JPH03274505A - Method for forming coloring base layer - Google Patents
Method for forming coloring base layerInfo
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Landscapes
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、固体撮像素子の有機カラーフィルターをゼラ
チンによって形成する染色ベース層形成方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a dyed base layer forming method for forming an organic color filter of a solid-state imaging device using gelatin.
従来の技術
従来のこの種の染色ベース層形成方法は第３図（ａ）〜
（ｅ）に示す方法が一般的であり、図において、１は固
体撮像素子が形成されている基板、２はパターン露光済
みゼラチン層、３は現像液、４はパターン化したゼラチ
ンからなる染色ベース層、５はリンス液、６は現像液と
リンス液との混合液である。Prior art The conventional method for forming this type of dyed base layer is shown in Fig. 3(a) -
The method shown in (e) is common, and in the figure, 1 is a substrate on which a solid-state image sensor is formed, 2 is a pattern-exposed gelatin layer, 3 is a developer, and 4 is a dyed base made of patterned gelatin. The layer 5 is a rinsing liquid, and 6 is a mixture of a developer and a rinsing liquid.
上記構成において、以下その形成方法について説明する
。In the above structure, a method of forming the structure will be explained below.
第３図（ａ）に示すように、固体撮像素子が形成されて
いる基板１上のパターン露光済みゼラチン層２に現像液
３を吹きつけるなどして現像処理を施すことにより、同
図（ｂ）に示すようにパターン化したゼラチンからなる
染色ベース層４が形成される。この時染色ベース層４の
上には現像液３が残存した状態となっている。つぎに同
図（ｅ）に示すように現像液３が残存している染色ベー
ス層４の上にリンス液５を吹きつけるなどしてリンス処
理を施すとリンス液５は残存している現像液３と混合し
、その混合液６が染色ベース層４上に残る。さらにリン
ス液５を吹きつけると同図（ｄ）に示すように混合液６
は洗い流され染色ベース層４上にはリンス液５のみが残
存した状態になる。つぎにこのリンス液５を除去するこ
とにより同［Ｍ （ｅ）に示すように染色ベース層４が
基板１上に形成されることになる。As shown in FIG. 3(a), the pattern-exposed gelatin layer 2 on the substrate 1 on which the solid-state image sensor is formed is subjected to a development process by spraying a developer 3, etc. (b). ), a dyed base layer 4 made of patterned gelatin is formed. At this time, the developer 3 remains on the dyeing base layer 4. Next, as shown in FIG. 5(e), a rinsing process is performed by spraying a rinsing liquid 5 onto the dyed base layer 4 in which the developer 3 remains. 3, and the mixed solution 6 remains on the dyed base layer 4. Further, when rinsing liquid 5 is sprayed, mixed liquid 6 appears as shown in the same figure (d).
is washed away, leaving only the rinsing liquid 5 on the dyed base layer 4. Next, by removing this rinsing liquid 5, a dyed base layer 4 is formed on the substrate 1 as shown in [M(e)].
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のような形成方法では、現像液３がゼ
ラチンからなる染色ベース層４の上に残存している状態
のところへリンス液５を吹きつけてリンス処理をしてい
るため、現像液３とリンス液５との混合液６によって染
色ベース層４にじみが発生するという課題があった。Problems to be Solved by the Invention However, in the above-described forming method, the rinsing liquid 5 is sprayed onto the area where the developer 3 remains on the dyed base layer 4 made of gelatin for rinsing. Therefore, there was a problem in that the dyed base layer 4 bleeds due to the mixed solution 6 of the developer 3 and the rinse solution 5.
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、しみ等の
外観異常が発生しない染色ベース層を提供するものであ
る。The present invention solves the above-mentioned conventional problems and provides a dyed base layer that does not cause appearance abnormalities such as stains.
課題を解決するための手段
本発明は上記目的を達成するために、現像処理後現像液
を基板上に吹きつけながら基板を高速回転し、高回転数
に達した時現像液の吹きつけを停止して瞬間的に現像液
を９０％以上除去した後、リンス液を吹きつけてリンス
処理を行なうものである。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present invention rotates the substrate at high speed while spraying a developer onto the substrate after development processing, and stops spraying the developer when the rotation speed reaches a high speed. After removing 90% or more of the developer instantaneously, a rinsing solution is sprayed onto the surface of the film to perform a rinsing process.
または別の方法上して現像処理をした後、現像液とリン
ス液の双方に可溶な溶液または希薄リンス液（以下リン
ス前処理液という）でリンス前処理を施し、その後でリ
ンス液による、リンス本処理を行うものである。Alternatively, after developing using another method, pre-rinsing with a solution or dilute rinsing solution (hereinafter referred to as pre-rinsing solution) that is soluble in both the developer and the rinsing solution, and then using the rinsing solution. This is to perform the main rinse process.
作用
本発明は上記した構成により、パターン化したゼラチン
からなる染色ベース層上に残存している現像液を基板の
高速回転等によって振り切り、９０％以上除去した後リ
ンス処理を行なうため、または現像処理後のリンス本処
理の前に、リンス前処理液にてリンス前処理を施した後
に、リンス液５にてリンス本処理を行うため、現像液と
リンス液との混合がなくなり、したがって形成された染
色ベース層の混合液によるじみの発生を防止することが
できるものである。Effect of the present invention With the above-described configuration, the developer solution remaining on the dyed base layer made of patterned gelatin is shaken off by high-speed rotation of the substrate, etc., and after 90% or more is removed, a rinsing treatment is performed or a development treatment is performed. Before the subsequent main rinsing process, the main rinsing process is performed using the rinsing liquid 5 after the pre-rinsing process is performed using the rinsing pre-processing liquid, so there is no mixing between the developer and the rinsing liquid, and thus the formed It is possible to prevent the occurrence of bleeding due to the mixed liquid of the dyed base layer.
実施例
以下本発明の実施例について第１図、第２図とともに第
３図と同一部分には同一番号を付して詳しい説明を省略
し、相違する点について説明する。EXAMPLES Below, regarding the embodiments of the present invention, the same parts as in FIGS. 1 and 2 as well as in FIG.
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明の一実施例における染色
ベース層形成方法を示すものであり、第１図（ａ）は第
３図（ａ）と同じである。FIGS. 1(a) to 1(e) show a method of forming a dyed base layer in one embodiment of the present invention, and FIG. 1(a) is the same as FIG. 3(a).
そして、同図（ｂ）に示すように染色ベース層４の上に
残存している現像液３を基板１の高速回転による遠心力
によって振り切るなどして同図（Ｃ）に示すように９０
％以上除去する。この場合、基板１上に残存する現像液
３の乾燥によるじみの発生を防止するため、現像液３を
基板１が高回転数に達するまで染色ベース層４上に吹き
つけて基板１の表面を乾燥しないようにし、高回転数に
達した時点で現像液３の吹きつけを止め、瞬間的に現像
液３を遠心力で振り切り除去する。次に同図（ｄ）に示
すように、リンス液５を吹きつけるなどしてリンス処理
を行う。これにより、現像液３とリンス液５との混合が
生じることはな（なる。次に染色ベース層４上のリンス
液５を同図（ｅ）に示すように除去することによりじみ
の発生しない染色へ−ス層４が形成される。Then, as shown in Figure (B), the developer 3 remaining on the dyeing base layer 4 is shaken off by the centrifugal force caused by the high speed rotation of the substrate 1, and then 90°
% or more removed. In this case, in order to prevent smearing due to drying of the developer 3 remaining on the substrate 1, the developer 3 is sprayed onto the dyeing base layer 4 until the substrate 1 reaches a high rotation speed to coat the surface of the substrate 1. Avoid drying, stop spraying the developer 3 when the rotational speed reaches a high speed, and instantly shake off the developer 3 by centrifugal force and remove it. Next, as shown in FIG. 4(d), a rinsing process is performed by spraying a rinsing liquid 5 or the like. As a result, mixing of the developer solution 3 and the rinse solution 5 will not occur.Next, by removing the rinse solution 5 on the dyeing base layer 4 as shown in FIG. A dyed heath layer 4 is formed.
なお、本実施例ではゼラチンを用いた染色へ一ス層４に
ついて説明したが、染色ベース層を形成する主な材料と
してカゼイン、グリユーなどの天然タンパク質９合成タ
ンパク質を使用した場合についても同じ効果が得られる
ものである。Although this example describes the dyeing base layer 4 using gelatin, the same effect can be obtained when natural proteins 9 synthetic proteins such as casein and gryu are used as the main material for forming the dyeing base layer. That's what you get.
次に本発明の他の実施例を第２図（ａ）〜（ｅ）を用い
て説明する。１２図において、前記実施例と相違する点
は高速回転による遠心力で現像液を除去する工程に代え
てリンス前処理液７によるリンス前処理によって現像液
を除去する構成としたことにあり、この構成により同図
（Ｃ）に示すように染色ベース層４上に残存している現
像液３にリンス前処理液７を吹きつけるなどしてリンス
前処理を施し、この時、染色ベース層４上には、リンス
前処理液７と現像液３との混合液８が残存するが、この
混合液８はリンス液５に溶は易い溶液であり、同図ω）
に示すようにリンス液５を吹きつけるなどしてリンス本
処理を施すことによって混合液８は容易に除去され、つ
ぎに染色ベース層４上のリンス液５を除去することによ
って、同図（ｅ）に示すようにしみなどが発生しない染
色ベース層４を得ることができるものである。Next, another embodiment of the present invention will be described using FIGS. 2(a) to 2(e). In Fig. 12, the difference from the above embodiment is that instead of the step of removing the developer using centrifugal force due to high-speed rotation, the developer is removed by pre-rinsing treatment using a pre-rinsing treatment liquid 7. Depending on the configuration, as shown in the same figure (C), rinsing pretreatment is performed by spraying a rinsing pretreatment liquid 7 onto the developer 3 remaining on the dyed base layer 4. , a mixture 8 of the rinse pretreatment liquid 7 and the developer 3 remains, but this mixture 8 is a solution that easily dissolves in the rinse liquid 5 (ω) in the same figure.
The mixed liquid 8 is easily removed by spraying the rinsing liquid 5 on the main rinsing process as shown in the figure (e). ), it is possible to obtain a dyed base layer 4 that does not cause stains or the like.
発明の効果
以上の実施例から明らかなように本発明によれば、基板
上に形成された染色ベース層の上に残存した現像液を高
速回転による遠心力で振り切って除去するかまたはリン
ス前処理液によって現像液を除去することにより、しみ
等の外観異常のないカラーフィルターを構成するじみの
ない染色ベース層を形成することができる。Effects of the Invention As is clear from the above embodiments, according to the present invention, the developer remaining on the dyed base layer formed on the substrate is removed by shaking it off using centrifugal force due to high-speed rotation, or by pre-rinsing treatment. By removing the developing solution with a liquid, it is possible to form a stain-free dyed base layer constituting a color filter without any abnormal appearance such as stains.
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明の一実施例における工程
を示す染色ベース層の要部断面図、第２図（ａ）〜（ｅ
）は本発明の他の実施例における工程を示す染色ベース
層の要部断面図、第３図（ａ）〜＜ｅ＞は従来例の工程
を示す染色ベース層の要部断面図である。
１・・・・・・基板、２・・・・・・パターン露光済み
ゼラチン層、３・・・・・・現像液、４・・・・・・染
色ベース層、５・・・・・・リンス液。FIGS. 1(a) to (e) are sectional views of essential parts of a dyed base layer showing steps in an embodiment of the present invention, and FIGS. 2(a) to (e)
) is a sectional view of a main part of a dyed base layer showing steps in another embodiment of the present invention, and FIGS. 3(a) to <e> are sectional views of main parts of a dyed base layer showing steps of a conventional example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate, 2... Pattern-exposed gelatin layer, 3... Developer, 4... Dyed base layer, 5... Rinse liquid.
Claims (2)
を現像、リンス処理する染色ベース層形成方法において
、現像処理後現像液を吹きつけながら前記基板を高速回
転し、高回転数に達したとき現像液の吹きつけを停止し
て瞬間的に現像液を前記基板上より除去した後、リンス
液によってリンス処理を行う染色ベース層形成方法。(1) In a dyed base layer forming method in which a pattern-exposed gelatin layer formed on a substrate is developed and rinsed, the substrate is rotated at high speed while spraying a developer after the development process, and when a high rotational speed is reached. A method for forming a dyed base layer, in which spraying of the developer is stopped and the developer is instantaneously removed from the substrate, and then a rinsing treatment is performed using a rinsing solution.
を現像、リンス処理する染色ベース層形成方法において
、現像処理工程とリンス処理工程の間に、現像液とリン
ス液の双方に可溶な溶液または希薄リンス液にてリンス
前処理を施し、その後でリンス液によりリンス本処理を
行う染色ベース層形成方法。(2) In a dyed base layer forming method in which a pattern-exposed gelatin layer formed on a substrate is developed and rinsed, a solution soluble in both the developer and the rinse solution is added between the development process and the rinsing process. Alternatively, a method for forming a dyed base layer in which a pre-rinsing treatment is performed with a dilute rinsing liquid, and then a main rinsing treatment is performed with a rinsing liquid.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7607290A JP2624353B2 (en) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | Dyeing base layer forming method |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03274505A true JPH03274505A (en) | 1991-12-05 |
| JP2624353B2 JP2624353B2 (en) | 1997-06-25 |
Family
ID=13594596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7607290A Expired - Lifetime JP2624353B2 (en) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | Dyeing base layer forming method |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2624353B2 (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63143970A (en) * | 1986-12-09 | 1988-06-16 | Tokyo Electron Ltd | Substrate mounting stand |
| JPS63164217A (en) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Toshiba Corp | Method and apparatus for developing photoresist film |
| JPH01214863A (en) * | 1988-02-23 | 1989-08-29 | Toshiba Corp | Developing device |
-
1990
- 1990-03-26 JP JP7607290A patent/JP2624353B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63143970A (en) * | 1986-12-09 | 1988-06-16 | Tokyo Electron Ltd | Substrate mounting stand |
| JPS63164217A (en) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Toshiba Corp | Method and apparatus for developing photoresist film |
| JPH01214863A (en) * | 1988-02-23 | 1989-08-29 | Toshiba Corp | Developing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2624353B2 (en) | 1997-06-25 |
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