JPH03271140A - Producing apparatus of optical fiber - Google Patents

Producing apparatus of optical fiber

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JPH03271140A
JPH03271140A JP2068619A JP6861990A JPH03271140A JP H03271140 A JPH03271140 A JP H03271140A JP 2068619 A JP2068619 A JP 2068619A JP 6861990 A JP6861990 A JP 6861990A JP H03271140 A JPH03271140 A JP H03271140A
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tube
reaction tube
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幸司 鶴崎
Keiji Ohashi
圭二 大橋
Takeshi Shimomichi
毅 下道
Shinji Araki
荒木 真治
Hideo Suzuki
秀雄 鈴木
Yutaka Katsuyama
豊 勝山
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  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To make it possible to spin an optical fiber having carbon coating film with sufficient film thickness at a high speed by lengthening and providing an optical fiber bare wire-introducing tube from an optical fiber bare wire- introducing hole of a reaction tube to the vicinity of heating element. CONSTITUTION:An optical fiber bare wire 1 which is melt-spun in an optical fiber spinning furnace 2 is introduced into a cooling cylinder 3 to cool the optical fiber bare wire 1 and then passed through an optical fiber bare wire- introducing tube 12 which is lengthened until the vicinity of heating element 6 toward a reaction tube 5 and provided in one end to which a raw material gas feed tube 7 is connected to introduce the bare wire into a reaction tube 5 of CVD reaction furnace 4. A hydrocarbon compound fed from the feed tube 7 is thermally decomposed by a heating element 6 to form a carbon coating film on the surface of bare wire 1 and then the treated wire is introduced into a resin liquid coating device 10 to apply the resin liquid to the wire and the coated wire is cured in a curing device 11 to form a protective coating film.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、表面に炭素被膜が形成された光ファイバを
、高速で紡糸可能とする製造装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a manufacturing apparatus that is capable of spinning an optical fiber having a carbon coating formed on its surface at high speed.

[従来の技術] 石英系光ファイバは、水素と接触するとファイバ内に拡
散した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大し
1.さらにドーパントとして含有されているP、O,、
G e Ox、B t O3などが水素と反応しOH基
としてファイバガラス内に取り込まれるため、OH基の
吸収による伝送損失も増大してしまう問題があった。
[Prior Art] When a silica-based optical fiber comes into contact with hydrogen, absorption loss due to molecular vibration of hydrogen molecules diffused into the fiber increases.1. Furthermore, P, O,, which is contained as a dopant,
Since G e Ox, B t O3, etc. react with hydrogen and are incorporated into the fiber glass as OH groups, there is a problem in that transmission loss due to absorption of OH groups also increases.

このような弊害に対処するため、水素吸収能を有する液
状の組成物を光ケーブル内に充填する方法(特願昭61
−251808号)などが考えられているが、その効果
が不十分であるうえ、構造が複雑となって経済的にも問
題がある。
In order to deal with such adverse effects, a method of filling an optical cable with a liquid composition having hydrogen absorption ability (Japanese Patent Application No. 1983) was proposed.
-251808), but the effect is not sufficient and the structure is complicated, resulting in economical problems.

このような問題を解決するため、最近化学気相成長法(
以下、CVD法と略称する)によって光ファイバ表面に
炭素被膜を形成し、これによって光ファイバの耐水素特
性を向上させうろことが発表されている。
In order to solve these problems, chemical vapor deposition method (
It has been announced that a carbon film can be formed on the surface of an optical fiber by a CVD method (hereinafter abbreviated as CVD method), thereby improving the hydrogen resistance properties of the optical fiber.

この方法は紡糸炉で紡糸された光ファイバ裸線を加熱炉
内に挿入すると共に、炭化水素化合物等の原料化合物を
不活性ガス等によりガス化するとともに希釈してなる原
料ガスを供給し、この原料ガスを熱分解させて光ファイ
バ裸線表面に炭素被膜を形成させる方法である。
In this method, a bare optical fiber spun in a spinning furnace is inserted into a heating furnace, and a raw material gas such as a hydrocarbon compound is gasified and diluted with an inert gas, etc., and a raw material gas is supplied. This is a method of thermally decomposing raw material gas to form a carbon film on the surface of a bare optical fiber.

従来、上記CVD法により光ファイバ裸線表面に炭素被
膜を形成するには、第3図に示したような装置が用いら
れている。
Conventionally, an apparatus as shown in FIG. 3 has been used to form a carbon film on the surface of a bare optical fiber by the above-mentioned CVD method.

第3図中、符号lは光ファイバ裸線である。光ファイバ
裸線lは、光ファイバ母材(図示せず)を光ファイバ紡
糸炉2内で溶融紡糸したもので、光ファイバ裸線1は紡
糸されると共に、光ファイバ紡糸炉2の下段に設けられ
たCVD反応炉4内へ冷却筒3を経て供給されるように
なっている。冷却筒3は概略円筒体であって、一端に不
活性ガス等の冷媒供給口3aが、他端に冷媒排気口がそ
れぞれ接続されてなるものである。この冷却筒3は上段
の光ファイバ紡糸炉2で溶融紡糸された高温の光ファイ
バ裸線1を適宜温度にまで冷却するとともに、反応管5
上部のシールを行うためのものである。
In FIG. 3, reference numeral 1 indicates a bare optical fiber. The bare optical fiber 1 is obtained by melt-spinning an optical fiber preform (not shown) in an optical fiber spinning furnace 2. It is supplied into the CVD reactor 4 through the cooling cylinder 3. The cooling cylinder 3 has a generally cylindrical shape, and has a refrigerant supply port 3a such as an inert gas connected to one end and a refrigerant exhaust port connected to the other end. This cooling tube 3 cools the high-temperature bare optical fiber 1 melt-spun in the upper optical fiber spinning furnace 2 to an appropriate temperature, and also cools the reaction tube 5 to an appropriate temperature.
This is for sealing the top.

CVD反応炉4は、上段の光ファイバ紡糸炉2内て紡糸
された光ファイバ裸線1表面に炭素被膜をCVD法によ
って形成するためのものであって、その内部にてCVD
反応を進行させる概略円筒状の反応管5と、この反応管
5を加熱する発熱体6とから構成されている。この反応
管5の上部と下部には、それぞれ図示せぬ光ファイバ裸
線導入孔と光ファイバ裸線導出孔とが設けられており、
光ファイバ紡糸炉2にて紡糸された光ファイバ裸線lを
挿通可能となっている。
The CVD reactor 4 is for forming a carbon film on the surface of the bare optical fiber 1 spun in the upper optical fiber spinning furnace 2 by the CVD method.
It is comprised of a generally cylindrical reaction tube 5 that allows the reaction to proceed, and a heating element 6 that heats the reaction tube 5. A bare optical fiber introduction hole and a bare optical fiber outlet hole (not shown) are provided at the upper and lower parts of the reaction tube 5, respectively.
A bare optical fiber l spun in the optical fiber spinning furnace 2 can be inserted therethrough.

また反応管5の上部には反応管5内へ原料化合物を供給
するための原料ガス供給管7が、下部には未反応ガスや
副生成物等を排気する排気管8が、それぞれ取り付けら
れている。さらに反応管5の下部には反応管5をシール
するためのガスシール機構9が接続されている。
Further, a raw material gas supply pipe 7 for supplying raw material compounds into the reaction tube 5 is attached to the upper part of the reaction tube 5, and an exhaust pipe 8 for exhausting unreacted gas, by-products, etc. is attached to the lower part. There is. Furthermore, a gas seal mechanism 9 for sealing the reaction tube 5 is connected to the lower part of the reaction tube 5.

またこのCVD反応炉4の下段には、樹脂液塗布装置l
Oと硬化装置11とが連続して設けられており、上記C
VD反応炉4内で光ファイバ裸線Iに形成された炭素被
膜上に保護被覆層が形成てきるようになっている。
In addition, a resin liquid coating device l is installed at the lower stage of this CVD reactor 4.
O and the curing device 11 are provided in succession, and the above C
A protective coating layer is formed on the carbon coating formed on the bare optical fiber I in the VD reactor 4.

[発明が解決しようとする課題] ところが第3図に示した製造装置にあっては、反応管5
内に原料ガスと光ファイバ裸線lとが一緒に供給される
ので、光ファイバ裸線lは熱分解する前の原料ガスと接
触することとなる。そして光ファイバ裸線1表面に、こ
の未分解の原料ガスが付着し、光ファイバ裸線1表面へ
の炭素被膜の析出速度が低下される。よって十分な膜厚
の炭素被膜を形成するためには、光ファイバの紡糸速度
を遅くせざるを得ないという問題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the manufacturing apparatus shown in FIG.
Since the raw material gas and the bare optical fiber 1 are supplied together within the chamber, the bare optical fiber 1 comes into contact with the raw material gas before being thermally decomposed. This undecomposed source gas adheres to the surface of the bare optical fiber 1, and the rate of deposition of the carbon film on the surface of the bare optical fiber 1 is reduced. Therefore, in order to form a carbon film with a sufficient thickness, there is a problem in that the spinning speed of the optical fiber must be slowed down.

この発明は上記課題を解決するためになされたものであ
って、十分な膜厚の炭素被膜を有する先ファイバを高速
で紡糸可能とする光ファイバの製造装置を提供すること
を目的としている。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an optical fiber manufacturing apparatus that can spin a tip fiber having a carbon coating of sufficient thickness at high speed.

[課題を解決するための手段] この発明の光ファイバの製造装置は、一端に光ファイバ
裸線導入孔を有し、他端に光ファイバ裸線導出孔を有す
る反応管と、この反応管の一端に設けられた原料ガス供
給管と、反応管の他端に設けられた排気管と、反応管の
外周に設けられた発熱体とを具備してなり、その内部に
て原料ガスを熱分解して光ファイバ裸線表面に炭素被膜
を形成する光ファイバの製造装置において、上記光ファ
イバ裸線導入孔から発熱体近傍にまで光ファイバ裸線導
入管を延設したことを解決手段とした。
[Means for Solving the Problems] The optical fiber manufacturing apparatus of the present invention includes a reaction tube having a bare optical fiber introduction hole at one end and a bare optical fiber outlet hole at the other end, and a reaction tube having a bare optical fiber introduction hole at the other end. It is equipped with a raw material gas supply pipe installed at one end, an exhaust pipe installed at the other end of the reaction tube, and a heating element installed around the outer periphery of the reaction tube, and the raw material gas is thermally decomposed inside the tube. In an optical fiber manufacturing apparatus in which a carbon film is formed on the surface of a bare optical fiber, a bare optical fiber introduction tube is extended from the bare optical fiber introduction hole to the vicinity of the heating element.

[作用] 光ファイバ裸線導入孔から発熱体近傍にまで光ファイバ
裸線導入管を延設したので、光ファイバ裸線と原料ガス
とは、原料ガスの熱分解温度にまで加熱された反応管内
で接触する。そして先ファイバ裸線が未分解状態の原料
ガスと接触することがなくなるので、光ファイバ裸線表
面への未分解状態の原料ガスの付着を減少させ、炭素被
膜の析出速度を向上させることができる。よって光ファ
イバの高速紡糸が可能となる。
[Function] Since the bare optical fiber introduction tube is extended from the bare optical fiber introduction hole to the vicinity of the heating element, the bare optical fiber and the raw material gas are transferred into the reaction tube heated to the thermal decomposition temperature of the raw material gas. Contact with. Since the tip bare fiber does not come into contact with the undecomposed source gas, it is possible to reduce the adhesion of the undecomposed source gas to the surface of the bare optical fiber and improve the deposition rate of the carbon film. . Therefore, high-speed spinning of optical fiber becomes possible.

以下、この発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

第1図はこの発明の光ファイバの製造装置の一例を示し
たものである。第1図に示した装置が第3図に示したも
のと異なるところは、反応管5の原料ガス供給管7が接
続された一端側に、反応管5内へ向って、発熱体6近傍
にまで達する光ファイバ裸線導入管12を延設したとこ
ろである。その他の同一部分には、同一符号を付して説
明を省略する。
FIG. 1 shows an example of an optical fiber manufacturing apparatus according to the present invention. The difference between the apparatus shown in FIG. 1 and the apparatus shown in FIG. The bare optical fiber introduction tube 12 has been extended to reach the point shown in FIG. Other identical parts are given the same reference numerals and explanations will be omitted.

光ファイバ裸線導入管12は、反応管5と光ファイバ紡
糸炉2とを接続する冷却筒3から反応管5内へ向って、
発熱体6の近傍にまで達するように延設された管であっ
て、その中心軸上に光ファイバ裸線lが挿通されるよう
になっている。この光ファイバ裸線導入管12の開口端
の位置は、原料ガス供給ロアが取り付けられた位置より
も下方であって、発熱体6寄りの内側に設定されている
The bare optical fiber introduction tube 12 extends from the cooling tube 3 connecting the reaction tube 5 and the optical fiber spinning furnace 2 into the reaction tube 5.
It is a tube that extends to reach the vicinity of the heating element 6, and a bare optical fiber 1 is inserted on its central axis. The open end of the bare optical fiber introducing tube 12 is located below the position where the raw material gas supply lower is attached and on the inside near the heating element 6.

このような光ファイバ裸線導入管12を延設すると、原
料ガスと光ファイバ裸線1とは、発熱体6の内側で接触
することになる。よって光ファイバ裸線lが未だ十分に
熱せられていない未分解状態の原料ガスと接触すること
がなくなるので、光ファイバ裸線1表面への炭素被膜の
析出を効率良く行うことができる。この結果、光ファイ
バの紡糸速度を向上させることができる。
When such a bare optical fiber introducing pipe 12 is extended, the raw material gas and the bare optical fiber 1 come into contact inside the heating element 6. Therefore, the bare optical fiber 1 does not come into contact with undecomposed raw material gas that has not yet been sufficiently heated, so that the carbon coating can be efficiently deposited on the surface of the bare optical fiber 1. As a result, the spinning speed of the optical fiber can be improved.

さらに、光ファイバ裸線1表面に形成された炭素被膜中
に、未分解状態の原料ガスが含有されることがなくなる
ので、この発明の製造装置によって得られる光ファイバ
は耐水素特性の良好なものとなる。
Furthermore, since undecomposed raw material gas is not contained in the carbon coating formed on the surface of the bare optical fiber 1, the optical fiber obtained by the manufacturing apparatus of the present invention has good hydrogen resistance properties. becomes.

このような製造装置を用い、光ファイバ裸線1表面に炭
素被膜を形成するには、以下の工程による。
To form a carbon film on the surface of the bare optical fiber 1 using such a manufacturing apparatus, the following steps are performed.

光ファイバ母材を光ファイバ紡糸炉2内で溶融紡糸する
と共に、光ファイバ紡糸炉2の下段に設けられた冷却筒
3、CVD反応炉4、樹脂液塗布装置lO1硬化装置l
l内へ挿通し、これらの中心軸上を所定の線速で走行す
るように供給する。
The optical fiber preform is melt-spun in the optical fiber spinning furnace 2, and a cooling tube 3, a CVD reactor 4, a resin liquid coating device 1O1 and a curing device 1 are provided at the lower stage of the optical fiber spinning furnace 2.
1 and are fed so as to run on these central axes at a predetermined linear speed.

また冷媒供給口3aから冷媒となる不活性ガス等を所定
流量で冷却筒3内に供給し、光ファイバ裸線1を所望温
度に冷却するとともに、反応管5のシールを行う。反応
管5の下部のソールは、ガスシール機構9に不活性ガス
等を所定流量で供給することにより行う。
Further, an inert gas or the like serving as a refrigerant is supplied into the cooling cylinder 3 at a predetermined flow rate from the refrigerant supply port 3a to cool the bare optical fiber 1 to a desired temperature and seal the reaction tube 5. The bottom of the reaction tube 5 is sealed by supplying an inert gas or the like to the gas seal mechanism 9 at a predetermined flow rate.

ついで発熱体6を発熱させて反応管5内を所定温度に加
熱すると共に、原料ガスを原料ガス供給管7より反応管
5内へ供給する。
Next, the heating element 6 is made to generate heat to heat the inside of the reaction tube 5 to a predetermined temperature, and the raw material gas is supplied into the reaction tube 5 from the raw material gas supply pipe 7.

この原料ガスに用いられる炭化水素化合物は、熱分解に
よって炭素被膜を形成するものであれば特に限定される
ものではなく、たとえばメタン、エタン、プロパン、エ
チレン、アセチレン、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭
化水素のほか、ベンゼン、ナフタリン等の芳香族炭化水
素を用いることができる。これら原料化合物が液体ある
いは固体である場合には、不活性ガス等によってガス化
することにより原料ガスとすることができる。
The hydrocarbon compound used for this raw material gas is not particularly limited as long as it forms a carbon film by thermal decomposition, and examples include aliphatic carbon compounds such as methane, ethane, propane, ethylene, acetylene, pentane, and hexane. In addition to hydrogen, aromatic hydrocarbons such as benzene and naphthalene can be used. When these raw material compounds are liquid or solid, they can be made into a raw material gas by gasifying with an inert gas or the like.

原料ガスの供給速度および温度はその種類およびその混
合比率やCVD反応炉4の加熱温度等によって適宜選択
されるが、通常は0.2〜1.1/分程度が好適である
The feed rate and temperature of the raw material gas are appropriately selected depending on the type thereof, their mixing ratio, the heating temperature of the CVD reactor 4, etc., but usually about 0.2 to 1.1/min is suitable.

反応管5内の温度は、原料ガスの種類や紡糸速度等によ
って適宜選択できるが、炭化水素化合物の熱分解に十分
な温度であれば良く、500〜1300℃程度が好適で
ある。加熱温度を500℃以下にすると炭化水素化合物
の熱分解が進行せず、また13000以上にすると副生
成物の煤が多量に発生すると共に、光ファイバ裸線1表
面に形成される炭素被膜の構造が黒鉛構造に近くなり、
十分な耐水素特性が得られなくなるので好ましくない。
The temperature in the reaction tube 5 can be appropriately selected depending on the type of raw material gas, the spinning speed, etc., but it may be any temperature sufficient for thermal decomposition of the hydrocarbon compound, and is preferably about 500 to 1300°C. If the heating temperature is lower than 500°C, the thermal decomposition of the hydrocarbon compound will not proceed, and if the heating temperature is higher than 13,000°C, a large amount of by-product soot will be generated and the structure of the carbon film formed on the surface of the bare optical fiber 1 will deteriorate. becomes close to a graphite structure,
This is not preferable because sufficient hydrogen resistance properties cannot be obtained.

またこの副生成物の煤の発生を防止する目的で、加熱温
度は原料化合物の熱分解温度よりもごく僅かに低温に設
定しておくことが望ましい。
Further, in order to prevent the generation of soot as a by-product, it is desirable that the heating temperature be set to a temperature slightly lower than the thermal decomposition temperature of the raw material compound.

このようにして炭素被膜が形成された光ファイバ裸線l
を、下段に設けられた樹脂液塗布装置10内へ導入し、
ついで樹脂液を硬化させる硬化装置ll内へ挿通する。
Bare optical fiber l with carbon coating formed in this way
is introduced into the resin liquid coating device 10 provided in the lower stage,
Then, it is inserted into a curing device ll for curing the resin liquid.

樹脂液塗布装置lO内へ挿通された光ファイバ裸線lは
、保護被覆層を形成するための紫外線硬化樹脂液あるい
は熱硬化型樹脂液等が塗布され、ついで塗布された樹脂
液に好適な硬化条件を有する硬化装置ll内で硬化され
て保護被覆層が形成される。
The bare optical fiber l inserted into the resin liquid coating device lO is coated with an ultraviolet curing resin liquid or a thermosetting resin liquid to form a protective coating layer, and then subjected to a suitable curing process for the applied resin liquid. A protective coating layer is formed by curing in a curing apparatus II having conditions.

上記のように、冷却筒3から反応管5内部へ向って光フ
ァイバ裸線導入管12を延設することにより、十分に熱
せられ熱分解した原料ガスとのみ光ファイバ裸線1か接
触するようになるので、炭素被膜の析出速度を向上させ
ることかできる。よって光ファイバを高速で紡糸しても
十分な膜厚の炭素被膜を形成することができる。さらに
炭素被膜中に未分解の原料ガスが含有されることがなく
なり、炭素被膜の純度が向上するので、得られた光ファ
イバは耐水素特性に優れたものとなる。
As described above, by extending the bare optical fiber introducing tube 12 from the cooling cylinder 3 toward the inside of the reaction tube 5, the bare optical fiber 1 is brought into contact only with the sufficiently heated and pyrolyzed raw material gas. Therefore, the deposition rate of the carbon film can be improved. Therefore, even if the optical fiber is spun at high speed, a carbon coating of sufficient thickness can be formed. Further, since the carbon coating does not contain undecomposed source gas and the purity of the carbon coating improves, the resulting optical fiber has excellent hydrogen resistance.

なおこの例では光ファイバ裸線1表面に単一の炭素被膜
を形成したが、光ファイバ裸線1表面に形成する炭素被
膜の暦数はこれに限られるものではなく、2層以上の炭
素被膜を連続して形成しても良い。
In this example, a single carbon coating was formed on the surface of the bare optical fiber 1, but the number of carbon coatings formed on the surface of the bare optical fiber 1 is not limited to this, and two or more layers of carbon coatings may be formed. may be formed continuously.

さらにこの例では炭素被膜上に単一の保護被覆層を形成
したが、この保護被覆層の暦数もこれに限られるもので
はなく、複数の保護被覆層を形成しても良い。
Further, in this example, a single protective coating layer is formed on the carbon film, but the number of protective coating layers is not limited to this, and a plurality of protective coating layers may be formed.

[実施例] (実施例) 光ファイバ母材から光ファイバ裸線を紡糸する紡糸炉の
下段に、冷却筒となる石英管を介して、同じく石英管か
らなる反応管を有する抵抗CVD反応炉を取り付けた。
[Example] (Example) A resistance CVD reactor having a reaction tube also made of quartz tube was connected to the lower stage of a spinning furnace for spinning bare optical fiber from an optical fiber base material through a quartz tube serving as a cooling tube. Installed it.

さらに石英管からたる光ファイバ裸線導入管を上記冷却
筒から反応管内部に向って延設し、第1図に示したと同
様の光ファイバの製造装置とした。
Furthermore, an optical fiber bare wire introducing tube made of a quartz tube was extended from the cooling tube toward the inside of the reaction tube to obtain an optical fiber manufacturing apparatus similar to that shown in FIG.

紡糸炉内にG e Otがドープ剤として含浸さ乙たコ
ア部を有する外径30mmの単一モード光ファイバ母材
を設置した。この光ファイバ母材を2000℃に加熱し
、順次紡糸速度を10m/分、50ffl/分、100
m7分に変化させて外径125μmの単一モード光ファ
イバに紡糸した。さらに抵抗CVD反応炉内を1200
℃に加熱した。約10vo1%にヘリウムガスでガス化
したベンゼンを原料ガス供給口より反応管内に5j/分
の流量で供給し、光ファイバ裸線表面に炭素被膜を形成
した。そして副生酸物と未反応物とは排気管から一6m
mHgの排気圧で除去した。
A single mode optical fiber preform having an outer diameter of 30 mm and having a core impregnated with G e Ot as a dopant was placed in a spinning furnace. This optical fiber preform was heated to 2000°C, and the spinning speed was sequentially set to 10 m/min, 50 ffl/min, 100 m/min,
The fiber was spun into a single mode optical fiber with an outer diameter of 125 μm. Furthermore, the inside of the resistance CVD reactor was
heated to ℃. Benzene gasified to about 10 vol % with helium gas was supplied into the reaction tube from the raw material gas supply port at a flow rate of 5J/min to form a carbon film on the surface of the bare optical fiber. By-product acids and unreacted products are located 16 meters from the exhaust pipe.
It was removed with an evacuation pressure of mHg.

さらに樹脂コート用ダイスポット内にウレタンアクリレ
ート樹脂液(ヤング率70 kg/ mm1、伸び60
%)を封入し、この中に上記工程にて炭素被膜が形成さ
れた光ファイバを挿通して、その表面に紫外線硬化型樹
脂液を塗布した後、紫外線ランプを照射して上記樹HF
kmを硬化させて、外径が約250μmの光ファイバを
製造した。
Furthermore, urethane acrylate resin liquid (Young's modulus 70 kg/mm1, elongation 60
%), the optical fiber on which the carbon film was formed in the above process is inserted into the optical fiber, and the surface of the optical fiber is coated with an ultraviolet curable resin liquid, and then an ultraviolet lamp is irradiated to cure the above-mentioned tree HF.
km was cured to produce an optical fiber with an outer diameter of about 250 μm.

(比較例) 冷却筒から反応管内部へ向って光ファイバ裸線導入管を
設けずに第3図に示したと同様の光ファイバ製造装置を
用いた以外は、実施例と全く同様にして光ファイバを製
造した。
(Comparative Example) Optical fibers were manufactured in exactly the same manner as in the example except that the same optical fiber manufacturing apparatus as shown in FIG. was manufactured.

(試験例) 上記実施例および比較例で得られた各光ファイバ表面に
形成された炭素被膜の付着量を調べる目安として、各光
ファイバ表面の電気抵抗値(kΩ/cm)を測定した。
(Test Example) As a guideline for determining the amount of carbon coating formed on the surface of each optical fiber obtained in the above examples and comparative examples, the electrical resistance value (kΩ/cm) of the surface of each optical fiber was measured.

電気抵抗値の測定は2端子法にてデジタルマルチメータ
で測定した。この結果を第2図に示した。第2図中、実
線は実施例の光ファイバを、また破線は比較例の光ファ
イバの測定結果をそれぞれ示すものである。なお炭素被
膜は導電性であるために、炭素被膜の電気抵抗値が小さ
い程、多量の炭素被膜が付着していることを示す。
The electrical resistance value was measured using a two-terminal method using a digital multimeter. The results are shown in FIG. In FIG. 2, the solid line shows the measurement results of the optical fiber of the example, and the broken line shows the measurement results of the optical fiber of the comparative example. Note that since the carbon film is electrically conductive, the smaller the electrical resistance value of the carbon film, the more the carbon film is attached.

第2図の結果から、この発明の製造装置を用いると、紡
糸速度が速くとも光ファイバ裸線表面に十分な膜厚の炭
素被膜を形成できることが確認できた。
From the results shown in FIG. 2, it was confirmed that by using the manufacturing apparatus of the present invention, a carbon film of sufficient thickness could be formed on the surface of the bare optical fiber even at high spinning speeds.

[発明の効果コ 以上説明したように、この発明の光ファイバの製造装置
は、光ファイバ裸線導入孔から発熱体近傍にまで光ファ
イバ裸線導入管を延設しfコものなので、未分解状態の
原料ガスが光ファイバ裸線と接触することがなくなる。
[Effects of the Invention] As explained above, the optical fiber manufacturing apparatus of the present invention has a bare optical fiber introduction tube extending from the bare optical fiber introduction hole to the vicinity of the heating element, so it cannot be disassembled. This prevents the source gas from coming into contact with the bare optical fiber.

よって光ファイバを高速で紡糸しても、耐水素特性を示
すに十分な膜厚の炭素被膜を形成することができるよう
になる。
Therefore, even if the optical fiber is spun at high speed, it is possible to form a carbon film with a thickness sufficient to exhibit hydrogen resistance.

またこの発明の製造装置で得られた光ファイバは、その
表面に水素透過阻止能力を有する炭素被膜が形成された
ものであるので、耐水素特性に優れた光ファイバを得る
ことかできる。
Further, since the optical fiber obtained by the manufacturing apparatus of the present invention has a carbon coating having hydrogen permeation blocking ability formed on its surface, an optical fiber having excellent hydrogen resistance properties can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の光ファイバの製造装置の一例を示し
た概略構成図、第2図は光ファイバの紡糸速度と電気抵
抗値との関係を示したグラフ、第3図は従来の光ファイ
バの製造装置を示した概略構成図である。 光ファイバ裸線、 3・・・冷却筒、 ・・CVD反応炉、 5 ・・ 反応管、 6 ・・ 発熱体、 7・・・原料ガス供給管、 ・排気管、 2・・・光ファイバ裸線導入管。
Fig. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of the optical fiber manufacturing apparatus of the present invention, Fig. 2 is a graph showing the relationship between the spinning speed of the optical fiber and the electric resistance value, and Fig. 3 is a graph showing the relationship between the spinning speed of the optical fiber and the electrical resistance value. 1 is a schematic configuration diagram showing a manufacturing apparatus. Bare optical fiber, 3... Cooling tube,... CVD reactor, 5... Reaction tube, 6... Heating element, 7... Raw material gas supply pipe, - Exhaust pipe, 2... Bare optical fiber Line introduction tube.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 一端に光ファイバ裸線導入孔を有し、他端に光ファイバ
・裸線導出孔を有する反応管と、この反応管の一端に設
けられた原料ガス供給管と、反応管の他端に設けられた
排気管と、反応管の外周に設けられた発熱体とを具備し
てなり、その内部にて原料ガスを熱分解して光ファイバ
裸線表面に炭素被膜を形成する光ファイバの製造装置に
おいて、上記光ファイバ裸線導入孔から発熱体近傍にま
で光ファイバ裸線導入管を延設したことを特徴とする光
ファイバの製造装置
A reaction tube having an optical fiber bare wire introduction hole at one end and an optical fiber/bare wire outlet hole at the other end, a raw material gas supply pipe provided at one end of the reaction tube, and a raw material gas supply pipe provided at the other end of the reaction tube. An optical fiber manufacturing device, which is equipped with a heated exhaust pipe and a heating element provided on the outer periphery of a reaction tube, and thermally decomposes a raw material gas inside the heating element to form a carbon film on the surface of a bare optical fiber. An optical fiber manufacturing apparatus characterized in that a bare optical fiber introduction tube is extended from the bare optical fiber introduction hole to the vicinity of the heating element.
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