JPH03230968A - 静電記録装置 - Google Patents

静電記録装置

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JPH03230968A
JPH03230968A JP2512990A JP2512990A JPH03230968A JP H03230968 A JPH03230968 A JP H03230968A JP 2512990 A JP2512990 A JP 2512990A JP 2512990 A JP2512990 A JP 2512990A JP H03230968 A JPH03230968 A JP H03230968A
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JP
Japan
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ion
chamber
control circuit
electrode
latent image
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Pending
Application number
JP2512990A
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English (en)
Inventor
Tetsuo Kodera
哲郎 小寺
Keizo Abe
敬三 阿部
Isao Ito
功 伊藤
Daisuke Tsuda
大介 津田
Hiroaki Sato
博昭 佐藤
Shigeo Ono
茂雄 大野
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は静電記録装置に関するもので、更に詳細には
、イオン量を制御して静電潜像受容体に均一に帯電させ
て、高画質の画像を得られるようにした静電記録装置に
関するものである。
[従来の技術] 一般に、記録媒体上に静電潜像を形成する記録装置とし
て、特開昭59−164154号公報に示されるような
イオン流制御記録装置が知られている。
このイオン流制御記録装置は、第5図に示すように、イ
オン流を制御しつつ照射するイオン流制御用の記録ヘッ
ドaと、記録ヘッドaから照射されたイオンを帯電する
記録媒体である静電潜像受容体すとで構成されている。
この場合、記録ヘッドaは、接地された一対の導電性シ
ールドc、  d間に円筒状のチャンバeを形成し、こ
のチャンバe内における長手方向に沿って放電ワイヤf
を張設してイオン発生手段gを形成し、一方のシールド
dの下部には絶縁層り及び導電性基板iを介して絶縁性
基板jを取り付けると共に、他方のシールドCの下方に
接続される導電性基準電極nと絶縁性基板jとの間にイ
オン発生手段gに連通ずるスリットkにてイオン流導出
部lを形成して成る。そして、絶縁性基板jのスリット
側面上に複数の制御電極mを配設すると共に、制御電極
mに画像情報に応じて切換可能な制御回路rを接続して
、イオン流の導出を制御するイオン流制御手段を構成す
る構造となっている。
また、記録ヘッドaから照射されるイオンを帯電する静
電潜像受容体すは、電荷リセプタ0の背面側すなわち電
荷リセプタ0の記録ヘッドaと対向する面の反対側面に
高電位源pに接続する背面電極qを配設した構造となっ
ている。
上記のように構成される静電記録装置において、ワイヤ
電源Sから放電ワイヤfに高圧電圧を印加することによ
り、チャンバe内にイオンが発生され、そして、チャン
バeの上方からチャンバeに空気流Aを吹き込むことに
より、チャンバe内のイオンをチャンバeに連通して設
けられたスリブトkを通して静電潜像受容体すに付着帯
電することができる。このとき、制御回路rから各制御
電極m【q画像信号に応じた電圧を印加することにより
、スリットkを通過するイオン流を制御して静電潜像受
容体す上に帯電させて静電潜像を形成することができる
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、従来のこの種の記録装置においては、制
御電極mと対向する基準電極nがいわゆるベタ状の導体
であるため、第6図に示すように、画像情報に応じて電
圧が印加された制御電極mと基準電極nとの間に生じる
制御電界Bがイオン導出領域まで拡散してしまう。
したがって、従来のこの種の静電記録装置においては、
例えば、プロセス方向の1画素を記録しようとした時、
その画素に隣接する制御電極mに印加された電圧による
電界Bが記録しようとするビットの制御通路にも影響を
与え、意図に反して制御されてしまうことがあり、その
結果、細線が明確にならず画質の低下をきたすという問
題点があった。
この発明は上記事情に鑑みなされたもので、上記問題を
解決するために、制御された画素の電界を集中させて、
隣接画素への影響を抑制して高画質を得られるようにし
た静電記録装置を提供しようとするものである。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、この発明の静電記録装置は
、イオン発生手段と、このイオン発生手段に連通ずると
共にイオン発生手段にて発生したイオン流を導出するた
めのイオン流導出部と、イオン流の導出を制御するイオ
ン流制御手段とから成る記録ヘッドと、上記イオン流導
出部に対向配置された静電潜像受容体とを具備する静電
記録装置を前提とし、上記イオン流導出部を、スリット
を形成すべく対向配置される第1及び第2の絶縁性基板
と、これら絶縁5性基板の対向面にそれぞれ配設される
複数の第1及び第2の電極とで構成し、上記イオン流制
御手段を、イオン導出領域における第1、第2の電極を
同電位にすると共に、イオン非導出領域の第1、第2の
電極に電位差を付与すべく切換可能な制御回路にて形成
して成ることを特徴とするものである。
この発明において、上記第1及び第2の絶縁性基板は絶
縁性を有する材質であれば両者は必ずしも同じ材質でな
くても差し支えないが、好ましくは両者が同様の材質、
例えばガラス、あるいは、セラミックス等の絶縁性基板
である方がよい。
また、上記第1及び第2の電極は互いに対向された位置
においてそれぞれ適宜間隔をおいて列設される複数の電
極にて形成されるもので、例えば、いずれか一方の電極
を櫛歯状の制御電極にて形成し、他方の電極を同じく櫛
歯状の対向電極にて形成されるものを使用することがで
きる。
加えて、上記制御回路の制御方式はイオン導出領域にお
ける第1、第2の電極を同電位にすると共に、イオン非
導出領域の第1、第2の電極に電位差を付与すべく切換
可能な方式であれば任意のものでよく、例えば全ての電
極に一様に弱い電圧(−0,5〜−IV)を印加し、制
御電極には制御する時」−15〜−1−30Vの電圧を
させて電位差を付与してもよく、あるいは、対向電極に
も制御電極と対応して選択的に電圧を印加させて同様に
電位差を付与させるようにしてもよい。
[作用] 上記技術的手段は以下のように作用する。
上記のように構成することにより、イオン発生手段で発
生されたイオンが空気流によってスリットを通る際に制
御手段にて所定の画像信号に応じて制御されて、静電潜
像受容体上に帯電される。
この際、制御手段のイオン導出領域における第1、第2
の電極か同電位にされると共に、イオン非導出領域の第
1、第2の電極に電位差が付与されるので、制御された
画素の電界が集中されて隣接画素への影響が抑制されて
画質の低下が防止される。
[実施例] 以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細に説明する
第1図はこの発明の静電記録装置の断面図が示されてい
る。
この発明の静電潜像記録装置は、イオン流を制御しつつ
照射するイオン流制御用の記録ヘッド10と、記録ヘッ
ド10から照射されたイオンを帯電する記録媒体である
静電潜像受容体12とて主要部が構成されている。
記録ヘッド10は、接地された一対の導電性シールド1
4.16間に円筒状のチャンバ18を形成すると共に、
このチャンバ18内における長手方向に沿って放電ワイ
ヤ20を張設してイオン発生手段22を形成して成り、
一方のシールド16の下部には絶縁層24及び導電性基
板26を介してシールド14.16を覆うように第1の
絶縁性基板28が取り付けられると共に、他方のシール
ド14の下部には絶縁層25及び導電性基板27を介し
て第2の絶縁性基板29が取り付けられている。そして
、これら第2の絶縁性基板29と絶縁性基板28との間
にイオン発生手段22に連通ずるスリット30にてイオ
ン流導出部32が形成されている。この場合、第1及び
第2の絶縁性基板28.29は例えばガラスあるいはセ
ラミックス等の絶縁性材料にて形成されている。
また、絶縁性基板28のスリット側面上に導電性基板2
6に連なる複数の櫛歯状の制御電極34が配設され、絶
縁性基板29のスリット面上に導電性基板27に連なる
複数の櫛歯状の対向電極35が配設され、かつ、これら
制御電極34及び対向電極35に切換可能に電圧を印加
する制御回路40が接続されて、制御手段が構成されて
いる。なお、制御電極34及び対向電極35は、例えば
64本×40ブロックの計2.560本から成るマトリ
ックス配線とされ、制御電極34と対向電極35の各ビ
ットがスリット30を挟んで互いに対向するように形成
されている。
また、制御電極34及び対向電極35は絶縁性基板28
゜29の表面上に、例えばステンレスやニッケル等の薄
板をエツチング処理して形成したり、タングステンや金
等から成るペースト状のインクによって電極パターンに
従って印刷することにより、画素密度に応じて分離され
るべく互いに平行な直線状に2面にわたって連続して形
成されている。なお、制御電極34と対向電極35の電
極の幅と電極間の絶縁性基板28.29の露出部の幅は
1:2〜2:1であることが好ましい。
この場合、制御回路40は、制御電極34とアース部4
2、プラス電源44とをスイッチング素子46を介して
選択的に接続する第1の制御回路48と、対向電極35
とアース部43、マイナス電源45とをスイッチング素
子47を介して選択的に接続する第2の制御回路49と
で構成されている(第1図及び第2図参照)。この場合
、プラス電源44は+7〜+15■の電圧に設定され、
また、マイナス電源45は−7〜−15Vの電圧に設定
されている。したがって、画像情報に基いてスイッチン
グ素子46.47がプラス電源44、マイナス電源45
に接続されると、第2図に示すように、各対向する制御
電極34と対向電極35間に集中した状態の制御電界B
が発生して隣接画素への影響を抑制した状態でイオン流
が制御され、また、スイッチング素子46.47がアー
ス部42.43に接続した箇所においては、イオン流は
制御されずに静電潜像受容体12に向かって照射される
なお、放電ワイヤ20には抵抗50を介してワイヤ電源
52が接続されている。
一方、記録ヘッドIOから照射されるイオンを帯電する
静電潜像受容体12は、電荷リセプタ54の背面側すな
わち電荷リセプタ54の記録ヘッド10と対向する面の
反対側面に高電位源56に接続する背面電極58を配設
した構造となっている。
なお、符号Cは電荷リセプタ54の移動方向である。
上記のように構成される静電記録装置において、ワイヤ
電源52から放電ワイヤ20に高圧電圧を印加すると、
チャンバ18内にイオンが発生され、そして、チャンバ
18の上方からチャンバ18に空気流Aを吹き込むこと
により、チャンバ18内のイオンがチャンバ18に連通
して設けられたスリット30を通って静電潜像受容体1
2に照射される。この際、制御回路40(具体的には第
1の制御回路48、第2の制御回路49)のスイッチン
グ素子46.47が画像情報に基いて切り換って各制御
電極34及びそれに対向する各対向電極35に画像信号
に応じた電圧が印1 加されることにより、スリット30を通過するイオン流
が制御されて静電潜像受容体12上に帯電され、静電潜
像が形成される。
したがって、イオンが拡がらずに電荷リセプタ54に付
着帯電され、電荷リセプタ54が矢印C方向に移動して
、図示しない現像部にて電荷リセプタ54の帯電部に現
像剤が付着されると共に、転写部にて記録シート(図示
せず)に転写される。
なお、上記実施例では、制御電極34に+7〜+15V
の電圧が印加され、対向電極35に一7〜15Vの電圧
が印加されて、イオン非導出領域の電極34.35間に
電位差を付与するようにした場合について説明したが、
必ずしも画電極34.35間に正負の電圧を印加する場
合に限定されるものではなく、例えば全ての電極34.
35に一様にマイナスの弱い電圧(−0,5〜−IV)
を印加し、制御電極34には制御時に+15〜+30V
の電圧を印加するようにしてもよい。
次に、この発明の静電記録装置の記録ヘッド10と従来
の記録ヘッドaとのライン像の制御特性の1.2 比較テストについて説明する。
テストに当って、この発明の記録ヘッド10における制
御電極34と対向電極35にそれぞれ+V [V]−V
 [V]を印加し、従来の記録ヘッドaにおける制御電
極mに2V[V]、対向する基準電極nを接地した状態
とした。そして、画素の制御のデーターパターンを01
1010 (0:OFF。
1:ON)とした時のスリット30を通過するイオン量
を測定したところ、第3図及び第4図に示すように、従
来ではOFFの電極に印加された電圧による電界が隣接
する領域にまで影響し、0110の2ビット部分で線幅
が細くなったり、010部では全く再現されなかったと
いうことが発生していたが、この発明によればそのよう
な欠点が改善された。
[発明の効果] 以上に説明したように、この発明の静電記録装置によれ
ば、上記のように構成されているので、以下のような効
果が得られる。
制御された画素の電界を集中させて隣接画素への影響を
抑制することができるので、線幅を明確にすることがで
きると共に、画質の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の静電記録装置の断面図、第2図はこ
の発明の静電記録装置の要部を示す断面図、第3図はこ
の発明における記録ヘッドのイオン量と画素制御のデー
ターパターンとの関係を示すグラフ、第4図は従来の記
録ヘッドのイオン量と画素制御のデーターパターンとの
関係を示すグラフ、第5図は従来の静電記録装置の断面
図、第6図は従来の静電記録層の要部の断面図である。 符号説明 (10)・・・記録ヘッド (12)・・・静電潜像受容体 (22)・・・イオン発生手段 (28)・・・第1の絶縁性基板 (29)・・・第2の絶縁性基板 (30)・・・スリット (32)・・・イオン流導出部 (34)・制御電極 (35)・・・対向電極 (40)・・・制御回路 (42,43)・・・アース部 (44)・・・プラス電源 (45)・・マイナス電源 (46,47)・・・スイッチング素子(4g)・・・
第1の制御回路 (49)・・・第2の制御回路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)イオン発生手段と、このイオン発生手段に連通す
    ると共にイオン発生手段にて発生したイオン流を導出す
    るためのイオン流導出部と、イオン流の導出を制御する
    イオン流制御手段とから成る記録ヘッドと、 上記イオン流導出部に対向配置された静電潜像受容体と
    を具備する静電記録装置において、上記イオン流導出部
    を、スリットを形成すべく対向配置される第1及び第2
    の絶縁性基板と、これら絶縁性基板の対向面にそれぞれ
    配設される複数の第1及び第2の電極とで構成し、 上記イオン流制御手段を、イオン導出領域における第1
    、第2の電極を同電位にすると共に、イオン非導出領域
    の第1、第2の電極に電位差を付与すべく切換可能な制
    御回路にて形成して成ることを特徴とする静電記録装置
JP2512990A 1990-02-06 1990-02-06 静電記録装置 Pending JPH03230968A (ja)

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JP2512990A JPH03230968A (ja) 1990-02-06 1990-02-06 静電記録装置

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JP2512990A Pending JPH03230968A (ja) 1990-02-06 1990-02-06 静電記録装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0677391A2 (de) * 1994-04-15 1995-10-18 Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft Schreibeinrichtung zum gesteuerten Aufbringen von Ladungsträgern auf ein Substrat

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0677391A2 (de) * 1994-04-15 1995-10-18 Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft Schreibeinrichtung zum gesteuerten Aufbringen von Ladungsträgern auf ein Substrat
EP0677391A3 (de) * 1994-04-15 1998-01-07 Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft Schreibeinrichtung zum gesteuerten Aufbringen von Ladungsträgern auf ein Substrat

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