JPH03270034A - Inspection device - Google Patents

Inspection device

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JPH03270034A
JPH03270034A JP2069222A JP6922290A JPH03270034A JP H03270034 A JPH03270034 A JP H03270034A JP 2069222 A JP2069222 A JP 2069222A JP 6922290 A JP6922290 A JP 6922290A JP H03270034 A JPH03270034 A JP H03270034A
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JP
Japan
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stage
seal
inspection
fluid
air
Prior art date
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Pending
Application number
JP2069222A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaki Narishima
正樹 成島
Kiyoshi Tanaka
澄 田中
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH03270034A publication Critical patent/JPH03270034A/en
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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To realize electrical contacts having high precision, and to miniaturize a device by forming a seal for X, a seal for Z and air curtains blown off from each air blow-off port of a fluid tank into clearances among each stage of X, Y and Z and between the fluid tank and the X stage and closing the opening section of the fluid tank. CONSTITUTION:The inside of a fluid tank 13 is supplied with a fluorine based inert fluid from nonconductive inert fluid introducing pipes 57 at the same time as alignment, and a work 3 is brought to a state in which it is dipped in a nonconductive inert fluid 15. A measuring section 56 is lowered by driving a Z stage while the upper section and periphery of a measuring object chip 2a are supplied with the nonconductive fluid 15, and the probing pin of a pin block 21 is made to abut against an electrode pad for measurement while being dipped in the nonconductive fluid 15, thus inspecting the chip 2a. when air is blown off from each air blow-off port at that time, air pressure is increased in each clearance, thus sealing the vapor of the nonconductive inert fluid 15 in the fluid tank 13. Accordingly, space on one plane can be made smaller than structure in which X and Y-axes seal have been conducted on one plane.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は検査装置に関する。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to an inspection device.

(従来の技術) 規格の異なる複数のチップを内部配線が施された基板上
に搭載し、モジュールとしての動作を可能にした半導体
モジュールの総合的な検査は、検査精度の向上を図る上
でチップの電極に対応して設けられた電極パッドに高精
度にプローブビンを電気的に接触させることが必要不可
決であり、また、検査効率の向上を図るためには、規格
の異なる複数のチップに対して柔軟に対処することが必
要である。
(Conventional technology) Comprehensive inspection of semiconductor modules, in which multiple chips of different standards are mounted on a board with internal wiring and can operate as a module, is performed to improve inspection accuracy. It is essential to electrically contact the probe bottle with high precision to the electrode pad provided corresponding to the electrode of It is necessary to respond flexibly to these issues.

また、最近のLSIチップ等は、高集積化や処理速度の
高速化等に伴って、通電時の動作発熱量が上昇する傾向
におり、数十μmオーダーの精度で電気的な接触を必要
とする半導体モジュールの検査においては、発熱による
電極パッドの位置ずれを防止することが検査精度を向上
させる上で非常に重要となる。例えば、半導体ウエノ\
上に形成されたチップの検査を行うブローμ等において
は、被検体となる半導体ウエノ1の保持部内に冷却ジャ
ケットを設ける等して、チップの使用環境に対応させた
温度で検査を実施することも行われているが、このよう
な冷却方法では動作発熱を押える程の冷却効果は得られ
ず、特に上述の半導体モジュールのようにセラミックス
基板等に搭載されたチップに対しては、検査精度を維持
する上での冷却効果は期待できない。
In addition, recent LSI chips, etc., tend to generate more heat when energized due to higher integration and faster processing speeds, and require electrical contact with precision on the order of tens of micrometers. In testing semiconductor modules, it is very important to prevent electrode pads from shifting due to heat generation in order to improve testing accuracy. For example, semiconductor ueno\
In blow μ, etc., where chips formed on the test piece are inspected, a cooling jacket is installed inside the holding part of the semiconductor wafer 1 to be inspected, and the test is carried out at a temperature that corresponds to the environment in which the chip is used. However, such cooling methods do not have enough cooling effect to suppress operational heat generation, and the inspection accuracy is particularly difficult to obtain for chips mounted on ceramic substrates, etc., such as the semiconductor module mentioned above. No cooling effect can be expected for maintenance.

このように、規格の塁なるチップが複数搭載されて構成
された半導体モジュールの検査を正確に、かつ迅速に行
うためには、個々のチップに対して高精度の電気的な接
触を得ることと、動作発熱による位置ずれを防止するこ
とが特に重要であり、このような要求を満足する半導体
モジュールの検査装置の開発が強く望まれている。
In this way, in order to accurately and quickly test a semiconductor module configured with multiple standard chips, it is necessary to obtain highly accurate electrical contact with each chip. It is particularly important to prevent misalignment due to heat generation during operation, and there is a strong desire to develop a semiconductor module inspection device that satisfies such requirements.

(発明が解決しようとする課題) 本発明は、このような要望を満足するためになされたも
ので、基板上に搭載された個々の被検査体に対し、動作
発熱を考慮した上で高精度な電気的接触を可能とし、高
検査精度および高検査効率を維持しつつ、装置の小型化
を図ることができる検査装置を堤供することを目的とす
るものである。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention has been made to satisfy these demands. The purpose of the present invention is to provide an inspection device that can make electrical contact with a high degree of accuracy, maintain high inspection accuracy and high inspection efficiency, and downsize the device.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明の検査装置は、上記目的を達成するために、x−
y−z方向に移動可能なステージにより検査端子を位置
決めし、この検査端子を被検査体である基板の電極端子
に接触させて検査を行う検査装置において、被検査体を
浸漬させるための非導電性の冷却液が供給されるととも
に、一端面が開口されこの開口部の周端部にZ方向にエ
アを吹出すエアー吹出し口を有した液槽と、開口部を有
し液槽上にX方向に移動可能に配置されたXステージと
、このXステージと同程度の開口部を有し、このXステ
ージ上にY方向に移動可能に配置されたYステージと、
このYステージおよびXステージの開口部内にZ方向に
移動可能に配置されたZステージと、Z方向にエアーを
吹出すエアー吹出し口を有し、Xステージに取付けられ
るとともに、液槽のエアー吹出し口を僅かな隙間をもっ
て覆うX用シールと、Zステージにより僅かな隙間をも
って覆われる中心に向けXおよびY方向にエアーを吹出
すエアー吹出し口を有し、Yステジの底部に取付けられ
るとともに、X用シールのエアー吹出し口を僅かな隙間
をもって覆うZ用シールとを具備するものである。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problem) In order to achieve the above object, the inspection device of the present invention has x-
In an inspection device that positions an inspection terminal using a stage movable in the y-z direction and performs an inspection by bringing the inspection terminal into contact with an electrode terminal of a board that is an object to be inspected, a non-conductive tube for immersing the object to be inspected is used. A liquid tank having an air outlet opening at one end face and blowing out air in the Z direction at the circumferential edge of this opening, and a liquid tank having an opening and having an an X stage disposed so as to be movable in the direction; a Y stage having an opening of the same size as the X stage and disposed on the X stage so as to be movable in the Y direction;
It has a Z stage movably arranged in the Z direction within the openings of the Y stage and the X stage, and an air outlet that blows out air in the Z direction. It has an X seal that covers it with a small gap, and an air outlet that blows air in the X and Y directions toward the center that is covered with a small gap by the Z stage, and is attached to the bottom of the Y stage. It is equipped with a Z seal that covers the air outlet of the seal with a small gap.

(作 用) 本発明の検査装置では、x、y、zの各ステージ間およ
び液槽とXステージとの間の隙間にX用シール、Z用シ
ールおよび液槽の各エアー吹出し−から吹出されるエア
ーの風圧によるエアーカテンを形成し、液槽の開口部を
塞ぐようにしたので、立体的なエアーシール構造を実現
することができ、これにより平面上のスペースを小さく
することができる。
(Function) In the inspection device of the present invention, air is blown from the X seal, the Z seal, and the air outlet of the liquid tank into the gaps between the x, y, and z stages and between the liquid tank and the X stage. Since an air curtain is formed by the wind pressure of air to close the opening of the liquid tank, it is possible to realize a three-dimensional air seal structure, thereby reducing the space required on a plane.

(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図および第2図は本発明の一実施例の検査装置の構
成を模式的に示す図であり、装置本体1は、非導電性液
体中で被検体となる半導体モジュル2を搬送および検査
可能な状態としたワーク3の所定の検査を行う検査部1
0と、半導体モジュール2上に搭載された複数の半導体
素子(以下、チップと記す)に対応した複数の検査用接
触端子が収容され、これらの交換および位置合せを行う
接触端子供給部20とから構成されており、装置本体1
の検査部10側の端部には、上記ワーク3をロード・ア
ンロードするためのワークローダー部30が着脱自在に
設置されている。また、装置本体1およびワークローダ
一部30上には、それぞれワークローダ一部30、検査
部10、接触端子供給部20の並列方向(以下、X方向
とよぶ)に沿って移動可能とされたワーク搬送機構40
と接触端子移動機構50とが搭載されている。
1 and 2 are diagrams schematically showing the configuration of an inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, in which an apparatus main body 1 transports and inspects a semiconductor module 2, which is a test object, in a non-conductive liquid. An inspection unit 1 that performs a predetermined inspection of the work 3 that has been brought into a possible state.
0, and a contact terminal supply unit 20 that accommodates a plurality of inspection contact terminals corresponding to a plurality of semiconductor elements (hereinafter referred to as chips) mounted on the semiconductor module 2, and performs replacement and alignment of these contact terminals. The main body of the device 1
A work loader section 30 for loading and unloading the workpiece 3 is removably installed at the end of the inspection section 10 side. Moreover, on the apparatus main body 1 and the work loader part 30, there are arranged parts that are movable along the parallel direction (hereinafter referred to as the X direction) of the work loader part 30, the inspection part 10, and the contact terminal supply part 20, respectively. Workpiece conveyance mechanism 40
and a contact terminal moving mechanism 50 are mounted.

なお上記ワーク3は、例えば第3図に示すように、複数
のチップ2aが内部配線を有する多層セラミックス基板
2b上にボンディングされて構成された半導体モジュー
ル2の下部に、この半導体モジュール2の図示を省略し
た各入出力ピンと電気的に接触されたソケット4および
ソケットボド5と、半導体モジュール2の外周側に押え
板6とOリング7とによって液密シールが形成されたク
ランプ部となるサポートボード8が配置されて構成され
たものである。また、図示を省略したがチップ2aの周
囲には測定用電極パッドが、多層セラミックス基板2b
の上面の3角にはアライメント用ターゲットが、下面に
は対角線上の2角に熱膨脹補正用ターゲットが設けられ
ており、またサポートボード8の4角には位置決め孔が
設けられている。
The work 3 is, for example, as shown in FIG. 3, a semiconductor module 2 is attached to the bottom of a semiconductor module 2 configured by bonding a plurality of chips 2a onto a multilayer ceramic substrate 2b having internal wiring. A socket 4 and a socket board 5 are electrically contacted with each of the input/output pins (not shown), and a support board 8 is provided as a clamp part with a liquid-tight seal formed on the outer circumferential side of the semiconductor module 2 by a presser plate 6 and an O-ring 7. It is arranged and configured. Although not shown, measurement electrode pads are provided around the chip 2a, and the multilayer ceramic substrate 2b
Alignment targets are provided at three corners on the top surface, thermal expansion correction targets are provided at two diagonal corners on the bottom surface, and positioning holes are provided at the four corners of the support board 8.

上記検査部10は、装置本体1の基台1a上に設置され
た検査部基台11の上面側に突設された槽外壁11aお
よび槽内壁11bと、例えばネオブレンゴム等によって
形成された口字、状のワーク載置台12およびワーク3
自体とによって形成される液槽13を有しており、ワー
ク3はクランプ14によってワーク載置台12に対し、
液密シールを形成するように密着固定される。そして、
液橘13内に注入された非導電性不活性液体15中にワ
ーク3を浸漬し、その状態で検査が行われる。
The inspection section 10 includes a tank outer wall 11a and a tank inner wall 11b protruding from the upper surface side of the inspection section base 11 installed on the base 1a of the apparatus main body 1, and a lip formed of, for example, neoprene rubber. shaped workpiece mounting table 12 and workpiece 3
The workpiece 3 is held against the workpiece mounting table 12 by the clamp 14.
They are tightly secured to form a liquid-tight seal. and,
The work 3 is immersed in the non-conductive inert liquid 15 injected into the liquid 13, and the inspection is performed in that state.

なお、検査部基台11内には、槽外壁11aと槽内壁1
1bとの間にオーバーフローした非導電性液体15の排
出管16aと、ワーク交換時の排出管16bとが設けら
れており、それぞれ図示を省略した冷却機構に接続され
ている。また、上記口字状のワーク載置台12の開口部
下方には、ワーク3のソケットボード5に対して差込ま
れ電気的な接続を行う図示を省略した多数のポゴピンが
突設されたワークセットベースユニット17が配置され
ている。
In addition, inside the inspection unit base 11, there are a tank outer wall 11a and a tank inner wall 1.
A discharge pipe 16a for overflowing the non-conductive liquid 15 and a discharge pipe 16b for replacing the workpiece are provided between the pipe 1b and the workpiece 1b, and each is connected to a cooling mechanism (not shown). Further, a workpiece set includes a number of pogo pins (not shown) that are inserted into the socket board 5 of the workpiece 3 and make an electrical connection below the opening of the workpiece mounting table 12. A base unit 17 is arranged.

またワーク3のセラミックス基板2bの下面に設けられ
た一対の熱膨脹捕正用ターゲットの形成位置に応じて下
アライメントカメラ18a、18bさらにワーク搬送機
構40およびワーク載置台12間におけるワーク3の移
載を行う昇降可能なワーク移載ピン1つが設けられてい
る。 ここで、上記下アライメントカメラ18aおよび
18bは、カメラ本体1sC,ボアスコープ18d1ア
ダプタ18 e 、 CCDカメラ18fがこの順に一
体的にされて構成されている。
Further, depending on the formation position of a pair of thermal expansion correction targets provided on the lower surface of the ceramic substrate 2b of the workpiece 3, the lower alignment cameras 18a, 18b and the transfer of the workpiece 3 between the workpiece transport mechanism 40 and the workpiece mounting table 12 are performed. One workpiece transfer pin that can be raised and lowered is provided. Here, the lower alignment cameras 18a and 18b are constructed by integrating a camera body 1sC, a borescope 18d1, an adapter 18e, and a CCD camera 18f in this order.

ボアスコープ18cは、ワーク載置台12の下面に取付
けられた固定部18gおよび支持部材18h、18iに
取付けられた固定部18jにボルトにより固定される。
The borescope 18c is fixed by bolts to a fixing part 18g attached to the lower surface of the workpiece mounting table 12 and to a fixing part 18j attached to the support members 18h and 18i.

ロングカラー18にはボアスコープに接着剤により固定
されている。またボアスコープ18cには、雄ねじ18
1を有したハンドル18mおよびカラー18nが取付け
られており、その雄ねじ181は、上記固定部18」に
形成された雌ねじ18pに噛合っている。
The long collar 18 is fixed to the borescope with adhesive. In addition, the borescope 18c has a male thread 18.
A handle 18m and a collar 18n having a handle 18m and a collar 18n are attached, and the male thread 181 thereof meshes with the female thread 18p formed in the fixing part 18''.

そして、ハンドル18mを回転させると、下アライメン
トカメラ18aおよび18bは上下方向へ移動する。
When the handle 18m is rotated, the lower alignment cameras 18a and 18b move in the vertical direction.

また、接触端子供給部20は、半導体モジュール2に搭
載されたチップ2aの周囲に形成された71#I定用電
極パツドの形状およびピッチに応じてプローブピンが植
設された複数のピンブロック21を個々に保持する複数
例えば9個のピンブロックチェンジャ22と、接触端子
移動機構50側に受は渡されたピンブロック21の位置
確認を行うピンブロック補正用カメラ23とによって構
成されている。
Further, the contact terminal supply section 20 includes a plurality of pin blocks 21 in which probe pins are implanted according to the shape and pitch of the 71#I standard electrode pads formed around the chip 2a mounted on the semiconductor module 2. The pin block changer 22 includes a plurality of pin block changers 22, for example, nine pin block changers 22, each of which individually holds the pin block changers 22, and a pin block correction camera 23 that confirms the position of the pin block 21 passed to the contact terminal moving mechanism 50 side.

上記ピンブロックチェンジャ22は、ピンブロック21
を挟持する保持部24と、この保持部24を接触端子移
動機構50側に上昇させる例えばシリンダ機構25とに
よって構成されており、検査プログラムに応じて使用す
べきピンブロック21を個別に上昇させ、接触端子移動
機構50に供給する。
The pin block changer 22 includes a pin block 21
and a cylinder mechanism 25, for example, which raises the holding part 24 toward the contact terminal moving mechanism 50 side, and individually raises the pin blocks 21 to be used according to the inspection program. It is supplied to the contact terminal moving mechanism 50.

ワーク搬送機構40は、X方向に沿って移動可能とされ
ており、接触端子移動機構50は、ワク搬送機構40と
同様に、上記ステージ用ガイド30a、lb上に搭載さ
れた口字形状を有するXステージ51、このXステージ
上に配置された同程度の開口面積を有する口字形状のY
ステージ52および上記Xステージ51およびYステー
ジ52の開口部内に配置されたZステージ53によって
、このZステージ53に固定されたビンブロック21の
チャック部54と上アライメント用カメラ55とが設置
された測定部56が、x−y−z方向に移動可能に構成
されており、また図示を省略したθ駆動機構によってチ
ャック部54が回転自在とされている。そして、上記チ
ャック部54に保持されたビンブロック21は、Zステ
ージ53によって検査部10の液槽13内まで下降し、
液槽13内に浸漬されているワーク3との接触が行われ
る。
The workpiece conveyance mechanism 40 is movable along the X direction, and the contact terminal movement mechanism 50, like the workpiece conveyance mechanism 40, has an opening shape mounted on the stage guides 30a and lb. X stage 51, a mouth-shaped Y having the same opening area arranged on this X stage.
Measurement in which the chuck part 54 of the bottle block 21 fixed to the Z stage 53 and the upper alignment camera 55 are installed by the stage 52 and the Z stage 53 arranged in the openings of the X stage 51 and Y stage 52. The portion 56 is configured to be movable in the x-y-z directions, and the chuck portion 54 is rotatable by a θ drive mechanism (not shown). Then, the bottle block 21 held by the chuck section 54 is lowered into the liquid tank 13 of the inspection section 10 by the Z stage 53, and
Contact is made with the workpiece 3 immersed in the liquid bath 13.

ここで、上記液槽13の蒸気シール構造について説明す
る。
Here, the vapor seal structure of the liquid tank 13 will be explained.

例えば、第4図および第5図に示すように、液槽13の
槽外壁11aには、この周端部にZ方向にエアーを吹出
すエアー吹出し口11cが形成されている。エアー吹出
し口lieには、細孔11dを介してチューブlleが
連通している。
For example, as shown in FIGS. 4 and 5, an air outlet 11c for blowing air in the Z direction is formed in the outer wall 11a of the liquid tank 13 at its peripheral end. A tube lle communicates with the air outlet lie through a pore 11d.

符号51bは、Z方向にエアーを吹出すエアー吹出し口
51aを有した口字形状のX用シールであり、このX用
シール51bはXステージ51の底部に取付けられる。
Reference numeral 51b denotes a mouth-shaped X seal having an air outlet 51a that blows out air in the Z direction, and this X seal 51b is attached to the bottom of the X stage 51.

X用シール51bの側面には、このX用シール51bを
挟んでX方向に伸びたX翼51cが取付けられている。
An X wing 51c extending in the X direction with the X seal 51b sandwiched therebetween is attached to the side surface of the X seal 51b.

符号53bは、中心に向けXおよびY方向にエアーを吹
出すエアー吹出し口53aを有した口字形状のZ用シー
ルであり、この2用シール53bはYステージ52の底
部に取付けられる。Z用シール53bの側面には、この
Z用シール53bを挟んでY方向に伸びたYg52bが
取付けられている。
Reference numeral 53b is a Z-shaped seal having an air outlet 53a that blows air toward the center in the X and Y directions. A Yg 52b extending in the Y direction with the Z seal 53b sandwiched therebetween is attached to the side surface of the Z seal 53b.

ソシテ、Xg51cは槽外壁11aのエアー吹出し口1
1cに、YW52bはX用シール51bのエアー吹出し
口51aにそれぞれ覆い被さるように配される。またZ
用シール53bのエアー吹出し口53aは、上記JFI
定部56の側面にて覆われる。
Xg51c is the air outlet 1 on the tank outer wall 11a.
1c, the YW 52b is arranged so as to cover the air outlet 51a of the X seal 51b, respectively. Also Z
The air outlet 53a of the seal 53b for the JFI
It is covered by the side surface of the fixed part 56.

さらに、各エアー吹出し口11c、51.a、53aと
、X翼51c、Y翼52b5測定部56の側面との隙間
は 1mo+以下とされ、これにより各隙間にて風江が
高められる。
Further, each air outlet 11c, 51. The gaps between a, 53a and the side surfaces of the X blade 51c, Y blade 52b5, and measuring portion 56 are set to 1 mo+ or less, thereby increasing the wind eve in each gap.

Njl定部56には、上記チャック部54に近接して図
示を省略した冷却機構に接続された非導電性不活性液体
導入管57が配設されており、またチャック部54の上
部にはビンブロック21と図示を省略したテスタに接続
されたタッチプレートが配置されており、このタッチプ
レートによってビンブロック21とテスタとの電気的な
接続が行われている。
A non-conductive inert liquid introduction pipe 57 connected to a cooling mechanism (not shown) is disposed close to the chuck part 54 in the Njl fixing part 56, and a bottle is provided in the upper part of the chuck part 54. A touch plate connected to the block 21 and a tester (not shown) is arranged, and the touch plate establishes an electrical connection between the bottle block 21 and the tester.

上記構成の半導体検査装置における検査手順について、
第6図を参照して以下に説明する。
Regarding the inspection procedure in the semiconductor inspection equipment with the above configuration,
This will be explained below with reference to FIG.

まず、ワークローダ一部30におけるワークセットテー
ブル32のワーク収容部32a内にワーク3を載置する
とともに、ワークセットテーブル32を駆動してワーク
3をワーク昇降機構33の上方の受渡位置まで移動させ
る。次いで、ワーク昇降機構33の昇降テーブル33a
によってワーク3を位置決めしつつワーク搬送機fg4
0の保持部41位置まで上昇させる。ワーク3の上昇を
確認した後、保持部4]の一対のつめ42によってワー
ク3は保持される(第6図−a)。
First, the work 3 is placed in the work accommodating portion 32a of the work setting table 32 in the work loader part 30, and the work setting table 32 is driven to move the work 3 to the delivery position above the work lifting mechanism 33. . Next, the lifting table 33a of the workpiece lifting mechanism 33
While positioning the workpiece 3, the workpiece conveyor fg4
0 to the holding part 41 position. After confirming that the workpiece 3 has risen, the workpiece 3 is held by the pair of pawls 42 of the holding section 4 (FIG. 6-a).

次に、ワーク搬送機構40を駆動して、ワーク3を検査
部10のワーク載置台12上方のワーク受渡位置まで搬
送する。この際、接触端子移動機構50は、接触端子供
給部側へと移動する。
Next, the work transport mechanism 40 is driven to transport the work 3 to the work transfer position above the work mounting table 12 of the inspection section 10. At this time, the contact terminal moving mechanism 50 moves toward the contact terminal supply section.

ワーク受渡位置まで搬送されたワーク3は、検査部10
側から上昇したワーク移載ビン19上に移載される。こ
の際にワーク移載ビン1つの先端部は、ワーク3におけ
るサポートボード8の4角に設けられた位置決め孔内に
押入され、ワーク3の位置決めが行われる。この後、ワ
ーク移載ビン19は下降し、ワーク載置台12上にワー
ク3が載置されクランプ14によってワーク載置台12
に対して戒密に固定されると共に、ワーク3のソケット
ボード5と検査部10側のワークセットベースユニット
17との電気的な接続が行われる(第6図−b)。また
この際に、下アライメントカメラ18a、18bによっ
て、ワーク3の多層セラミックス基板2bの下面に設け
られた熱膨脹補正用ターゲットの初期位置が認識される
The workpiece 3 transported to the workpiece delivery position is inspected by the inspection section 10
The workpiece is transferred onto the workpiece transfer bin 19 raised from the side. At this time, the tip of one workpiece transfer bin is pushed into positioning holes provided at the four corners of the support board 8 for the workpiece 3, and the workpiece 3 is positioned. After that, the workpiece transfer bin 19 is lowered, the workpiece 3 is placed on the workpiece mounting table 12, and the workpiece transfer bin 19 is placed on the workpiece mounting table 12 by the clamp 14.
The socket board 5 of the workpiece 3 is electrically connected to the workpiece set base unit 17 on the inspection section 10 side (FIG. 6-b). At this time, the initial position of the thermal expansion correction target provided on the lower surface of the multilayer ceramic substrate 2b of the workpiece 3 is recognized by the lower alignment cameras 18a and 18b.

ワーク3のセツティングと相前後して、ビンブロック2
1の装着が行われる。ビンブロック21の装着は、まず
検査プログラムに応じて自動的に、第1番目に検査を行
うチップ2aに対応したビンブロック21が保持された
ビンブロックチェンジャ22上に接触端子移動機構50
のチャック部54が位置するように、Xステージ51お
よびYステージ52が駆動される。チャック部54がビ
ンブロック21の受渡し位置に到達すると、ビンブロッ
クチェンジャ22のシリンダ機構25が上昇し、チャッ
ク部54によって当該ビンブロック21が保持される(
同第6図−b)。
Before and after setting workpiece 3, set bin block 2.
1 is installed. First, the contact terminal moving mechanism 50 is attached to the bin block changer 22 holding the bin block 21 corresponding to the chip 2a to be inspected first, automatically according to the inspection program.
The X stage 51 and the Y stage 52 are driven so that the chuck portion 54 is positioned. When the chuck part 54 reaches the delivery position of the bottle block 21, the cylinder mechanism 25 of the bottle block changer 22 rises, and the bin block 21 is held by the chuck part 54 (
Figure 6-b).

この後、ビンブロック補正用カメラ23によって、ビン
ブロック21の保持状態を撮像し、上アライメントカメ
ラ55との位置確認が行われた後、検査部]0上方へと
接触端子移動機構50は移動する。
After that, the bin block correction camera 23 captures an image of the holding state of the bin block 21, and after confirming the position with the upper alignment camera 55, the contact terminal moving mechanism 50 moves upward to the inspection section]0. .

次に、検査部10上方へと移動した接触端子移動機構5
0の測定部56に配置された上アライメントカメラ55
によって、ワーク3とビンブロック21とのアライメン
トが行われる。このアライメントは、まず上アライメン
トカメラ55によって多層セラミックス基板2bの表面
を撮像しつつその3角に設けられたアライメント用ター
ゲットの位置を、接触端子移動機構50側のX−Yステ
ージにおける位置座標として認識し、予め入力されたア
ライメント用ターゲット位置に基づいた各チップ2a位
置がX−Yステージの位置座標として求められる。そし
て、チップ2aの位置座標にしたがってビンブロック2
1の位置が決定され、Xステージ51、Yステージ52
および゛図示を省略したθ駆動機構を駆動してチップ2
aの周囲に形成された測定用電極パッドとビンブロック
21に植設されたプローブビンとのアライメントが行わ
れる。
Next, the contact terminal moving mechanism 5 has moved upward to the inspection section 10.
The upper alignment camera 55 arranged in the measuring section 56 of 0
Accordingly, the work 3 and the bin block 21 are aligned. In this alignment, first, the upper alignment camera 55 images the surface of the multilayer ceramic substrate 2b and recognizes the position of the alignment target provided at the triangular corner as the position coordinate on the X-Y stage on the contact terminal moving mechanism 50 side. Then, the position of each chip 2a based on the alignment target position input in advance is determined as the position coordinates of the XY stage. Then, according to the position coordinates of the chip 2a, the bin block 2
1 is determined, and the X stage 51 and Y stage 52
and ゛The chip 2 is driven by the θ drive mechanism (not shown).
Alignment is performed between the measurement electrode pads formed around a and the probe bottle implanted in the bottle block 21.

また、このアライメントと同時に、非導電性不活性肢体
導入管57から例えばフッ素系不活性液が液槽13内に
供給され、ワーク3は非導電性不活性液体15内に浸漬
された状態となる。
At the same time as this alignment, for example, a fluorine-based inert liquid is supplied into the liquid tank 13 from the non-conductive inert limb introduction pipe 57, and the workpiece 3 is immersed in the non-conductive inert liquid 15. .

この後、非導電性液体15を測定対象チップ2a上およ
び周囲に供給しつつ、Zステージ53を駆動することに
よって測定部56を下降させ、ビンブロック21のプロ
ーブビンを非導電性液体15中に浸漬しつつ、1lll
1重用電極パッド接させる。そして、半導体モジュール
2にテスト電圧を供給し当該チップ2aの検査を行う(
第6図−C)このとき、各エアー吹出し口11c、51
a。
After that, while supplying the non-conductive liquid 15 onto and around the chip 2a to be measured, the Z stage 53 is driven to lower the measuring unit 56, and the probe bottle of the bottle block 21 is immersed in the non-conductive liquid 15. While soaking, 1lll
Contact the single layer electrode pad. Then, a test voltage is supplied to the semiconductor module 2 to test the chip 2a (
Fig. 6-C) At this time, each air outlet 11c, 51
a.

53aからエアーが吹出されると、各隙間にて風圧が高
められるため、非導電性不活性液体15たる例えばフロ
リナートの蒸気が液Il!13内に封じ込められる。
When air is blown out from 53a, the wind pressure is increased in each gap, so that the non-conductive inert liquid 15, for example, the vapor of Fluorinert, turns into liquid Il! Contained within 13.

この占うに、本実施例の検査装置によれば、積重ねるよ
うにして配したx、y、zステージにて非導電性不活性
l皮体の蒸気を液槽内に封じ込めるようにしたので、従
来−平面にてX、Y軸シールを行っていた構造に比べ一
平面上でのスペースを小さくすることができる。
According to the inspection device of this embodiment, the vapor of the non-conductive inert lubricant is confined in the liquid tank by the x, y, and z stages arranged in a stacked manner. Compared to the conventional structure in which X- and Y-axis seals are performed on a plane, the space on one plane can be made smaller.

なお、本実施例に係る検査装置でXSY、Z用のシール
機構を個別に設けたのは構造上、省スペース化がはかれ
るからである。すなわちX、Y同一平面でX、Y方向を
移動できるシール機構はZ方向にはスペースが少なくす
むが、X、Y方向にスペースが必要となり装置全体の大
きさにも影響してくる。
The reason why seal mechanisms for XSY and Z are provided separately in the inspection apparatus according to this embodiment is that space can be saved in terms of structure. That is, a sealing mechanism that can move in the X and Y directions on the same plane requires less space in the Z direction, but requires space in the X and Y directions, which affects the overall size of the device.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明の検査装置によれば、基板
に設けられた個々の被検査体に対し、動作発熱を考慮し
た上で高精度な電気的接触を可能とし、高検査精度およ
び高検査効率を維持しつつ、装置の小型化を図ることが
できる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the inspection device of the present invention, it is possible to make high-precision electrical contact with each object to be inspected provided on a board, taking into consideration operational heat generation, It is possible to downsize the device while maintaining high inspection accuracy and high inspection efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第2図は本発明の一実施例の半導体検査装
置の構成を模式的に示す図、第3図はその半導体検査装
置によって検査される半導体モジュールを搬送および検
査可能に固定するワークを示す断面図、第4図は第1図
の半導体検査装置の蒸気シール構造を示す斜視図、第5
図はその蒸気シール構造の作用を示す断面図、第6図(
a)〜(c)は検査手順を説明するための図である。 1・・・装置本体、1a・・・基台、2・・・半導体モ
ジュル、2a・・・チップ、3・・・ワーク、4・・・
ソケット、5・・・ソケットボード、8・・・サポート
ボード、10・・・検査部、lla・・・槽外壁、ll
c、51a。 53a・・・エアー吹出し口、12・・・ワーク載置台
、13・・・液槽、14・・・クランプ、15・・・非
導電性不活性液体、21・・・ピンブロック、30・・
・ワークローダ部、40・・・ワーク搬送機構、50・
・・接触端子移動機構、51・・・Xステージ、51b
・・・X用シール、51cmX14.52 b−Y翼、
53 b−Z用ル。
1 and 2 are diagrams schematically showing the configuration of a semiconductor inspection device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a workpiece that fixes a semiconductor module to be inspected by the semiconductor inspection device so that it can be transported and inspected. FIG. 4 is a perspective view showing the vapor seal structure of the semiconductor inspection equipment of FIG. 1, and FIG.
The figure is a cross-sectional view showing the function of the steam seal structure, and Figure 6 (
a) to (c) are diagrams for explaining the inspection procedure. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Device body, 1a...Base, 2...Semiconductor module, 2a...Chip, 3...Work, 4...
Socket, 5... Socket board, 8... Support board, 10... Inspection section, lla... Tank outer wall, ll
c, 51a. 53a... Air outlet, 12... Workpiece mounting table, 13... Liquid tank, 14... Clamp, 15... Non-conductive inert liquid, 21... Pin block, 30...
・Work loader section, 40... Work conveyance mechanism, 50.
...Contact terminal moving mechanism, 51...X stage, 51b
...X seal, 51cmX14.52 b-Y wing,
53 b-Z Lu.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  X−Y−Z方向に移動可能なステージにより検査端子
を位置決めし、この検査端子を被検査体である基板の電
極端子に接触させて検査を行う検査装置において、前記
被検査体を浸漬させるための非導電性の冷却液が供給さ
れるとともに、一端面が開口されこの開口部の周端部に
Z方向にエアーを吹出すエアー吹出し口を有した液槽と
、開口部を有し前記液槽上にX方向に移動可能に配置さ
れたXステージと、このXステージと同程度の開口部を
有し、このXステージ上にY方向に移動可能に配置され
たYステージと、このYステージおよび前記Xステージ
の開口部内にZ方向に移動可能に配置されたZステージ
と、Z方向にエアーを吹出すエアー吹出し口を有し、前
記Xステージに取付けられるとともに、前記液槽のエア
ー吹出し口を僅かな隙間をもって覆うX用シールと、前
記Zステージにより僅かな隙間をもって覆われる中心に
向けXおよびY方向にエアーを吹出すエアー吹出し口を
有し、前記Yステージの底部に取付けられるとともに、
前記X用シールのエアー吹出し口を僅かな隙間をもって
覆うZ用シールとを具備することを特徴とする検査装置
In an inspection apparatus that positions an inspection terminal by a stage movable in the X-Y-Z direction and performs an inspection by bringing the inspection terminal into contact with an electrode terminal of a substrate that is an object to be inspected, for immersing the object to be inspected. A liquid tank is provided with a non-conductive cooling liquid, and has an air outlet opening at one end surface and blowing out air in the Z direction at the circumferential edge of the opening, and An X stage disposed on the tank so as to be movable in the X direction, a Y stage having an opening of the same size as the X stage and movable in the Y direction on the X stage, and this Y stage. and a Z stage movably disposed in the opening of the X stage in the Z direction, and an air outlet that blows out air in the Z direction, which is attached to the X stage and has an air outlet of the liquid tank. an X seal that covers with a small gap, and an air outlet that blows air in the X and Y directions toward the center covered with a small gap by the Z stage, and is attached to the bottom of the Y stage,
An inspection device comprising: a Z seal that covers the air outlet of the X seal with a small gap.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS648640A (en) * 1987-07-01 1989-01-12 Hitachi Ltd Device for inspecting semiconductor

Patent Citations (1)

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