JPH03275641A - ヒドロキシビフェニル化合物及びその製造法 - Google Patents
ヒドロキシビフェニル化合物及びその製造法Info
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- JPH03275641A JPH03275641A JP2073288A JP7328890A JPH03275641A JP H03275641 A JPH03275641 A JP H03275641A JP 2073288 A JP2073288 A JP 2073288A JP 7328890 A JP7328890 A JP 7328890A JP H03275641 A JPH03275641 A JP H03275641A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はポリマー原料及び液晶原料として価値のある4
’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸の新規な中
間体及びその製造法、並びに該中間体から4’−ヒドロ
キシビフエニル−4−カルボン酸を製造する方法に関す
るものである。
’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸の新規な中
間体及びその製造法、並びに該中間体から4’−ヒドロ
キシビフエニル−4−カルボン酸を製造する方法に関す
るものである。
(従来の技l#)
4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸はポリエ
ステル等のポリマーや液晶の重要な製造原料として知ら
れており、従来から以下に示すような種々の製造法が提
案されている。
ステル等のポリマーや液晶の重要な製造原料として知ら
れており、従来から以下に示すような種々の製造法が提
案されている。
(イ)p−フェニルフェノールをメチル化して4−メト
キシビフェニルとし、フリーデルクラフッ反応によって
4′−メトキシ−4−アセチルビフェニルとし、次いで
酸化して4°−メトキシビフェニル−4−カルボン酸と
した後、臭化水素酸で処理して目的物を得る方法[J、
A、C,S、u、 1738(1936)]。
キシビフェニルとし、フリーデルクラフッ反応によって
4′−メトキシ−4−アセチルビフェニルとし、次いで
酸化して4°−メトキシビフェニル−4−カルボン酸と
した後、臭化水素酸で処理して目的物を得る方法[J、
A、C,S、u、 1738(1936)]。
(ロ)4−ヨード安息香酸メチルと4−ヨードアニソー
ルを反応させて4′−メトキシビフェニル−4−カルボ
ン酸メチルとし、エステルを加水分解後臭化水素酸で処
理して目的物を得る方法[Bu l l 、Che■。
ルを反応させて4′−メトキシビフェニル−4−カルボ
ン酸メチルとし、エステルを加水分解後臭化水素酸で処
理して目的物を得る方法[Bu l l 、Che■。
Soc、Japan、3J)、508(1957)]。
(ハ)4−ヒドロキシ安息香酸メチルを接触還元してシ
クロヘキサノン−4−カルボン酸メチルとし、次いでフ
ェノールと反応させて4,4−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサンカルボン酸メチルとした後、分
解・脱水素して目的物を得る方法(例えば特開昭62−
238235号)。
クロヘキサノン−4−カルボン酸メチルとし、次いでフ
ェノールと反応させて4,4−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサンカルボン酸メチルとした後、分
解・脱水素して目的物を得る方法(例えば特開昭62−
238235号)。
に)ビフェニルを沃素化して4,4′−ショートビフェ
ニルとし、加圧釜中で一酸化炭素と反応させて4′−ヨ
ードビフェニル−4−カルボン酸とした後、加圧釜中で
水酸化ナトリウムで処理して目的物を得る方法(例えば
特開昭63−99036号)。
ニルとし、加圧釜中で一酸化炭素と反応させて4′−ヨ
ードビフェニル−4−カルボン酸とした後、加圧釜中で
水酸化ナトリウムで処理して目的物を得る方法(例えば
特開昭63−99036号)。
(ホ)p−フェニルフェノールをN、N−ジメチルカル
バミン酸クロライドでカルバメート化した後、フリーデ
ルクラフッ触媒の存在下更にN、N−ジメチルカルバミ
ン酸クロライドでアミド化して4’−N、N−ジメチル
カルバモイルオキシビフェニル−4−N、N−ジメチル
カルボキサミドとし、加水分解して目的物を得る方法(
特開昭63−119440号)。
バミン酸クロライドでカルバメート化した後、フリーデ
ルクラフッ触媒の存在下更にN、N−ジメチルカルバミ
ン酸クロライドでアミド化して4’−N、N−ジメチル
カルバモイルオキシビフェニル−4−N、N−ジメチル
カルボキサミドとし、加水分解して目的物を得る方法(
特開昭63−119440号)。
しかしながら、これ等の方法は、目的物を得るまでの工
程が多い、操作が煩雑である、収率が低い、高価な原料
を必要とする、あるいは特殊な設備を要する等の工業的
に実施する上で問題点が多く、より経済性の高い有用な
製造法の確立が望まれていた。
程が多い、操作が煩雑である、収率が低い、高価な原料
を必要とする、あるいは特殊な設備を要する等の工業的
に実施する上で問題点が多く、より経済性の高い有用な
製造法の確立が望まれていた。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は上記のような欠点がなく、製造工程が簡単で操
作が容易かつ経済的であり、工業的に有利に4’−ヒド
ロキシビフエニル−4−カルボン酸を取得することを目
的とするものである。
作が容易かつ経済的であり、工業的に有利に4’−ヒド
ロキシビフエニル−4−カルボン酸を取得することを目
的とするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明者等は上記の目的を解決するために検討を重ねた
結果、p−フェニルフェノールを、特定の条件でトリク
ロロアセチルクロライド、トリクロロアセトニトリル又
は無水トリクロロ酢酸と反応させることにより、新規な
物質である4′−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチル
ビフェニルが容易に得られること、及びこの物質から容
易に4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸が製
造されることを確認し本発明を達成した。即ち、本発明
の要旨は、 0〉4′−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチルビフェ
ニル。
結果、p−フェニルフェノールを、特定の条件でトリク
ロロアセチルクロライド、トリクロロアセトニトリル又
は無水トリクロロ酢酸と反応させることにより、新規な
物質である4′−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチル
ビフェニルが容易に得られること、及びこの物質から容
易に4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸が製
造されることを確認し本発明を達成した。即ち、本発明
の要旨は、 0〉4′−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチルビフェ
ニル。
(2)p−フェニルフェノールを疎水性溶媒中において
、フリーデルクラフッ触媒の存在下トリクロロアセチル
クロライド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリク
ロロ酢酸と反応させることを特徴とする4′−ヒドロキ
シ−4−トリクロロアセチルビフェニルの製造法。
、フリーデルクラフッ触媒の存在下トリクロロアセチル
クロライド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリク
ロロ酢酸と反応させることを特徴とする4′−ヒドロキ
シ−4−トリクロロアセチルビフェニルの製造法。
(3) 4’−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチルビ
フェニルを加水分解することを特徴とする4’−ヒドロ
キシビフエニル−4−カルボン酸の製造法及び、(4)
p−フェニルフェノールを疎水性溶媒中において、フリ
ーデルクラフッ触媒の存在下トリクロロアセチルクロラ
イド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリクロロ酢
酸と反応させ、次いで加水分解することを特徴とする4
°−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸の製造法に
存する。
フェニルを加水分解することを特徴とする4’−ヒドロ
キシビフエニル−4−カルボン酸の製造法及び、(4)
p−フェニルフェノールを疎水性溶媒中において、フリ
ーデルクラフッ触媒の存在下トリクロロアセチルクロラ
イド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリクロロ酢
酸と反応させ、次いで加水分解することを特徴とする4
°−ヒドロキシビフェニル−4−カルボン酸の製造法に
存する。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明における4′−ヒドロキシ−4−トリクロロアセ
チルビフェニルは、下記(1)式で示される文献未載の
新規な化合物であり、後記実施例に示す諸物性値の測定
結果からその構造が確認された。
チルビフェニルは、下記(1)式で示される文献未載の
新規な化合物であり、後記実施例に示す諸物性値の測定
結果からその構造が確認された。
上記(1)式で示される4゛−ヒドロキシ−4−トリク
ロロアセチルビフェニルは、例えば以下に述へる方法に
より、p−フェニルフェノールを疎水性溶媒中において
フリーデルクラフッ触媒の存在下でトリクロロアセチル
クロライド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリク
ロロ酢酸と反応させることによって製造することができ
る。
ロロアセチルビフェニルは、例えば以下に述へる方法に
より、p−フェニルフェノールを疎水性溶媒中において
フリーデルクラフッ触媒の存在下でトリクロロアセチル
クロライド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリク
ロロ酢酸と反応させることによって製造することができ
る。
原料物質であるp−フェニルフェノール、トリクロロア
セチルクロライド、トリクロロアセトニトリル及び無水
トリクロロ酢酸は、何れも周知の方法により製造された
市販品を使用することができ、原料の使用割合は一般に
、p−フェニルフェノールに対してトリクロロアセチル
クロライド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリク
ロロ酢酸を1〜5倍モル、特に1.2〜2.5倍モル程
度使用するのが好ましい。また触媒としては、通常フリ
ーデルクラフッ反応用触媒として使用されている無水塩
化アルミニウム、無水塩化第二鉄、無水塩化亜鉛等のル
イス酸が挙げられるが、中でも無水塩化アルミニウムが
好ましい、触媒は、p−フェニルフェノールに対して1
〜5倍モル、好ましくは1.2〜2.5倍モル程度の量
が使用される。更に疎水性溶媒としては、モノクロロベ
ンゼン、O−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、塩化
メチレン、1.2−ジクロロエタン、二硫化炭素などの
フリーデルクラフッ反応に使用される一般的な疎水性溶
媒が使用される。
セチルクロライド、トリクロロアセトニトリル及び無水
トリクロロ酢酸は、何れも周知の方法により製造された
市販品を使用することができ、原料の使用割合は一般に
、p−フェニルフェノールに対してトリクロロアセチル
クロライド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリク
ロロ酢酸を1〜5倍モル、特に1.2〜2.5倍モル程
度使用するのが好ましい。また触媒としては、通常フリ
ーデルクラフッ反応用触媒として使用されている無水塩
化アルミニウム、無水塩化第二鉄、無水塩化亜鉛等のル
イス酸が挙げられるが、中でも無水塩化アルミニウムが
好ましい、触媒は、p−フェニルフェノールに対して1
〜5倍モル、好ましくは1.2〜2.5倍モル程度の量
が使用される。更に疎水性溶媒としては、モノクロロベ
ンゼン、O−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、塩化
メチレン、1.2−ジクロロエタン、二硫化炭素などの
フリーデルクラフッ反応に使用される一般的な疎水性溶
媒が使用される。
フリーデルクラフッ反応は一20℃から200℃までの
温度で行なうことができるが、好ましい反応温度は0〜
100℃である0反応終了後、反応混合物を常法に従い
氷水中に排出して触媒を分解し、デカンテーションなど
の方法により触媒分解物を含む水層を除去することによ
り、(1)式の化合物を含有する溶媒層が得られ、溶媒
層から溶媒を分離して目的物を単離することができる0
例えば(1)式の化合物が溶媒中に懸濁しているときは
濾取することにより、また溶媒中に溶解しているときは
溶媒を濃縮して析出した結晶を濾取することにより、(
1)式の粗4′−ヒドロキシー4−トリクロロアセチル
ビフェニルが得られ、これを再結晶等により処理して精
製することができる。
温度で行なうことができるが、好ましい反応温度は0〜
100℃である0反応終了後、反応混合物を常法に従い
氷水中に排出して触媒を分解し、デカンテーションなど
の方法により触媒分解物を含む水層を除去することによ
り、(1)式の化合物を含有する溶媒層が得られ、溶媒
層から溶媒を分離して目的物を単離することができる0
例えば(1)式の化合物が溶媒中に懸濁しているときは
濾取することにより、また溶媒中に溶解しているときは
溶媒を濃縮して析出した結晶を濾取することにより、(
1)式の粗4′−ヒドロキシー4−トリクロロアセチル
ビフェニルが得られ、これを再結晶等により処理して精
製することができる。
なお、上記の反応混合物中には、(1)式の4′−ヒド
ロキシ−4−トリクロロアセチルビフェニルの外に、下
記(2)式で示される4′−トリクロロアセチルオキシ
−4−トリクロロアセチルビフェニルの存在も確認され
るが、このものは触媒を分解除去後の溶媒層中には認め
られない。
ロキシ−4−トリクロロアセチルビフェニルの外に、下
記(2)式で示される4′−トリクロロアセチルオキシ
−4−トリクロロアセチルビフェニルの存在も確認され
るが、このものは触媒を分解除去後の溶媒層中には認め
られない。
この事実から、p−フェニルフェノールとトリク反応に
おいては、アシル化と同時にエステル化も一部生起して
(2)式の化合物を生成するが、このものは、触媒分解
の際に4゛−位のトリクロロアセチルオキシ基が加水分
解されてヒドロキシル基となり、(1)式の4゛−ヒド
ロキシ−4−トリクロロアセチルビフェニルに変化する
ものと推測される。
おいては、アシル化と同時にエステル化も一部生起して
(2)式の化合物を生成するが、このものは、触媒分解
の際に4゛−位のトリクロロアセチルオキシ基が加水分
解されてヒドロキシル基となり、(1)式の4゛−ヒド
ロキシ−4−トリクロロアセチルビフェニルに変化する
ものと推測される。
上述の方法により得られた(1)式の4゛−ヒドロキシ
−4−トリクロロアセチルビフェニルから4°−ヒドロ
キシビフェニル−4−カルボン酸を製造するζこは(1
)式の化合物を加水分解すればよい。
−4−トリクロロアセチルビフェニルから4°−ヒドロ
キシビフェニル−4−カルボン酸を製造するζこは(1
)式の化合物を加水分解すればよい。
加水分解には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭
酸カリウム等の塩基の水溶液が使用される。これ等の塩
基は一般に、(1)式の化合物に対して2〜lO倍モル
程度が使用され、加水分解の温度は室温〜100℃程度
が採用される。
酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭
酸カリウム等の塩基の水溶液が使用される。これ等の塩
基は一般に、(1)式の化合物に対して2〜lO倍モル
程度が使用され、加水分解の温度は室温〜100℃程度
が採用される。
加水分解処理により、(1)式の化合物は加水分解答れ
て4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸のアル
カリ塩が生成し、酸で中和することにより、目的とする
次の(3)式で示される遊離の4’−ヒドロキシビフエ
ニル−4−カルボン酸を得ることができる。
て4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸のアル
カリ塩が生成し、酸で中和することにより、目的とする
次の(3)式で示される遊離の4’−ヒドロキシビフエ
ニル−4−カルボン酸を得ることができる。
加水分解処理は、上記のように、フリーデルクラフッ反
応混合物から単離した(1)式の化合物について適用し
てもよいが、フリーデルクラフッ反応混合物中の触媒を
分解後、水層を除去して得られる(1)式の化合物を含
む溶媒層を、そのまま加水分解処理に適用することもで
き、工業的実施上からはむしろ有利である。この場合、
(1)式の化合物を含有する溶媒層に上記塩基の水溶液
を添加して加水分解を行なった後、溶媒層を分液除去し
、4゛−ヒドロキシビフヱニルー4−カルボン酸のアル
カリ塩を含有する水層を採取し、通常使用される酸で中
和することにより、目的とする遊離の4’−ヒドロキシ
ビフエニル−4−カルボン酸を得ることができる。
応混合物から単離した(1)式の化合物について適用し
てもよいが、フリーデルクラフッ反応混合物中の触媒を
分解後、水層を除去して得られる(1)式の化合物を含
む溶媒層を、そのまま加水分解処理に適用することもで
き、工業的実施上からはむしろ有利である。この場合、
(1)式の化合物を含有する溶媒層に上記塩基の水溶液
を添加して加水分解を行なった後、溶媒層を分液除去し
、4゛−ヒドロキシビフヱニルー4−カルボン酸のアル
カリ塩を含有する水層を採取し、通常使用される酸で中
和することにより、目的とする遊離の4’−ヒドロキシ
ビフエニル−4−カルボン酸を得ることができる。
(実施例)
以下に本発明を実施例について更に詳縞に説明するが、
本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例に限
られるものではない。
本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例に限
られるものではない。
実施例1
[4′−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチルビフェニ
ルの製造] 0−ジクロロベンゼン130■1に、p−フェニルフェ
ノール34.0 g(0,2モル〉及び無水塩化アルミ
ニウム58.7 g(0,44モル)を加え、室温で激
しく攪拌しながら、これにトリクロロアセチルクロライ
ド80、Og(0,44モル)を1.5時間かけて滴下
した後、室温で10時間反応を継続した。
ルの製造] 0−ジクロロベンゼン130■1に、p−フェニルフェ
ノール34.0 g(0,2モル〉及び無水塩化アルミ
ニウム58.7 g(0,44モル)を加え、室温で激
しく攪拌しながら、これにトリクロロアセチルクロライ
ド80、Og(0,44モル)を1.5時間かけて滴下
した後、室温で10時間反応を継続した。
反応混合物を氷水1 kg中に注入して激しく攪拌した
後、水層をデカンテーションにより分離して析出した結
晶を濾取し、水でよく洗浄した後、減圧下乾燥して4′
−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチルビフェニル52
.58(収率84%)を得た。このものをトルエンによ
り再結晶したものの融点、IH−NMR1IR吸収スペ
クトル、高分解能マススペクトル(HR−耶〉及び元素
分析値は次の通りであり、本物質の構造が同定された。
後、水層をデカンテーションにより分離して析出した結
晶を濾取し、水でよく洗浄した後、減圧下乾燥して4′
−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチルビフェニル52
.58(収率84%)を得た。このものをトルエンによ
り再結晶したものの融点、IH−NMR1IR吸収スペ
クトル、高分解能マススペクトル(HR−耶〉及び元素
分析値は次の通りであり、本物質の構造が同定された。
融点:162〜!66℃(分解)
IH−NMR(DMSO−ds):δ 9.8B(S、
IH)、8.25(d、2)1゜8.6H2)、7.8
5(d、2N、8.682)、7.66(d、2N、8
.6H2)。
IH)、8.25(d、2)1゜8.6H2)、7.8
5(d、2N、8.682)、7.66(d、2N、8
.6H2)。
6.94(d、2N、8.682)
IR(KBr):3540 cm−1(νoH)、1
690 cm−’(νco)HR−MS:C1481
102CI3.M會理論値313.9670測定[31
3,9649 元素分析Wi :C14H902C13C(%)
H(%) 理論II 53.28 2.87測定II
53.13 2.84実施例2 [4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸の製造
] 実施例1で得た4′−ヒドロキシ−4−トリクロロアセ
チルビフェニルの結晶48.1 g<0.147モル)
を15%水酸化カリウム水溶液330 i+I中に添加
し、60’Cで2時間攪拌して加水分解反応を行なった
。次いで反応液に活性炭4gを加えて濾過し、濾液に濃
硫酸を滴下して液性をpH2に調整し、析出した結晶を
濾取、乾燥して4’−ヒドロキシビフエニル−4−カル
ボン酸27.3 g(収率87%)を得た0本物質のH
PLC純度は98.7%であった。
690 cm−’(νco)HR−MS:C1481
102CI3.M會理論値313.9670測定[31
3,9649 元素分析Wi :C14H902C13C(%)
H(%) 理論II 53.28 2.87測定II
53.13 2.84実施例2 [4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸の製造
] 実施例1で得た4′−ヒドロキシ−4−トリクロロアセ
チルビフェニルの結晶48.1 g<0.147モル)
を15%水酸化カリウム水溶液330 i+I中に添加
し、60’Cで2時間攪拌して加水分解反応を行なった
。次いで反応液に活性炭4gを加えて濾過し、濾液に濃
硫酸を滴下して液性をpH2に調整し、析出した結晶を
濾取、乾燥して4’−ヒドロキシビフエニル−4−カル
ボン酸27.3 g(収率87%)を得た0本物質のH
PLC純度は98.7%であった。
実施例3
[4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸の一貫
製造] 0−ジクロロベンゼン50雪lに、p−フェニルフェノ
ール8.5 g(0,05モル)及び無水塩化アルミニ
ウム14.7 g(0,11モル)を加え、室温で激し
く攪拌しながら、これにトリクロロアセチルクロライド
20g(0,11モル)を徐々に滴下した後、室温で1
0時間反応を継続した0反応終了後、反応混合物を氷水
400g中に注入して充分攪拌したのち静置した。
製造] 0−ジクロロベンゼン50雪lに、p−フェニルフェノ
ール8.5 g(0,05モル)及び無水塩化アルミニ
ウム14.7 g(0,11モル)を加え、室温で激し
く攪拌しながら、これにトリクロロアセチルクロライド
20g(0,11モル)を徐々に滴下した後、室温で1
0時間反応を継続した0反応終了後、反応混合物を氷水
400g中に注入して充分攪拌したのち静置した。
デカンテーションにより水層を除去し、0−ジクロロベ
ンゼン層を400 mlの水で洗浄して4′−ヒドロキ
シ−4−トリクロロアセチルビフェニルを含有する0−
ジクロロベンゼン懸濁液を得た。
ンゼン層を400 mlの水で洗浄して4′−ヒドロキ
シ−4−トリクロロアセチルビフェニルを含有する0−
ジクロロベンゼン懸濁液を得た。
次いで、この懸濁液に7%水酸化カリウム水溶液240
gを添加し、室温で5時間攪拌して加水分解を行なった
0反応終了後、O−ジクロロベンゼン層を分液して除去
し、得られた水層に希硫酸を加えて液性をpH11とし
、更に活性炭1.Og&添加して攪拌して濾過した。濾
液を50℃に加熱し、これに希硫酸を滴下して液性をp
al 2に調整した後、濾過して粗製の4’−ヒドロキ
シビフエニル−4−カルボン酸を得た。この粗製品を水
酸化カリウム水溶液に溶解し、活性炭により脱色濾過し
、濾液にS硫酸を加えて液性をpH2に調整して再沈濶
精製を行なって、HPLC純度99.0%の4°−ヒド
ロキシビフェニル−4−カルボン酸8.1 g(収率7
5.7%)を得た。
gを添加し、室温で5時間攪拌して加水分解を行なった
0反応終了後、O−ジクロロベンゼン層を分液して除去
し、得られた水層に希硫酸を加えて液性をpH11とし
、更に活性炭1.Og&添加して攪拌して濾過した。濾
液を50℃に加熱し、これに希硫酸を滴下して液性をp
al 2に調整した後、濾過して粗製の4’−ヒドロキ
シビフエニル−4−カルボン酸を得た。この粗製品を水
酸化カリウム水溶液に溶解し、活性炭により脱色濾過し
、濾液にS硫酸を加えて液性をpH2に調整して再沈濶
精製を行なって、HPLC純度99.0%の4°−ヒド
ロキシビフェニル−4−カルボン酸8.1 g(収率7
5.7%)を得た。
実施例4
実施例3において、溶媒として使用した0−ジクロロベ
ンゼンの代りに塩化メチレンを使用し、かつ反応温度を
0〜5℃とした以外は実施例3と同様の処理を行なって
HPLC純度98.8%の4’−ヒドロキシビフエニル
−4−カルボン酸7.2 g(収率67.3%)を得た
。
ンゼンの代りに塩化メチレンを使用し、かつ反応温度を
0〜5℃とした以外は実施例3と同様の処理を行なって
HPLC純度98.8%の4’−ヒドロキシビフエニル
−4−カルボン酸7.2 g(収率67.3%)を得た
。
実施例5
p−フェニルフェノール8.5 g(0,05モル)、
無水塩化アルミニウム20 g(0,15モル)及びト
リクロロアセトニトリル14.4 g(0,1モル)を
クロロベンゼン26−1中に入れ、室温でよく攪拌し、
乾燥塩化水素を吹き込みながら24時間反応を継続した
。反応終了後、反応混合物を氷水400 g中に注入し
て充分攪拌したのち静置した。水層をデカンテーション
により除去し、クロロベンゼン層を水400 mlで洗
浄した。次いでこのクロロベンゼン溶液に、7%水酸化
カリウム水溶液240gを加え、室温で5時間攪拌して
加水分解した。加水分解反応終了後、実施例3と同様の
処理を行なって、)IPLC純度98.0%の4’−ヒ
ドロキシビフエニル−4−カルボン酸4.38(収率4
0%)を得た。
無水塩化アルミニウム20 g(0,15モル)及びト
リクロロアセトニトリル14.4 g(0,1モル)を
クロロベンゼン26−1中に入れ、室温でよく攪拌し、
乾燥塩化水素を吹き込みながら24時間反応を継続した
。反応終了後、反応混合物を氷水400 g中に注入し
て充分攪拌したのち静置した。水層をデカンテーション
により除去し、クロロベンゼン層を水400 mlで洗
浄した。次いでこのクロロベンゼン溶液に、7%水酸化
カリウム水溶液240gを加え、室温で5時間攪拌して
加水分解した。加水分解反応終了後、実施例3と同様の
処理を行なって、)IPLC純度98.0%の4’−ヒ
ドロキシビフエニル−4−カルボン酸4.38(収率4
0%)を得た。
(発明の効果)
本発明によれば、容易かつ経済的に入手できるρ−フェ
ニルフェノールを出発原料とし、アシル化処理と加水分
解処理のみの極めて簡単かつ容易な操作によって、ポリ
マーや液晶の重要な製造原料である4’−ヒドロキシビ
フエニル−4−カルボン酸を製造することができるので
、本物質の工業的生産に寄与するところは極めて大きい
。
ニルフェノールを出発原料とし、アシル化処理と加水分
解処理のみの極めて簡単かつ容易な操作によって、ポリ
マーや液晶の重要な製造原料である4’−ヒドロキシビ
フエニル−4−カルボン酸を製造することができるので
、本物質の工業的生産に寄与するところは極めて大きい
。
Claims (4)
- (1)4’−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチルビフ
ェニル。 - (2)p−フェニルフェノールを疎水性溶媒中において
、フリ−デルクラフツ触媒の存在下トリクロロアセチル
クロライド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリク
ロロ酢酸と反応させることを特徴とする4’−ヒドロキ
シ−4−トリクロロアセチルビフェニルの製造法。 - (3)4’−ヒドロキシ−4−トリクロロアセチルビフ
ェニルを加水分解することを特徴とする4’−ヒドロキ
シビフエニル−4−カルボン酸の製造法。 - (4)p−フェニルフェノールを疎水性溶媒中において
、フリ−デルクラフツ触媒の存在下トリクロロアセチル
クロライド、トリクロロアセトニトリル又は無水トリク
ロロ酢酸と反応させ、次いで加水分解することを特徴と
する4’−ヒドロキシビフエニル−4−カルボン酸の製
造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2073288A JPH03275641A (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | ヒドロキシビフェニル化合物及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2073288A JPH03275641A (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | ヒドロキシビフェニル化合物及びその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03275641A true JPH03275641A (ja) | 1991-12-06 |
Family
ID=13513813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2073288A Pending JPH03275641A (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | ヒドロキシビフェニル化合物及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03275641A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017209458A1 (ko) * | 2016-06-01 | 2017-12-07 | (주)위즈켐 | 4'-히드록시-4-비페닐카르복실산의 신규 제조 방법 |
CN115650840A (zh) * | 2022-12-29 | 2023-01-31 | 中节能万润股份有限公司 | 一种4,4’-二苯醚二甲酸的制备方法 |
-
1990
- 1990-03-26 JP JP2073288A patent/JPH03275641A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017209458A1 (ko) * | 2016-06-01 | 2017-12-07 | (주)위즈켐 | 4'-히드록시-4-비페닐카르복실산의 신규 제조 방법 |
KR20170136165A (ko) * | 2016-06-01 | 2017-12-11 | (주)위즈켐 | 4'-히드록시-4-비페닐카르복실산의 신규 제조 방법 |
CN115650840A (zh) * | 2022-12-29 | 2023-01-31 | 中节能万润股份有限公司 | 一种4,4’-二苯醚二甲酸的制备方法 |
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