JPH03233977A - 電子線センサ - Google Patents
電子線センサInfo
- Publication number
- JPH03233977A JPH03233977A JP2846090A JP2846090A JPH03233977A JP H03233977 A JPH03233977 A JP H03233977A JP 2846090 A JP2846090 A JP 2846090A JP 2846090 A JP2846090 A JP 2846090A JP H03233977 A JPH03233977 A JP H03233977A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- phosphor
- single crystal
- oxide single
- beam sensor
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 28
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 9
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
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- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、走査型電子顕微鏡等に用いられる電子線セン
サ、特に、その酸化物単結晶素子を有する電子線センサ
に関する。
サ、特に、その酸化物単結晶素子を有する電子線センサ
に関する。
[従来の技術]
従来、この種の電子線センサには、蛍光体粉末(例えば
、P−46等)が用いられたものが知られている。例え
ば、第3図に示すように、この電子線センサ1は、ライ
トガイドパイプ10の表面にガラス基板10gを接着し
、そのガラス基板10aの表面に蛍光体粉末2oを沈降
させて、更に、その蛍光体粉末20の表面にメタルバッ
クコートとして、AI被膜30形成している。従って、
メタルバックコート30を透過した電子線3は、蛍光体
粉末20に入射し、蛍光4を発生させる。発生した蛍光
4は、蛍光体粉末2oの内部で乱反射しながらガラス基
板10a入射し、更に、ライトガイドパイプ1oに入射
し、フォトマル2に導入される。
、P−46等)が用いられたものが知られている。例え
ば、第3図に示すように、この電子線センサ1は、ライ
トガイドパイプ10の表面にガラス基板10gを接着し
、そのガラス基板10aの表面に蛍光体粉末2oを沈降
させて、更に、その蛍光体粉末20の表面にメタルバッ
クコートとして、AI被膜30形成している。従って、
メタルバックコート30を透過した電子線3は、蛍光体
粉末20に入射し、蛍光4を発生させる。発生した蛍光
4は、蛍光体粉末2oの内部で乱反射しながらガラス基
板10a入射し、更に、ライトガイドパイプ1oに入射
し、フォトマル2に導入される。
この時、ガラス基板10aと真空部分との間では、屈折
率が各々n2と01と異なるため、次の式で表されるよ
うな反射ロスが発生する。
率が各々n2と01と異なるため、次の式で表されるよ
うな反射ロスが発生する。
R−(n2−n+ /r+2 +rz ) 2− (1
)また、臨界角度Q−以上の角度で進む蛍光4は、すべ
てガラス基板10aの側面から4′の方向に出射する。
)また、臨界角度Q−以上の角度で進む蛍光4は、すべ
てガラス基板10aの側面から4′の方向に出射する。
この出射する蛍光4″の式は、Q −−s i n−’
(n、/n2) −(2)で表される。
(n、/n2) −(2)で表される。
従って、蛍光体粉末20の内部で発生した蛍光4の大部
分は蛍光体粉末2oの内部での散乱、拡散、或いは、メ
タルバックコート30での反射によって、ガラス基板1
0aの内部に入射するが、上記した式(1)、(2)に
よって表されるように、ガラス基板10aから出射され
る蛍光4は50%程度に過ぎない。
分は蛍光体粉末2oの内部での散乱、拡散、或いは、メ
タルバックコート30での反射によって、ガラス基板1
0aの内部に入射するが、上記した式(1)、(2)に
よって表されるように、ガラス基板10aから出射され
る蛍光4は50%程度に過ぎない。
また、単結晶の蛍光体を用いたものは、第4図に示すよ
うに、電子線3による蛍光4は、単結晶の蛍光体20の
内部で50%の損失が発生し、更に、前記のようにガラ
ス基板10aの内部で50%程度の損失かあり、結果的
にフォトマル2で検出される蛍光4は当初の1/4に過
ぎない。
うに、電子線3による蛍光4は、単結晶の蛍光体20の
内部で50%の損失が発生し、更に、前記のようにガラ
ス基板10aの内部で50%程度の損失かあり、結果的
にフォトマル2で検出される蛍光4は当初の1/4に過
ぎない。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上述した蛍光体粉末を用いた電子線セン
サでは、真空中に接するガラス基板の表面で反射した蛍
光が再度、蛍光体粉末に入射し、散乱を次々繰返し、見
掛けより、蛍光寿命がながくなり、解像力が低下したり
、蛍光体粉末の劣化によって、蛍光体粉末の交換が必要
となり、コスト的に不利であった。
サでは、真空中に接するガラス基板の表面で反射した蛍
光が再度、蛍光体粉末に入射し、散乱を次々繰返し、見
掛けより、蛍光寿命がながくなり、解像力が低下したり
、蛍光体粉末の劣化によって、蛍光体粉末の交換が必要
となり、コスト的に不利であった。
また、単結晶の蛍光体の場合には、フォトマルでの検出
効率が不十分であるという問題点があった。
効率が不十分であるという問題点があった。
そこで、本発明の技術的課題は、蒸気欠点に鑑み、検出
効率に優れ、耐久性を有する電子線センサを提供するこ
とである。
効率に優れ、耐久性を有する電子線センサを提供するこ
とである。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、円柱状の酸化物単結晶の先端部に、蛍
光イオンをドープした酸化物単結晶を円型状に成長させ
てなることを特徴とする電子線センサが得られる。
光イオンをドープした酸化物単結晶を円型状に成長させ
てなることを特徴とする電子線センサが得られる。
[作 用]
円柱状の酸化物単結晶のYAPロッドの先端部に蛍光イ
オンをドープした酸化物単結晶を円型状に成長させた蛍
光体を形成することによって、電子線を同−材質内に少
ない屈折率で透過させ、しかも、円型状の蛍光体によっ
て、屈折が平行光に近くならように反射修正させてフォ
トマルに導入する [実施例] 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。な
お、従来の技術と類似する構成には、同符号を付して説
明する。
オンをドープした酸化物単結晶を円型状に成長させた蛍
光体を形成することによって、電子線を同−材質内に少
ない屈折率で透過させ、しかも、円型状の蛍光体によっ
て、屈折が平行光に近くならように反射修正させてフォ
トマルに導入する [実施例] 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。な
お、従来の技術と類似する構成には、同符号を付して説
明する。
第1図は、本発明の電子線センサを用いた電子線シンチ
レータを示した断面図である。
レータを示した断面図である。
この電子線シンチレータは、電子線センサ1とフォトマ
ル2とを備え、電子線発生装置(図示しない)から発生
した電子線3を導入する。
ル2とを備え、電子線発生装置(図示しない)から発生
した電子線3を導入する。
電子線センサ1は、円柱状の酸化物単結晶で形成された
YAPロッド10と、その先端部に蛍光イオンをドープ
した酸化物単結晶を円型状に成長させて形成した蛍光体
20を備えている。この、YAPロッド10の外周囲に
はメタルバックコート11が施されている。
YAPロッド10と、その先端部に蛍光イオンをドープ
した酸化物単結晶を円型状に成長させて形成した蛍光体
20を備えている。この、YAPロッド10の外周囲に
はメタルバックコート11が施されている。
YAPロッド10は、純度99.99%のY2O、とA
ρ203粉末をYlの組成(以下、YAPと略す。)に
成るように秤量し、その原料を■、ルツボ中で溶融させ
、スヨクラルスキー法を用いて、YAP単結晶体に育成
して、直径6 mm X50帥の円柱状に形成したもの
である。更に、このYAPロッド10にCeo、5 y
、 A、Q 03である蛍光イオンを溶融原料として種
付して、Ce。
ρ203粉末をYlの組成(以下、YAPと略す。)に
成るように秤量し、その原料を■、ルツボ中で溶融させ
、スヨクラルスキー法を用いて、YAP単結晶体に育成
して、直径6 mm X50帥の円柱状に形成したもの
である。更に、このYAPロッド10にCeo、5 y
、 A、Q 03である蛍光イオンを溶融原料として種
付して、Ce。
o+Y 0.99A D 03の単結晶を1m角円垂状
に成長させた蛍光体20が形成されている。
に成長させた蛍光体20が形成されている。
この蛍光体20は、蛍光イオンとして、Ce3プラスを
含有する酸化物単結晶である(: e z Y (1−
8)AρO5単結晶(Ce3YAP)を用いた。
含有する酸化物単結晶である(: e z Y (1−
8)AρO5単結晶(Ce3YAP)を用いた。
YAPロッド10にCeo5Y、Al O,である蛍光
イオンを溶融原料として種付して、Ceo、。
イオンを溶融原料として種付して、Ceo、。
Y 0.99A II O3の単結晶を1關円垂状に成
長させて蛍光体20を形成するのは、つぎのようにして
行われる。
長させて蛍光体20を形成するのは、つぎのようにして
行われる。
YAPロッド10を溶融原料に漬けた場合、結晶と溶融
液が接触する部分、いわゆる界面の形状は、YAPロッ
ド10の回転数によって任意に設定できが、通常は、下
に凸の円型状になるが回転数を増加させると平面から凹
面に変化させることが可能である。
液が接触する部分、いわゆる界面の形状は、YAPロッ
ド10の回転数によって任意に設定できが、通常は、下
に凸の円型状になるが回転数を増加させると平面から凹
面に変化させることが可能である。
そして、YAPロッドlOを育成速度の数十倍の速さで
溶融面から切離すことで、この育成時の界面形状を保っ
た状態でとりだせる。従って、YAPロッド10を種付
して回転数を変えて素早く切離して結晶界面を観察しな
がら初期の凸形状になる条件を探した後にCe3YAP
を1. +n+a育成して切離せば容易に先端部が凸形
状の蛍光体20を備えた電子線センサ1を得ることがで
きる。
溶融面から切離すことで、この育成時の界面形状を保っ
た状態でとりだせる。従って、YAPロッド10を種付
して回転数を変えて素早く切離して結晶界面を観察しな
がら初期の凸形状になる条件を探した後にCe3YAP
を1. +n+a育成して切離せば容易に先端部が凸形
状の蛍光体20を備えた電子線センサ1を得ることがで
きる。
この円柱状のYAPロッド10の外周側面には、外周側
面を鏡面加工した後に、A1被膜によるメタルバックコ
ート30が施されている。また、フォトマル2に接する
部分には、蛍光3の波長に対して無反射に成るような蒸
着膜40が形成されている。
面を鏡面加工した後に、A1被膜によるメタルバックコ
ート30が施されている。また、フォトマル2に接する
部分には、蛍光3の波長に対して無反射に成るような蒸
着膜40が形成されている。
従って、円柱状の酸化物単結晶のYAPロッドの先端部
に蛍光イオンをドープした酸化物単結晶を円型状に成長
させた蛍光体を形成した電子線センサに、電子線3を照
射させると、電子線3は、同一材質で形成それた電子線
センサ1内に少ない屈折率で透過され、しかも、円型状
の蛍光体20によって、発生された蛍光4は、蛍光体2
0の円型状部分で反射され、その屈折された蛍光4は平
行光に近くなるようにフォトマル2に導入される。
に蛍光イオンをドープした酸化物単結晶を円型状に成長
させた蛍光体を形成した電子線センサに、電子線3を照
射させると、電子線3は、同一材質で形成それた電子線
センサ1内に少ない屈折率で透過され、しかも、円型状
の蛍光体20によって、発生された蛍光4は、蛍光体2
0の円型状部分で反射され、その屈折された蛍光4は平
行光に近くなるようにフォトマル2に導入される。
第2図は、加速電圧10Kvの男子線をした場合におけ
る蛍光強度の変化を測定したグラフであって、縦軸にカ
ソードルミネッセンス強度、横軸に時間をとり、比較対
象として、第3図、第4図の従来のものを用いている。
る蛍光強度の変化を測定したグラフであって、縦軸にカ
ソードルミネッセンス強度、横軸に時間をとり、比較対
象として、第3図、第4図の従来のものを用いている。
グラフ中、■は、本発明の電子線センサの蛍光強度で、
第4図に示した両面を鏡面に研磨した単結晶の蛍光体ウ
ェハー20を用いた蛍光強度、グラフ中■を1とすると
10倍の発光強度が得られた。グラフ中■は、第3図の
蛍光体粉末20を用いたもので、グラフ中■を1とする
と5倍の発光強度が得られた。尚、電子線照射による変
化は蛍光体粉末にのみ見られた。
第4図に示した両面を鏡面に研磨した単結晶の蛍光体ウ
ェハー20を用いた蛍光強度、グラフ中■を1とすると
10倍の発光強度が得られた。グラフ中■は、第3図の
蛍光体粉末20を用いたもので、グラフ中■を1とする
と5倍の発光強度が得られた。尚、電子線照射による変
化は蛍光体粉末にのみ見られた。
[発明の効果]
本発明は、円柱状の酸化物単結晶のYAPロッドの先端
部に蛍光イオンをドープした酸化物単結晶を円型状に成
長させた蛍光体を形成することによって、照射された電
子線は、同一材質の電子線センサ内を少ない屈折率で透
過され、しかも、円型状の蛍光体によって、発生された
蛍光は、蛍光体の円型状部分で反射され、屈折された蛍
光は平行光に近くなるようにフォトマル2に導入するこ
とが可能であり、かつ、YAPロッドを使用することに
よって、耐久性にもすぐれた電子線センサを得ることが
できる。
部に蛍光イオンをドープした酸化物単結晶を円型状に成
長させた蛍光体を形成することによって、照射された電
子線は、同一材質の電子線センサ内を少ない屈折率で透
過され、しかも、円型状の蛍光体によって、発生された
蛍光は、蛍光体の円型状部分で反射され、屈折された蛍
光は平行光に近くなるようにフォトマル2に導入するこ
とが可能であり、かつ、YAPロッドを使用することに
よって、耐久性にもすぐれた電子線センサを得ることが
できる。
第1図は本発明の実施例に係わる電子線センサを用いた
電子線シンチレータを示した断面図、第2図は加速電圧
10Kvの電子線をした場合における蛍光強度の変化を
測定したグラフ、第3図は従来の電子線センサを断面図
、第4図は他の従来の電子線センサを断面図である。 1・・・電子線センサ、2・・・フォトマル、3・・・
電子線、4・・・蛍光、10・・・YAPロッド、20
・・・蛍光体、30・・・メタルバックコート。 −3 0) 脈 派
電子線シンチレータを示した断面図、第2図は加速電圧
10Kvの電子線をした場合における蛍光強度の変化を
測定したグラフ、第3図は従来の電子線センサを断面図
、第4図は他の従来の電子線センサを断面図である。 1・・・電子線センサ、2・・・フォトマル、3・・・
電子線、4・・・蛍光、10・・・YAPロッド、20
・・・蛍光体、30・・・メタルバックコート。 −3 0) 脈 派
Claims (1)
- 1)円柱状の酸化物単結晶の先端部に、蛍光イオンをド
ープした酸化物単結晶を円垂状に成長させてなることを
特徴とする電子線センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2846090A JPH03233977A (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | 電子線センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2846090A JPH03233977A (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | 電子線センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03233977A true JPH03233977A (ja) | 1991-10-17 |
Family
ID=12249282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2846090A Pending JPH03233977A (ja) | 1990-02-09 | 1990-02-09 | 電子線センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03233977A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7910895B2 (en) | 2004-04-08 | 2011-03-22 | Hamamatsu Photonics K.K. | Luminous body, electron beam detector using the same, scanning electron microscope, and mass analysis device |
-
1990
- 1990-02-09 JP JP2846090A patent/JPH03233977A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7910895B2 (en) | 2004-04-08 | 2011-03-22 | Hamamatsu Photonics K.K. | Luminous body, electron beam detector using the same, scanning electron microscope, and mass analysis device |
US8164069B2 (en) | 2004-04-08 | 2012-04-24 | Hamamatsu Photonics K.K. | Luminous body, electron beam detector using the same, scanning electron microscope, and mass analysis device |
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