JPH03252997A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH03252997A
JPH03252997A JP2049357A JP4935790A JPH03252997A JP H03252997 A JPH03252997 A JP H03252997A JP 2049357 A JP2049357 A JP 2049357A JP 4935790 A JP4935790 A JP 4935790A JP H03252997 A JPH03252997 A JP H03252997A
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JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor memory
memory device
relief
selection
memory cell
Prior art date
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Application number
JP2049357A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuru Akisawa
秋沢 充
Kazuhiko Iwasaki
一彦 岩崎
Yoshiki Noguchi
孝樹 野口
Takashi Shibata
柴田 隆嗣
Noboru Yamaguchi
昇 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Priority to US07/654,379 priority patent/US5398206A/en
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Publication of JPH03252997A publication Critical patent/JPH03252997A/en
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Abstract

PURPOSE:To suppress the increase of the number of elements to flexibly relieve defects by providing an address decoding means and an output control means which outputs a prescribed value in response to the decoded result of the decoding means independently of contents stored in semiconductor memory elements. CONSTITUTION:A select detecting circuit 200 which detects that at least a part of signals generated by an address decoder 100 is selected and a control circuit which outputs preliminarily determined prescribed information at the time of detecting this selection by the select detecting circuit 200 and outputs information from a read circuit 302 at the time of not detecting it are provided. Consequently, an independent address decoding means for relief is unnecessary because a relief area is detected in response to the decoded result of the address decoding means, namely, the address decoder 100 which accesses semiconductor memory elements. Thus, defects are relieved with the area, which is designated by the address decoder 100, as a unit, to improve the relief flexibility.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路に係り、特に、読み出し専用の
半導体メモリにおける欠陥救済技術に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and particularly to a defect relief technique in a read-only semiconductor memory.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体集積回路の集積度の向上にともない、製造プロセ
スの過程で発生した欠陥による歩留まり低下が問題とな
っている。
As the degree of integration of semiconductor integrated circuits increases, a reduction in yield due to defects generated during the manufacturing process has become a problem.

例えば論理LSIにおいては、このような欠陥により論
理値に誤りが生しる場合がある。これを自動的に訂正す
る欠陥救済機能を持たせるために、欠陥救済用の付加回
路、すなわち冗長回路をチップ上に設けて、歩留まり向
上を図る技術がある。
For example, in logic LSIs, such defects may cause errors in logic values. In order to provide a defect relief function that automatically corrects this, there is a technique of providing an additional defect relief circuit, that is, a redundant circuit, on the chip to improve yield.

一方、半導体メモリ、特に読み出し専用のいわゆるRO
Mにおいては、未使用領域あるいは同一データが連続す
る領域の欠陥救済が有効である。
On the other hand, semiconductor memory, especially read-only so-called RO
In M, it is effective to repair defects in unused areas or areas where the same data continues.

その−例が、特開平1−241100号に記載されてい
る。この従来技術においては、救済する対象であるRO
Mの未使用領域(救済領域)へのアクセスを検出して、
出力するデータの制御を行なっている。
An example thereof is described in JP-A-1-241100. In this prior art, the RO to be rescued
Detecting access to the unused area (relief area) of M,
Controls the data to be output.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本願発明者らの検討によれば、上記従来技術においては
、ROMをアクセスするためのデコーダ回路とは別に救
済用デコーダ回路を設け、救済領域をアクセスするアド
レスの入力に応答して制御信号を生成し、これによりR
OMのデータの代わりに所定の固定値を出力している。
According to the study by the inventors of the present application, in the above-mentioned conventional technology, a relief decoder circuit is provided separately from a decoder circuit for accessing the ROM, and a control signal is generated in response to input of an address for accessing a relief area. And this causes R
A predetermined fixed value is output instead of OM data.

このため、ROMをアクセスするためのデコーダ回路と
は別に救済領域用デコーダ回路を設けるための素子数の
増加、ひいてはチップ面積の増加をきたすという問題点
が明らかになった。
Therefore, it has become clear that the number of elements required to provide a relief area decoder circuit separately from the decoder circuit for accessing the ROM increases, resulting in an increase in chip area.

さらに、救済領域の最大個数と領域サイズが救済用デコ
ーダ回路の構成によって固定されており、救済方式とし
ての柔軟性に欠ける。例えば、救済用デコーダによって
指定される領域(救済領域)のサイズに満たない“0”
あるいは1”の連続する領域の欠陥を救済することは不
可能である。
Furthermore, the maximum number and area size of the relief areas are fixed depending on the configuration of the relief decoder circuit, which results in a lack of flexibility as a relief method. For example, “0” which is less than the size of the area (relief area) specified by the relief decoder
Alternatively, it is impossible to repair defects in a continuous area of 1''.

また、救済領域の数が救済用デコーダのデコード出力の
最大個数を越えてしまう場合には、救済を断念せざるを
得ない。上記従来技術に基いてこれらの柔軟性に関する
問題を解決するためには、本来のデコーダ回路と同一の
規模の救済用デコーダ回路を必要とする。これは素子数
の大幅な増加をきたす。
Furthermore, if the number of relief areas exceeds the maximum number of decoded outputs of the relief decoder, relief must be abandoned. In order to solve these flexibility problems based on the above-mentioned prior art, a rescue decoder circuit of the same size as the original decoder circuit is required. This results in a significant increase in the number of elements.

尚、ここで救済領域の個数とは、メモリ領域内において
、救済領域でない領域(非救済領域)によって分割され
て存在する救済領域の数であり、救済領域のサイズとは
、個々の救済領域のアドレス空間の広さの意味である。
Note that the number of relief areas here refers to the number of relief areas that are divided by areas that are not relief areas (non-relief areas) in the memory area, and the size of relief areas refers to the number of relief areas that exist within the memory area. This refers to the size of the address space.

本発明の目的は、素子数の増加を抑えつつ、柔軟性に富
んだ欠陥救済を行うことのできる半導体記憶装置を提供
することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can perform defect relief with great flexibility while suppressing an increase in the number of elements.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するために本願発明の半導体記憶装置は
、複数個の半導体記憶素子からなる情報記憶手段、アド
レス信号を解読して上記複数個の半導体記憶素子の少な
くとも1素子をアクセスするアドレス解読手段、および
、上記解読手段による解読結果に応答して、上記半導体
記憶素子に記憶された内容に拘らず所定の値を出力する
出力制御手段を有することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the semiconductor memory device of the present invention includes an information storage means comprising a plurality of semiconductor memory elements, and an address decoding means for decoding an address signal to access at least one element of the plurality of semiconductor memory elements. and output control means for outputting a predetermined value regardless of the content stored in the semiconductor memory element in response to the decoding result by the decoding means.

より具体的には、本願発明の半導体記憶装置は、マトリ
クス状に配列された複数個の半導体メモリセルからなる
メモリマトリクス、アドレス信号を解読して上記メモリ
マトリクス中の所定の領域を指定する信号を発生するア
ドレスデコーダ、上記メモリマトリクスに記憶された情
報を読み出す読み出し回路、上記アドレスデコーダの発
生する信号の少なくとも一部が選択されたことを検出す
る選択検出回路、および、上記選択検出回路が選択を検
出したときには予め定められた所定の情報を、検出しむ
いときには上記読み出し回路からの情報を出力する制御
回路を有する。
More specifically, the semiconductor memory device of the present invention includes a memory matrix made up of a plurality of semiconductor memory cells arranged in a matrix, and a signal that decodes an address signal to specify a predetermined area in the memory matrix. a readout circuit that reads information stored in the memory matrix; a selection detection circuit that detects selection of at least a part of the signal generated by the address decoder; and a selection detection circuit that detects selection. It has a control circuit that outputs predetermined information when detected, and outputs information from the readout circuit when detected.

〔作用〕[Effect]

本発明によれば、半導体記憶素子をアクセスするアドレ
ス解読手段(アドレスデコーダ)の解あ7結果に応答し
て救済領域の検出を行うことができるので、救済用のア
ドレス解読手段(救済用デコーダ)を別途設ける必要が
ない。
According to the present invention, a relief area can be detected in response to the solution result of the address decoder (address decoder) for accessing the semiconductor memory element, so the relief area can be detected by the address decoder (relief decoder) There is no need to provide a separate one.

さらに、半導体記憶素子をアクセスするアドレス解読手
段(アドレスデコーダ)によって指定される領域単位で
欠陥救済を行うことができ、救済の柔軟性を高めること
ができる。
Furthermore, defect relief can be performed in units of areas specified by address decoding means (address decoder) that accesses the semiconductor memory element, thereby increasing the flexibility of relief.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings.

第1図に本発明の一実施例の半導体記憶装置の構成国を
示す。第1図に示すように、アドレスデコーダ100と
メモリセルアレー300との間にデコード結果出力線(
ワード線)110と結合されるような選択検出手段20
0を設け、救済すべき領域320へのアクセスを検出す
る。
FIG. 1 shows the constituent countries of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a decoding result output line (
selection detection means 20 coupled to the word line) 110;
0 is set, and access to the area 320 to be rescued is detected.

本実施例では、アドレスデコーダ100でデコードされ
た各アドレスは、メモリセルアレー300内の1ワード
(メモリセルアレー300内で横方向にならぶ例えば1
6ビツトの領域)を指定するものであり、このワード単
位で救済を行うものである。検出結果は検出信号線12
0により固定値出力手段400に送られ、救済領域の論
理値に応じて強制的に所定の固定値を出力する。より具
体的な動作は次のとおりである。
In this embodiment, each address decoded by the address decoder 100 corresponds to one word in the memory cell array 300 (for example, one word arranged horizontally in the memory cell array 300).
6-bit area), and relief is performed in units of words. The detection result is detected on the detection signal line 12.
0 is sent to the fixed value output means 400, which forcibly outputs a predetermined fixed value according to the logical value of the relief area. More specific operations are as follows.

救済領域320が本来“′O″が連続すべき領域である
場合を例に説明する。この救済領域320がアクセスさ
れると、救済領域320を選択するデコード結果出力線
110b、C,f、g+ h。
An example will be explained in which the relief area 320 is an area where "'O" should originally be continuous. When this relief area 320 is accessed, decoding result output lines 110b, C, f, g+h select the relief area 320.

iのいずれかがイネーブルとなる。選択検出手段200
は救済領域320を選択するデコード結果出力線と電気
的に接続されており、救済領域320へのアクセスを検
出する。検出結果は検出信号線120を介して固定値出
力手段400へ伝えられ、現実のメモリセルアレー内の
内容、すなわち救済領域320内に現実に書き込まれて
いる情報に拘らず、固定値出力手段400より全ピッi
〜II OIIを出力する。しかし、非救済領域310
の任意のアドレスがアクセスされると、救済領域320
を選択するデコード結果出力線はイネーブルとはならむ
い。したがって選択検出手段200は救済領域320を
選択するデコート結果出力線のイネーブルを検出せず、
固定値出力手段4. OOは読み出し回路(センスアン
プ)302を介して読み出されたROMの内容、すなわ
ち非救済領域310内に現実に書き込まれている情報を
そのまま出力する。
One of i is enabled. Selection detection means 200
is electrically connected to the decoding result output line for selecting the relief area 320, and detects access to the relief area 320. The detection result is transmitted to the fixed value output means 400 via the detection signal line 120, and the fixed value output means 400 is transmitted to the fixed value output means 400 through the detection signal line 120. More whole pi
~II Output OII. However, the non-relief area 310
When any address in the relief area 320 is accessed, the relief area 320
The decode result output line that selects is not equivalent to enable. Therefore, the selection detection means 200 does not detect the enable of the decoding result output line that selects the relief area 320,
Fixed value output means 4. OO outputs the contents of the ROM read out via the read circuit (sense amplifier) 302, that is, the information actually written in the non-relief area 310 as is.

本実施例のように、本来(l OIIが連続すべき領域
をO(欠陥)救済領域と呼ぶことにする。同様に、本来
(11IIが連続すべき領域を1 (欠陥)救済領域と
呼ぶことにする。
As in this example, the area where (lOII should be continuous) will be called the O (defect) relief area.Similarly, the area where (11II should originally be continuous) will be called the 1 (defect) relief area. Make it.

選択検出手段200とデコード結果出力線110との電
気的接続を行なう箇所は、救済領域を定めれば決定でき
る。したがって1例えばメモリセルアレー300がマス
クROMで構成される場合には、本記憶装置の製造工程
でマスクROMにデータを書き込む際、このデータに従
って救済領域を定め、この救済領域の配置に対応して選
択検出手段200とデコード結果出力線110との電気
的接続を決定することができる。
The location where the selection detection means 200 and the decoding result output line 110 are electrically connected can be determined by defining the relief area. Therefore, 1. For example, if the memory cell array 300 is composed of a mask ROM, when writing data to the mask ROM in the manufacturing process of this memory device, a relief area is determined according to this data, and a relief area is determined according to the arrangement of this relief area. The electrical connection between the selection detection means 200 and the decoding result output line 110 can be determined.

またメモリセルアレー300は電気的に書き込み可能な
ROM (EPROM)で構成されても良い。このとき
には、このEPROMを書き込むための回路が設けられ
る。次に第2図を用いて、さらに具体的な実施例を説明
する。アドレスデコーダ100はアドレスをデコードし
、その出力であるワード線(デコード結果出力線)にデ
コード結果を出力する。さらにワード線110と電気的
に接続可能であり、救済領域へのアクセスを検出する検
出fi210、検出線の論理を反転するゲート411)
メモリセルアレー300の格納データとゲート411の
出力とから救済領域アクセス時のみ固定値110 ++
を出力するゲート410を含んで構成される。
Furthermore, the memory cell array 300 may be configured with an electrically writable ROM (EPROM). At this time, a circuit for writing to this EPROM is provided. Next, a more specific embodiment will be described using FIG. 2. Address decoder 100 decodes an address and outputs the decode result to a word line (decode result output line) that is its output. Further, a detection fi 210 that can be electrically connected to the word line 110 and detects access to the relief area, and a gate 411 that inverts the logic of the detection line)
Based on the data stored in the memory cell array 300 and the output of the gate 411, a fixed value of 110 is determined only when accessing the relief area.
The configuration includes a gate 410 that outputs.

メモリセルアレー300 (ROM)の格納データは、
救済領域320と非救済領域310とからなる。救済領
域320をアクセスするワード線110b、c、f、g
、h、iのみを1図中○印で示した接続パターン2↓1
で検出線210へ電気的に接続する。検出線210は救
済領域320をアクセスするすべてのワード線110b
、c。
The data stored in the memory cell array 300 (ROM) is
It consists of a relief area 320 and a non-relief area 310. Word lines 110b, c, f, g accessing the relief area 320
Connection pattern 2↓1 where only , h, and i are marked with ○ marks in figure 1
It is electrically connected to the detection line 210. The detection line 210 connects all word lines 110b accessing the relief area 320.
,c.

f、g、h、iのOR論理となっている。したがって、
救済領域320をアクセスする110b。
It is an OR logic of f, g, h, and i. therefore,
Accessing the relief area 320 110b.

C+ L gt ++ 1のワード線のうちの任意の一
つがアクセスされることによって検出線210は論理値
111 ++となる。これは、ゲート411により論理
値II O++としてANDゲート410の一方の入力
として入力される。このため、メモリセルアレー300
から読み出されるデータに関係なく、ゲート410の出
力は“0″となる。このため本来II O++が出力さ
れるべき救済領域320に欠陥があって救済領域320
内に現実に書き込まれているデータにrr 1 ++が
混在していても所望のデータ“O++を出力することが
できる。尚、メモリセルアレー内のデータを読み出すた
めの手段、例えばセンスアンプ等は図面では省略して表
記している。
Any one of the C+ L gt ++ 1 word lines is accessed, causing the detection line 210 to take a logic value of 111 ++. This is input by gate 411 as a logical value II O++ as one input to AND gate 410 . Therefore, the memory cell array 300
Regardless of the data read from the gate 410, the output of the gate 410 will be "0". Therefore, there is a defect in the relief area 320 to which II O++ should originally be output, and the relief area 320
Even if the data actually written in the memory cell array contains rr 1 ++, the desired data "O++" can be output. Note that the means for reading the data in the memory cell array, such as a sense amplifier, etc. It is omitted in the drawing.

一方、非救済領域310の任意のアドレスがアクセスさ
れるときは、救済領域320をアクセスするワード線1
10b、c、ft gt ++ iはすべて論理値11
0 Hのままであるから、検出線210は論理値゛′O
nである。したがってゲート410へは論理値II I
 ++が入力されるため、ルモリセルアレ−300から
読み出されるデータがそのまま出力される。
On the other hand, when an arbitrary address in the non-relief area 310 is accessed, the word line 1 accessing the relief area 320
10b, c, ft gt ++ i are all logical value 11
Since it remains at 0 H, the detection line 210 has the logical value 'O
It is n. Therefore, the logic value II I to gate 410
Since ++ is input, the data read from the Lumory cell array 300 is output as is.

第3図は第2図中のワード線110と検出線210を接
続する接続パターン211の構成例を示す図である。接
続パターンは接続ダイオード250で構成され、検出線
210は抵抗値の高い抵抗260を介して接地される。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration example of a connection pattern 211 that connects the word line 110 and the detection line 210 in FIG. 2. The connection pattern is composed of a connection diode 250, and the detection line 210 is grounded via a resistor 260 with a high resistance value.

検出線210に接続されたワード線110cが選択され
ると、アドレスデコーダ100内のワード線ドライバ1
11(ただし第2図では省略)から接続ダイオード25
0を介して検出線210に電流が流れる。これにより検
出線210の電位レベルがHighとなり、論理値1と
して救済領域へのアクセスを検出することができる。
When the word line 110c connected to the detection line 210 is selected, the word line driver 1 in the address decoder 100
11 (but omitted in Figure 2) to connection diode 25
A current flows through the detection line 210 through 0. As a result, the potential level of the detection line 210 becomes High, and access to the relief area can be detected as a logic value of 1.

第4図は接続パターンの他の構成例を示す図である。接
続パターンは接続トランジスタ251で構成され、検出
線210はプリチャージ1〜ランジスタ261を介して
電源に接続される。検出線210はプリチャージトラン
ジスタ261により、あらかじめHighレベルに保た
れる。検出線210に接続されたワード線が選択される
と、ワード線ドライバ111を介して接続1−ランジス
タ251のゲートに電圧が印加され、接続1−ランジス
タ251がオンとなる。これにより検出線210はディ
スチャージされ電位レベルがLowとなり、インバータ
212を介して論理値1として救済領域のアクセスを検
出することができる。
FIG. 4 is a diagram showing another example of the configuration of the connection pattern. The connection pattern is composed of a connection transistor 251, and the detection line 210 is connected to the power supply via precharge 1 to transistor 261. The detection line 210 is kept at a high level in advance by a precharge transistor 261. When the word line connected to the detection line 210 is selected, a voltage is applied to the gate of the connection 1 transistor 251 via the word line driver 111, and the connection 1 transistor 251 is turned on. As a result, the detection line 210 is discharged and the potential level becomes Low, and access to the relief area can be detected as a logic value 1 via the inverter 212.

尚、この接続パターンのさらに他の構成例としては、後
述するように、メモリセルを用いて構成することももち
ろん可能である。
Note that, as a further example of the configuration of this connection pattern, it is of course possible to configure it using memory cells, as will be described later.

上記のように本実施例によれば、メモリセルアレー30
0の格納データの並び方に関係なく、アドレスデコーダ
の出力単位でO欠陥救済領域を選択することができる。
As described above, according to this embodiment, the memory cell array 30
Regardless of the arrangement of the stored 0 data, the O defect relief area can be selected in units of address decoder outputs.

上述の従来技術の手法で本発明と同様の効果を得るため
には、ROMをアクセスするためのアドレスデコーダと
は別に、これと同じ構成の救済用のアドレスデコーダを
1個余分に持たなければならない。このアドレスデコー
ダを構成する場合、例えばIMbit(8ビツトX12
8にワード構成)ROMでは、アドレス線とデータ線と
の交点にトランジスタの目を入れて構成したとすると、
2.125M個のトランジスタが必要である。しかし上
述の実施例の構成では128に個のトランジスタで十分
であり、従来技術の1/17で済むという効果がある。
In order to obtain the same effect as the present invention using the above-mentioned prior art method, it is necessary to have one extra address decoder for relief with the same configuration in addition to the address decoder for accessing the ROM. . When configuring this address decoder, for example, IMbit (8 bits x 12
8 word configuration) In a ROM, if the transistor is placed at the intersection of the address line and the data line, then
2.125M transistors are required. However, in the configuration of the above-described embodiment, 128 transistors are sufficient, which is 1/17 of the conventional technology.

尚、上述した構成要素のうち、アドレスデコーダ100
.メモリセルアレー300.読み出し手段302につい
ては、従来公知の技術を用いて構成することができるこ
とは言うまでもない。
Note that among the above-mentioned components, the address decoder 100
.. Memory cell array 300. It goes without saying that the reading means 302 can be constructed using conventionally known techniques.

第5図に本発明の他の実施例を示す。本実施例は、第2
図に示した実施例の変形例であって、メモリセルアレー
のtr 1 nのみからなる領域における欠陥を救済す
る場合の実施例である。第2図で示した実施例との構成
上の差異はゲート420および421の部分にある。
FIG. 5 shows another embodiment of the invention. In this example, the second
This is a modification of the embodiment shown in the figure, and is an embodiment in which a defect in a region consisting only of tr 1 n of a memory cell array is relieved. The difference in structure from the embodiment shown in FIG. 2 lies in the gates 420 and 421.

動作については第2図に示した実施例とほぼ同様であり
、1救済領域330へのアクセス時のみ固定値tl I
 IIをゲート420から出力する。これき込まれてい
るデータにLL O11が混在していても所望のデータ
“1”を出力することができる。
The operation is almost the same as the embodiment shown in FIG.
II is output from gate 420. Even if LL O11 is mixed in the data written in this way, the desired data "1" can be output.

第6図に本発明の他の実施例を示す。本実施例は、上述
の2つの実施例を組み合わせたものであり、本来″0′
″が連続すべき領域320における欠陥と本来It I
 IIが連続すべき領域330における欠陥の両方を救
済する場合に関する。
FIG. 6 shows another embodiment of the invention. This embodiment is a combination of the above two embodiments, and is originally "0'".
Defects in the region 320 where `` should be continuous and originally It I
II relates to the case where both defects in the region 330 that should be continuous are repaired.

デコーダ100の出力であるワード線110のうち、O
救済領域320へのアクセス用のワード線110f、g
+ h、iと電気的に接続されたO救済領域のアクセス
を検出する検出線210と、この検出線210の論理を
反転するゲート431.1救済領域330へのアクセス
用のワード線110b、cと電気的に接続されたl救済
領域のアクセスを検出する検出線220と、この検出線
220の論理を伝達するゲート432.メモリセルアレ
ー300の格納データとゲート431および432の出
力とから救済領域アクセス時のみ固定値′″0″または
“1″を出力するゲート430を含んで構成される。メ
モリセルアレー内の領域のうち310は非救済領域であ
る。
Of the word lines 110 that are the output of the decoder 100, O
Word lines 110f and 110g for accessing the relief area 320
A detection line 210 for detecting access to the O relief region electrically connected to +h, i, and a gate 431.1 for inverting the logic of this detection line 210; word lines 110b, c for access to the relief region 330; A detection line 220 for detecting access to the relief area electrically connected to the gate 432 . It is configured to include a gate 430 that outputs a fixed value ``0'' or ``1'' only when accessing a relief area based on the data stored in the memory cell array 300 and the outputs of gates 431 and 432. 310 of the regions in the memory cell array are non-relief regions.

O救済領域320への任意のアドレスのアクセスによっ
て検出線210は論理値111 +7となり、ゲート4
31により論理値″′O″として複合ゲート430へ入
力される。このため、ROMから読み出されるデータや
ゲート432の出力に関係なく、複合ゲート430の出
力は0″となる。したがって本来“′O″が出力される
べきO救済領域320に欠陥があっても救済することが
できる。
By accessing the O relief area 320 at an arbitrary address, the detection line 210 becomes the logical value 111 +7, and the gate 4
31 is input to the composite gate 430 as a logic value "'O". Therefore, regardless of the data read from the ROM or the output of the gate 432, the output of the composite gate 430 will be 0''. Therefore, even if there is a defect in the O relief area 320, which should originally output “'O”, it can be relieved. can do.

また同様に、1救済領域330の任意のアドレスのアク
セスによって、ROMから読み出されるデータに関係な
く、複合ゲート430の出力はII I IIとなる。
Similarly, by accessing any address in the 1-relief area 330, the output of the composite gate 430 becomes II II II, regardless of the data read from the ROM.

したがって本来111 IIが出力される八き1救済領
域330に欠陥があっても救済することができる。
Therefore, even if there is a defect in the 8/1 relief area 330 where 111 II is originally output, it can be relieved.

第7図に本発明の他の実施例を示す。本実施例は、一つ
のワードを複数のフィールドに分割し、このフィールド
単位で救済を行う場合の実施例である。
FIG. 7 shows another embodiment of the present invention. This embodiment is an example in which one word is divided into a plurality of fields and repair is performed in units of fields.

16ビツトからむる1つのワードが、各4ビツトの4つ
のフィールドから構成され、各フィールドに対応して検
出線210または220と固定値出力手段400が設け
られている。フィールドごとにO救済フィールド、1救
済フイールドとして固定値を定める。検出線とワード線
との接続211゜221により、フィールド単位での救
済の選択が可能となるので、同一アドレスの1ワード中
にO救済フィールド320.1救済フイールド330、
非救済フィールド310を混在させることが可能となる
。また、各固定値出力手段は、O救済、1救済だけでな
く、II Ouと1′″が混在するパターンの救済も回
路の構成により可能である。
One word of 16 bits is composed of four fields of 4 bits each, and a detection line 210 or 220 and fixed value output means 400 are provided corresponding to each field. Fixed values are determined for each field as O relief field and 1 relief field. Connections 211 and 221 between the detection line and the word line make it possible to select relief in field units, so O relief field 320.1 relief field 330,
It becomes possible to mix non-relief fields 310. Moreover, each fixed value output means is capable of not only O relief and 1 relief but also relief of a pattern in which II Ou and 1'' are mixed, depending on the circuit configuration.

本実施例では、1ワードは各4ビツトの4つのフィール
ドで構成され、各フィールドのビット幅は等しいが、各
フィールドのビット幅、■ワードのフィールド数は任意
の構成をとることが可能である。
In this embodiment, one word consists of four fields of 4 bits each, and the bit width of each field is equal, but the bit width of each field and the number of fields in a word can have any configuration. .

本実施例によれば、1つのワード線でアクセスされる1
ワードを複数のフィールドに分割し、このフィールドを
単位として救済、非救済の設定。
According to this embodiment, one
Divide a word into multiple fields and set relief or non-relief using this field as a unit.

救済時の固定値の設定が可能である。It is possible to set a fixed value at the time of rescue.

第8図に本発明の他の実施例を示す。本実施例は、1つ
のワードの中で救済を行う領域(救済フィールド)と救
済を行わない領域(非救済フィールド)とが混在し、か
つ両フィールドの区分をプログラマブルとしたものであ
る。尚救済すべき領域はO救済フィールドである。
FIG. 8 shows another embodiment of the present invention. In this embodiment, an area to be relieved (relief field) and an area not to be relieved (non-relief field) coexist in one word, and the division of both fields is programmable. Note that the area to be relieved is the O relief field.

デコーダ100の出力であるワード線110と電気的に
接続可能である、O救済領域のアクセスを検出する検出
線230、検出Ii!230の論理を反転するゲート4
41)検出線の論理値とは無関係に常に論理値II I
 IIを出力するゲート442゜ゲーh441および4
42の出力から救済フィールドを設定するプログラム領
域443)メモリセルアレー300の格納データと救済
フィールドプログラム領域443の内容から救済領域ア
クセス時のみ救済フィールドに対応して固定値を出力す
るゲート440、から構成される。
Detection line 230, which detects access to the O relief area and which is electrically connectable to word line 110 which is the output of decoder 100, detects Ii! Gate 4 that inverts the logic of 230
41) Always logical value II regardless of the logical value of the detection line
Gates 442° and 441 and 4 output II.
443) A gate 440 outputs a fixed value corresponding to the relief field only when the relief area is accessed from the data stored in the memory cell array 300 and the contents of the relief field program area 443. be done.

O救済領域320の任意のアドレスのアクセスによって
検出線230は論理値II I IIとなる。これは、
ゲート441により論理値it O″′として救済フィ
ールドプログラム領域443へ入力される。
By accessing an arbitrary address in the O relief area 320, the detection line 230 becomes the logical value II II II. this is,
It is input by gate 441 to relief field program area 443 as a logic value it O'''.

また、ゲート442により論理値″′1″が常に救済フ
ィールドプログラム領域443へ入力される。
Further, the gate 442 always inputs the logic value "'1" to the relief field program area 443.

(これは、電源等の他の手段によっても供給することが
できる。)救済フィールドプログラム領域443では、
接続パターン444でゲート441または442の出力
をゲート440の入力へ接続する。ゲート441の出力
を接続すると救済フィールドとなり、ゲート442の出
力を接続すると非救済フィールドとなる。このため、救
済領域がアクセスされると、ROMから読み出されるデ
ータに関係なく、救済フィールドに指定した範囲のみゲ
ート4.40の出力はII OIIとなる。それ以外は
ROMの内容がそのまま出力される。したがって、O救
済領域320の救済フィールドに欠陥があっても救済す
ることができる。
(This can also be supplied by other means such as a power supply.) In the relief field program area 443:
A connection pattern 444 connects the output of gate 441 or 442 to the input of gate 440. When the output of the gate 441 is connected, it becomes a relief field, and when the output of the gate 442 is connected, it becomes a non-relief field. Therefore, when the relief area is accessed, the output of the gate 4.40 becomes II OII only in the range designated as the relief field, regardless of the data read from the ROM. Otherwise, the contents of the ROM are output as is. Therefore, even if there is a defect in the relief field of the O relief region 320, it can be relieved.

尚、救済フィールドプログラム領域における接続パター
ン444は、先に第3図あるいは第4図に示したような
構成とすることができることは言うまでもない。さらに
、単なる金属配線のオーミック接続で構成することもで
きる。
It goes without saying that the connection pattern 444 in the relief field program area can have a configuration as shown in FIG. 3 or FIG. 4 above. Furthermore, it can also be configured by a simple ohmic connection of metal wiring.

第9図は、第8図に示した実施例におけるO救済フィー
ルドを1救済フイールドに変えた場合の実施例を示す図
である。
FIG. 9 is a diagram showing an embodiment in which the O relief field in the embodiment shown in FIG. 8 is changed to a 1 relief field.

デコーダ100の出力であるワード線110と電気的に
接続可能である、1救済領域のアクセスを検出する検出
線240、検出線240の論理を伝達するゲート451
)検出線の論理値とは無関係に常に論理値LL OII
を出力するゲート452゜ゲート451および452の
出力から救済フィールドを設定するプログラム領域45
3.メモリセルアレー300の格納データと救済フィー
ルドプログラム領域453の内容から救済領域アクセス
時のみ救済フィールドに対応して固定値を出力するゲー
ト450、から構成される。
A detection line 240 for detecting access to one relief area, which is electrically connectable to the word line 110 which is the output of the decoder 100, and a gate 451 for transmitting the logic of the detection line 240.
) Always logical value LL regardless of the logical value of the detection line OII
A gate 452 that outputs a program area 45 that sets a relief field from the outputs of gates 451 and 452.
3. It consists of a gate 450 that outputs a fixed value corresponding to the relief field only when the relief area is accessed from the data stored in the memory cell array 300 and the contents of the relief field program area 453.

第8図に示す実施例と同様に動作し、1救済領域330
の救済フィールドに欠陥があっても救済することができ
る。
It operates similarly to the embodiment shown in FIG.
It is possible to recover even if there is a defect in the relief field.

第10図は、第8図および第9図に示した実施例を組合
せた実施例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing an embodiment in which the embodiments shown in FIGS. 8 and 9 are combined.

第10図に示すように、第8図の実施例と同様のO救済
領域のフィールド救済と、第9図の実施例と同様の1救
済領域のフィールド救済を組合せるべく、第6図の実施
例と同様に複合ゲート460を用いている。
As shown in FIG. 10, in order to combine the field relief of the O relief area similar to the embodiment of FIG. 8 and the field relief of the one relief area similar to the embodiment of FIG. A composite gate 460 is used as in the example.

第11図は、第6図および第10図に示した実施例を組
合せた実施例を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing an embodiment in which the embodiments shown in FIGS. 6 and 10 are combined.

第11図に示すように、第6図の実施例と同様のO救済
領域および工救済領域の救済と第10図の実施例と同様
のO救済領域のフィールド救済および1救済領域のフィ
ールド救済とを組合せるべく、第6図の実施例の複合ゲ
ートを拡張した多段の複合ゲート460,470を用い
ている。
As shown in FIG. 11, relief of the O relief area and the work relief area similar to the embodiment of FIG. 6, and field relief of the O relief area and field relief of the 1 relief area similar to the embodiment of FIG. In order to combine these, multistage composite gates 460 and 470, which are expanded versions of the composite gate of the embodiment shown in FIG. 6, are used.

第12図は、第11図に示した実施例の変形例を示す図
であり、第11図に示した実施例における4本の検・出
線210,220,230,240と接続パターン21
1,221,231,241)すなわち選択検出手段を
、メモリセルアレー300の一部にて構成した実施例で
ある。換言すれば、選択検出手段がメモリセルアレー3
00内のROMセルと同様のROMで構成される実施例
である。
FIG. 12 is a diagram showing a modification of the embodiment shown in FIG.
1, 221, 231, 241) That is, this is an embodiment in which the selection detection means is configured as a part of the memory cell array 300. In other words, the selection detection means is the memory cell array 3.
This is an example configured with a ROM similar to the ROM cell in 00.

メモリセルアレー内の救済、非救済領域の配置は第11
図の場合と同じである。
The arrangement of relief and non-relief areas in the memory cell array is as follows:
Same as in the figure.

第12図に示すように、検出線210,220゜230
.240の代わりに、検出カラム215゜225.23
5,245を設けた。メモリアクセスの際に検出カラム
のデータも読み出される。尚。
As shown in FIG. 12, the detection lines 210, 220° 230
.. Detection column 215°225.23 instead of 240
5,245 was established. Data in the detection column is also read during memory access. still.

検出カラムのデータを読み出すための手段、例えばセン
スアンプ等は図面では省略して表記している。検出カラ
ムのデータは、アクセスされたワードがそれぞれの救済
領域であるかどうかを′1″rr O++で示しており
、これらのデータがそのまま固定値出力手段へ伝達され
る。
Means for reading data from the detection column, such as a sense amplifier, are omitted in the drawings. The data in the detection column indicates whether the accessed word is in the respective relief area by '1''rr O++, and these data are transmitted as they are to the fixed value output means.

本実施例によれば、メモリセルアレーのビット幅をわず
かに増やすだけで、先に述べた第11図の実施例と同様
の効果を容易に得ることができる。
According to this embodiment, the same effect as the embodiment shown in FIG. 11 described above can be easily obtained by only slightly increasing the bit width of the memory cell array.

また、本実施例のワード線選択検出手段200は、メモ
リセルアレーの任意の部分に設けることができる。さら
にメモリセルアレーの外部に設けることも可能である。
Further, the word line selection detection means 200 of this embodiment can be provided in any part of the memory cell array. Furthermore, it is also possible to provide it outside the memory cell array.

第13図は、アドレスデコーダが行デコーダ101)列
デコーダ102から構成される場合の実施例を示す図で
ある。
FIG. 13 is a diagram showing an embodiment in which the address decoder is composed of a row decoder 101) and a column decoder 102.

第13図に示すように、例えば12ビツトからなるアド
レスのうち、上位8ビツトが行デコーダ101に、下位
4ビツトが列デコーダ102に入力され、各々デコード
される。行デコーダの出力はワード線110に、列デコ
ーダの出力はビット線115に現われる。
As shown in FIG. 13, of an address consisting of, for example, 12 bits, the upper 8 bits are input to the row decoder 101 and the lower 4 bits are input to the column decoder 102, where they are respectively decoded. The output of the row decoder appears on word line 110 and the output of the column decoder appears on bit line 115.

メモリセルアレー300に格納されたデータは。The data stored in memory cell array 300 is as follows.

ワード線110とビット線115の組み合わせにより読
み出される。したがって、ワード、I/ビット線選択検
出手段201をワード線110およびビット線115と
結合するように設け、救済領域のアクセスを検出する。
It is read by a combination of word line 110 and bit line 115. Therefore, word/I/bit line selection detection means 201 is provided to be coupled to word line 110 and bit line 115 to detect access to the relief area.

検出結果は検出信号線120を介して固定値出力手段4
00に伝達され、欠陥救済が行なわれる。
The detection result is sent to the fixed value output means 4 via the detection signal line 120.
00, and defect relief is performed.

本実施例によれば、行デコーダと列デコーダからアドレ
スデコーダが構成される場合にも、前述の各実施例と同
様の効果を得ることができる。
According to this embodiment, even when an address decoder is composed of a row decoder and a column decoder, the same effects as those of the above-described embodiments can be obtained.

第14図は、メモリセルアレー300として、電気的に
書き込み可能なEPROMを用いた実施例を示す図であ
る。本実施例ではメモリセルアレー300のみならず選
択検出手段200もEPRONで構成される場合を示し
たが、一方が通常のROM(マスクROM)であっても
構わない。
FIG. 14 is a diagram showing an example in which an electrically writable EPROM is used as the memory cell array 300. In this embodiment, not only the memory cell array 300 but also the selection detection means 200 are constructed of EPRON, but one of them may be a normal ROM (mask ROM).

第14図に示すように本実施例では、データバッファ7
00にラッチしたデータと書き込み制御信号730とに
応答して、メモリセルアレー300および選択検出手段
200を構成するEPROMの書き込み時に、高電圧V
ppを書き込み制御高電圧Vpp’に変換する書き込み
回路720、あらかじめ用意した救済条件とデータバッ
ファ700にランチしたデータとの一致を判定して、選
択検出手段200へ救済条件成立信号740を出力する
救済判定回路710が付加されている。
As shown in FIG. 14, in this embodiment, the data buffer 7
In response to the data latched to 00 and the write control signal 730, the high voltage V
A write circuit 720 that converts pp into a write control high voltage Vpp', a relief circuit that determines whether a pre-prepared relief condition matches the data launched into the data buffer 700, and outputs a relief condition fulfillment signal 740 to the selection detection means 200. A determination circuit 710 is added.

本実施例においては、書き込み制御信号730がII 
I ++であるときをメモリセルへのデータ書き込み状
態、gL O++であるときをデータ読み出し状態とす
る。書き込み回路720は、書き込み制御信号730が
11171)すなわちデータ書き込み状態の場合には、
高電圧Vppを分圧した書き込み制御用高電圧Vpp 
 を発生し、選択検出手段200およびメモリセルアレ
ー300へ供給する。尚、書き込み制御信号730がI
I Q ++、すなわちデータ読み出し状態の場合には
、Vpp  を出力しない。
In this embodiment, the write control signal 730 is
When it is I++, it is a data write state to the memory cell, and when it is gL O++, it is a data read state. When the write control signal 730 is in the data write state (11171), the write circuit 720
High voltage Vpp for write control, which is obtained by dividing high voltage Vpp
is generated and supplied to selection detection means 200 and memory cell array 300. Note that the write control signal 730 is
In the case of IQ++, that is, in the data read state, Vpp is not output.

メモリセルアレー300は、Vpp、 Vpp’ Lニ
ーよりワード線の選択されたアドレスへ、データバッフ
ァに保持された値を書き込む。
The memory cell array 300 writes the value held in the data buffer to the selected address of the word line from Vpp, Vpp'L knee.

一方、救済判定回路710は、救済条件としてデータパ
ターンを保持し、データバッファにラッチされたデータ
とこれを比較する。より具体的にはデータバッファから
供給されるデータのビット幅の数と等しい数のコンパレ
ータと、これらのコンパレータの出力の論理積をとるA
ND回路を含んで構成される。このAND回路の出力は
救済条件成立信号として出力される。各コンパレータの
一方の入力は上記データバッファから供給されるデータ
の各ビットの情報であり、他方の入力は予め設定された
救済条件を表すデータの各ビットの情報である。救済条
件を表すデータは、例えば先の実施例で言うO救済領域
を救済対象とする場合には全ビットOである。上記デー
タバッファから供給されるデータと救済条件を表すデー
タとが一致すると全てのコンパレータが一致を検出し、
したがって救済条件成立信号740が出力される。
On the other hand, the relief determination circuit 710 holds a data pattern as a relief condition and compares it with the data latched in the data buffer. More specifically, the number of comparators equal to the number of bit widths of data supplied from the data buffer and the AND of the outputs of these comparators are A.
It is configured including an ND circuit. The output of this AND circuit is output as a relief condition fulfillment signal. One input of each comparator is information on each bit of data supplied from the data buffer, and the other input is information on each bit of data representing a preset relief condition. The data representing the relief condition is, for example, all bits O when the O relief area mentioned in the previous embodiment is to be relieved. When the data supplied from the data buffer and the data representing the relief condition match, all comparators detect the match,
Therefore, a relief condition fulfillment signal 740 is output.

これは選択検出手段200へ伝達される。This is transmitted to the selection detection means 200.

選択検出手段200においては、データ書き込みの状態
にあり、かつ救済条件成立信号740がイネーブルであ
る場合に、アドレスデコーダ100が選択するワード線
と検出線との接続に関する情報をVpp+ Vpp’ 
を用いて書き込む。
In the selection detection means 200, when data is being written and the relief condition fulfillment signal 740 is enabled, information regarding the connection between the word line selected by the address decoder 100 and the detection line is set to Vpp+Vpp'.
Write using.

第15図は、第14図中の選択検出手段200の構成例
を示す図であり、デコード結果出力線110と検出[2
10の間の接続を形成するための構成を示している。
FIG. 15 is a diagram showing an example of the configuration of the selection detection means 200 in FIG.
1 shows an arrangement for forming connections between 10;

書き込み状態においては、書き込み制御信号730が“
1”となっており、ゲートT r 283がONとなっ
ている。この状態で図中のワード線110が選択される
と、ANDゲート281の出力が“1”となってゲート
T r 282がONとむるために、高電圧VppがE
PROMメモリセル270のゲートに印加される。さら
に救済条件が成立して救済条件成立信号740が111
71となると、ゲートTr280がONとなるために書
き込み制御用高電圧Vpp’ がゲートTr283を介
してEPROMメモリセル270のドレインに印加され
る。これらによってEPROMメモリセル270のブロ
ーティングゲートに電子がトラップされ、ワード線と検
出線との接続がプログラムされたことになる。
In the write state, the write control signal 730 is “
1", and the gate T r 283 is turned on. When the word line 110 in the figure is selected in this state, the output of the AND gate 281 becomes "1", and the gate T r 282 is turned on. In order to turn on, the high voltage Vpp is
Applied to the gate of PROM memory cell 270. Furthermore, the relief condition is satisfied and the relief condition fulfillment signal 740 becomes 111.
71, the gate Tr280 is turned on, so that the write control high voltage Vpp' is applied to the drain of the EPROM memory cell 270 via the gate Tr283. As a result, electrons are trapped in the bloating gate of the EPROM memory cell 270, and the connection between the word line and the detection line is programmed.

次に、読み出し状態においては、書き込み制御信号73
0が“OIJとなっているので、ゲートTr284,2
85がONとなっている。またこの状態ではゲートTr
282,283はOFFである。ROMのアクセスによ
り図中のワード線110が選択されるとゲートTr28
5を介して電流がEPROMメモリセル270のゲート
に流れ、ゲート電位がHighとなる。同時にゲートT
r286もONとなるので、あらかじめVccにプリチ
ャージされた検出線210の電荷が、ゲートTr286
,284を通ってEPROMメモリセル270のドレイ
ンへ流れる。
Next, in the read state, the write control signal 73
Since 0 is “OIJ”, gate Tr284,2
85 is ON. Also, in this state, the gate Tr
282 and 283 are OFF. When the word line 110 in the figure is selected by accessing the ROM, the gate Tr28
5, current flows to the gate of the EPROM memory cell 270, and the gate potential becomes High. Gate T at the same time
Since r286 is also turned ON, the charge of the detection line 210, which has been precharged to Vcc, is transferred to the gate Tr286.
, 284 to the drain of EPROM memory cell 270.

EPROMメモリセル270が“1”にプログラムされ
ている場合、すなわちフローティングゲートに電子がト
ラップされている場合は、ゲートバイアスが印加されて
もEPROMメモリセル270はONとはならないので
、検出線210の電位は保たれる。これは救済領域への
アクセスを意味することになる。第15図はO救済領域
を指定した場合であり、検出線210の論理値を反転し
て、検出信号線の論理値としている。
When the EPROM memory cell 270 is programmed to "1", that is, when electrons are trapped in the floating gate, the EPROM memory cell 270 will not turn on even if a gate bias is applied, so the detection line 210 will not turn on. The potential is maintained. This would mean access to relief areas. FIG. 15 shows the case where the O relief area is specified, and the logic value of the detection line 210 is inverted to be the logic value of the detection signal line.

マタ、EPROMメ−T−IJ−t’#270が11 
Q 71 ニブログラムされている場合、すなわちフロ
ーティングゲートに電子がトラップされていない場合は
、E P ROMメモリセル270はONとなるので、
検出線210からは電荷がディスチャージして電位が低
下する。これは非救済領域へのアクセスを意味する。
Mata, EPROM mail T-IJ-t'#270 is 11
Q71 When nibprogrammed, that is, when no electrons are trapped in the floating gate, the E P ROM memory cell 270 is turned on, so
Charges are discharged from the detection line 210, and the potential decreases. This means access to non-relief areas.

本実施例によれば、EPROMメモリセルアレーにデー
タを書き込む際に救済領域の設定を同時に行なうことが
可能である。
According to this embodiment, it is possible to set a relief area at the same time when writing data to the EPROM memory cell array.

また本実施例によれば、半導体記憶装置の製造後におい
ても、欠陥救済領域を設定することが可能である。した
がってユーザが救済領域を設定することも可能である。
Further, according to this embodiment, it is possible to set a defect relief area even after the semiconductor memory device is manufactured. Therefore, it is also possible for the user to set a relief area.

第16図は、選択検出手段200における、デコード結
果出力線110と検出線210との間の接続をプログラ
マブルにした実施例を示す図である。選択検出手段20
0には、接続パターン制御信号205.および接続パタ
ーンクリア信号206が入力される。
FIG. 16 is a diagram showing an embodiment in which the connection between the decoding result output line 110 and the detection line 210 in the selection detection means 200 is made programmable. Selection detection means 20
0 contains the connection pattern control signal 205. and connection pattern clear signal 206 are input.

第17図は第16図中の選択検出手段200の構成例を
示す図である。接続パターン制御信号205をIL L
 ++とすることにより、ワード線と検出線との接続に
関する情報を書き込むことのできる書き込み状態に、i
t Onとすることによりメモリセルアレー300を読
みだすことのできる貌み出し状態になる。
FIG. 17 is a diagram showing an example of the configuration of the selection detection means 200 in FIG. 16. IL L connection pattern control signal 205
By setting i to the write state where information regarding the connection between the word line and detection line can be written
By setting t On, the memory cell array 300 is brought into an exposed state where it can be read.

書き込み状態においては、ゲートTr290がONとな
っているので、ROMのアクセスにより図中のワード線
110が選択されると、Vccより論理値111 ++
がクロック信号と同期してゲート296を介してラッチ
292に取り込まれる。なお、この時にはメモリセルア
レーへのデータの書き込みは行なわない。
In the write state, the gate Tr290 is ON, so when the word line 110 in the figure is selected by accessing the ROM, the logic value 111 ++ is lowered from Vcc.
is taken into latch 292 via gate 296 in synchronization with the clock signal. Note that data is not written to the memory cell array at this time.

読み出し状態においては、ゲートTr294がONとな
っている。ROMのアクセスにより図中のワード111
0が選択されると、ゲー1へTr293がONとなり、
あらかしめVccにプリチャージされた検出線210の
電荷がゲートTr293゜294を通ってゲートTr2
95のドレインへ流れる。
In the read state, the gate Tr294 is ON. Word 111 in the figure is accessed by ROM access.
When 0 is selected, Tr293 is turned on to game 1,
The charge on the detection line 210 precharged to Vcc passes through the gate Tr293 and 294 to the gate Tr2.
Flows to the drain of 95.

ラッチ292が1′1”にプログラムされている場合は
、ゲートTr295はOFFなので検出線210の電位
は保たれる。これは救済領域へのアクセスを意味するこ
とになる。
When the latch 292 is programmed to 1'1'', the gate Tr 295 is OFF, so the potential of the detection line 210 is maintained. This means access to the relief area.

ラッチ292が“O++にプログラムされている場合は
、ゲートT r 295はONなので検出線210から
は電荷がデイスヤヤージして電位が低下する。これは非
救済領域へのアクセスを意味することになる。
When the latch 292 is programmed to "O++", since the gate T r 295 is ON, charges are dissipated from the detection line 210 and the potential decreases. This means access to the non-relief area.

また、接続パターンクリア信号206をイネーブルとす
ることで、各ワード線に付随するラッチはクロック信号
と同期して全てリセットすることができる。
Furthermore, by enabling the connection pattern clear signal 206, all latches associated with each word line can be reset in synchronization with the clock signal.

第18図は、本発明の読み出し専用半導体記憶装置を内
蔵してlチップ上に集積された論理LSI(マイクロコ
ンピュータ)の構成図である。上述の各実施例を通じて
説明した本発明の半導体記憶装置は、マイクロコンピュ
ータ等の論理LSIの一部として用いることができる。
FIG. 18 is a block diagram of a logic LSI (microcomputer) that incorporates the read-only semiconductor memory device of the present invention and is integrated on an l chip. The semiconductor memory device of the present invention explained through the above embodiments can be used as part of a logic LSI such as a microcomputer.

論理LS I 500は、CPU510.RAM520
、本発明の半導体記憶装置であるROM530を含んで
構成され、これらはアドレスバス560、データバス5
70を介して接続されている。外部との通信はアドレス
バッファ540、データバッファ550を介して行なう
。本発明のROM530を用いることで、従来はROM
の欠陥のみにより不良となっていた論理LSIチップを
救済することができ、歩留り向上が図れる。
The logic LSI 500 includes a CPU 510. RAM520
, a ROM 530 which is a semiconductor memory device of the present invention, and these are connected to an address bus 560 and a data bus 5.
70. Communication with the outside is performed via address buffer 540 and data buffer 550. By using the ROM530 of the present invention, the conventional ROM
It is possible to repair a logic LSI chip that has become defective only due to the defect, and the yield can be improved.

尚本実施例において、第14図で示した書き込み制御信
号730.第16図で示した接続パターン制御信号20
5および接続パターンクリア信号206は、チップ上の
CPU510の制御により発生させることができる。ま
たこれらの信号は、マイクロコンピュータチップの外部
からピンを介して入力することももちろん可能である。
In this embodiment, the write control signal 730. shown in FIG. Connection pattern control signal 20 shown in FIG.
5 and the connection pattern clear signal 206 can be generated under the control of the CPU 510 on the chip. Of course, these signals can also be input from outside the microcomputer chip via pins.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、救済領域へのアクセスをデコード結果
出力線から検出しているので、従来より少ない素子数で
欠陥救済が実現できる。また、アドレスデコーダのデコ
ード出力の単位(例えばワード毎〉に欠陥救済領域を選
択できるので、救済領域のサイズや個数が制約されると
いうことはない。さらに、固定値出力手段の構成により
救済領域の選択の自由度を一層高くすることができる。
According to the present invention, since access to the relief area is detected from the decoding result output line, defect relief can be realized with a smaller number of elements than in the past. In addition, since the defect relief area can be selected in units of the decoded output of the address decoder (for example, word by word), the size and number of relief areas are not restricted.Furthermore, the configuration of the fixed value output means The degree of freedom of selection can be further increased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第2図は本発明の一実施例の半導体記憶装
置の構成図、第3図および第4図は接続パターンの構成
例を示す図、第5図は第2図に示した実施例の変形実施
例の半導体記憶装置の構成図、第6図は第2図および第
5図に示した実施例を組合せた変形実施例の半導体記憶
装置の構成図、第7図はフィールド単位で救済を行う変
形実施例の半導体記憶装置の構成図、第8図および第9
図はフィールドの区分をプログラマブルとした変形実施
例の半導体記憶装置の構成図、第10図は第8図および
第9図に示した実施例を組合せた変形実施例の半導体記
憶装置の構成図、第11図は第6図および第10図に示
した実施例を組合せた変形実施例の半導体記憶装置の構
成図、第12図は、メモリセルにより選択検出手段を構
成した変形実施例の半導体記憶装置の構成図、第13図
は列デに書き込み可能なROMを用いる変形実施例の半
導体記憶装置の構成図、第15図は第14図中の選択検
出手段の構成例を示す図、第16図は選択検出手段をプ
ログラマブルとした変形実施例の半導体記憶装置の構成
図、第17図は第16図中の選択検出手段の構成例を示
す図、第18図は本発明の半導体記憶装置を内蔵するマ
イクロコンピュータの構成図である。 100・・・アドレスデコーダ、101・・・行アドレ
スデコーダ、102・・・列アドレスデコーダ、110
・・・デコード結果出力線(ワード線)、111・・・
ワード線ドライバ、115・・・ビット線、120・・
・検出信号線、200・・・ワード線選択検出手段、2
01・・・ワード線/ビット線選択検出手段、205・
・接続パターンのプログラム制御信号、206・・・接
続パターンのクリア信号、210,220,230゜2
40・・・救済領域のアクセスを検出する検出線、21
1.221,231,241.4−4.4,454接続
パターン、212・・・インバータ、215゜225.
235,245・・・救済領域のアクセスを検出するカ
ラム、250・・・接続ダイオード、251・・・接続
トランジスタ、260・・・抵抗、261・・・プリチ
ャージトランジスタ、270・・・EPROMメモリセ
ル、300・・メモリセルアレー、301・・・バンク
セレクタ、302・・・読み出し回路(センスアンプ)
、310・・・非救済領域、320・・0救済領域、3
30・・・1救済領域、400・・・固定値出力手段、
410,420,430,440,450゜460.4
70・・・救済領域アクセス時に固定値を出力するゲー
ト、4.11,431,441・・・検出線の論理を反
転するゲート、421,432゜451・・・検出線の
論理を転送するゲート、442・・・常に論理値u 1
 ++を出力するゲート、452・・・常に論理値II
 O++を出力するゲート、443゜453・・・救済
フィールドプログラム領域、500論理L S I、5
10・・・CPU、520・・・RAM、530・・・
ROM、540・・・アドレスバッファ、550・・・
データバッファ、560・アドレスバス、570・・・
データバス、580・・・アドレスポート、590・・
・データポート、700・・・データバッファ、710
・・救済判定回路、720・・・書き込み回路、730
・・書き込み制御量、740・・・救済条件成立″?ド
レ入 妬 閉 12θ 捜よf開繰 纂 2 ■ 1ドし又 第 手 (2) 第 閏 禎 目 1)″し入 囁 6 図 7  ト レス、 閉 7トしに 0永LJフ4−ノ1ド 朴絞3トフィールド 第 目 111人 第 7ドしス 8 1θ 回 θ干丈ア「74−ルド 了ドレ入 第 2 図 ρ+2ン与iフイールド IIkスールト フドレ人 黛 3 図 ラータ 6 14  関 デ゛−夕 ケ゛−ツ /2 目 ブ タ 5 図 74θ fA父〉i−1τイ〒i\1L41つ 第 7 (2)
1 and 2 are configuration diagrams of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, FIGS. 3 and 4 are diagrams showing an example of the configuration of a connection pattern, and FIG. FIG. 6 is a block diagram of a semiconductor memory device according to a modified embodiment of the example. FIG. 6 is a block diagram of a semiconductor memory device according to a modified embodiment that combines the embodiments shown in FIGS. 2 and 5. FIG. 8 and 9 are configuration diagrams of semiconductor memory devices of modified embodiments for performing relief.
The figure is a block diagram of a semiconductor memory device of a modified embodiment in which field division is programmable, and FIG. 10 is a block diagram of a semiconductor memory device of a modified embodiment that combines the embodiments shown in FIGS. 8 and 9. FIG. 11 is a block diagram of a semiconductor memory device according to a modified embodiment that combines the embodiments shown in FIGS. 6 and 10, and FIG. 12 is a semiconductor memory device according to a modified embodiment in which selection detection means is configured by memory cells. FIG. 13 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to a modified embodiment using a ROM that can be written in column D; FIG. 15 is a diagram showing an example of the configuration of the selection detection means in FIG. 14; 17 is a diagram showing a configuration example of the selection detection means in FIG. 16, and FIG. 18 is a diagram showing a semiconductor memory device according to a modified embodiment in which the selection detection means is programmable. FIG. 2 is a configuration diagram of a built-in microcomputer. 100... Address decoder, 101... Row address decoder, 102... Column address decoder, 110
...Decoding result output line (word line), 111...
Word line driver, 115...Bit line, 120...
・Detection signal line, 200...word line selection detection means, 2
01... Word line/bit line selection detection means, 205.
・Connection pattern program control signal, 206...Connection pattern clear signal, 210, 220, 230°2
40...Detection line for detecting access to the relief area, 21
1.221,231,241.4-4.4,454 connection pattern, 212...Inverter, 215°225.
235, 245...Column for detecting access to relief area, 250...Connection diode, 251...Connection transistor, 260...Resistor, 261...Precharge transistor, 270...EPROM memory cell , 300...Memory cell array, 301...Bank selector, 302...Read circuit (sense amplifier)
, 310...non-relief area, 320...0 relief area, 3
30...1 relief area, 400...fixed value output means,
410,420,430,440,450°460.4
70...Gate that outputs a fixed value when accessing the relief area, 4.11, 431, 441...Gate that inverts the logic of the detection line, 421,432°451...Gate that transfers the logic of the detection line , 442... always logical value u 1
Gate that outputs ++, 452... always logic value II
Gate outputting O++, 443°453... Relief field program area, 500 logic LSI, 5
10...CPU, 520...RAM, 530...
ROM, 540...address buffer, 550...
Data buffer, 560/address bus, 570...
Data bus, 580...Address port, 590...
・Data port, 700...Data buffer, 710
... Relief judgment circuit, 720 ... Write circuit, 730
...Writing control amount, 740... Relief condition satisfied''? Dore entry envy closing 12θ Search f opening compilation 2 ■ 1 Do Shimata 2nd move (2) 1st leap 1)'' Input whisper 6 Figure 7 Torres, close 7th to 0 eternity LJ 4-no 1 do Park 3rd field 111th person 7th Dosu 8 1θ times θ dry length a "74-ld completed drain 2nd figure ρ + 2n 74θ fA father〉i-1τi〒i\1L41st 7th (2)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)複数個の半導体記憶素子からなる情報記憶手段、 アドレス信号を解読して上記複数個の半導体記憶素子の
少なくとも1素子をアクセスするアドレス解読手段、お
よび 上記解読手段による解読結果に応答して、上記半導体記
憶素子に記憶された内容に拘らず所定の値を出力する出
力制御手段を有することを特徴とする半導体記憶装置。 2)上記出力制御手段は、 上記アドレス解読手段の複数の出力線のうちの少なくと
も1つと結合された選択検出手段と、上記情報記憶手段
に記憶された情報を読み出す読み出し手段と、 上記選択検出手段が選択を検出したときに、予め定めら
れた所定の情報を出力する制御手段を有することを特徴
とする請求項1記載の半導体記憶装置。 3)上記制御手段は、上記選択検出手段が選択を検出し
ないときには、上記読み出し手段からの情報を出力する
ことを特徴とする請求項2記載の半導体記憶装置。 4)上記半導体記憶素子はマスクROMであることを特
徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の半導体記
憶装置。 5)上記半導体記憶素子は電気的に書き込み可能なRO
Mであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか
に記載の半導体記憶装置。 6)マトリクス状に配列された複数個の半導体メモリセ
ルからなるメモリマトリクス、 アドレス信号を解読して上記メモリマトリクス中の所定
の領域を指定する信号を発生するアドレスデコーダ、 上記メモリマトリクスに記憶された情報を読み出す読み
出し回路、 上記アドレスデコーダの発生する信号の少なくとも一部
が選択されたことを検出する選択検出回路、および 上記選択検出回路が選択を検出したときには予め定めら
れた所定の情報を、検出しないときには上記読み出し回
路からの情報を出力する制御回路を有することを特徴と
する半導体記憶装置。 7)上記アドレスデコーダは、上記メモリマトリクス中
のメモリセルをワード単位で指定する複数の出力信号を
発生することを特徴とする請求項6記載の半導体記憶装
置。 8)上記選択検出回路は、上記複数の出力信号の少なく
とも一つと結合することを特徴とする請求項7記載の半
導体記憶装置。 9)上記メモリマトリクス中のメモリセルのうち、上記
少なくとも一つの出力信号線によつて指定されるメモリ
セルは、本来“0”および“1”のうちのいずれかの値
が格納されるべきメモリセルであることを特徴とする請
求項8記載の半導体記憶装置。 10)上記ワード単位で指定される領域は、さらに複数
の領域に分割され、 上記制御回路は、上記分割された領域単位に、上記選択
検出回路が選択を検出したときには予め定められた所定
の情報を、検出しないときには上記読み出し回路からの
情報を出力することを特徴とする請求項6記載の半導体
記憶装置。 11)上記選択検出回路は、上記分割された複数の領域
ごとに選択を検出し、 上記制御回路は、上記分割された領域単位に、上記選択
検出回路が選択を検出したときには予め定められた所定
の情報を、検出しないときには上記読み出し回路からの
情報を出力することを特徴とする請求項10記載の半導
体記憶装置。 12)上記選択検出回路は、上記複数の出力信号の少な
くとも二つと結合することを特徴とする請求項7記載の
半導体記憶装置。 13)上記メモリマトリクス中のメモリセルのうち、上
記少なくとも二つの出力信号線のうちの一方によつて指
定されるメモリセルは、本来“0”、他方によつて指定
されるメモリセルは本来“1”の値が格納されるべきメ
モリセルであることを特徴とする請求項12記載の半導
体記憶装置。 14)上記アドレスデコーダは、上記メモリマトリクス
中のメモリセルをワード単位で指定する複数の出力信号
を発生する第1のデコーダと、ビット単位で指定する複
数の出力信号を発生する第2のデコーダとからなり、 上記選択検出回路は、上記第1のデコーダの複数の出力
信号の少なくとも一つ、および上記第2のデコーダの複
数の出力信号の少なくとも一つと結合することを特徴と
する請求項6記載の半導体記憶装置。 15)上記制御回路は、上記読み出し回路からの信号お
よび上記選択検出回路からの信号に応答する論理ゲート
素子により構成されることを特徴とする請求項6ないし
14のいずれかに記載の半導体記憶装置。 16)上記制御回路は、上記指定される領域のビット数
に対応した数の論理ゲート素子により構成されることを
特徴とする請求項15記載の半導体記憶装置。 17)上記選択検出回路は、抵抗を介して接地された検
出線と、上記検出線と上記アドレスデコーダの出力信号
線との間に接続されたダイオードにより構成されること
を特徴とする請求項1ないし16のいずれかに記載の半
導体記憶装置。 18)上記選択検出回路は、プリチャージされた検出線
と、上記検出線と上記アドレスデコーダの出力信号線と
の間に接続されたトランジスタにより構成され、上記ト
ランジスタのゲートが上記出力線に、上記トランジスタ
のソース及びドレインの一方が上記検出線に接続される
ことを特徴とする請求項1ないし16のいずれかに記載
の半導体記憶装置。 19)上記選択検出回路は、上記アドレスデコーダの出
力信号によつて指定される検出半導体メモリセルおよび
上記検出半導体メモリセルに記憶された情報を読み出す
検出読み出し回路により構成されることを特徴とする請
求項1ないし16のいずれかに記載の半導体記憶装置。 20)上記検出半導体メモリセルが上記マトリクス状に
配列された複数個の半導体メモリセルとともにメモリセ
ルアレーを構成することを特徴とする請求項19記載の
半導体記憶装置。 21)上記半導体メモリセルは、マスクROMにより構
成されることを特徴とする請求項1ないし20のいずれ
かに記載の半導体記憶装置。 22)上記半導体メモリセルは、電気的に書き込み可能
なROMにより構成されることを特徴とする請求項1な
いし20のいずれかに記載の半導体記憶装置。 23)上記半導体メモリセルおよび検出半導体メモリセ
ルは、マスクROMにより構成されることを特徴とする
請求項19または20記載の半導体記憶装置。 24)上記半導体メモリセルおよび検出半導体メモリセ
ルは、電気的に書き込み可能なROMにより構成される
ことを特徴とする請求項19または20記載の半導体記
憶装置。 25)上記半導体記憶装置は、さらに、上記電気的に書
き込み可能なROMの書き込み回路を有することを特徴
とする請求項22または24記載の半導体記憶装置。 26)請求項1ないし25のいずれかに記載の半導体記
憶装置を内蔵して一の半導体チップ状に形成されたこと
を特徴とするマイクロコンピュータ。 27)上記論理LSIは、CPUと、上記半導体記憶装
置と、上記CPUと上記半導体記憶装置とを接続するバ
スを含んで構成されることを特徴とする請求項26記載
のマイクロコンピュータ。
[Scope of Claims] 1) Information storage means comprising a plurality of semiconductor memory elements, address decoding means for decoding an address signal to access at least one element of the plurality of semiconductor memory elements, and decoding by the decoding means. A semiconductor memory device characterized by comprising an output control means for outputting a predetermined value regardless of the contents stored in the semiconductor memory element in response to the result. 2) The output control means includes selection detection means coupled to at least one of the plurality of output lines of the address decoding means, reading means for reading out information stored in the information storage means, and selection detection means. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising control means for outputting predetermined information when said selection is detected. 3) The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the control means outputs the information from the reading means when the selection detection means does not detect a selection. 4) The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory element is a mask ROM. 5) The semiconductor memory element is an electrically writable RO
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is M. 6) a memory matrix consisting of a plurality of semiconductor memory cells arranged in a matrix; an address decoder that decodes address signals and generates a signal specifying a predetermined area in the memory matrix; a readout circuit that reads out information; a selection detection circuit that detects that at least a part of the signal generated by the address decoder is selected; and a selection detection circuit that detects predetermined information when the selection detection circuit detects selection. A semiconductor memory device comprising a control circuit that outputs information from the read circuit when not in use. 7) The semiconductor memory device according to claim 6, wherein the address decoder generates a plurality of output signals specifying memory cells in the memory matrix in units of words. 8) The semiconductor memory device according to claim 7, wherein the selection detection circuit is coupled to at least one of the plurality of output signals. 9) Among the memory cells in the memory matrix, the memory cell designated by the at least one output signal line is a memory that should originally store either a value of "0" or "1". 9. The semiconductor memory device according to claim 8, wherein the semiconductor memory device is a cell. 10) The area specified in units of words is further divided into a plurality of areas, and the control circuit is configured to provide predetermined information to each of the divided areas when the selection detection circuit detects selection. 7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein information from said readout circuit is output when not detected. 11) The selection detection circuit detects selection for each of the plurality of divided regions, and the control circuit detects a predetermined selection for each of the divided regions when the selection detection circuit detects selection. 11. The semiconductor memory device according to claim 10, wherein when the information is not detected, the information from the readout circuit is output. 12) The semiconductor memory device according to claim 7, wherein the selection detection circuit is coupled to at least two of the plurality of output signals. 13) Among the memory cells in the memory matrix, the memory cell designated by one of the at least two output signal lines is originally "0", and the memory cell designated by the other is originally "0". 13. The semiconductor memory device according to claim 12, wherein the memory cell is a memory cell in which a value of 1'' is to be stored. 14) The address decoder includes a first decoder that generates a plurality of output signals that specify memory cells in the memory matrix in units of words, and a second decoder that generates a plurality of output signals that specify memory cells in the memory matrix in units of bits. 7. The selection detection circuit is coupled to at least one of the plurality of output signals of the first decoder and at least one of the plurality of output signals of the second decoder. semiconductor storage device. 15) The semiconductor memory device according to claim 6, wherein the control circuit is constituted by a logic gate element that responds to a signal from the readout circuit and a signal from the selection detection circuit. . 16) The semiconductor memory device according to claim 15, wherein the control circuit is constituted by a number of logic gate elements corresponding to the number of bits in the specified area. 17) Claim 1, wherein the selection detection circuit includes a detection line grounded through a resistor, and a diode connected between the detection line and the output signal line of the address decoder. 17. The semiconductor memory device according to any one of 16 to 16. 18) The selection detection circuit includes a precharged detection line and a transistor connected between the detection line and the output signal line of the address decoder, and the gate of the transistor is connected to the output line and the 17. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein one of a source and a drain of the transistor is connected to the detection line. 19) The selection detection circuit comprises a detection semiconductor memory cell specified by the output signal of the address decoder and a detection readout circuit that reads information stored in the detection semiconductor memory cell. 17. The semiconductor memory device according to any one of Items 1 to 16. 20) The semiconductor memory device according to claim 19, wherein the detection semiconductor memory cell constitutes a memory cell array together with the plurality of semiconductor memory cells arranged in a matrix. 21) The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory cell is constituted by a mask ROM. 22) The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory cell is constituted by an electrically writable ROM. 23) The semiconductor memory device according to claim 19 or 20, wherein the semiconductor memory cell and the detection semiconductor memory cell are constituted by a mask ROM. 24) The semiconductor memory device according to claim 19 or 20, wherein the semiconductor memory cell and the detection semiconductor memory cell are constituted by an electrically writable ROM. 25) The semiconductor memory device according to claim 22 or 24, wherein the semiconductor memory device further includes a write circuit for the electrically writable ROM. 26) A microcomputer, characterized in that it incorporates the semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 25 and is formed into a single semiconductor chip. 27) The microcomputer according to claim 26, wherein the logic LSI includes a CPU, the semiconductor memory device, and a bus connecting the CPU and the semiconductor memory device.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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