JPH03241313A - 光軸調整方法とそれに用いる光軸調整装置 - Google Patents
光軸調整方法とそれに用いる光軸調整装置Info
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- JPH03241313A JPH03241313A JP3887190A JP3887190A JPH03241313A JP H03241313 A JPH03241313 A JP H03241313A JP 3887190 A JP3887190 A JP 3887190A JP 3887190 A JP3887190 A JP 3887190A JP H03241313 A JPH03241313 A JP H03241313A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 106
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 20
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 14
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 17
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 235000016796 Euonymus japonicus Nutrition 0.000 description 1
- 240000006570 Euonymus japonicus Species 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- Lens Barrels (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[概要]
光軸調整方法およびそれに用いる光軸調整装置に関し、
高精度光学系の構築において、レンズやピンホールなど
を極めて高い精度で、かつ、容易に光軸合わせして結合
することを目的とし、 ピンホール基準マークを通る参照光軸に沿って移動可能
に顕微鏡を設置し、前記顕微鏡を所定の距離だけ移動し
、所定の光学部品の合焦点基準マークを前記顕微鏡で観
測して位置設定したのち、前記合焦点基準マークに合焦
するように合焦点基準マークの前後に前記光学部品の位
置を設定していくことを特徴として光軸調整方法を構成
する。
を極めて高い精度で、かつ、容易に光軸合わせして結合
することを目的とし、 ピンホール基準マークを通る参照光軸に沿って移動可能
に顕微鏡を設置し、前記顕微鏡を所定の距離だけ移動し
、所定の光学部品の合焦点基準マークを前記顕微鏡で観
測して位置設定したのち、前記合焦点基準マークに合焦
するように合焦点基準マークの前後に前記光学部品の位
置を設定していくことを特徴として光軸調整方法を構成
する。
また、そのための装置として、顕微鏡を有する撮像装置
と、前記撮像装置に検知された前記合焦点基準マークを
拡大表示するTVモニタと、前記撮像装置の姿勢を調節
する姿勢制御機構と、前記姿勢制御機構を支持する支持
台と、前記支持台を滑動自在に嵌合支持する直進移動ス
テージと、前記直進移動ステージを参照光軸に平行に設
置するための平行調節機構を有する固定ブロックとを少
なくとも備えるように光軸調整装置を構成する。
と、前記撮像装置に検知された前記合焦点基準マークを
拡大表示するTVモニタと、前記撮像装置の姿勢を調節
する姿勢制御機構と、前記姿勢制御機構を支持する支持
台と、前記支持台を滑動自在に嵌合支持する直進移動ス
テージと、前記直進移動ステージを参照光軸に平行に設
置するための平行調節機構を有する固定ブロックとを少
なくとも備えるように光軸調整装置を構成する。
〔産業上の利用分野]
本発明は、ホログラフィック露光系などの高精度光学系
の構築にあたり、レンズやピンホール等の光学部品を極
めて高精度で、かつ、簡易で能率的に位置調整を行う方
法とそのための調整装置に関する。
の構築にあたり、レンズやピンホール等の光学部品を極
めて高精度で、かつ、簡易で能率的に位置調整を行う方
法とそのための調整装置に関する。
一般に光学系では基台上に各種光学部品を光軸を合わせ
て位置設定することが要求される。
て位置設定することが要求される。
たとえば、第6図はホログラフィック露光光学系の例を
示す図である。基台である光学ベツド300上にレーザ
発振器40.ハーフミラ−301,集光レンズ30”、
ピンホール10゛ を通ってホログラムディスク303
に入射する光路を形成する光学系と、ハーフミラ−30
1を透過しミラー302.もう一方の集光レンズ30゛
、ピンホール10’ を通ってホログラムディスク30
3に入射するもう一方の光路を形成する光学系とにより
ホログラフィック露光光学系が構築された最も簡単な例
を模式的に示したものである。上記各光路とも光軸調整
に誤差があると、レーザ光にノイズが生じてホログラム
ディスク303上に形成されるホログラムの空間周波数
分布が所望のものと異なってきて、たとえば、ホログラ
ムスキャナとして使用した場合に走査精度や直線性が劣
化する。
示す図である。基台である光学ベツド300上にレーザ
発振器40.ハーフミラ−301,集光レンズ30”、
ピンホール10゛ を通ってホログラムディスク303
に入射する光路を形成する光学系と、ハーフミラ−30
1を透過しミラー302.もう一方の集光レンズ30゛
、ピンホール10’ を通ってホログラムディスク30
3に入射するもう一方の光路を形成する光学系とにより
ホログラフィック露光光学系が構築された最も簡単な例
を模式的に示したものである。上記各光路とも光軸調整
に誤差があると、レーザ光にノイズが生じてホログラム
ディスク303上に形成されるホログラムの空間周波数
分布が所望のものと異なってきて、たとえば、ホログラ
ムスキャナとして使用した場合に走査精度や直線性が劣
化する。
通常、レーザビームを微小に絞って使用する場合、集光
レンズ、コリメータレンズとピンホールの組合せを用い
るが、収差のない極めて高価なレンズを使用しない限り
微小ピンホールでのノイズを取り切ることはできない。
レンズ、コリメータレンズとピンホールの組合せを用い
るが、収差のない極めて高価なレンズを使用しない限り
微小ピンホールでのノイズを取り切ることはできない。
このために、レンズピンホールを多段に結合させる構成
がしばしば用いられる。
がしばしば用いられる。
第5図はレンズ−ピンホール多段結合光学系の例を示す
図である。たとえば、この例ではレンズ30−ピンホー
ル10−レンズ30の光学部品の組み合わせを4段結合
した場合を示したものである。
図である。たとえば、この例ではレンズ30−ピンホー
ル10−レンズ30の光学部品の組み合わせを4段結合
した場合を示したものである。
このように多段に結合する場合には、それぞれの光学部
品の光軸を合わせて位置設定する必要があり、高精度、
かつ、簡易で能率的な光軸調整方法とそのための装置の
開発が求められている。
品の光軸を合わせて位置設定する必要があり、高精度、
かつ、簡易で能率的な光軸調整方法とそのための装置の
開発が求められている。
第9図は従来の光軸調整の例を示す図である。
図中、40はレーザ発振器、たとえば、ガスレーザ発振
器や半導体レーザなと、100は、たとえば、数100
μmφのピンホール基準マーク101(ピンホール板の
孔)を有するピンホール板である。
器や半導体レーザなと、100は、たとえば、数100
μmφのピンホール基準マーク101(ピンホール板の
孔)を有するピンホール板である。
通常、ピンホール孔径が数〜数10μmφと非常に小さ
い場合には、そこにレーザビームを入射するとその通過
光強度がバックグランド光と分離困難なほど微弱となり
、さらに、ピンホールでの回折により通過光が広がり光
軸の設定が困難となる。
い場合には、そこにレーザビームを入射するとその通過
光強度がバックグランド光と分離困難なほど微弱となり
、さらに、ピンホールでの回折により通過光が広がり光
軸の設定が困難となる。
そこで、先ずピンホール径の大きい前記ピンホール板1
00をレーザビームの中心がピンホール基準マーク10
1(ピンホール板の孔)の中心を通るように、たとえば
、パワーメータを使用してビーム位置を測定しながら配
置する。この程度にピンホール径が大きいと通過光強度
は十分で回折効果の影響も余り問題にならずに参照光軸
として用いることができる。
00をレーザビームの中心がピンホール基準マーク10
1(ピンホール板の孔)の中心を通るように、たとえば
、パワーメータを使用してビーム位置を測定しながら配
置する。この程度にピンホール径が大きいと通過光強度
は十分で回折効果の影響も余り問題にならずに参照光軸
として用いることができる。
次に、所要の光学部品、たとえば、集光用のレンズ30
”aを光軸を合わせて位置設定し、さらに、前記レンズ
30゛aの合焦位置にピンホール板10’ のピンホー
ル11゛ が合致するようにピンホール板10゛の位置
設定を行う。さらに、多段に光学部品を配置するときは
上記方法を繰り返して行う。
”aを光軸を合わせて位置設定し、さらに、前記レンズ
30゛aの合焦位置にピンホール板10’ のピンホー
ル11゛ が合致するようにピンホール板10゛の位置
設定を行う。さらに、多段に光学部品を配置するときは
上記方法を繰り返して行う。
第8図は従来の゛光軸調整の判定方法の例を示すZ−Z
矢視図である。同図(イ)は光軸が合っていない場合、
同図(ロ)は光軸が合っている場合である。すなわち、
ピンホール基準マーク101(ピンホール板の孔)を通
過した光をレンズ30゛aで受けると光の一部がその表
面、たとえば、凸表面で反射されてピンホール板100
に同心円形の干渉リングを形成する。このとき光軸が合
っていなければ同図(イ)に示したごとくピンホール1
1゛ と干渉リングの中心が食い違って見えるので、
再度レンズ30’aの位置調整を行い同図(ロ)に示し
たごとくピンホール11” と干渉リングの中心が正し
く合致したら、レンズ30’aの中心が参照光軸に合致
したと判定して、次のピンホール板10゛ の位置設定
に入る。レンズ30“aの合焦位置とピンホール11”
の合致の判定は肉眼でも比較的容易にできるし。
矢視図である。同図(イ)は光軸が合っていない場合、
同図(ロ)は光軸が合っている場合である。すなわち、
ピンホール基準マーク101(ピンホール板の孔)を通
過した光をレンズ30゛aで受けると光の一部がその表
面、たとえば、凸表面で反射されてピンホール板100
に同心円形の干渉リングを形成する。このとき光軸が合
っていなければ同図(イ)に示したごとくピンホール1
1゛ と干渉リングの中心が食い違って見えるので、
再度レンズ30’aの位置調整を行い同図(ロ)に示し
たごとくピンホール11” と干渉リングの中心が正し
く合致したら、レンズ30’aの中心が参照光軸に合致
したと判定して、次のピンホール板10゛ の位置設定
に入る。レンズ30“aの合焦位置とピンホール11”
の合致の判定は肉眼でも比較的容易にできるし。
また、必要により通過光をパワーメータで測定し最大強
度になるように位置設定するなどしている場合もある。
度になるように位置設定するなどしている場合もある。
〔発明が解決しようとする課B]
しかし、以上のごとき従来の光軸調整方法では、レンズ
表面の反射光を用い、しかも、ピンホール孔に干渉リン
グの中心を合わせるといった方法であり誤差が生し易い
。たとえば、第7図は従来法の問題点の一例を示す図で
あり、レンズ30°の中心が光軸中心からずれたために
ピンホール板10”のピンホール11゛ が光軸中心か
らL2だけ位置ずれして設定された状態を示したもので
ある。同様の誤差が前後左右に生し、高精度を要する光
学系。
表面の反射光を用い、しかも、ピンホール孔に干渉リン
グの中心を合わせるといった方法であり誤差が生し易い
。たとえば、第7図は従来法の問題点の一例を示す図で
あり、レンズ30°の中心が光軸中心からずれたために
ピンホール板10”のピンホール11゛ が光軸中心か
らL2だけ位置ずれして設定された状態を示したもので
ある。同様の誤差が前後左右に生し、高精度を要する光
学系。
たとえば、ホログラフィック露光光学系などにはこのよ
うな従来の光軸調整方法は使用できないという問題があ
り、その解決が必要であった。
うな従来の光軸調整方法は使用できないという問題があ
り、その解決が必要であった。
上記の課題は、ピンホール基準マーク101を通る参照
光軸12に沿って移動可能に顕微鏡21を設置し、前記
顕微鏡21を所定の距離だけ移動し、所定の光学部品3
0の合焦点基準マーク11を前記顕微鏡21で観測して
位置設定したのち、前記合焦点基準マーク11に合焦す
るように合焦点基準マーク11の前後に前記光学部品3
0の位置を設定していくことを特徴とした光軸調整方法
により解決することができる。さらに、これを具体的に
行うために、顕微鏡21を有する撮像装置20と、前記
撮像装置20に検知された前記合焦点基準マーク11を
拡大表示するTVモニタ22と、前記撮像装置20の姿
勢を調節する姿勢制′411機構23と、前記姿勢制?
B機構23を支持する支持台24と、前記支持台24を
滑動自在に嵌合支持する直進移動ステージ26と、前記
直進移動ステージ26を参照光軸に平行に設置するため
の平行調節機構28を有する固定ブロック27とを少な
くとも備えた光軸調整装置を用いて効率的に解決するこ
とができる。
光軸12に沿って移動可能に顕微鏡21を設置し、前記
顕微鏡21を所定の距離だけ移動し、所定の光学部品3
0の合焦点基準マーク11を前記顕微鏡21で観測して
位置設定したのち、前記合焦点基準マーク11に合焦す
るように合焦点基準マーク11の前後に前記光学部品3
0の位置を設定していくことを特徴とした光軸調整方法
により解決することができる。さらに、これを具体的に
行うために、顕微鏡21を有する撮像装置20と、前記
撮像装置20に検知された前記合焦点基準マーク11を
拡大表示するTVモニタ22と、前記撮像装置20の姿
勢を調節する姿勢制′411機構23と、前記姿勢制?
B機構23を支持する支持台24と、前記支持台24を
滑動自在に嵌合支持する直進移動ステージ26と、前記
直進移動ステージ26を参照光軸に平行に設置するため
の平行調節機構28を有する固定ブロック27とを少な
くとも備えた光軸調整装置を用いて効率的に解決するこ
とができる。
本発明方法によれば、先ず微小なピンホール径を有する
ピンホール板10の位置設定を正確に行い、次いでその
微小ピンホール11に正しく合焦するように光学部品、
たとえば、レンズ30を配置していくのでそれぞれの位
置設定誤差が小さくなり、高精度の光学系を構築するこ
とができる。
ピンホール板10の位置設定を正確に行い、次いでその
微小ピンホール11に正しく合焦するように光学部品、
たとえば、レンズ30を配置していくのでそれぞれの位
置設定誤差が小さくなり、高精度の光学系を構築するこ
とができる。
第1図は本発明の光軸調整方法を示す図で、概略手順を
順次図示したものである。図中、12は参照光軸である
。
順次図示したものである。図中、12は参照光軸である
。
なお、前記従来例の諸図面で説明したものと同等の部分
については同一符号を付し、かつ、同等部分についての
説明は省略する。
については同一符号を付し、かつ、同等部分についての
説明は省略する。
同図(1)で比較的大きな径を有するピンホール基準マ
ーク101(ピンホール孔)を設けた参照ピンホール板
100によりレーザ40からのレーザビームの参照光軸
12を設定する。設定方法は従来の場合と同様に、たと
えば、透過光のパワーメータ出力が最大になるよう位置
設定すればよい。次いで、参照光軸12に沿って移動可
能に設置した顕微鏡により合焦点基準マーク11a、た
とえば、小さな径のピンホール像を観察してそのピンホ
ールを有するピンホール板10aの位置を正確に設定す
る。
ーク101(ピンホール孔)を設けた参照ピンホール板
100によりレーザ40からのレーザビームの参照光軸
12を設定する。設定方法は従来の場合と同様に、たと
えば、透過光のパワーメータ出力が最大になるよう位置
設定すればよい。次いで、参照光軸12に沿って移動可
能に設置した顕微鏡により合焦点基準マーク11a、た
とえば、小さな径のピンホール像を観察してそのピンホ
ールを有するピンホール板10aの位置を正確に設定す
る。
次に、同図(2)に示したごとく上記で位置設定された
ピンホール板10aの前方に光学部品30a、たとえば
、集光用レンズを前記ピンホールllaに合焦するよう
に調整配置する。位置調整の判定には前記したごとく目
視により合焦ビームがピンホールllaを通過するのを
観測しても容易に行うことができるし、必要により通過
光のパワーメータ出力が最大になるよう位置設定しても
よい。
ピンホール板10aの前方に光学部品30a、たとえば
、集光用レンズを前記ピンホールllaに合焦するよう
に調整配置する。位置調整の判定には前記したごとく目
視により合焦ビームがピンホールllaを通過するのを
観測しても容易に行うことができるし、必要により通過
光のパワーメータ出力が最大になるよう位置設定しても
よい。
次に、同図(3)に示したごとく上記で位置設定された
ピンホール板10aの後方に光学部品30b、たとえば
、コリメータ用レンズを平行ビームが得られるように調
整配置する。位置調整の判定には前記従来例で説明した
ごとく、ピンホール板10aへのレンズ30bの前面か
らの反射干渉リングの中心とピンホールllaとの合致
の確認と、レンズ30bを透過した光の平行度を干渉計
、たとえば、マツハツエンダ干渉計で判定するなど適宜
公知の方法を利用して行えばよい。次いで、前記顕微鏡
を参照光軸12に沿って所定の距離だけ移動し、ピンホ
ール板lObを前記(1)で述べたのと同様にして精度
よく位置設定する。
ピンホール板10aの後方に光学部品30b、たとえば
、コリメータ用レンズを平行ビームが得られるように調
整配置する。位置調整の判定には前記従来例で説明した
ごとく、ピンホール板10aへのレンズ30bの前面か
らの反射干渉リングの中心とピンホールllaとの合致
の確認と、レンズ30bを透過した光の平行度を干渉計
、たとえば、マツハツエンダ干渉計で判定するなど適宜
公知の方法を利用して行えばよい。次いで、前記顕微鏡
を参照光軸12に沿って所定の距離だけ移動し、ピンホ
ール板lObを前記(1)で述べたのと同様にして精度
よく位置設定する。
さらに、多段に光学部品を配置したいときは、同図(4
)に示したごとく前記(1)〜(3)の手順に従い、た
とえば、集光用レンズ30C,コリメータ用レンズ30
d、ピンホール板10c、集光用レンズ30eのごとく
に位置設定し配置して行けばよい。
)に示したごとく前記(1)〜(3)の手順に従い、た
とえば、集光用レンズ30C,コリメータ用レンズ30
d、ピンホール板10c、集光用レンズ30eのごとく
に位置設定し配置して行けばよい。
第2図は本発明の実施例装置を示す図である。
図中、20は撮像装置、21は撮像装置20の先端に取
り付けられた顕微鏡、22は撮像装置20の撮像素子に
結像した光学像が電気信号に変換・伝送されて再度拡大
された像として再生表示するためのTVモニタである。
り付けられた顕微鏡、22は撮像装置20の撮像素子に
結像した光学像が電気信号に変換・伝送されて再度拡大
された像として再生表示するためのTVモニタである。
23は撮像装置20の姿勢制御機構で。
たとえば、よく知られた上下・左右・回転等の必要十分
な多軸姿勢制御機構を用いればよい。24は前記姿勢制
御機構23を支える支持台で、直進移動ステージ26の
レール部分に滑動自在に嵌合して前後に微調移動できる
ようになっている。また、支持台24は直進移動ステー
ジ26上を図示してないスケールによって所定の距離だ
け移動することができ、必要により固定ネジ25により
直進移動ステージ26上の所定個所に固定できるように
なっている。
な多軸姿勢制御機構を用いればよい。24は前記姿勢制
御機構23を支える支持台で、直進移動ステージ26の
レール部分に滑動自在に嵌合して前後に微調移動できる
ようになっている。また、支持台24は直進移動ステー
ジ26上を図示してないスケールによって所定の距離だ
け移動することができ、必要により固定ネジ25により
直進移動ステージ26上の所定個所に固定できるように
なっている。
27は固定ブロックで、たとえば、光学系を構築する光
学ベツドの上に、前記参照光軸とは\平行に。
学ベツドの上に、前記参照光軸とは\平行に。
たとえば、磁気的に固定される。28は複数の平行調節
機構で、たとえば、ネジ送り機構を用い、前記直進移動
ステージ26が参照光軸と平行になるように調整するた
めのものである。なお、この平行性の調整にはTVモニ
タの基準マーク、たとえば、十字マークとピンホール基
準マーク101(ピンホールの孔)の拡大像の合致の状
態を観測しながら行えばよい。
機構で、たとえば、ネジ送り機構を用い、前記直進移動
ステージ26が参照光軸と平行になるように調整するた
めのものである。なお、この平行性の調整にはTVモニ
タの基準マーク、たとえば、十字マークとピンホール基
準マーク101(ピンホールの孔)の拡大像の合致の状
態を観測しながら行えばよい。
第3図は本発明の実施例装置の要部を示す図(一部断面
)である。図中、29は撮像素子で、たとえば、CCD
素子、210は顕微鏡21の対物レンズであり、たとえ
ば、倍率10倍のものを用いて8インチのTVモニタ2
2上で約200倍の映像が得られる。
)である。図中、29は撮像素子で、たとえば、CCD
素子、210は顕微鏡21の対物レンズであり、たとえ
ば、倍率10倍のものを用いて8インチのTVモニタ2
2上で約200倍の映像が得られる。
第4図は本発明の実施例装置による光軸調整光学系を示
す図である。図中、300は光学ベツド、200は光軸
調整装置である。なお、本図では光学部品、たとえば、
ピンホール板10と光軸調整装置200がぶつからない
ように、ピンホール板スタンド13は横に梁をせり出し
てピンホール板10を保持するようにしている。光学部
品がレンズの場合も同様な保持スタンドを用いればよい
。本実施例装置200を用いて本発明方法により光学部
品の位置調整を行う具体的手順は既に説明したところに
より極めて明白であるので説明を省略する。
す図である。図中、300は光学ベツド、200は光軸
調整装置である。なお、本図では光学部品、たとえば、
ピンホール板10と光軸調整装置200がぶつからない
ように、ピンホール板スタンド13は横に梁をせり出し
てピンホール板10を保持するようにしている。光学部
品がレンズの場合も同様な保持スタンドを用いればよい
。本実施例装置200を用いて本発明方法により光学部
品の位置調整を行う具体的手順は既に説明したところに
より極めて明白であるので説明を省略する。
上記実施例装置では全ての操作を手動で行ったが、たと
えば、TVモニタの映像の偏差を自動的に検出し平行調
節機構28および姿勢制御機構23にフィードバックし
て、これらの調節、制御機構を自動的に駆動制御するよ
うにして、より一層の高精度化と高能率化を図るように
してもよいことは勿論である。
えば、TVモニタの映像の偏差を自動的に検出し平行調
節機構28および姿勢制御機構23にフィードバックし
て、これらの調節、制御機構を自動的に駆動制御するよ
うにして、より一層の高精度化と高能率化を図るように
してもよいことは勿論である。
以上述べた実施例は一例を示したもので、本発明の趣旨
に添うものである限り、使用する部品や構成なと適宜好
ましいもの、あるいはその組み合わせを用いることがで
きることは言うまでもない。
に添うものである限り、使用する部品や構成なと適宜好
ましいもの、あるいはその組み合わせを用いることがで
きることは言うまでもない。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば先ず微小なピンホ
ール径を有するピンホール板lOの位置設定を正確に行
い、次いでその微小ピンホール11に正しく合焦するよ
うに光学部品、たとえば、レンズ30を配置していくの
でそれぞれの位置設定誤差が小さくなり、さらに、作業
能率が大巾に向上する。
ール径を有するピンホール板lOの位置設定を正確に行
い、次いでその微小ピンホール11に正しく合焦するよ
うに光学部品、たとえば、レンズ30を配置していくの
でそれぞれの位置設定誤差が小さくなり、さらに、作業
能率が大巾に向上する。
たとえば、従来方法によれば、位置設定精度が±100
μm程度であったものが、本発明により50μm以下に
改善され、また、光軸調整に要する時間は従来の173
以下に短縮することができる。
μm程度であったものが、本発明により50μm以下に
改善され、また、光軸調整に要する時間は従来の173
以下に短縮することができる。
第1図は本発明の光軸調整方法を示す図、第2図は本発
明の実施例装置を示す図、第3図は本発明の実施例装置
の要部を示す図(一部断面)、 第4図は本発明の実施例装置による光軸調整光学系を示
す図、 第5図はレンズ−ピンホール多段結合光学系の例を示す
1図、 第6図はホログラフィック露光光学系の例を示す図、 第7図は従来法の問題点の一例を示す図、第8図は従来
の光軸調整の判定方法の例を示す2−2矢視図、 第9図は従来の光軸調整の例を示す図である。 図において、 10(10a、 10b、 10c)はピンホール板(
光学部品)、11 (lla、 llb、 1lc)は
合焦点基準マーク(ピンホール)、 12は参照光軸、13はピンホール板スタンド、20は
撮像装置、21は顕微鏡、22はTVモニタ、23は姿
勢制御機構、24は支持台、25は固定ネジ、26は直
進移動ステージ、 27は固定ブロック、 28(28a、28b)は平行調節機構、29は撮像素
子、ネ 30 (30a〜304)は光学部品(レンズ)、40
はレーザ、 100は参照ピンホール板、 101はピンホール基準マーク(ピンホールの孔)、2
00光軸調整装置である。 李発e14/)是軸訓望方須Σ示イ閏 第 1 起 ’13 半発明n軒杷伊1共Is示ず旧 第 2 図 本発明の実施中1拭置によろ是釉調芒児げ本乏示マ回第
4 図 第 5 回 ボログ“ン;ンk・/7嘔4ζうろ−ソ乙、?壽\〆つ
イク1jΣか1ra箒 6 口 冨 臼 (イ)栗牛由η\合、′?いTjCJ号Z≧(ロン児幸
由カベh7””ろ1芳チ、ζi柾来/)東軸畑望の例E
示■濠 第 q ロ
明の実施例装置を示す図、第3図は本発明の実施例装置
の要部を示す図(一部断面)、 第4図は本発明の実施例装置による光軸調整光学系を示
す図、 第5図はレンズ−ピンホール多段結合光学系の例を示す
1図、 第6図はホログラフィック露光光学系の例を示す図、 第7図は従来法の問題点の一例を示す図、第8図は従来
の光軸調整の判定方法の例を示す2−2矢視図、 第9図は従来の光軸調整の例を示す図である。 図において、 10(10a、 10b、 10c)はピンホール板(
光学部品)、11 (lla、 llb、 1lc)は
合焦点基準マーク(ピンホール)、 12は参照光軸、13はピンホール板スタンド、20は
撮像装置、21は顕微鏡、22はTVモニタ、23は姿
勢制御機構、24は支持台、25は固定ネジ、26は直
進移動ステージ、 27は固定ブロック、 28(28a、28b)は平行調節機構、29は撮像素
子、ネ 30 (30a〜304)は光学部品(レンズ)、40
はレーザ、 100は参照ピンホール板、 101はピンホール基準マーク(ピンホールの孔)、2
00光軸調整装置である。 李発e14/)是軸訓望方須Σ示イ閏 第 1 起 ’13 半発明n軒杷伊1共Is示ず旧 第 2 図 本発明の実施中1拭置によろ是釉調芒児げ本乏示マ回第
4 図 第 5 回 ボログ“ン;ンk・/7嘔4ζうろ−ソ乙、?壽\〆つ
イク1jΣか1ra箒 6 口 冨 臼 (イ)栗牛由η\合、′?いTjCJ号Z≧(ロン児幸
由カベh7””ろ1芳チ、ζi柾来/)東軸畑望の例E
示■濠 第 q ロ
Claims (2)
- (1)ピンホール基準マーク(101)を通る参照光軸
(12)に沿って移動可能に顕微鏡(21)を設置し、
前記顕微鏡(21)を所定の距離だけ移動し、所定の光
学部品(30)の合焦点基準マーク(11)を前記顕微
鏡(21)で観測して位置設定したのち、前記合焦点基
準マーク(11)に合焦するように合焦点基準マーク(
11)の前後に前記光学部品(30)の位置を設定して
いくことを特徴とした光軸調整方法。 - (2)顕微鏡(21)を有する撮像装置(20)と、前
記撮像装置(20)に検知された前記合焦点基準マーク
(11)を拡大表示するTVモニタ(22)と、前記撮
像装置(20)の姿勢を調節する姿勢制御機構(23)
と、 前記姿勢制御機構(23)を支持する支持台(24)と
、前記支持台(24)を滑動自在に嵌合支持する直進移
動ステージ(26)と、 前記直進移動ステージ(26)を参照光軸に平行に設置
するための平行調節機構(28)を有する固定ブロック
(27)とを少なくとも備えることを特徴とした光軸調
整装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3887190A JPH03241313A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 光軸調整方法とそれに用いる光軸調整装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3887190A JPH03241313A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 光軸調整方法とそれに用いる光軸調整装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03241313A true JPH03241313A (ja) | 1991-10-28 |
Family
ID=12537276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3887190A Pending JPH03241313A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 光軸調整方法とそれに用いる光軸調整装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03241313A (ja) |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP3887190A patent/JPH03241313A/ja active Pending
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