JPH03275997A - 可変容量型真空ポンプ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は気体が主として分子流〜中間流領域にある場合
に適用され、特にその容量を可変とした真空ポンプに関
するもので、例えば、半導体ガスを真空容器内に流しな
がら半導体を製造する装置や、反応ガスを真空容器内に
流しながら基板に薄膜を生成する装置等において、その
真空容器内を所定の圧力となるように排気する手段とし
て用いるのに適した真空ポンプに関するものである。

〔従来の技術〕

従来から真空ポンプの代表的なものとしてターボ分子ポ
ンプやねじ溝穴真空ポンプが知られている。これらの真
空ポンプは、例えば半導体製造装置の排気系に用いられ
る。この場合、半導体製造装置においては、半導体ガス
導入管に供給ガス流量調節弁を設けると共に、真空容器
と真空ポンプとの間に真空容器内圧力調節弁を設けてい
る。供給ガス流量調節弁では、半導体ガス導入管を流れ
るガス流量を熱線流量計等によって計測し、この計測デ
ータに基づいてその弁開度が高精度にフィードバック制
御され、また真空容器内圧力調節弁では、真空容器に取
り付けられた高精度ダイヤプラム式真空計等によって得
られた圧力信号に基づいてその弁開度がフィードバック
制御される。これにより、半導体ガスの流量と真空容器
内の圧力とをそれぞれ所定の値に保ち、この状態の真空
容器内で均一な薄膜を生成させている。

〔発明が解決しようとする課題〕

前記のような半導体製造装置の排気系では、真空容器内
の真空度を所定の値に正確に合わせるために、その真空
容器内圧力調節弁として、ステッピングモータ等を用い
た高い分解能を有する高価な可変圧力調節弁を使用する
ことが必要であった。

さらに、半導体製造工程では主にウェハ搬入後に真空容
器内を真空ポンプにより１０−２〜１０−’Ｐａ程度の
高真空まで引き、その状態から半導体製造用ガスを定常
流量で流すと共に、可変圧力調節弁を圧力に関してフィ
ードバック制御することにより１０”Ｐａ程度の圧力を
維持し半導体を製造するが、制御対象が真空容器内の圧
力であり、稼動初期の到達圧力と定常圧力までの圧力差
が大きいこと、及びガス流量調節弁が一定流量を流すだ
けの制御であるため、真空容器内の圧力が定常に保たれ
るまでに時間がかかり、現状では作業者が経験によりマ
ニュアル操作によって定常圧力付近まで圧力調節弁を調
整し、定常圧力近傍に達したのち自動制御に切り替える
というような煩雑な手順をとっている。

本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは容量を広い範囲にわたって自由に制御する
ことができる真空ポンプを提供することによって、例え
ば本発明の真空ポンプを半導体製造装置の排気系に適用
した場合には、真空ポンプ自身が真空容器内の圧力を制
御することによって前記可変圧力調節弁を不要とし、半
導体製造装置の排気系を簡素化・低廉化することである
。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明による可変容量型真
空ポンプは、基本的に円錐台形又はそれに類似の回転体
表面を有し原動機によって一方向に回転駆動されるロー
タと、前記ロータを取囲む回転体内表面を有し回転方向
には静止しているステータとを備えており、前記ロータ
又は前記ステータの少なくとも一方の前記表面にはねじ
溝が設けられており、前記ロータと前記ステータの軸方
向の相対的変位によって排気容量が変化するようになっ
ていると共に、前記ロータは円錐台形又はそれに類似し
た回転体表面が二つ軸方向につながった形をしており、
前記ロータの二つの回転体表面のそれぞれに対応して前
記ロータ又は前記ステータの表面に設けられたねじ溝が
互いに逆ねじの関係にあり、排気容量を変化させるため
に前記ロータと前記ステータとを軸方向に相対的に変位
させたとき、前記ロータの二つの回転体表面の一方が前
記ステータの一方の内表面に接近すると同時に、他方が
前記ステータの他方の内表面から還ざかることによって
、前記ロータの二つの回転体表面によるそれぞれの排気
容量が相反的に増減するように構成されているか、又は
、前記ロータの一方の端面に近接した位置には排気口が
設けられており、排気容量を減少させるように前記ロー
タと前記ステータとを軸方向に相対的に変位させたとき
、前記ロータの前記端面が前記排気口を部分的に塞いで
流れに抵抗を与えるように構成されていることを特徴と
する。

〔作　用〕

本発明による真空ポンプにおいては、その基本構成によ
り、ロータとステータの間に軸方向の相対的変位を与え
ると、円錐台形又はそれに類似の回転体表面を有するロ
ータとそれを取囲んでいる同様な形状の回転体内表面を
有するステータとの間のすき間が変化するので、ロータ
又はステータの表面に設けられたねじ溝によりロータが
回転した時は気体を軸方向に送るポンプ作用の強さが変
化して、真空ポンプとしての排気容量が変化する。

この作用に加えて第１の発明においては、前記ロータが
前記回転体表面を二つ備えており、それぞれの部分に対
応するねじ溝が互いに逆ねじの関係にあることから、ロ
ータが一方向に回転すると、ロータの二つの回転体表面
によるポンプ作用は互いに逆向きとなり、一方の作用が
他方の作用を打消す関係が生じる。そして前記のように
ロータとステータの軸方向の相対的変位が加えられると
、ロータの二つの回転体表面の一方によるポンプ作用が
ステータとのすき間の減少によって強められるのに反し
、他方によるポンプ作用がすき間の増大によって弱めら
れるので、両者の差による正味のポンプ作用が大幅に変
化するようになる。この作用によって、真空ポンプの排
気容量はロータとステータの軸方向の相対的変位のみに
よって自由に調整可能となる。

第２の発明においては、ロータとステータの軸方向の相
対的変位により、ロータの端面と排気口との距離が変化
するので、そこを通って排出される気体の流れに及ぼす
絞り抵抗が変化することになり、前記ロータとステータ
の軸方向の相対的変位によるポンプ作用の変化に対して
、この絞り抵抗の変化が加わり、真空ポンプの排気容量
が大幅に変化することになる。この場合も、真空ポンプ
の排気容量はロータとステータの軸方向の相対的変位の
みによって自由に調整が可能である。

〔実施例〕

本発明の第１の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。第１図において、円筒状のねじ溝穴真空ポンプのハウ
ジング１００にステータ１０２が固定され、このステー
タ１０２の内面に対向してロータ１０１が同心的にかつ
回転可能に設置されている。

ステータ１０２は回転軸方向に突き合わせられた２つの
部分１０２ａ及び１０２ｂからなり、それらの内面はロ
ータ１０１の回転軸方向（図中矢印Ｙ方向）に対してそ
れぞれ所定角度傾斜した傾斜面（テーパー面〉を有して
おり、これに応じてロータ１０１の側面も回転軸方向に
対し傾斜した２つの傾斜面１０１ａ及び１０１ｂが突き
合わせられた形となっている。このロータ１０１の傾斜
面１０１ａ及び１０２ｂには、それぞれ第２図に示すよ
うに互いに逆向きのねじ溝１０１　ａ　’及び１０１ｂ
’が数条ずつ形成されている。なお、このねじ溝１０１
　ａ　’は第１図におけるロータ１０１の上から下に向
かってその購深さが徐々に浅くなるように形成されてい
る。

また、この実施例では、軸受装置として上下２組のラジ
アル磁気軸受１０３　ａ　、　１０３　ｂと、１組のス
ラスト磁気軸受１０４　ａ　、　１０４　ｂとを用いて
おり、回転手段として一般的なかご彫工相誘導モータ１
０５を用いている。この構成により、ロータ１０１　は
各磁気軸受の部分で完全に浮上し、ステータ１０２およ
び上下の各補助軸受１０６．１０７等と全く接触せず、
高速回転が可能になり、ロータの回転方向とねじ溝１０
１　ａ　’及び１０１　ｂ　’の巻き方向によって、軸
方向のどちらかへ流体を送るポンプ作用が生じる。

ねじ溝１０１　ａ　’　とねじ溝１０１　ｂ　’　とは
互いに逆向きであるから、ねじ溝１０１　ａ　’が真空
ポンプとしての作用をする時は、ねじ溝１０１　ｂ　’
はその作用を弱める作用、すなわち逆のポンプ作用をす
ることになる。従って、ねじ溝１０１ａ全体を正ねじ溝
部と呼び、ねじ溝１０１　ｂ　’全体を逆ねじ溝部とい
うことにする。逆ねじ溝部を設けたのは、低真空側に使
用圧力範囲を拡げるためであり、この領域を設けること
によって圧力の変化範囲が大幅に広くなるが、それにつ
いては後に詳述する。

また、図中１０８及び１０９は、ロータ１０１の挙動を
常時計測する非接触変位センサ、１１０はロータ１０１
の回転速度を非接触状態で計測する回転速度センサ（光
方式、ＭＲＥ、ギャップセンサ等のピックアップセンサ
）である。ロータ１０１が浮上状態で回転しているとき
には、非接触変位センサ１０８゜１０９からの出力によ
って、各磁気軸受１０３ａ１０３　ｂ　、　１０４にか
かる電圧や電流がＰＩＤ制御される。また同時に回転速
度センサ１１０からの出力によって、三相誘導モータ１
０５にかかる印加電圧が制御される。

次に、上記のように構成された真空ポンプの作用を説明
するにあたり、まず半導体製造装置における真空装置の
一例を第３図に示す。

１は半導体基板が収容される真空容器、２．３はそれぞ
れガス導入管に取り付けられた流量調節弁、２ａ、３ａ
は流量検出器、４は真空容器ｌ内の圧力を検出するダイ
ヤプラム式真空計等の圧力検出器である。５は本実施例
のねじ溝穴真空ポンプ、６はねじ溝穴真空ポンプ５のス
ラスト磁気軸受１０４に供給する信号を制御する制御装
置（詳細は後述する。）であり、制御装置６からの制御
信号によりロータ１０１の回転軸方向（スラスト方向）
への浮上量が制御される。この制御装置６は圧力検出器
４からの圧力信号と、ロータ１０１のスラスト方向への
浮上量を検出する非接触変位センサ１０９からの信号と
、真空容器ｌに供給される半導体ガスの流量を示す流量
検出器２ａ、３ａからの流量信号とに基づいて上記制御
信号をねじ溝穴真空ポンプ５のスラスト磁気軸受１０４
　ａ　、　１０４　ｂに与える。なお７は油回転ポンプ
、８．９．１０は空気圧式操作弁、１１は排気管である
。

ここで、第１図に示されたねじ溝穴真空ポンプ５と油回
転ポンプ７の各ポンプ作用を真空容器１の内圧制御との
関連で説明する。半導体製造用の真空容器１は、ねじ溝
穴真空ポンプ５で真空容器内を一度高真空まで引くこと
により大気中に含まれる水蒸気等のガスが排出され、そ
の後、流量調節弁２．３を介して反応ガス等を一定流量
だけ真空容器１へ流し続けると共に、ねじ溝穴真空ポン
プ５で真空容器１内の圧力を一定に保つのに必要なガス
量を真空容器１から引くことにより、真空容器１内の反
応ガスの流量と真空容器１内の圧力を一定に保つように
操作される。この状態で真空容器１内に搬入されたウェ
ハ等に薄膜が形成される。ねじ溝穴真空ポンプ５による
前記操作は、ウェハ等に一層の薄膜を形成するたびに行
われる。

前記操作との関連から、真空容器１側に設けられたねじ
溝穴真空ポンプ５及び次段に設けられた油回転ポンプ７
は次のように用いられる。ねじ溝穴真空ポンプ５におい
て、数段に設けられた溝深さと長いストロークにより吸
気口側圧力１０−”Ｐａ程度以下で、数１０１／ＳｅＣ
〜数１００１　／ｓｅａの排気速度を有し、半導体生成
前の真空容器１内のガス排出を行う。またねじ溝穴真空
ポンプ５は、吸気口側圧力１０−２〜１０−’Ｐａ程度
においても性能を発揮し、数１１０５ＣＣ〜数１１００
ＯＳＣＣの排気流量を有し、半導体製造中の反応ガス等
の排気作用を行う。また、油回転ポンプ７は、ねじ溝穴
真空ポンプ５等が排気効果を発揮することができる圧力
まで真空容器１を低真空に引く粗引きポンプであり、１
Ｑ２Ｐａ程度以上で性能を発揮する。

従って、真空容器１は先ず油回転ポンプ７により１０’
Ｐａ程度の低真空状態まで粗引きされ、その後、ねじ溝
穴真空ポンプ５によって、前述の通り、最初の半導体製
造前のガス排出のため高い真空状態まで引かれ、次に半
導体製造のための設定圧力となるよう内圧を調整される
。ただし、真空容器ｌ内の圧力を上記の設定圧力に制御
することにおいて、後述の如くねじ溝穴真空ポンプ５の
ロータ１０１のスラスト方向の浮上量の制御が行われる
。

次に、前述の如く真空容器１内の圧力を調整するねじ溝
穴真空ポンプ５のスラスト浮上量を制御するスラスト磁
気軸受制御装置６の具体的回路構戊を第４図に基づいて
説明する。第４図中−点鎖線で示された６の部分が前述
のスラスト磁気軸受制御装置である。スラスト磁気軸受
制御装置６は、Ｍ御演算回路２０１　とスラスト磁気軸
受駆動回路２０２とスラスト位置検出回路２０３　とか
ら構成される。

制御演算回路２０１には、圧力検出器４からの真空容器
１内の圧力に係る信号、スラスト位置検出回路２０３に
おいて上記の非接触変位センサ１０９の出力信号に基づ
いて検出されるスラスト浮上量に係る信号、流量調節弁
２．３の流量検出器２ａ。

３ａからのガス流量に係る信号がそれぞれ入力される。

制御回路２０１　はこれらの入力信号によって与えられ
るデータを参考にして、ねじ溝穴真空ポンプ５のロータ
浮上量が後述の如き予め定められた状態で変化するよう
に制御するためのスラスト目標値２０４を演算し、スラ
スト磁気軸受駆動回路２０２へ出力する。

ここでスラスト磁気軸受制御装置６によるスラスト方向
のロータの移動量と真空容器ｌ内の圧力変化の関係を第
５図に基づいて説明する。第５図は第１図及び第２図に
示すねじ溝穴真空ポンプのテーバ型ネジ溝ロータ１０１
の上段（正ねじ部）と、それに向き合うテーパ型ステー
タ１０２ａの拡大図である。ロータ１０１は前記スラス
ト磁気軸受制御装置６によりｈの範囲内でスラスト浮上
量が変化する。この変化量りに対しロータ１０１　とス
テータ１０２ａとのすき間の変化量Δδは、ロータ１０
１の傾斜角をαとすると、 Δδ＝ｈｓｉｎα　　　　　　　　・・・（１）（°、
°δ＝δ。＋△δ） となる。

第６図にロータ１０１　とステータ１０２ａのすき間δ
と排気流量との関係を示す。第６図よりロータ１０１　
とステータ１０２　とのすき間δを変化させることによ
り、排気流量を制御することができることがわかる。た
だし、すき間δを大きくとりすぎると、ポンプ作用がな
くなる。

また先に述べた真空容器１内の圧力に関する制御性につ
いて述べる。理想気体の状態方程式（真空に近い状態の
気体は十分に希薄であるので、理想気体であると考えて
よい。）の関係より、真空容器１内の状態方程式として Ｐ　：真空容器内圧力 Ｖｏ：真空容器内体積 Ｑｌ：ガス吸入体積流量 Ｑｏ：ガス排気体積流量 Ｒｇ：ガス定数 Ｔ　：真空容器内温度 が威り立つ。更にねじ溝穴真空ポンプ５の排気流量と吸
気口圧力との間には、第７図に示す関係がある。第７図
によれば、排気流量は、約１０’Ｐａ〜１０３Ｐａの吸
気口圧力に対し、はぼ一定であり、この範囲ではすき間
δのみの関数であると考えられるから、 Ｑ、＝に、δ＋に２　　　　　　　　　・・・（３）ｋ
、、に、；定数 とおくことができる。（３）式を（２）式に代入して ＝に３−に４δ　　　　　　　　　　　・・・（４）ｋ
３．’ｋａ；定数 なる関係が成り立つ。また（１〉式を（４）式に代入し Ｐ＝に３−に４（δｏ＋ｈｓｉｎα） ””ｋｓ　　ｋｓｈ　　　　　　　　　　　・・・（５
〉ｋｓ、ｋｓ；定数 が得られる。これより、先と同様に、真空容器１内の圧
力Ｐに関してフィードバックし、テーパ型ロータのスラ
スト浮上変化１ｈを制御することにより、排気流量を変
化させることができ、それによって真空容器１内の圧力
Ｐを制御することができる。

次に第１実施例のねじ溝穴真空ポンプの作用を第８図を
用いて説明する。まず真空容器内を高真空に排気する時
には第８図（ａ）の様にテーパ型ねじ溝ロータ１０１は
上方に位置し、すき間δ８は最小付近となる。高真空に
達した後、真空容器１内に反応ガス等を流し始めると、
テーパ型ねじ溝ロータ１０１は真空容器１内の圧力を一
定に保持させるために第８図（ｂ）の様に下方へ移動す
る。

そして真空容器１内圧力が設定圧力になる様にテーパ型
ねじ溝ロータ１０１のスラスト浮上量の制御を行う。こ
こでロータ１０１下段の逆ねじ溝部は、ロータが下側に
移動しδＬが小さくなるにつれ、逆方向にポンプ作用を
行うようになり、正ねじ溝部のポンプ作用を減殺するた
め、低真空側に圧力制御範囲を広げることができる。

第９図に本発明のテーパ型ねじ溝ポンプを用いた場合の
実験結果を示すと共に、第１０図に逆ねじ溝部を有しな
いテーパ型ネジ溝ロータを用いた場合の実験結果を示す
。ロータが最も上に位置する時が（１）、最も下に位置
する時が（２）で、移動距離はそれぞれ同じである。両
図から低真空側に圧力制御範囲が拡がっているのがわか
る。特に逆ねじ溝部を有する場合では、油回転ポンプ７
の性能（破線によって示す。）を減少させる方向に圧力
範囲が拡がっている。

第１１図は第２の実施例を示すもので、この場合はロー
タ１０１の下部（逆テーパ部〉外周にはねじ溝ＧＪ或せ
ず、その代りにステータ１０２ｂ内周にねじ溝１０２　
ｂ　’を形成している。

第１２図に示す第３の実施例はロータ１０１下部の逆テ
ーパ部外周、ステータ１０２ｂ内周のそれぞれに互いに
逆向きのねじ溝１０１ｂ’　、１０２ｂ’を形成してい
る。またロータ及びステータの形状は円錐台形に限らず
、それに近い種々の回転曲面を自由に組合せることがで
き、逆ネジ溝部の形状が、吸入側から排気側に向って連
続状に或いは階段状に変化するように構成（図示しない
）しても良い。

第１３図に示す第４の実施例は逆ねじ溝部を使用しない
で、代りにロータ１０１　によるチョーク作用を用いて
排気口１１１のコンダクタンスを小さくし、反応ガス等
の流れを制限することにより真空容器内の圧力が上昇し
、低真空側に圧力制御範囲が広がるようにしたものであ
る。第１３図にみられるように、ロータ１０１は逆ねじ
溝部を有しないが、その下端面１０１′に近接した位置
に排気口Ｈ１が開口するように設定される。チョーク作
用は、ロータ１０１が回転し、ねじ溝１０１　ａ　’の
ポンプ作用によって反応ガス等を流しながらロータ１０
１が軸方向下方に移動し、ロータ１０１の下端面によっ
て排気口１１１をふさぐことにより生じる。ロータ１０
１の下降が大きくなるほど、すき間δ８が大となってポ
ンプ作用が弱まるのに加えて、排気口１１１でのチョー
ク作用が大となり、低真空の側に傾むく。

また、圧力範囲を広げるために、逆ねじ溝とチョーク作
用を組合わせる（図示しない）ことも可能である。

第１４図に示す第５の実施例は、逆ねじ溝部１０１ａが
ロータ１０１の上部の傾斜面１０１ａに設けられると共
に、正ねじ溝部１０１　ｂ　’が下部の傾斜面１０１ｂ
に設けられたもので、ロータ１０１が上方へ移動した時
、油回転ポンプの性能を減少させる方向く第９図（２）
の方向）へ圧力範囲が拡がる。

第１５図に示す第６の実施例は、ロータ１０１Ｃが軸方
向には移動せず、代りにステータ１０２ｃがステッピン
グモータ１１２等の外部操作手段により軸方向に移動す
るようにしたもので、ロータが軸方向に移動しないため
、広域ターボ分子ポンプ１１３等と組合わせることが可
能となる。容量の制御は正ねじ溝部と逆ねじ溝部の釣合
いによっている点で、第１図に示した第１実施例などと
共通性がある。図中に示す１１４はステッピングモータ
１１２の回転をステータ１０２Ｃに伝える歯車、また、
１１５はハウジング１００とステータ１０２ｃの各一部
に設けられた螺子部である。

以上述べた各実施例では、ロータ１０１は、すべてその
内部に密閉して設けられたモータ１０５によって駆動さ
れるようになっているが、外部のモータにより軸を介し
て駆動するように設計することができることは言うでも
ない。

〔発明の効果〕

本発明の構成により、真空ポンプの排気容量を変化させ
、使用圧力範囲を大きくとることができる。したがって
真空容器内等の圧力を大幅に変更・調整することが可能
となるので、排気系に従来使用された可変圧力調整弁を
設ける必要がなくなり、排気系の構成を簡素化してコス
トの低減を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１実施例の全体構造を示す縦断正面図、第２
図はロータのみを示す正面図、第３図は応用例のシステ
ム全体を概括的に示す系統図、第４図は応用例のシステ
ム全体をより詳細に示す系統図、第５図は作用を説明す
るための構造部分の断面図、第６図及び第７図は作用を
説明するための特性線図、第８図は作動状態を説明する
ための比較図、第９図は本発明の作用効果を示す特性線
図、第１０図は比較対象の作用効果を示す特性線図、第
１１図は第２の実施例の全体構成を示す縦断正面図、第
１２図は第３の実施例の全体構造を示す縦断正面図、第
１３図は第４の実施例の全体構造を示す縦断正面図、第
１４図は第５の実施例の全体構造を示す縦断正面図、第
１５図は第６の実施例の全体構造を示す縦断正面図であ
る。 １０１・・・０−タ、１０１’・・・ロータの端面、１
０１　ａ　、　１０１　ｂ　−・・傾斜面、１０１ａ’
　　、１０１ｂ’−Ｄ−９（ＤねＬＪＦ、１０２・・・
ステータ、 １０２ａ　、１ｏ２ｂ・・−ス７−−９（Ｄ一部分、１
０２ａ’　、　１０２ｂ’　−・−スｆ−５１（Ｄネジ
Ｋ、１０４　ａ　、　１０４　ｂ・・・スラスト磁気軸
受、１１１・・・排気口。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、円錐台形又はそれに類似の回転体表面を有し原動機
   によって一方向に回転駆動されるロータと、前記ロータ
   を取囲む回転体内表面を有し回転方向には静止している
   ステータとを備えており、前記ロータ又は前記ステータ
   の少なくとも一方の前記表面にはねじ溝が設けられてお
   り、前記ロータと前記ステータの軸方向の相対的変位に
   よって排気容量が変化するようになっていると共に、前
   記ロータは円錐台形又はそれに類似した回転体表面が二
   つ軸方向につながった形をしており、前記ロータの二つ
   の回転体表面のそれぞれに対応して前記ロータ又は前記
   ステータの表面に設けられたねじ溝が互いに逆ねじの関
   係にあり、排気容量を変化させるために前記ロータと前
   記ステータとを軸方向に相対的に変位させたとき、前記
   ロータの二つの回転体表面の一方が前記ステータの一方
   の内表面に接近すると同時に、他方が前記ステータの他
   方の内表面から遠ざかることによって、前記ロータの二
   つの回転体表面によるそれぞれの排気容量が相反的に増
   減するように構成されていることを特徴とする可変容量
   型真空ポンプ。 ２、円錐台形又はそれに類似の回転体表面を有し原動機
   によって一方向に回転駆動されるロータと、前記ロータ
   を取囲む回転体内表面を有し回転方向には静止している
   ステータとを備えており、前記ロータ又は前記ステータ
   の少なくとも一方の前記表面にはねじ溝が設けられてお
   り、前記ロータと前記ステータの軸方向の相対的変位に
   よって排気容量が変化するようになっていると共に、前
   記ロータの一方の端面に近接した位置には排気口が設け
   られており、排気容量を減少させるように前記ロータと
   前記ステータとを軸方向に相対的に変位させたとき、前
   記ロータの前記端面が前記排気口を部分的に塞いで流れ
   に抵抗を与えるように構成されていることを特徴とする
   可変容量型真空ポンプ。