JPH03242400A - SiCウイスカーの表面改質方法 - Google Patents
SiCウイスカーの表面改質方法Info
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- JPH03242400A JPH03242400A JP2037813A JP3781390A JPH03242400A JP H03242400 A JPH03242400 A JP H03242400A JP 2037813 A JP2037813 A JP 2037813A JP 3781390 A JP3781390 A JP 3781390A JP H03242400 A JPH03242400 A JP H03242400A
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Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、各種セラミックス材料の複合強化繊維として
SiCウィスカーを使用する場合、得られる複合材の破
壊靭性を改善する目的に有効なSICウィスカーの表面
改質方法に関する。
SiCウィスカーを使用する場合、得られる複合材の破
壊靭性を改善する目的に有効なSICウィスカーの表面
改質方法に関する。
セラ≧・ンクス材料は、耐熱性、高温強度、化学的安定
性などに優れているため、エンジン部品をはしめ高温下
で用いられる各種構造部材として有用されている。とこ
ろが、セラミックス材料は一般に破壊靭性に乏しく、微
小な傷や内部欠陥によっても応力が集中して破壊し易い
固有の欠点かある 近年、セラミックス材料の破壊靭性を向上させる方法が
広く研究されており、SiCウィスカーをセラごツクス
材料に複合化することによって靭性改善を図る試みも数
多く提案されている。この目的は、高弾性を有するSi
Cウィスカーを分散複合化することで、セラミックス中
におけるクランク成長の停止あるいは抑制、クラック進
行方向の屈曲化による応力集中の緩和、ウィスカーの引
き抜き効果によるクランク先端でのエネルギー吸収など
の機能を介して破壊靭性を向上させようとする点にある
。しかし、この場合の複合効果は、SiCウィスカーと
セラミックス母材との界面結合の状態に影響される度合
が大きく、界面結合が強いと前記した靭性向上機能が十
分に発揮されず、逆に界面結合力が小さいとクラックの
発生起点となる問題が残る。
性などに優れているため、エンジン部品をはしめ高温下
で用いられる各種構造部材として有用されている。とこ
ろが、セラミックス材料は一般に破壊靭性に乏しく、微
小な傷や内部欠陥によっても応力が集中して破壊し易い
固有の欠点かある 近年、セラミックス材料の破壊靭性を向上させる方法が
広く研究されており、SiCウィスカーをセラごツクス
材料に複合化することによって靭性改善を図る試みも数
多く提案されている。この目的は、高弾性を有するSi
Cウィスカーを分散複合化することで、セラミックス中
におけるクランク成長の停止あるいは抑制、クラック進
行方向の屈曲化による応力集中の緩和、ウィスカーの引
き抜き効果によるクランク先端でのエネルギー吸収など
の機能を介して破壊靭性を向上させようとする点にある
。しかし、この場合の複合効果は、SiCウィスカーと
セラミックス母材との界面結合の状態に影響される度合
が大きく、界面結合が強いと前記した靭性向上機能が十
分に発揮されず、逆に界面結合力が小さいとクラックの
発生起点となる問題が残る。
本来、SiCウィスカーと母材となるセラミックス材料
間の界面結合が過大となる主因は、焼結時、相互の界面
において化学反応を生しることにある。したがって、予
めSiCウィスカーの表面を化学反応し難い状態に改質
しておけば界面結合力が緩和され、前記した靭性向上の
機能が有効に達成されることになる。
間の界面結合が過大となる主因は、焼結時、相互の界面
において化学反応を生しることにある。したがって、予
めSiCウィスカーの表面を化学反応し難い状態に改質
しておけば界面結合力が緩和され、前記した靭性向上の
機能が有効に達成されることになる。
このような理由から、表面を種々の非反応性物質で被覆
したSiCウィスカーを強化材としたセラミ、クス複合
材の製造方法が開発されている(例えば特開昭62−1
2671号公報、同63−277566号公報、同64
−3081号公報、特開平1−115877号公報参照
)。
したSiCウィスカーを強化材としたセラミ、クス複合
材の製造方法が開発されている(例えば特開昭62−1
2671号公報、同63−277566号公報、同64
−3081号公報、特開平1−115877号公報参照
)。
〔発明が解決しようとする課題]
表面改質したSiCウィスカーを用いて破壊靭性を効果
的に向上させるためには、被覆物質がセラミックス母材
との非反応性に加えて引き抜き効果を助長するためのク
ツション性を備えることが無視できない要素となる。
的に向上させるためには、被覆物質がセラミックス母材
との非反応性に加えて引き抜き効果を助長するためのク
ツション性を備えることが無視できない要素となる。
本発明は、従来技術では対象とされていなかったB、C
が表面被覆層として優れたクンジョン機能を発揮するこ
とをn認して開発されたもので、SiCウィスカーの表
面を効率よく薄膜の84Cで被覆することができる表面
改質方法の提供を目的としている。
が表面被覆層として優れたクンジョン機能を発揮するこ
とをn認して開発されたもので、SiCウィスカーの表
面を効率よく薄膜の84Cで被覆することができる表面
改質方法の提供を目的としている。
上記の目的を達成するための本発明によるSiCウィス
カーの表面改質方法は.ほう素酸化物と水溶性フェノー
ル樹脂を水または有機溶媒に溶解し、該溶液にSiCウ
ィスカーを分散させて濾過・乾燥したのち非酸化性雰囲
気中で1200〜1600“Cの温度に焼成処理してS
iCウィスカーの表面にB、Cの被膜を形成することを
構成上の特徴とするものである。
カーの表面改質方法は.ほう素酸化物と水溶性フェノー
ル樹脂を水または有機溶媒に溶解し、該溶液にSiCウ
ィスカーを分散させて濾過・乾燥したのち非酸化性雰囲
気中で1200〜1600“Cの温度に焼成処理してS
iCウィスカーの表面にB、Cの被膜を形成することを
構成上の特徴とするものである。
表面改質の対象となるSiCウィスカーは、直径0.1
〜8μm、長さ10〜100μmの針状単結晶からなる
もので、必要により表面精製をおこなって使用に供され
る。
〜8μm、長さ10〜100μmの針状単結晶からなる
もので、必要により表面精製をおこなって使用に供され
る。
はう素酸化物としてはH3B○s、BzOsなどが使用
され、水溶性フェノール樹脂とともに水またはメタノー
ル、エタノール等のアルコール系有機溶媒もしくはフェ
ノール樹脂を含むメタノールに溶解して溶液化する。は
う素酸化物と水溶性フェノール樹脂の配合比率は、予め
ほう素酸化物中のB成分とフェノール樹脂が炭化した際
のC成分がB、Cに転化するモル比を考慮して定められ
るが、若干C成分が過剰になるように設定することが好
ましい。また、溶液濃度は形成するB、 Cの膜厚に応
して調整される。
され、水溶性フェノール樹脂とともに水またはメタノー
ル、エタノール等のアルコール系有機溶媒もしくはフェ
ノール樹脂を含むメタノールに溶解して溶液化する。は
う素酸化物と水溶性フェノール樹脂の配合比率は、予め
ほう素酸化物中のB成分とフェノール樹脂が炭化した際
のC成分がB、Cに転化するモル比を考慮して定められ
るが、若干C成分が過剰になるように設定することが好
ましい。また、溶液濃度は形成するB、 Cの膜厚に応
して調整される。
上記の溶液には、B、Cの反応生成を促進させる触媒と
してZnC1,を添加溶解させておくと、被膜形成を速
め−るうえて有効に作用する。
してZnC1,を添加溶解させておくと、被膜形成を速
め−るうえて有効に作用する。
溶液は各溶質成分を完全に溶解分散させるため一定時間
静置しておくことが望ましい、好適な静置時間は、7日
間程度である。
静置しておくことが望ましい、好適な静置時間は、7日
間程度である。
SiCウィスカーは上記の溶液に50〜200g/ f
の範囲で分散させる。この分散濃度が前記範囲を外れる
場合には、複合化に好適な15〜100人の層厚を均一
に形成することができなくなる。分散は攪拌手段を用い
てSiCウィスカーの表面が溶液に十分濡れる状態にな
るまでおこない、引き続き濾過処理して液媒を除去する
。この際、液媒の除去速度は成分の被着度合および均質
性に影響を与えるため、濾過処理には吸引もしくは加圧
などの強制手段を付加して濾過速度を調整する必要があ
る。
の範囲で分散させる。この分散濃度が前記範囲を外れる
場合には、複合化に好適な15〜100人の層厚を均一
に形成することができなくなる。分散は攪拌手段を用い
てSiCウィスカーの表面が溶液に十分濡れる状態にな
るまでおこない、引き続き濾過処理して液媒を除去する
。この際、液媒の除去速度は成分の被着度合および均質
性に影響を与えるため、濾過処理には吸引もしくは加圧
などの強制手段を付加して濾過速度を調整する必要があ
る。
濾過後の湿潤SiCウィスカー集合体は、ついで乾燥さ
れる。乾燥処理は、−旦100°C前後の温度で液媒成
分を揮散させたのち十分にほぐして解体し、更に170
〜200 ’Cの温度域に加熱して樹脂成分が硬化する
までおこなわれる。
れる。乾燥処理は、−旦100°C前後の温度で液媒成
分を揮散させたのち十分にほぐして解体し、更に170
〜200 ’Cの温度域に加熱して樹脂成分が硬化する
までおこなわれる。
このようにして表面にほう素酸化物とフェノール樹脂の
薄膜が固定されたSiCウィスカーは、Nz、Arなど
の不活性雰囲気に保持された焼戒炉に移し、1200〜
1600’Cの温度により焼成処理する。この焼成処理
の過程でSiCウィスカー表面の被着成分はB、Cに転
化し、薄膜層として形成される。
薄膜が固定されたSiCウィスカーは、Nz、Arなど
の不活性雰囲気に保持された焼戒炉に移し、1200〜
1600’Cの温度により焼成処理する。この焼成処理
の過程でSiCウィスカー表面の被着成分はB、Cに転
化し、薄膜層として形成される。
焼成後のSiCウィスカーは、必要に応して未反応のC
成分を焼却除去して表面改質処理を完了する。
成分を焼却除去して表面改質処理を完了する。
本発明で表面改質したSiCウィスカーを強化材として
セラミックス複合材料を得るには、該SiCウィスカー
を所定量の母材セラミックス粉末およびY2O5のよう
な焼結助剤とともに水中で混合分散し、濾過・乾燥して
均一な混合粉体としたのち不活性雰囲気もしくは真空中
でホントプレスにより焼結する。この方法により、Si
C,T+ C,S r 3 Na、T IN、 A f
2z○z、ZrO2などの各種炭化物、窒化物または酸
化物系セラミックスを母材とするSiCウィスカー強化
セラミックス材を製造することができる。
セラミックス複合材料を得るには、該SiCウィスカー
を所定量の母材セラミックス粉末およびY2O5のよう
な焼結助剤とともに水中で混合分散し、濾過・乾燥して
均一な混合粉体としたのち不活性雰囲気もしくは真空中
でホントプレスにより焼結する。この方法により、Si
C,T+ C,S r 3 Na、T IN、 A f
2z○z、ZrO2などの各種炭化物、窒化物または酸
化物系セラミックスを母材とするSiCウィスカー強化
セラミックス材を製造することができる。
[作 用〕
本発明によれば、溶液分散、2It過・乾燥の工程を経
てSiCウィスカーの表面に均質に被着したほう素酸化
物とフェノール樹脂の炭化により生成したc4分が焼成
過程で加熱反応し、B4C層に転化する。この反応は、
触媒としてZnC/!、を介在させることにより円滑、
迅速に進行させることができ、また溶液濃度および濾過
速度を調整することによって優れたクッジョン作用を発
揮する15〜100人範囲の膜厚として形成することが
可能となる。
てSiCウィスカーの表面に均質に被着したほう素酸化
物とフェノール樹脂の炭化により生成したc4分が焼成
過程で加熱反応し、B4C層に転化する。この反応は、
触媒としてZnC/!、を介在させることにより円滑、
迅速に進行させることができ、また溶液濃度および濾過
速度を調整することによって優れたクッジョン作用を発
揮する15〜100人範囲の膜厚として形成することが
可能となる。
本発明による表面改質で形成されたB4C層は、焼結複
合時、母材となるセラミックス材との界面で化学反応を
起こすことはな(SiCウィスカーの引き抜き作用を効
果的に助長するクンジョン機能を果たす。このため、複
合材の破壊靭性を優位に向上させることができる。
合時、母材となるセラミックス材との界面で化学反応を
起こすことはな(SiCウィスカーの引き抜き作用を効
果的に助長するクンジョン機能を果たす。このため、複
合材の破壊靭性を優位に向上させることができる。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
実施例l
820S log 、水溶性フェノール樹脂〔住友デュ
レズ■製、PR−50781)6gおよびZnC1□0
.3gを水1000−に攪拌溶解し、7日間静置して均
一な溶液を作製した。この溶液中に直径0.5〜2μ陽
、長さ30〜100μmのβ型SiCウィスカー100
gを投入し、十分に攪拌混合して分散させた。
レズ■製、PR−50781)6gおよびZnC1□0
.3gを水1000−に攪拌溶解し、7日間静置して均
一な溶液を作製した。この溶液中に直径0.5〜2μ陽
、長さ30〜100μmのβ型SiCウィスカー100
gを投入し、十分に攪拌混合して分散させた。
分散液を加圧濾過して得られたSiCウィスカーの湿潤
ケーキを100°Cの温度で乾燥したのち、集合体を十
分にほくし、更に170°Cで2時間加熱して樹脂成分
を硬化させた。
ケーキを100°Cの温度で乾燥したのち、集合体を十
分にほくし、更に170°Cで2時間加熱して樹脂成分
を硬化させた。
ついで、被着成分を固定化したSiCウィスカーをN2
雰囲気に保持された電気炉に移し、1400°Cの温度
で2時間に亘り焼成処理した。
雰囲気に保持された電気炉に移し、1400°Cの温度
で2時間に亘り焼成処理した。
このように処理されたSiCウィスカーの表面を透過型
電子顕微鏡(TEM)で観察してところ平均膜厚40人
の均一な層に改質していることが判明した。また、膜層
を電子線回折で分析した結果、微結晶のB、Cであるこ
とが確認された。
電子顕微鏡(TEM)で観察してところ平均膜厚40人
の均一な層に改質していることが判明した。また、膜層
を電子線回折で分析した結果、微結晶のB、Cであるこ
とが確認された。
実施例2、比較例1〜2
実施例1により表面改質したSiCウィスカーと焼結助
剤としてY2O310%を含むSi3N。
剤としてY2O310%を含むSi3N。
粉末(マトリックス材)を水中で分散混合したのち、濾
過乾燥して均質な混合粉末を得た。この混合粉末を真空
中、1800°C150MPaの条件でホ・7トプレス
して直径401、厚さ5mn+、VflO%のSiCウ
ィスカー強化5isNn材を作製した。
過乾燥して均質な混合粉末を得た。この混合粉末を真空
中、1800°C150MPaの条件でホ・7トプレス
して直径401、厚さ5mn+、VflO%のSiCウ
ィスカー強化5isNn材を作製した。
このようにして作製した複合材料の破壊靭性および曲げ
強度を測定し、表1に示した。
強度を測定し、表1に示した。
なお、比較のために表面改質を施さないSiCウィスカ
ーを用いて同様に作製したVflO%の複合材料(比較
例1)およびSi3N4のみの焼結材(比較例2)につ
いても特性を測定し、結果を表1に併載した。
ーを用いて同様に作製したVflO%の複合材料(比較
例1)およびSi3N4のみの焼結材(比較例2)につ
いても特性を測定し、結果を表1に併載した。
表 1
表1の結果から、本発明によるB、C層で表面改質した
SiCウィスカーを適用した複合材は破壊靭性が向上し
ていることが認められる。
SiCウィスカーを適用した複合材は破壊靭性が向上し
ていることが認められる。
実施例3
実施例1の溶液濃度を調整してB、C層の膜厚が40人
および100人の表面改質SiCウィスカーを作製し、
これを実施例2に準してSi、N、マトリフクスに複合
させてVf値の異なる焼結複合材を形成した。
および100人の表面改質SiCウィスカーを作製し、
これを実施例2に準してSi、N、マトリフクスに複合
させてVf値の異なる焼結複合材を形成した。
これら複合材料の破壊靭性(MPa、rm)は表2のと
おりであった。
おりであった。
表2
以上のとおり、本発明によれば効率的にSiCウィスカ
ーの表面をB4Cの薄膜により被覆改質することができ
る。したがって、各種セラミックス材料に複合化して場
合に、その破壊靭性を優位に向上させることができる。
ーの表面をB4Cの薄膜により被覆改質することができ
る。したがって、各種セラミックス材料に複合化して場
合に、その破壊靭性を優位に向上させることができる。
Claims (2)
- 1.ほう素酸化物と水溶性フェノール樹脂を水または有
機溶媒に溶解し、該溶液にSiCウィスカーを分散させ
て濾過・乾燥したのち非酸化性雰囲気中で1200〜1
600°Cの温度に焼成処理してSiCウィスカーの表
面にB_4Cの被膜を形成することを特徴とするSiC
ウィスカーの表面改質方法。 - 2.ほう素酸化物と水溶性フェノールの溶液に、触媒成
分としてZnCl_2を溶解させる請求項1記載のSi
Cウィスカーの表面改質方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2037813A JPH03242400A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | SiCウイスカーの表面改質方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2037813A JPH03242400A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | SiCウイスカーの表面改質方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03242400A true JPH03242400A (ja) | 1991-10-29 |
Family
ID=12507960
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2037813A Pending JPH03242400A (ja) | 1990-02-19 | 1990-02-19 | SiCウイスカーの表面改質方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03242400A (ja) |
-
1990
- 1990-02-19 JP JP2037813A patent/JPH03242400A/ja active Pending
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