JPH03229221A - 液晶パネル - Google Patents
液晶パネルInfo
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- JPH03229221A JPH03229221A JP2024631A JP2463190A JPH03229221A JP H03229221 A JPH03229221 A JP H03229221A JP 2024631 A JP2024631 A JP 2024631A JP 2463190 A JP2463190 A JP 2463190A JP H03229221 A JPH03229221 A JP H03229221A
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野1
この発明は、平面デイスプレィ等に用いられる液晶セル
に関するものである。
に関するものである。
[従来の技術]
第4図は1例えば特開平1−200231に示された従
来のアクティブマトリックス型の液晶パネルの画素の構
成例を示す。第4図は、薄膜トランジスタを用いた液晶
パネルの一画素の等価回路で、 (2)はゲートライン
、 (5)はソースライ、ン、(40)は画素選択トラ
ンジスタで、 +211はゲート電極、 (51)は
ソース電極、 (61)はドレイン電極である。(1
0)は一画素を形成する液晶素子で、 (7)は画南電
極、 (8)は液晶層、(9)は対向電極である。なお
1画素選択トランジスタ(40)は薄膜トランジスタが
用いられることが多い。
来のアクティブマトリックス型の液晶パネルの画素の構
成例を示す。第4図は、薄膜トランジスタを用いた液晶
パネルの一画素の等価回路で、 (2)はゲートライン
、 (5)はソースライ、ン、(40)は画素選択トラ
ンジスタで、 +211はゲート電極、 (51)は
ソース電極、 (61)はドレイン電極である。(1
0)は一画素を形成する液晶素子で、 (7)は画南電
極、 (8)は液晶層、(9)は対向電極である。なお
1画素選択トランジスタ(40)は薄膜トランジスタが
用いられることが多い。
この従来のアクティブマトリックス型の液晶パネルは1
画素選択トランジスタ+400)のゲート電極(21)
はゲートライン(20)に、ソース電極(51)はソー
スライン(50)に、信号出力端であるドレイン電−(
51)は、画素電極(7) に接続されており、ゲート
ライン(2)が選択されている間0画素電極(7)はソ
ース電極(51)の電位v3にほぼ等し7い電位になる
、液晶層(8)は、対向電極(9) と画素電極(7)
に挟まれており、画素型t4i (7)の電位v ou
tの高低に応して、二つの電極の電位差による電気光学
効果を示す。
画素選択トランジスタ+400)のゲート電極(21)
はゲートライン(20)に、ソース電極(51)はソー
スライン(50)に、信号出力端であるドレイン電−(
51)は、画素電極(7) に接続されており、ゲート
ライン(2)が選択されている間0画素電極(7)はソ
ース電極(51)の電位v3にほぼ等し7い電位になる
、液晶層(8)は、対向電極(9) と画素電極(7)
に挟まれており、画素型t4i (7)の電位v ou
tの高低に応して、二つの電極の電位差による電気光学
効果を示す。
第5図は、液晶パネルを駆動する際のタイミングチャー
トで、第5図(a)は、ゲート電極の電位vo、同図f
b)はソース電極の電位■3、同図(c)は画素電極の
電位V。U’r*同図(dl は液晶層の透過率1”t
、cを示す。
トで、第5図(a)は、ゲート電極の電位vo、同図f
b)はソース電極の電位■3、同図(c)は画素電極の
電位V。U’r*同図(dl は液晶層の透過率1”t
、cを示す。
つぎに、この従来例の動作を説明する。
−フレームの書き替えの間、第5図(a)に小す選択パ
ルスによって、ゲートライン(20)が順次選択されて
ゆく。各画素のドレイン電極(61)と画素型If!
(7)の電位VOIITには、ゲートライン(20)が
選択されているときのソース電極(51)の電位■3(
第5図(b)図示)が書き込まれ(第5図(C))
次の信号書込までの間、この画素電極(7)の電位が保
たれていると、液晶層(8)の透過率TLC(第5図(
d)図示)は一フレームの間一定で、ちらつきのない表
示動作が行なわれる。
ルスによって、ゲートライン(20)が順次選択されて
ゆく。各画素のドレイン電極(61)と画素型If!
(7)の電位VOIITには、ゲートライン(20)が
選択されているときのソース電極(51)の電位■3(
第5図(b)図示)が書き込まれ(第5図(C))
次の信号書込までの間、この画素電極(7)の電位が保
たれていると、液晶層(8)の透過率TLC(第5図(
d)図示)は一フレームの間一定で、ちらつきのない表
示動作が行なわれる。
[発明が解決しようとする課題]
従来の液晶パネルは、以Fのように構成されていたので
、ゲート選択時間の間に画素電極に所安の電荷を貯えて
も、フレーム古き換え時間の間における液晶層を通じて
の過渡電流やトランジスタや、液晶のリーク等による電
荷の散逸のため、液晶層にかかる電11が低ドし、ちら
つきが生じるといった問題点があった。
、ゲート選択時間の間に画素電極に所安の電荷を貯えて
も、フレーム古き換え時間の間における液晶層を通じて
の過渡電流やトランジスタや、液晶のリーク等による電
荷の散逸のため、液晶層にかかる電11が低ドし、ちら
つきが生じるといった問題点があった。
この問題点を解決するため、従来画素電極前段のゲート
電極の間に、保持容量を設ける等の方策がとられるが、
液晶層の抵抗値が小さい場合には、かなり大きな保持容
量を設けて液晶印加電位の低重を防ぐ必安があり、それ
が開1]率の低)をもたらすという問題点が生じていた
。
電極の間に、保持容量を設ける等の方策がとられるが、
液晶層の抵抗値が小さい場合には、かなり大きな保持容
量を設けて液晶印加電位の低重を防ぐ必安があり、それ
が開1]率の低)をもたらすという問題点が生じていた
。
この発明は、L記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、抵抗値の小さな液晶材料を用いた場合でも
1本質的にちらつきがなく、良好な二値表示を行なえる
液晶パネルを得ることを目的とする。。
れたもので、抵抗値の小さな液晶材料を用いた場合でも
1本質的にちらつきがなく、良好な二値表示を行なえる
液晶パネルを得ることを目的とする。。
〔課題を解決するための手段]
この発明に係る液晶パネルでは、液晶パネルのアレイ基
板上に、ゲートラインとソースラインの他に、高電圧ラ
インと低電圧ラインとを設けるとともに、各画素に画素
選択トランジスタの出力を人力とする[記高圧ラインと
低圧ラインとの間に接続されたインバータ回路を設け、
このインバータ回路の出力型片な液晶素子の画素電極に
印加するようにした点を特徴とする。
板上に、ゲートラインとソースラインの他に、高電圧ラ
インと低電圧ラインとを設けるとともに、各画素に画素
選択トランジスタの出力を人力とする[記高圧ラインと
低圧ラインとの間に接続されたインバータ回路を設け、
このインバータ回路の出力型片な液晶素子の画素電極に
印加するようにした点を特徴とする。
この発明における液晶パネルでは、画素選択トランジス
タの出力に応じて、画素電極電位が次の信号入力までの
間、高電圧ライン電位または低電圧ライン電位に保たれ
るので、液晶層を通じての過渡電流や画素選択トランジ
スタや液晶層のリーク等による画素電極電位の変動をさ
けることができ、ちらつきのない良好なニー表示を実現
できる。
タの出力に応じて、画素電極電位が次の信号入力までの
間、高電圧ライン電位または低電圧ライン電位に保たれ
るので、液晶層を通じての過渡電流や画素選択トランジ
スタや液晶層のリーク等による画素電極電位の変動をさ
けることができ、ちらつきのない良好なニー表示を実現
できる。
【発明の実施例J
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図は、この゛X施例の液晶パネルの−・画木内の構成を
等価回路で示した図で、 (500)はスイッチング
トランジスタ、 +6001は1荷トランジスタで、
各トランジスタはいずれもnチャンネルのエンハンスメ
ント型のものである。(21)、(221゜(23)は
各トランジスタ(400) 、 (5001、(600
)のゲート電極、(611,(62)、 (53)は各
トランジスタのソース電f4i、 (6r1.(62
)163)は各トランジスタのドレイン電極、(20)
は高電圧ライン、(30)は低電圧ラインで、高電圧ラ
イン(20)、低電圧ライン+30)。
図は、この゛X施例の液晶パネルの−・画木内の構成を
等価回路で示した図で、 (500)はスイッチング
トランジスタ、 +6001は1荷トランジスタで、
各トランジスタはいずれもnチャンネルのエンハンスメ
ント型のものである。(21)、(221゜(23)は
各トランジスタ(400) 、 (5001、(600
)のゲート電極、(611,(62)、 (53)は各
トランジスタのソース電f4i、 (6r1.(62
)163)は各トランジスタのドレイン電極、(20)
は高電圧ライン、(30)は低電圧ラインで、高電圧ラ
イン(20)、低電圧ライン+30)。
スイッチングトランジスタ(50)および負荷トランジ
スタ(60)によって、インバータ101路(70(が
形成されている。 (90)は口荷容暖で1画素選択ト
ランジスタ(40)のドレイン電極(61)は、負荷容
量(90)およびインバータ回路(7111の入力端に
接続されている。インバータ回路(70)は、nチャン
ネルのエンハンスメント型トランジスタ二個からなるい
わゆるN EI S型の回路であって、スイッチングト
ランジスタ(50)のドレイン電極(52)は低電圧ラ
イン(30)に、ソース電極(52)は負荷トランジス
タ(60)のソースS!tt極(53)に接続され、負
旬トランジスタ(60)のゲート電K (231および
ドレイン電極(63)は高電圧ライン(20)に接続さ
れ、インバータ回路(70)の出力端は画素電極(7)
に接続されており、画素電極(7)の電位は、インバー
タ回路(7o)の人力電位の高低に応じて、低電圧ライ
ン(30)の電位■5、または、晶型l「ライン(20
)の電位vlIのいずれかの電位に保たれる。
スタ(60)によって、インバータ101路(70(が
形成されている。 (90)は口荷容暖で1画素選択ト
ランジスタ(40)のドレイン電極(61)は、負荷容
量(90)およびインバータ回路(7111の入力端に
接続されている。インバータ回路(70)は、nチャン
ネルのエンハンスメント型トランジスタ二個からなるい
わゆるN EI S型の回路であって、スイッチングト
ランジスタ(50)のドレイン電極(52)は低電圧ラ
イン(30)に、ソース電極(52)は負荷トランジス
タ(60)のソースS!tt極(53)に接続され、負
旬トランジスタ(60)のゲート電K (231および
ドレイン電極(63)は高電圧ライン(20)に接続さ
れ、インバータ回路(70)の出力端は画素電極(7)
に接続されており、画素電極(7)の電位は、インバー
タ回路(7o)の人力電位の高低に応じて、低電圧ライ
ン(30)の電位■5、または、晶型l「ライン(20
)の電位vlIのいずれかの電位に保たれる。
第2図は、この実施例の液晶パネルを駆動する際のタイ
ミングチャートを示した図で、第2図(a)、ゲート電
viA電位■。、同図(b)はソース電極電位■3.同
図(cl はドし・イン電極の電位V、N、同図(dl
は画素電極の電位V。UT %同図(c)は液晶層の
透過率TLcをホす。
ミングチャートを示した図で、第2図(a)、ゲート電
viA電位■。、同図(b)はソース電極電位■3.同
図(cl はドし・イン電極の電位V、N、同図(dl
は画素電極の電位V。UT %同図(c)は液晶層の
透過率TLcをホす。
次に、この実施例の動作を説明する。
ある画素を選択する場合、その画素選択トランジスタ(
40)が接続されているゲートライン(2)が選択され
ているときは、当該画素選択トランジスタ(40)が接
続されているソースライン(5)の電位■、を高電位と
する。これによって、次のゲート選択時まで、インバー
タ回路(70)の入力■、は。
40)が接続されているゲートライン(2)が選択され
ているときは、当該画素選択トランジスタ(40)が接
続されているソースライン(5)の電位■、を高電位と
する。これによって、次のゲート選択時まで、インバー
タ回路(70)の入力■、は。
高電位に保たれ、インバータ回路(70)の出力V o
+rrは、V t、に近いψとなり、対向電極(9)の
電位VCOゆを■□に等しい電位に設定すれば、液晶印
加電ハ:V lc= V OUT V col、lは
、はぼVV uとなり、液晶素子(10)に占地を行な
うことかできる。
+rrは、V t、に近いψとなり、対向電極(9)の
電位VCOゆを■□に等しい電位に設定すれば、液晶印
加電ハ:V lc= V OUT V col、lは
、はぼVV uとなり、液晶素子(10)に占地を行な
うことかできる。
他力1選択しない画素に接続されているゲートライン(
2)が選択されているときは、そのソースライン(5)
の電位Vsを低電位とする。これによって、次のゲート
選択時まで、インバータ入力VITIが低電位に保たれ
、インバータの出力■。u’rは、V 11に近い値と
なる。したがってV 1.cは、はぼOvとなり、その
画素を非選択状態にすることができる。
2)が選択されているときは、そのソースライン(5)
の電位Vsを低電位とする。これによって、次のゲート
選択時まで、インバータ入力VITIが低電位に保たれ
、インバータの出力■。u’rは、V 11に近い値と
なる。したがってV 1.cは、はぼOvとなり、その
画素を非選択状態にすることができる。
なお、上記実施例では、各画素を構成する薄膜トランジ
スタとして、nチャンネルのエンハンスメント型の薄膜
トランジスタを用いたが、その能動層には、アモルファ
スシリコン牧、多結晶シリコン股やCdS膜等の液晶パ
ネルにしばしば用いられる゛L導体材料が使用できる。
スタとして、nチャンネルのエンハンスメント型の薄膜
トランジスタを用いたが、その能動層には、アモルファ
スシリコン牧、多結晶シリコン股やCdS膜等の液晶パ
ネルにしばしば用いられる゛L導体材料が使用できる。
また、アレイを形成する基板としては、ガラス基板が−
・設面であるが、結晶シリコン等の半導体結晶基板を用
いることもできる。この場合、薄膜トランジスタの代わ
りに、MOS トランジスタを基板内に作りこんでアレ
イ基板とすることもできる。さらに、トランジスタとし
ては、nチャンネルやデイプレッション型のものを用い
てもインバータ回路の構成を適宜選択することで、同様
の効果が期待できる。
・設面であるが、結晶シリコン等の半導体結晶基板を用
いることもできる。この場合、薄膜トランジスタの代わ
りに、MOS トランジスタを基板内に作りこんでアレ
イ基板とすることもできる。さらに、トランジスタとし
ては、nチャンネルやデイプレッション型のものを用い
てもインバータ回路の構成を適宜選択することで、同様
の効果が期待できる。
さらに、I−記実施例では、インバータ回路のf1荷ト
ランジスタを1−ミック抵抗等に置き換えてもよく、さ
らに2低電圧ラインとして、−段面のゲートラインを用
いても、その効果はほとんど変わらない。さらに、低電
圧ラインおよび晶型1」;ラインは1表示面全体を覆う
導電膜として構成することもできる。
ランジスタを1−ミック抵抗等に置き換えてもよく、さ
らに2低電圧ラインとして、−段面のゲートラインを用
いても、その効果はほとんど変わらない。さらに、低電
圧ラインおよび晶型1」;ラインは1表示面全体を覆う
導電膜として構成することもできる。
また、その駆動動作におい・ては、低電圧源と高電圧源
を異なる電位とし、その電位をほぼ−・フレーム時間の
間保つことが重要であり、その他の電位の高低やその印
加のタイミングは、液晶の物性や、アレイ回路の特性に
応じてさまざまに変史してさしつかえない。
を異なる電位とし、その電位をほぼ−・フレーム時間の
間保つことが重要であり、その他の電位の高低やその印
加のタイミングは、液晶の物性や、アレイ回路の特性に
応じてさまざまに変史してさしつかえない。
また、第1図に示した実施例の液晶パネルを用いて、強
誘電性液晶のアクティブマトリックス法による駆動を行
なうことができる。
誘電性液晶のアクティブマトリックス法による駆動を行
なうことができる。
第3図はこの駆動動作時のタイミングチャートで、第3
3図(a)はゲート電極の電位vG、同図(b)はソー
ス電極の電位■3、同図(c)はインバータ人力電位V
+N、同図(d)は高電圧ライン電位■11、同図(
e)は低電圧ライン電位Vt、同図(f)は液晶稟子印
加電LFv +、cs同図!g)は液晶層の透過率TL
cを示している。
3図(a)はゲート電極の電位vG、同図(b)はソー
ス電極の電位■3、同図(c)はインバータ人力電位V
+N、同図(d)は高電圧ライン電位■11、同図(
e)は低電圧ライン電位Vt、同図(f)は液晶稟子印
加電LFv +、cs同図!g)は液晶層の透過率TL
cを示している。
液晶層(8)は、バイポーラパルス、または、中経矩形
パルスで分極反転を生じ、かつ、メモリ性の口好な強誘
電性液晶(以ド、r F L CJという)で構成する
。ここでは、バイポーラパルスによる駆動について例を
示す。駆動にあたっては。
パルスで分極反転を生じ、かつ、メモリ性の口好な強誘
電性液晶(以ド、r F L CJという)で構成する
。ここでは、バイポーラパルスによる駆動について例を
示す。駆動にあたっては。
まず、負荷容r! (901に画像データを古き込む間
(第3図中のA期間)、V、、とvLをV Co11に
はぼ同じ電位V codに設定する。したがって、この
場合は1画像データの値に関係なく、各画素でV、、c
〜OVとなり、各画素の液晶素子(1o)は、萌フレー
ムの表示状態を保持している。
(第3図中のA期間)、V、、とvLをV Co11に
はぼ同じ電位V codに設定する。したがって、この
場合は1画像データの値に関係なく、各画素でV、、c
〜OVとなり、各画素の液晶素子(1o)は、萌フレー
ムの表示状態を保持している。
つぎに、画像データの書込がおわったのち。
■、とVl、にF L Cの分極反転が生じる程度の消
去パルスを印加する(第4図中のB期間)。これによっ
て、画像データの値に関係なく、各画素の液晶層”i’
(+01のメ干り状態の消去が行なわれる。
去パルスを印加する(第4図中のB期間)。これによっ
て、画像データの値に関係なく、各画素の液晶層”i’
(+01のメ干り状態の消去が行なわれる。
つぎに、■HのみにFLCの分極反転が生じる程度の書
込パルスを印加する(第4図中のC期間)。この時のF
l、Cの応答は、各画素のインバータ入力電位V IT
j+つまり古き込まれた画像データの値により異なる。
込パルスを印加する(第4図中のC期間)。この時のF
l、Cの応答は、各画素のインバータ入力電位V IT
j+つまり古き込まれた画像データの値により異なる。
インバータへの人力電位が低いときは、V Ot+T→
VHとなり、■□への書込パルスの印加にしたがって、
画素電極(7)へのパルスの書込が行なわれて、F I
Cの分極反転が生じる。他方、インバータへの人力電
位が高いときは* V ouv −V 1、(= V
co−)となり、F 1. Cの分極反転は生じない。
VHとなり、■□への書込パルスの印加にしたがって、
画素電極(7)へのパルスの書込が行なわれて、F I
Cの分極反転が生じる。他方、インバータへの人力電
位が高いときは* V ouv −V 1、(= V
co−)となり、F 1. Cの分極反転は生じない。
これによって、液晶パネルのちらつきのない二値表示動
作を実現できる。
作を実現できる。
[発明の効果]
以りのように、この発明は1画A選択トランジスタの出
力を人力とし、高電圧ラインと低電LFトライン間に接
続されたスイッチングトランジスタと1′J6itとで
構成されたインバータ回路を設け、このインバータ回路
の出力を液晶素子の画素電極に印加して一フレーム時間
のほとんどの間、その電位を一定に保つようにしたもの
であるから、液晶の誘電緩和やP9膜トランジスタの漏
れ重織による画素電位の低重等に起因するちらつきがな
く、良好な二fi+’i表示がil(能な液晶パネルが
得られる効果がある4゜
力を人力とし、高電圧ラインと低電LFトライン間に接
続されたスイッチングトランジスタと1′J6itとで
構成されたインバータ回路を設け、このインバータ回路
の出力を液晶素子の画素電極に印加して一フレーム時間
のほとんどの間、その電位を一定に保つようにしたもの
であるから、液晶の誘電緩和やP9膜トランジスタの漏
れ重織による画素電位の低重等に起因するちらつきがな
く、良好な二fi+’i表示がil(能な液晶パネルが
得られる効果がある4゜
第1図は、この発明の一実施例による液晶パネルの 画
素の構成を示す等価回路、第2図はこの実施例のタイミ
ングチャート、第3図はこの実施例の他の駆動動作時の
タイミングチャート、第4図は従来の液晶パネルの一画
素の等価回路図。 第5図はこの従来例のタイミングチャートである。 (2)・・・ゲートライン、(211,(221、(2
31−・・ゲート電極、 (6)−・・ソースライン、
+511.(52)、(53)・・・ソース電極、
(61) 、 +62) 、 +633−・・ドし・イ
ン電極、(7)・・・画素電極、 (R1・・・液晶層
、 (9)・・・対向電極、(10)・・・液晶層T−
1(20)・・・高電圧ライン、 (30)・・・低電
圧ライン、(40)・・・画素選択トランジスタ、(5
0)−・・スイッチングトランジスタ、(60)・・・
負荷トランジスタ、(70)・・・インバータ回路であ
る。 なお、図中、同一符号は同一、または、相当部分を示す
。
素の構成を示す等価回路、第2図はこの実施例のタイミ
ングチャート、第3図はこの実施例の他の駆動動作時の
タイミングチャート、第4図は従来の液晶パネルの一画
素の等価回路図。 第5図はこの従来例のタイミングチャートである。 (2)・・・ゲートライン、(211,(221、(2
31−・・ゲート電極、 (6)−・・ソースライン、
+511.(52)、(53)・・・ソース電極、
(61) 、 +62) 、 +633−・・ドし・イ
ン電極、(7)・・・画素電極、 (R1・・・液晶層
、 (9)・・・対向電極、(10)・・・液晶層T−
1(20)・・・高電圧ライン、 (30)・・・低電
圧ライン、(40)・・・画素選択トランジスタ、(5
0)−・・スイッチングトランジスタ、(60)・・・
負荷トランジスタ、(70)・・・インバータ回路であ
る。 なお、図中、同一符号は同一、または、相当部分を示す
。
Claims (1)
- (1)ゲートラインと、ソースラインと、少なくとも一
画面を書き換える間それぞれほぼ定電位に保たれる高電
圧ラインおよび低電圧ラインと、上記ゲートラインにゲ
ート電極が接続され上記ソースラインにソース電極が接
続された画素選択トランジスタと、このトランジスタの
ドレイン電極にゲート電極が接続されドレイン電極が上
記低電圧ラインに接続されたスイッチングトランジスタ
およびこのスイッチングトランジスタのソース電極と上
記高電圧ラインの間に接続された負荷トランジスタもし
くはオーミック抵抗と、上記スイッチングトランジスタ
のソース電極に画素電極が接続され対向電極が上記高電
圧ラインに近い電位に保持されている液晶素子とを備え
た液晶パネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024631A JPH03229221A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 液晶パネル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024631A JPH03229221A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 液晶パネル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03229221A true JPH03229221A (ja) | 1991-10-11 |
Family
ID=12143484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024631A Pending JPH03229221A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | 液晶パネル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03229221A (ja) |
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- 1990-02-02 JP JP2024631A patent/JPH03229221A/ja active Pending
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