィ
ルムであるため可とう性があり、湾曲したところへの基
板の配置も可能である。また、多層プリント配線板の製
造コストも大幅に低下した。
以下に本発明の第2の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。第6図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概観図
である。61はポリイミドフィルム、62はニッケル配
線パターン、63はロール、64はベルトコンベア、6
5は光硬化性エポキシアクリレート樹脂、66は紫外線
ランプ、67はバンプである。
ら説明する。第6図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概観図
である。61はポリイミドフィルム、62はニッケル配
線パターン、63はロール、64はベルトコンベア、6
5は光硬化性エポキシアクリレート樹脂、66は紫外線
ランプ、67はバンプである。
ポリイミドフィルム61の上を塩化第一錫溶液で処理し
て感度付与を行った後、塩化パラジウム溶液を塗布し、
これをよ(水洗いしてから硫酸ニッケルとホウ酸からな
るカセイアルカリ性溶液に浸した。90℃1時間で約1
5μmの膜厚となった。次にこの上に配線パターンをレ
ジストインクで印刷し、エツチング液中に浸漬して不要
部分を溶かし、配線パターンを形成する。その後、配線
パターン上のレジストインクを除去し、パターン上の必
要箇所に第1の実施例と同様の方法でバンプを形成した
。
て感度付与を行った後、塩化パラジウム溶液を塗布し、
これをよ(水洗いしてから硫酸ニッケルとホウ酸からな
るカセイアルカリ性溶液に浸した。90℃1時間で約1
5μmの膜厚となった。次にこの上に配線パターンをレ
ジストインクで印刷し、エツチング液中に浸漬して不要
部分を溶かし、配線パターンを形成する。その後、配線
パターン上のレジストインクを除去し、パターン上の必
要箇所に第1の実施例と同様の方法でバンプを形成した
。
次に、第6図に示すようにポリイミドフィルム61上に
ニッケル配線パターン62およびバンプ67が形成され
た基板をヘルドコンベア64の上に乗せ、少し柔らかい
ゴム等からなるロール63の下を通し、光硬化性エポキ
シアクリレート樹脂65を基板全面に塗布し、その後紫
外線ランプ66の元を通し樹脂を硬化させた。その後、
カッターで突出したバンプの先端部を切断し、再びメ・
7キ、配線パターン印刷、エツチング、レジスト除去の
各工程を経て第2層目の配線パターンを形成する。以下
、同様の工程で多層化を行った。
ニッケル配線パターン62およびバンプ67が形成され
た基板をヘルドコンベア64の上に乗せ、少し柔らかい
ゴム等からなるロール63の下を通し、光硬化性エポキ
シアクリレート樹脂65を基板全面に塗布し、その後紫
外線ランプ66の元を通し樹脂を硬化させた。その後、
カッターで突出したバンプの先端部を切断し、再びメ・
7キ、配線パターン印刷、エツチング、レジスト除去の
各工程を経て第2層目の配線パターンを形成する。以下
、同様の工程で多層化を行った。
光硬化性エポキシアクリレートをロールコーテイングす
ることによって塗布材料の使用量が最小限に抑えられる
利点がある。但し、表面性は噴霧法に比べかなり劣る。
ることによって塗布材料の使用量が最小限に抑えられる
利点がある。但し、表面性は噴霧法に比べかなり劣る。
一方、配線材料をメツキ法で作製することによって配線
パターンの製造コストは上がるが、配線抵抗を大きく下
げれるメリットがある。
パターンの製造コストは上がるが、配線抵抗を大きく下
げれるメリットがある。
以下に本発明の第3の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。第7図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概観図
である。71はアルミナ基板、72はニッケル配線パタ
ーン、73はバンブ、74は保護フィルム、75は熱硬
化性フェノール樹脂、76は熱風炉である。
ら説明する。第7図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概観図
である。71はアルミナ基板、72はニッケル配線パタ
ーン、73はバンブ、74は保護フィルム、75は熱硬
化性フェノール樹脂、76は熱風炉である。
アルミナ基板71上に第2の実施例と同様にメツキ法で
配線パターン72を形成した。この際基板の裏側に保護
フィルム74を張ってお(。次に第1の実施例と同様の
方法で必要箇所にバンブ73を形成した後、基板全体を
熱硬化性フェノール樹脂75に浸漬し、熱風炉76で樹
脂を硬化させた。バンブの先端切断工程以下は第1の実
施例と同様に行い、多層プリント配線板を作製し、最後
に保護フィルムを除去して完成した。
配線パターン72を形成した。この際基板の裏側に保護
フィルム74を張ってお(。次に第1の実施例と同様の
方法で必要箇所にバンブ73を形成した後、基板全体を
熱硬化性フェノール樹脂75に浸漬し、熱風炉76で樹
脂を硬化させた。バンブの先端切断工程以下は第1の実
施例と同様に行い、多層プリント配線板を作製し、最後
に保護フィルムを除去して完成した。
浸漬法による保護膜形成は基板の裏面にも樹脂がつくた
め若干のコスト高となる反面、表面性に優れた緻密な保
護膜が得られる利点を有する。
め若干のコスト高となる反面、表面性に優れた緻密な保
護膜が得られる利点を有する。
上記3つの実施例の多層プリント配線板と従来のガラス
・エポキシ基板にベアホールを形成したタイプの多層プ
リント配線板を85’C85%RHの条件で加速し、抵
抗値の変化を調べたところ、本実施例においては200
0時間後においても抵抗の変化はほとんど認められなか
ったが、従来品では1.6倍程度抵抗が増加した。
・エポキシ基板にベアホールを形成したタイプの多層プ
リント配線板を85’C85%RHの条件で加速し、抵
抗値の変化を調べたところ、本実施例においては200
0時間後においても抵抗の変化はほとんど認められなか
ったが、従来品では1.6倍程度抵抗が増加した。
以上のように本実施例によれば上下層の電気的接続をバ
ンプによって行なうため、工数を大幅に削減できコスト
ダウンがはかれる。また、接続抵抗も少なく信頼性の面
でも優れている。さらにポリイミド等の熱硬化性樹脂の
キャスティングで絶縁層を形成するため、絶縁層が薄く
でき、軽量で柔軟性を有する多層プリント配線板が可能
となる。
ンプによって行なうため、工数を大幅に削減できコスト
ダウンがはかれる。また、接続抵抗も少なく信頼性の面
でも優れている。さらにポリイミド等の熱硬化性樹脂の
キャスティングで絶縁層を形成するため、絶縁層が薄く
でき、軽量で柔軟性を有する多層プリント配線板が可能
となる。
発明の効果
以上のように本発明は、上下層の電気的接触をベアホー
ルによって行なうのではなくワイヤーボンディングによ
りバンブを形成して行なうため、工数を大幅に削減でき
コストダウンがはかれる。
ルによって行なうのではなくワイヤーボンディングによ
りバンブを形成して行なうため、工数を大幅に削減でき
コストダウンがはかれる。
また、接続抵抗もベアホールの場合のように内壁部のみ
で接合しているのではなく、バンプ全体に電流が流れる
ため少なくなる。寿命等の信頼性の面でも優れている。
で接合しているのではなく、バンプ全体に電流が流れる
ため少なくなる。寿命等の信頼性の面でも優れている。
さらにポリイミド等の熱硬化性樹脂のキャスティングで
絶縁層を形成するため、絶縁層が薄くでき、セラミック
多層基板に比べ軽量で柔軟性を有する多層プリント配線
板が可能となる。
絶縁層を形成するため、絶縁層が薄くでき、セラミック
多層基板に比べ軽量で柔軟性を有する多層プリント配線
板が可能となる。
以上のように本発明は製造工程が少なく低コストで作製
可能な、かつ接続抵抗が小さく信頼性にも優れた軽量で
薄型の多層プリント配vA板の製造方法を提供するもの
である。
可能な、かつ接続抵抗が小さく信頼性にも優れた軽量で
薄型の多層プリント配vA板の製造方法を提供するもの
である。
第1図は本実施例における配線パターン形成後の概観図
、第2図は本実施例におけるバンプ形成工程の概観図、
第3図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概観図、第4図はバ
ンブの突出部の切断工程の概観図、第5図は完成した多
層プリント配線板の断面図、第6図は熱硬化性樹脂の塗
布工程の概観図、第7図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概
観図、第8図は従来のガラス・エポキシ等の多層樹脂基
板の概観図、第9図は従来のセラミック多層基板の概観
図である。 11・・・・・・ポリイミドフィルム、12・・・・・
・金ペースト、21・・・・・・ワイヤーボンディング
装置、22・・・・・・金線、23・・・・・・バンブ
、3L 31’・・・・・・光硬化性ポリイミド樹脂、
32・・・・・・噴霧器、33・・・・・・紫外線ラン
プ、41・・・・・・バンプ、42・・・・・・ポリイ
ミド絶縁層、43・・・・・・カッター、51・・・・
・・ポリイミド絶′U層、52・・・・・配線パターン
、53・・・・・・バンプ、54.54’ 、 54″
・・・・・・チ、ブ部品、61・・・・・ポリイミドフ
ィルム、62・・・・・・ニッケル配線パターン、63
・・・・・・ロール、64・・・・・・ヘルドコンベア
、65・・・・・・光硬化性エボキンアクリレート樹脂
、66・・・・・・紫外線ランプ、67・・・・・・バ
ンブ、71・・・・・・アルミナ基板、72・・・・・
・ニッケル配線パターン、73・・・・・・バンブ、7
4・・・・・・保護フィルム、75・・・・・・熱硬化
フェノール樹脂、76・・・・・・熱風炉。 /1 ワイマーボンテ゛インク娯1 金線 ハ゛ンフ0 カッター ヘ
、第2図は本実施例におけるバンプ形成工程の概観図、
第3図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概観図、第4図はバ
ンブの突出部の切断工程の概観図、第5図は完成した多
層プリント配線板の断面図、第6図は熱硬化性樹脂の塗
布工程の概観図、第7図は熱硬化性樹脂の塗布工程の概
観図、第8図は従来のガラス・エポキシ等の多層樹脂基
板の概観図、第9図は従来のセラミック多層基板の概観
図である。 11・・・・・・ポリイミドフィルム、12・・・・・
・金ペースト、21・・・・・・ワイヤーボンディング
装置、22・・・・・・金線、23・・・・・・バンブ
、3L 31’・・・・・・光硬化性ポリイミド樹脂、
32・・・・・・噴霧器、33・・・・・・紫外線ラン
プ、41・・・・・・バンプ、42・・・・・・ポリイ
ミド絶縁層、43・・・・・・カッター、51・・・・
・・ポリイミド絶′U層、52・・・・・配線パターン
、53・・・・・・バンプ、54.54’ 、 54″
・・・・・・チ、ブ部品、61・・・・・ポリイミドフ
ィルム、62・・・・・・ニッケル配線パターン、63
・・・・・・ロール、64・・・・・・ヘルドコンベア
、65・・・・・・光硬化性エボキンアクリレート樹脂
、66・・・・・・紫外線ランプ、67・・・・・・バ
ンブ、71・・・・・・アルミナ基板、72・・・・・
・ニッケル配線パターン、73・・・・・・バンブ、7
4・・・・・・保護フィルム、75・・・・・・熱硬化
フェノール樹脂、76・・・・・・熱風炉。 /1 ワイマーボンテ゛インク娯1 金線 ハ゛ンフ0 カッター ヘ
Claims (4)
- (1)樹脂製フィルムもしくはセラミック板に配線パタ
ーンを形成した後、上部配線パターンとの短絡部にワイ
ヤーボンドによりバンプを形成する。 次に熱硬化性樹脂を前記配線パターン上に前記バンプよ
り薄い厚さで形成し、十分硬化させた後、突出している
バンプの先端部を切断する。この上に2層目の配線パタ
ーンを形成し、この後同様の操作を繰り返して多層化を
行なうことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法
。 - (2)熱硬化性樹脂層をロールコーティングで形成した
ことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 - (3)熱硬化性樹脂層を噴霧法によって形成したことを
特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 - (4)熱硬化性樹脂層を浸漬法によって形成したことを
特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2087933A JP2827430B2 (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2087933A JP2827430B2 (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03285388A true JPH03285388A (ja) | 1991-12-16 |
JP2827430B2 JP2827430B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=13928710
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2087933A Expired - Fee Related JP2827430B2 (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | 多層プリント配線板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2827430B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1002611A1 (en) * | 1993-10-28 | 2000-05-24 | International Business Machines Corporation | Solder ball connections and assembly process |
JP2009049153A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 配線基板およびその製造方法 |
KR101510580B1 (ko) * | 2013-03-30 | 2015-04-08 | 센젠 오-필름 테크 컴퍼니 리미티드 | 도전성 필름, 도전성 필름 제조 방법, 및 도전성 필름을 구비하는 터치 스크린 |
-
1990
- 1990-04-02 JP JP2087933A patent/JP2827430B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1002611A1 (en) * | 1993-10-28 | 2000-05-24 | International Business Machines Corporation | Solder ball connections and assembly process |
JP2009049153A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 配線基板およびその製造方法 |
KR101510580B1 (ko) * | 2013-03-30 | 2015-04-08 | 센젠 오-필름 테크 컴퍼니 리미티드 | 도전성 필름, 도전성 필름 제조 방법, 및 도전성 필름을 구비하는 터치 스크린 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2827430B2 (ja) | 1998-11-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |