JPH03229221A - 液晶パネル - Google Patents

液晶パネル

Info

Publication number
JPH03229221A
JPH03229221A JP2024631A JP2463190A JPH03229221A JP H03229221 A JPH03229221 A JP H03229221A JP 2024631 A JP2024631 A JP 2024631A JP 2463190 A JP2463190 A JP 2463190A JP H03229221 A JPH03229221 A JP H03229221A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
liquid crystal
voltage line
potential
pixel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2024631A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Horikawa
剛 堀川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2024631A priority Critical patent/JPH03229221A/ja
Publication of JPH03229221A publication Critical patent/JPH03229221A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野1 この発明は、平面デイスプレィ等に用いられる液晶セル
に関するものである。
[従来の技術] 第4図は1例えば特開平1−200231に示された従
来のアクティブマトリックス型の液晶パネルの画素の構
成例を示す。第4図は、薄膜トランジスタを用いた液晶
パネルの一画素の等価回路で、 (2)はゲートライン
、 (5)はソースライ、ン、(40)は画素選択トラ
ンジスタで、 +211はゲート電極、  (51)は
ソース電極、  (61)はドレイン電極である。(1
0)は一画素を形成する液晶素子で、 (7)は画南電
極、 (8)は液晶層、(9)は対向電極である。なお
1画素選択トランジスタ(40)は薄膜トランジスタが
用いられることが多い。
この従来のアクティブマトリックス型の液晶パネルは1
画素選択トランジスタ+400)のゲート電極(21)
はゲートライン(20)に、ソース電極(51)はソー
スライン(50)に、信号出力端であるドレイン電−(
51)は、画素電極(7) に接続されており、ゲート
ライン(2)が選択されている間0画素電極(7)はソ
ース電極(51)の電位v3にほぼ等し7い電位になる
、液晶層(8)は、対向電極(9) と画素電極(7)
に挟まれており、画素型t4i (7)の電位v ou
tの高低に応して、二つの電極の電位差による電気光学
効果を示す。
第5図は、液晶パネルを駆動する際のタイミングチャー
トで、第5図(a)は、ゲート電極の電位vo、同図f
b)はソース電極の電位■3、同図(c)は画素電極の
電位V。U’r*同図(dl は液晶層の透過率1”t
、cを示す。
つぎに、この従来例の動作を説明する。
−フレームの書き替えの間、第5図(a)に小す選択パ
ルスによって、ゲートライン(20)が順次選択されて
ゆく。各画素のドレイン電極(61)と画素型If! 
(7)の電位VOIITには、ゲートライン(20)が
選択されているときのソース電極(51)の電位■3(
第5図(b)図示)が書き込まれ(第5図(C))  
次の信号書込までの間、この画素電極(7)の電位が保
たれていると、液晶層(8)の透過率TLC(第5図(
d)図示)は一フレームの間一定で、ちらつきのない表
示動作が行なわれる。
[発明が解決しようとする課題] 従来の液晶パネルは、以Fのように構成されていたので
、ゲート選択時間の間に画素電極に所安の電荷を貯えて
も、フレーム古き換え時間の間における液晶層を通じて
の過渡電流やトランジスタや、液晶のリーク等による電
荷の散逸のため、液晶層にかかる電11が低ドし、ちら
つきが生じるといった問題点があった。
この問題点を解決するため、従来画素電極前段のゲート
電極の間に、保持容量を設ける等の方策がとられるが、
液晶層の抵抗値が小さい場合には、かなり大きな保持容
量を設けて液晶印加電位の低重を防ぐ必安があり、それ
が開1]率の低)をもたらすという問題点が生じていた
この発明は、L記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、抵抗値の小さな液晶材料を用いた場合でも
1本質的にちらつきがなく、良好な二値表示を行なえる
液晶パネルを得ることを目的とする。。
〔課題を解決するための手段] この発明に係る液晶パネルでは、液晶パネルのアレイ基
板上に、ゲートラインとソースラインの他に、高電圧ラ
インと低電圧ラインとを設けるとともに、各画素に画素
選択トランジスタの出力を人力とする[記高圧ラインと
低圧ラインとの間に接続されたインバータ回路を設け、
このインバータ回路の出力型片な液晶素子の画素電極に
印加するようにした点を特徴とする。
【作用〕
この発明における液晶パネルでは、画素選択トランジス
タの出力に応じて、画素電極電位が次の信号入力までの
間、高電圧ライン電位または低電圧ライン電位に保たれ
るので、液晶層を通じての過渡電流や画素選択トランジ
スタや液晶層のリーク等による画素電極電位の変動をさ
けることができ、ちらつきのない良好なニー表示を実現
できる。
【発明の実施例J 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図は、この゛X施例の液晶パネルの−・画木内の構成を
等価回路で示した図で、  (500)はスイッチング
トランジスタ、  +6001は1荷トランジスタで、
各トランジスタはいずれもnチャンネルのエンハンスメ
ント型のものである。(21)、(221゜(23)は
各トランジスタ(400) 、 (5001、(600
)のゲート電極、(611,(62)、 (53)は各
トランジスタのソース電f4i、  (6r1.(62
)163)は各トランジスタのドレイン電極、(20)
は高電圧ライン、(30)は低電圧ラインで、高電圧ラ
イン(20)、低電圧ライン+30)。
スイッチングトランジスタ(50)および負荷トランジ
スタ(60)によって、インバータ101路(70(が
形成されている。 (90)は口荷容暖で1画素選択ト
ランジスタ(40)のドレイン電極(61)は、負荷容
量(90)およびインバータ回路(7111の入力端に
接続されている。インバータ回路(70)は、nチャン
ネルのエンハンスメント型トランジスタ二個からなるい
わゆるN EI S型の回路であって、スイッチングト
ランジスタ(50)のドレイン電極(52)は低電圧ラ
イン(30)に、ソース電極(52)は負荷トランジス
タ(60)のソースS!tt極(53)に接続され、負
旬トランジスタ(60)のゲート電K (231および
ドレイン電極(63)は高電圧ライン(20)に接続さ
れ、インバータ回路(70)の出力端は画素電極(7)
に接続されており、画素電極(7)の電位は、インバー
タ回路(7o)の人力電位の高低に応じて、低電圧ライ
ン(30)の電位■5、または、晶型l「ライン(20
)の電位vlIのいずれかの電位に保たれる。
第2図は、この実施例の液晶パネルを駆動する際のタイ
ミングチャートを示した図で、第2図(a)、ゲート電
viA電位■。、同図(b)はソース電極電位■3.同
図(cl はドし・イン電極の電位V、N、同図(dl
 は画素電極の電位V。UT %同図(c)は液晶層の
透過率TLcをホす。
次に、この実施例の動作を説明する。
ある画素を選択する場合、その画素選択トランジスタ(
40)が接続されているゲートライン(2)が選択され
ているときは、当該画素選択トランジスタ(40)が接
続されているソースライン(5)の電位■、を高電位と
する。これによって、次のゲート選択時まで、インバー
タ回路(70)の入力■、は。
高電位に保たれ、インバータ回路(70)の出力V o
+rrは、V t、に近いψとなり、対向電極(9)の
電位VCOゆを■□に等しい電位に設定すれば、液晶印
加電ハ:V lc= V OUT  V col、lは
、はぼVV uとなり、液晶素子(10)に占地を行な
うことかできる。
他力1選択しない画素に接続されているゲートライン(
2)が選択されているときは、そのソースライン(5)
の電位Vsを低電位とする。これによって、次のゲート
選択時まで、インバータ入力VITIが低電位に保たれ
、インバータの出力■。u’rは、V 11に近い値と
なる。したがってV 1.cは、はぼOvとなり、その
画素を非選択状態にすることができる。
なお、上記実施例では、各画素を構成する薄膜トランジ
スタとして、nチャンネルのエンハンスメント型の薄膜
トランジスタを用いたが、その能動層には、アモルファ
スシリコン牧、多結晶シリコン股やCdS膜等の液晶パ
ネルにしばしば用いられる゛L導体材料が使用できる。
また、アレイを形成する基板としては、ガラス基板が−
・設面であるが、結晶シリコン等の半導体結晶基板を用
いることもできる。この場合、薄膜トランジスタの代わ
りに、MOS トランジスタを基板内に作りこんでアレ
イ基板とすることもできる。さらに、トランジスタとし
ては、nチャンネルやデイプレッション型のものを用い
てもインバータ回路の構成を適宜選択することで、同様
の効果が期待できる。
さらに、I−記実施例では、インバータ回路のf1荷ト
ランジスタを1−ミック抵抗等に置き換えてもよく、さ
らに2低電圧ラインとして、−段面のゲートラインを用
いても、その効果はほとんど変わらない。さらに、低電
圧ラインおよび晶型1」;ラインは1表示面全体を覆う
導電膜として構成することもできる。
また、その駆動動作におい・ては、低電圧源と高電圧源
を異なる電位とし、その電位をほぼ−・フレーム時間の
間保つことが重要であり、その他の電位の高低やその印
加のタイミングは、液晶の物性や、アレイ回路の特性に
応じてさまざまに変史してさしつかえない。
また、第1図に示した実施例の液晶パネルを用いて、強
誘電性液晶のアクティブマトリックス法による駆動を行
なうことができる。
第3図はこの駆動動作時のタイミングチャートで、第3
3図(a)はゲート電極の電位vG、同図(b)はソー
ス電極の電位■3、同図(c)はインバータ人力電位V
 +N、同図(d)は高電圧ライン電位■11、同図(
e)は低電圧ライン電位Vt、同図(f)は液晶稟子印
加電LFv +、cs同図!g)は液晶層の透過率TL
cを示している。
液晶層(8)は、バイポーラパルス、または、中経矩形
パルスで分極反転を生じ、かつ、メモリ性の口好な強誘
電性液晶(以ド、r F L CJという)で構成する
。ここでは、バイポーラパルスによる駆動について例を
示す。駆動にあたっては。
まず、負荷容r! (901に画像データを古き込む間
(第3図中のA期間)、V、、とvLをV Co11に
はぼ同じ電位V codに設定する。したがって、この
場合は1画像データの値に関係なく、各画素でV、、c
〜OVとなり、各画素の液晶素子(1o)は、萌フレー
ムの表示状態を保持している。
つぎに、画像データの書込がおわったのち。
■、とVl、にF L Cの分極反転が生じる程度の消
去パルスを印加する(第4図中のB期間)。これによっ
て、画像データの値に関係なく、各画素の液晶層”i’
 (+01のメ干り状態の消去が行なわれる。
つぎに、■HのみにFLCの分極反転が生じる程度の書
込パルスを印加する(第4図中のC期間)。この時のF
l、Cの応答は、各画素のインバータ入力電位V IT
j+つまり古き込まれた画像データの値により異なる。
インバータへの人力電位が低いときは、V Ot+T→
VHとなり、■□への書込パルスの印加にしたがって、
画素電極(7)へのパルスの書込が行なわれて、F I
 Cの分極反転が生じる。他方、インバータへの人力電
位が高いときは* V ouv −V 1、(= V 
co−)となり、F 1. Cの分極反転は生じない。
これによって、液晶パネルのちらつきのない二値表示動
作を実現できる。
[発明の効果] 以りのように、この発明は1画A選択トランジスタの出
力を人力とし、高電圧ラインと低電LFトライン間に接
続されたスイッチングトランジスタと1′J6itとで
構成されたインバータ回路を設け、このインバータ回路
の出力を液晶素子の画素電極に印加して一フレーム時間
のほとんどの間、その電位を一定に保つようにしたもの
であるから、液晶の誘電緩和やP9膜トランジスタの漏
れ重織による画素電位の低重等に起因するちらつきがな
く、良好な二fi+’i表示がil(能な液晶パネルが
得られる効果がある4゜
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例による液晶パネルの 画
素の構成を示す等価回路、第2図はこの実施例のタイミ
ングチャート、第3図はこの実施例の他の駆動動作時の
タイミングチャート、第4図は従来の液晶パネルの一画
素の等価回路図。 第5図はこの従来例のタイミングチャートである。 (2)・・・ゲートライン、(211,(221、(2
31−・・ゲート電極、 (6)−・・ソースライン、
  +511.(52)、(53)・・・ソース電極、
(61) 、 +62) 、 +633−・・ドし・イ
ン電極、(7)・・・画素電極、 (R1・・・液晶層
、 (9)・・・対向電極、(10)・・・液晶層T−
1(20)・・・高電圧ライン、 (30)・・・低電
圧ライン、(40)・・・画素選択トランジスタ、(5
0)−・・スイッチングトランジスタ、(60)・・・
負荷トランジスタ、(70)・・・インバータ回路であ
る。 なお、図中、同一符号は同一、または、相当部分を示す

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ゲートラインと、ソースラインと、少なくとも一
    画面を書き換える間それぞれほぼ定電位に保たれる高電
    圧ラインおよび低電圧ラインと、上記ゲートラインにゲ
    ート電極が接続され上記ソースラインにソース電極が接
    続された画素選択トランジスタと、このトランジスタの
    ドレイン電極にゲート電極が接続されドレイン電極が上
    記低電圧ラインに接続されたスイッチングトランジスタ
    およびこのスイッチングトランジスタのソース電極と上
    記高電圧ラインの間に接続された負荷トランジスタもし
    くはオーミック抵抗と、上記スイッチングトランジスタ
    のソース電極に画素電極が接続され対向電極が上記高電
    圧ラインに近い電位に保持されている液晶素子とを備え
    た液晶パネル。
JP2024631A 1990-02-02 1990-02-02 液晶パネル Pending JPH03229221A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2024631A JPH03229221A (ja) 1990-02-02 1990-02-02 液晶パネル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2024631A JPH03229221A (ja) 1990-02-02 1990-02-02 液晶パネル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03229221A true JPH03229221A (ja) 1991-10-11

Family

ID=12143484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2024631A Pending JPH03229221A (ja) 1990-02-02 1990-02-02 液晶パネル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03229221A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05107561A (ja) * 1991-10-16 1993-04-30 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 電気光学表示装置およびその作製方法と駆動方法
JPH05119352A (ja) * 1991-10-29 1993-05-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 電気光学表示装置およびその表示方法
US6693301B2 (en) 1991-10-16 2004-02-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electro-optical device and method of driving and manufacturing the same
US6885027B2 (en) 1994-06-02 2005-04-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Active matrix display and electrooptical device
US7071910B1 (en) 1991-10-16 2006-07-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electrooptical device and method of driving and manufacturing the same
US7079101B1 (en) 1998-05-13 2006-07-18 Nec Corporation Liquid crystal display device and driving method therefor
US7253440B1 (en) 1991-10-16 2007-08-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device having at least first and second thin film transistors
US7362304B2 (en) 1999-07-23 2008-04-22 Nec Corporation Liquid crystal display device and method for driving the same

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7071910B1 (en) 1991-10-16 2006-07-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electrooptical device and method of driving and manufacturing the same
JPH05107561A (ja) * 1991-10-16 1993-04-30 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 電気光学表示装置およびその作製方法と駆動方法
US6023308A (en) * 1991-10-16 2000-02-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Active matrix device with two TFT's per pixel driven by a third TFT with a crystalline silicon channel
US6693301B2 (en) 1991-10-16 2004-02-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electro-optical device and method of driving and manufacturing the same
US6759680B1 (en) 1991-10-16 2004-07-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device having thin film transistors
US7116302B2 (en) 1991-10-16 2006-10-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Process of operating active matrix display device having thin film transistors
US7253440B1 (en) 1991-10-16 2007-08-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device having at least first and second thin film transistors
JPH05119352A (ja) * 1991-10-29 1993-05-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 電気光学表示装置およびその表示方法
US7148506B2 (en) 1994-06-02 2006-12-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Active matrix display and electrooptical device
US6885027B2 (en) 1994-06-02 2005-04-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Active matrix display and electrooptical device
US7459724B2 (en) 1994-06-02 2008-12-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Active matrix display and electrooptical device
US7079101B1 (en) 1998-05-13 2006-07-18 Nec Corporation Liquid crystal display device and driving method therefor
US7362304B2 (en) 1999-07-23 2008-04-22 Nec Corporation Liquid crystal display device and method for driving the same
US7564443B2 (en) 1999-07-23 2009-07-21 Nec Corporation Liquid crystal display device and method for driving the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6064362A (en) Active matrix display
US5896117A (en) Drive circuit with reduced kickback voltage for liquid crystal display
US10223990B2 (en) Pixel circuit, method for driving the same and display panel capable of storing data voltage
US5798746A (en) Liquid crystal display device
US7733337B2 (en) Circuit for signal amplification and use of the same in active matrix devices
CA2049624C (en) Liquid crystal apparatus
US7079101B1 (en) Liquid crystal display device and driving method therefor
US6600472B1 (en) Liquid crystal display device
JPH0546929B2 (ja)
JPS58186796A (ja) 液晶表示装置およびその駆動方法
JP2002041001A (ja) 画像表示装置およびその駆動方法
JPS58214197A (ja) マトリクス配列の液晶表示装置を動作させる方法
TW200417974A (en) Liquid crystal display
TWI242085B (en) Display device
JPH03229221A (ja) 液晶パネル
US20060267902A1 (en) Display device
JPH07191304A (ja) 液晶電気光学装置
KR100257242B1 (ko) 액정표시장치
JPH05173175A (ja) 液晶表示装置
US20070182689A1 (en) Liquid crystal display device
US20020190939A1 (en) Active matrix display device
TWI396169B (zh) 液晶顯示裝置及電子裝置
US5909262A (en) Semiconductor device and driving method for semiconductor device
JPH0451835B2 (ja)
GB2064194A (en) A matrix type liquid crystal display device