JPH03223809A - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体の製造方法Info
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- JPH03223809A JPH03223809A JP1947690A JP1947690A JPH03223809A JP H03223809 A JPH03223809 A JP H03223809A JP 1947690 A JP1947690 A JP 1947690A JP 1947690 A JP1947690 A JP 1947690A JP H03223809 A JPH03223809 A JP H03223809A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電気光学的にメモリ性の画像記録が形成可能
な液晶材料を絶縁性の高分子マトリックス中に分散した
メモリ性の高分子一液晶膜とこの高分子一液晶膜の少な
くとも片側に電極を接合した構造の情報記録媒体の製造
方法に関し、特にこのような構造の情報記録媒体の記録
画像のコントラストの改良技術に関する。
な液晶材料を絶縁性の高分子マトリックス中に分散した
メモリ性の高分子一液晶膜とこの高分子一液晶膜の少な
くとも片側に電極を接合した構造の情報記録媒体の製造
方法に関し、特にこのような構造の情報記録媒体の記録
画像のコントラストの改良技術に関する。
(従来の技術)
電気光学的にメモリ性の画像記録が形成可能な液晶材料
を絶縁性の高分子マトリックス中に分散したメモリー性
の高分子一液晶膜とこの高分子一液晶膜の少なくとも片
側に電極を接合した構造の情報記録媒体については1本
出願人が先に出願した特願昭64−160058号及び
特願平l−219444号に記載されている。
を絶縁性の高分子マトリックス中に分散したメモリー性
の高分子一液晶膜とこの高分子一液晶膜の少なくとも片
側に電極を接合した構造の情報記録媒体については1本
出願人が先に出願した特願昭64−160058号及び
特願平l−219444号に記載されている。
特願昭64−160058号に記載されている情報記録
媒体は前記液晶材料がネマティック液晶材料であリ、特
願平1−219444号に記載されている情報記録媒体
はスメクチック液晶材料である点を除けば両者は同様の
4jI#成となっている。
媒体は前記液晶材料がネマティック液晶材料であリ、特
願平1−219444号に記載されている情報記録媒体
はスメクチック液晶材料である点を除けば両者は同様の
4jI#成となっている。
即ち、両者ともガラス等の透II基板上に透明電極、前
記高分子−液晶膜が順次積層された構成のもの、更にこ
の高分子一液晶膜上に誘電体層を植層したもの、あるい
は少なくとも画像記録時にこの高分子−液晶膜の片側に
透明電極を形成した光導電体の光導電体部分を接合させ
る構造のもの(この先導1耽体部分は製造時に接合され
たものであってもよい、)のいずれかの構成をとり、画
像記録時に高分子−液晶膜又は誘電体層を露出させた構
成のものは例えばこれ等の層に情報記録媒体の透lj1
電極との間に電源を含む回路を構成した針電極の先端を
走査しながらこの針電極にかける電圧を形成する画像に
従ってオン/オフすることにより画像記録を行なうもの
であり、光導電体を用いたものは画像露光を行ないなが
ら光導電体及び高分子−液晶膜を挾む両透明電極間に電
圧を印加することにより画像記録を行なうものである。
記高分子−液晶膜が順次積層された構成のもの、更にこ
の高分子一液晶膜上に誘電体層を植層したもの、あるい
は少なくとも画像記録時にこの高分子−液晶膜の片側に
透明電極を形成した光導電体の光導電体部分を接合させ
る構造のもの(この先導1耽体部分は製造時に接合され
たものであってもよい、)のいずれかの構成をとり、画
像記録時に高分子−液晶膜又は誘電体層を露出させた構
成のものは例えばこれ等の層に情報記録媒体の透lj1
電極との間に電源を含む回路を構成した針電極の先端を
走査しながらこの針電極にかける電圧を形成する画像に
従ってオン/オフすることにより画像記録を行なうもの
であり、光導電体を用いたものは画像露光を行ないなが
ら光導電体及び高分子−液晶膜を挾む両透明電極間に電
圧を印加することにより画像記録を行なうものである。
(発明が解決しようとする課題)
ここで特願昭64−160058号及び特願平1−21
9444号に記載されているタイプの情報記録媒体は画
像記録により透明な透光部分と非透光部分(光散乱部分
)よりなる記録画像が形成されるが、この記録画像を形
成した情報記録媒体を例えば電子映像システムや電子印
刷を行なう際の光源とlii塩写真フィルム、ジアゾニ
ウム感光紙等の感光材料との間に介装する画像露光のた
めの画像フィルタ(透光部と非透光部によって画像状に
光を透過又は遮断するフィルタ)あるいはフルカラー画
像を形成する際のシアン、マゼンタ、イエロの画素フィ
ルタとして利用する場合にはこの情報記録媒体に形成さ
れる記録画像のコントラストは大きい方がよい。
9444号に記載されているタイプの情報記録媒体は画
像記録により透明な透光部分と非透光部分(光散乱部分
)よりなる記録画像が形成されるが、この記録画像を形
成した情報記録媒体を例えば電子映像システムや電子印
刷を行なう際の光源とlii塩写真フィルム、ジアゾニ
ウム感光紙等の感光材料との間に介装する画像露光のた
めの画像フィルタ(透光部と非透光部によって画像状に
光を透過又は遮断するフィルタ)あるいはフルカラー画
像を形成する際のシアン、マゼンタ、イエロの画素フィ
ルタとして利用する場合にはこの情報記録媒体に形成さ
れる記録画像のコントラストは大きい方がよい。
このように4L記タイプの情報記録媒体においてはより
一層のコントラストの増大化が求められている。
一層のコントラストの増大化が求められている。
(課題を解決するための手段)
本発明は上記課題を解決するため、上記タイプの情報記
録媒体を構成した後、この情報記録媒体の高分子−液晶
膜に画像記録を行なう前に高分子液晶膜中の液晶材料が
アイソトロピック相となる加熱処理をイエなって上記タ
イプの情報記録媒体を製造するようにしたものである。
録媒体を構成した後、この情報記録媒体の高分子−液晶
膜に画像記録を行なう前に高分子液晶膜中の液晶材料が
アイソトロピック相となる加熱処理をイエなって上記タ
イプの情報記録媒体を製造するようにしたものである。
この情報記録媒体の製造には、室温でスメクチック相を
示す電気的絶縁性のスメクチック液晶材料4 又は室温
でネマティック相を示す同様の性質のネマティック液晶
材料等の公知の液晶材料が使用できるが、前記スメクチ
ック液晶材料、あるいは前記スメクチック液晶材料と前
記ネマティック液晶材料との比率が10=1以下である
混合液晶材料を使用することが好ましい。
示す電気的絶縁性のスメクチック液晶材料4 又は室温
でネマティック相を示す同様の性質のネマティック液晶
材料等の公知の液晶材料が使用できるが、前記スメクチ
ック液晶材料、あるいは前記スメクチック液晶材料と前
記ネマティック液晶材料との比率が10=1以下である
混合液晶材料を使用することが好ましい。
また、メモリ性の高分子−液晶膜を構成する品分−〔マ
トリックスとしては、例えばメタクリル樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、廖化ヒニル樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂
、ポリスチレン樹脂、シリコン樹脂のような体積抵抗率
が10;4Ω、Cm以十、の無色透明な高分子材料が使
用される。
トリックスとしては、例えばメタクリル樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリカーボネート樹脂、廖化ヒニル樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂
、ポリスチレン樹脂、シリコン樹脂のような体積抵抗率
が10;4Ω、Cm以十、の無色透明な高分子材料が使
用される。
そして、このメモリ性の高分子−液晶膜は、通常上記高
分子材料の溶液に液晶材料を均一に分散して塗布液とし
、この塗布液をディッピング法、コーティング法、スピ
ナ回転塗布法等により例えば基板上の電極に一様に塗布
した後、乾燥して溶媒を除去することによって形成する
ことができる。
分子材料の溶液に液晶材料を均一に分散して塗布液とし
、この塗布液をディッピング法、コーティング法、スピ
ナ回転塗布法等により例えば基板上の電極に一様に塗布
した後、乾燥して溶媒を除去することによって形成する
ことができる。
一方1本発明において製造される情報記録媒体は画像記
録方法によって構造が異なり、この情報記録媒体の構造
によって電極の形態が異なる。
録方法によって構造が異なり、この情報記録媒体の構造
によって電極の形態が異なる。
即ち、既に従来の技術の項で述べたように針電極により
画像記録を行なう場合には、本発明において製造される
情報記録媒体は高分子−液晶膜又はこの−Lに被覆され
た誘電体層が露出した構造となっており、この場合の電
極は高分子−液晶膜の片側に面状電極が使用され、この
電極は透明であっても不透明であってもよい。
画像記録を行なう場合には、本発明において製造される
情報記録媒体は高分子−液晶膜又はこの−Lに被覆され
た誘電体層が露出した構造となっており、この場合の電
極は高分子−液晶膜の片側に面状電極が使用され、この
電極は透明であっても不透明であってもよい。
また、ドツトマトリックス電極と面状電極とのサンドイ
ッチ構造として各ドー、ト電様に選択的に電圧を印加し
て画像記録を行なう場合には1未発IJ+において製造
される情報記録媒体は少なくとも画像記録時にはこの高
分子−液晶膜の両側にドツトマトリックス′i′1f極
及び面状電極が接合され、がっ、ドツトマトリックス電
極及び面状電極のいずれか一力が透明11f極となって
いて、この透明電極が透151基板に支持された構造と
なっている。
ッチ構造として各ドー、ト電様に選択的に電圧を印加し
て画像記録を行なう場合には1未発IJ+において製造
される情報記録媒体は少なくとも画像記録時にはこの高
分子−液晶膜の両側にドツトマトリックス′i′1f極
及び面状電極が接合され、がっ、ドツトマトリックス電
極及び面状電極のいずれか一力が透明11f極となって
いて、この透明電極が透151基板に支持された構造と
なっている。
更に、既に従来の技術の項で述べたように画像露光と高
分子−液晶膜への−様な電界形成とを組合せて画像記録
を行なう場合には、本発明において製造される情報記録
媒体は少なくとも画像記録時に片側に面状電極の形成さ
れた高分子−液晶膜又はこの1−に被覆された誘電体層
に光導電層が接合された構造となっている。この内、光
導電層に帯′屯することにより一様な′電界を形成する
41合には光導電層の片面が露出した4RX1となって
おり。
分子−液晶膜への−様な電界形成とを組合せて画像記録
を行なう場合には、本発明において製造される情報記録
媒体は少なくとも画像記録時に片側に面状電極の形成さ
れた高分子−液晶膜又はこの1−に被覆された誘電体層
に光導電層が接合された構造となっている。この内、光
導電層に帯′屯することにより一様な′電界を形成する
41合には光導電層の片面が露出した4RX1となって
おり。
光導゛重層と高分子−液晶膜へ電圧印加を行なって−様
な電界を形成する場合には前記と対応する光導電層の片
面に面状の透明電極及び必要に応じてこの面状透明コし
極に接合して透明基板を接合した構造となっている。ま
た、光導電層が不透明な場合には光導電層と反対側の情
報記録媒体には面状の透明電極及び必要に応じてこの面
状透明電極に接合して透明基板が接合される。
な電界を形成する場合には前記と対応する光導電層の片
面に面状の透明電極及び必要に応じてこの面状透明コし
極に接合して透明基板を接合した構造となっている。ま
た、光導電層が不透明な場合には光導電層と反対側の情
報記録媒体には面状の透明電極及び必要に応じてこの面
状透明電極に接合して透明基板が接合される。
以上の場合における電極材料としては公知の材料が使用
される0例えば、透明電極の場合にはS i 02、I
n20s (ITO)等の真空蒸着膜あるいはスパ
ッタ膜が使用され、透明であることが必要でない場合に
はこれ等に加えて更にAす等の金属が使用され、電極の
形成はそれぞれ真空蒸着法、スパッタ法等の公知の方法
で行なうことができる。
される0例えば、透明電極の場合にはS i 02、I
n20s (ITO)等の真空蒸着膜あるいはスパ
ッタ膜が使用され、透明であることが必要でない場合に
はこれ等に加えて更にAす等の金属が使用され、電極の
形成はそれぞれ真空蒸着法、スパッタ法等の公知の方法
で行なうことができる。
また、光導電層としては1通常、未露光状態で体積抵抗
率が10目Ω、cm以上であって露光により例えば体積
抵抗率が1QI2Ω、cm以下となるものが使用される
。
率が10目Ω、cm以上であって露光により例えば体積
抵抗率が1QI2Ω、cm以下となるものが使用される
。
具体的には1例えばSe、5eTe等の単一材料からな
る薄膜、あるいは露光する光に対して光導電性を示す例
えばCdS等の無機顔料、又はフタロシアニン顔料、キ
ナクリドン顔料等の有機顔料からなる光導゛心性粒子を
面上高分子材料に分散させた光導電性粒子分散型光導電
層、ポリビニルカルバゾール等の光導電性高分子材料に
増感色素を分散又は溶解させた色素増感型光導電層、S
eや5eTe等の通常171m以下の薄膜もしくは露光
する光を吸収して電荷を発生する色素、即ち染料又は顔
料、あるいはこれ等の染料又は顔料を含む前記高分子材
料によって構成された高分子マトリックスからなる電荷
発生層とこの電荷を輸送する71!荷輸送材を同様の高
分子材料に分散又は溶解させた構成の電荷輸送層との積
層構造を有する積層型光導電層等が挙げられる。
る薄膜、あるいは露光する光に対して光導電性を示す例
えばCdS等の無機顔料、又はフタロシアニン顔料、キ
ナクリドン顔料等の有機顔料からなる光導゛心性粒子を
面上高分子材料に分散させた光導電性粒子分散型光導電
層、ポリビニルカルバゾール等の光導電性高分子材料に
増感色素を分散又は溶解させた色素増感型光導電層、S
eや5eTe等の通常171m以下の薄膜もしくは露光
する光を吸収して電荷を発生する色素、即ち染料又は顔
料、あるいはこれ等の染料又は顔料を含む前記高分子材
料によって構成された高分子マトリックスからなる電荷
発生層とこの電荷を輸送する71!荷輸送材を同様の高
分子材料に分散又は溶解させた構成の電荷輸送層との積
層構造を有する積層型光導電層等が挙げられる。
以りの光導電層もその417&に応じて公知の方法で製
造することができる。
造することができる。
(作用)
上記本発明の構成によれば、高分子一液晶膜中の液晶は
゛電界形成前においては光散乱状7gを示すスメクチッ
ク相、ネマティック相等の液晶相となっているが、高分
子−液晶膜に電界をかけると一定の電界強度以上で配向
し、液晶の種類に応じて光学異方性を示すスメクチック
相、ネマティック相等の液晶相に変わり、電界強度に応
じて液晶の配向性、従って光学異方性が強まり、高分子
−液晶膜における画像部と非画像部の電界強度を適当に
変えてやることにより1画像部と非画像部とで高分子−
液晶膜を通過する透過光又は高分子−液晶膜からの散乱
光の強度に差が生じ、記録画像がこの高分子−液晶膜に
形成される。
゛電界形成前においては光散乱状7gを示すスメクチッ
ク相、ネマティック相等の液晶相となっているが、高分
子−液晶膜に電界をかけると一定の電界強度以上で配向
し、液晶の種類に応じて光学異方性を示すスメクチック
相、ネマティック相等の液晶相に変わり、電界強度に応
じて液晶の配向性、従って光学異方性が強まり、高分子
−液晶膜における画像部と非画像部の電界強度を適当に
変えてやることにより1画像部と非画像部とで高分子−
液晶膜を通過する透過光又は高分子−液晶膜からの散乱
光の強度に差が生じ、記録画像がこの高分子−液晶膜に
形成される。
そしてこの高分子−液晶膜における液晶の配向状態、即
ち記録媒体に形成された画像は電圧印加を停止するなど
、自然状態に放置した後にも保持される。即ち高分子一
液晶111d電体はメモリ性を有する。
ち記録媒体に形成された画像は電圧印加を停止するなど
、自然状態に放置した後にも保持される。即ち高分子一
液晶111d電体はメモリ性を有する。
また、この高分子−液晶膜のメモリ性は記録媒体、従っ
てこの高分子−液晶膜を一定温度以上に加熱することに
より高分子−液晶膜を構成する高分子マトリックス中の
液晶相を構成する液晶分子又は液晶分子集団は自由に熱
運動を行なって透明なアイソトロピック相になり、次の
冷却過程において元の光散乱状態の液晶相に戻り、記録
媒体に形成された画像が消去される。
てこの高分子−液晶膜を一定温度以上に加熱することに
より高分子−液晶膜を構成する高分子マトリックス中の
液晶相を構成する液晶分子又は液晶分子集団は自由に熱
運動を行なって透明なアイソトロピック相になり、次の
冷却過程において元の光散乱状態の液晶相に戻り、記録
媒体に形成された画像が消去される。
(実施例)
以下に実施例を示し、本発明を更に詳しく説明する。
〈実施例1、比較例1〉
メルク費ジャパン社製の商品名S6で知られる室温でス
メクチック相を示すスメクチック液晶材料3gを10重
φ%のPMMAのクロロホルム溶液20gに添加して撹
拌して均一に分散して塗布液Aを形成する。
メクチック相を示すスメクチック液晶材料3gを10重
φ%のPMMAのクロロホルム溶液20gに添加して撹
拌して均一に分散して塗布液Aを形成する。
次いで、透明基板りにITOの薄膜(透明型M)が形成
され、この薄膜を充分に洗浄した後、この薄膜I−に前
記塗布液をバーコーターにより塗/′i して乾燥し、
厚さ8pmの高分子−液晶膜を透lfJ電極上にMR成
した比較例1の情報記録媒体を得る。
され、この薄膜を充分に洗浄した後、この薄膜I−に前
記塗布液をバーコーターにより塗/′i して乾燥し、
厚さ8pmの高分子−液晶膜を透lfJ電極上にMR成
した比較例1の情報記録媒体を得る。
しかる後、この情報記録媒体をその高分子−液晶膜が約
60℃以」−の温度に達してアイソトロピック相となっ
て透明になるまで加熱し、この後、自然冷却を行ない実
施例1の情報記録媒体を得る。
60℃以」−の温度に達してアイソトロピック相となっ
て透明になるまで加熱し、この後、自然冷却を行ない実
施例1の情報記録媒体を得る。
〈実施例2、比較例2〉
メルク・ジャパン社製の商品名E−44で知られる室温
でネマティック相を示すネマティック液晶JiN43g
を10重量%のPMMAのクロロホルム溶液20gに添
加して撹拌して均一に分散して塗布液Bを形成する。
でネマティック相を示すネマティック液晶JiN43g
を10重量%のPMMAのクロロホルム溶液20gに添
加して撹拌して均一に分散して塗布液Bを形成する。
この塗布液Bと前記塗布液Aとを塗布液Aに対して塗布
液Bが10=1〜15:1となるように混合した後、前
記と同様の透明基板上のITO薄膜の表面に塗布して乾
燥し、同様の厚さの高分子一液晶S奢透明電極上に構成
した比較例2の情報記録媒体を得る。
液Bが10=1〜15:1となるように混合した後、前
記と同様の透明基板上のITO薄膜の表面に塗布して乾
燥し、同様の厚さの高分子一液晶S奢透明電極上に構成
した比較例2の情報記録媒体を得る。
しかる後、この情報記録媒体をその高分子−液晶膜が約
60℃以」−の温度に達してアイソトロピック相となっ
て透IJノになるまで加熱し、この後、自然冷却を行な
い実施例2の情報記録媒体を得る。
60℃以」−の温度に達してアイソトロピック相となっ
て透IJノになるまで加熱し、この後、自然冷却を行な
い実施例2の情報記録媒体を得る。
以上の実施例1.2及び比較例1.2の情報記録媒体に
対し、バージンサンプル、即ち製造直後の高分子−液晶
膜に電界を形成する前の可視域における光の透過率(1
)、この高分子−液晶膜に2.5 XIO’ V/ c
mの電界をかけた場合の可視域における光の透過率(
II)及び前記電界を高分子−液晶膜にかけた後でこの
電界をゼロとした場合の可視域における光の透過率(m
)を測定した。
対し、バージンサンプル、即ち製造直後の高分子−液晶
膜に電界を形成する前の可視域における光の透過率(1
)、この高分子−液晶膜に2.5 XIO’ V/ c
mの電界をかけた場合の可視域における光の透過率(
II)及び前記電界を高分子−液晶膜にかけた後でこの
電界をゼロとした場合の可視域における光の透過率(m
)を測定した。
尚、上記高分子−液晶膜に対する電界の形成はこの膜に
コロトロンにより帯電を行なうことにより、また、この
電界をゼロとすることもコロトロンによる除電(逆帯電
)により行なった。
コロトロンにより帯電を行なうことにより、また、この
電界をゼロとすることもコロトロンによる除電(逆帯電
)により行なった。
以上の測定の結果、実施例1,2の情報記録媒体につい
ては共に第1図に示す曲線が得られ、比較例1.2につ
いては第2図に示す曲線が得られた。
ては共に第1図に示す曲線が得られ、比較例1.2につ
いては第2図に示す曲線が得られた。
また、L記実施例1のように液晶材料が室温でスメクチ
−7り相を示す電気的絶縁性のスメクチック液晶材料で
ある場合及びL記実施例2のように室温でスメクチック
相を示す電気的絶縁性のスメクチック液晶材料と室温で
ネマティック相を示す同様の性質のネマティック液晶材
料との比率が10=1以下である混合液晶材料である場
合には他の液晶材料、例えば室温でネマティック相を示
す同様の性質のネマティック液晶材料である場合に比較
して前記と同様の測定を行なうとコントラスト(曲線1
と曲線n又は曲線1と曲線■の各波長、特に長波長側に
おける光の透過率の差)が大きくなることが知見され、
また、電界形成後の90時間経過後の経時的な曲線■の
変化を測定してメモリ性を評価(この曲線■の変化が小
さい程メモリ性がよい)すると、第1図及び第2図に示
すように前記2種の液晶材料を用いた情報記録媒体は曲
線■がほとんど変らないのに対し、例えば液晶材料が前
記ネマティック液晶材料である情報記録媒体は第3図に
示すように大きく変化し、このメモリ性においても優れ
ていることが知見された。
−7り相を示す電気的絶縁性のスメクチック液晶材料で
ある場合及びL記実施例2のように室温でスメクチック
相を示す電気的絶縁性のスメクチック液晶材料と室温で
ネマティック相を示す同様の性質のネマティック液晶材
料との比率が10=1以下である混合液晶材料である場
合には他の液晶材料、例えば室温でネマティック相を示
す同様の性質のネマティック液晶材料である場合に比較
して前記と同様の測定を行なうとコントラスト(曲線1
と曲線n又は曲線1と曲線■の各波長、特に長波長側に
おける光の透過率の差)が大きくなることが知見され、
また、電界形成後の90時間経過後の経時的な曲線■の
変化を測定してメモリ性を評価(この曲線■の変化が小
さい程メモリ性がよい)すると、第1図及び第2図に示
すように前記2種の液晶材料を用いた情報記録媒体は曲
線■がほとんど変らないのに対し、例えば液晶材料が前
記ネマティック液晶材料である情報記録媒体は第3図に
示すように大きく変化し、このメモリ性においても優れ
ていることが知見された。
(発明の効果)
以上の実施例からも明らかなように、本発明によれば、
情報記録媒体を構成して高分子−液晶膜に画像記録を行
なう前にこの情報記録媒体中のメモリ性の高分子−液晶
膜に対してこの中に含まれる液晶材料がアイソトロピッ
ク相となる加熱処理を行なうことにより、このような加
熱処理を行なわないで製造した情報記録媒体に比較して
コントラスト(第1図及びft52図中の曲線1と曲線
■又は曲線1と曲線mの各波長、特に長波長側における
光の透過率の差)が大きくなる。
情報記録媒体を構成して高分子−液晶膜に画像記録を行
なう前にこの情報記録媒体中のメモリ性の高分子−液晶
膜に対してこの中に含まれる液晶材料がアイソトロピッ
ク相となる加熱処理を行なうことにより、このような加
熱処理を行なわないで製造した情報記録媒体に比較して
コントラスト(第1図及びft52図中の曲線1と曲線
■又は曲線1と曲線mの各波長、特に長波長側における
光の透過率の差)が大きくなる。
更に、液晶材料を室温でスメクチック相を示す電気的絶
縁性のスメクチック液晶材料とした場合あるいは室温で
スメクチック相を示す電気的絶縁性のスメクチック液晶
材料と室温でネマティック相を示す同様の性質のネマテ
ィック液晶材料との比率がIO:1以下である混合液晶
材料とした場合、より一層コントラスト及びメモリー性
の優れた情報記録媒体が製造される。
縁性のスメクチック液晶材料とした場合あるいは室温で
スメクチック相を示す電気的絶縁性のスメクチック液晶
材料と室温でネマティック相を示す同様の性質のネマテ
ィック液晶材料との比率がIO:1以下である混合液晶
材料とした場合、より一層コントラスト及びメモリー性
の優れた情報記録媒体が製造される。
第1図は室温でスメクチック相を示す電気的絶縁性のス
メクチック液晶材料、あるいは室温でスメクチック相を
示す電気的絶縁性のスメクチック液晶材料と室温でネマ
ティック相を示す同様の性質のネマティック液晶材料と
の比率が!0:1以下である混合液晶材料を使用して本
発明方法により製造された情報記録媒体に電界を形成し
た前後、及び電界形成後に電界をゼロとした場合の可視
域の各波長における光の透過率を表わしたグラフ。 第2図は第1図に示す情報記録媒体と同様の材料を使用
して従来の方法により製造された情報記録媒体に対する
第1図と同様の光の透過率を表わしたグラフ、第3図は
室温でネマティック相を示す同様の性質のネマティ7り
液晶材料を使用して従来の方法により製造された情報記
録媒体に対する第1図と同様の光の透過率を表わしたグ
ラフである。 特 許 出 願 人 日本ビクター株式会社00 00 00 光の波長(nm) − 第1図 光の波長(nm) 第2図 光の波長(nm)□ 第3図
メクチック液晶材料、あるいは室温でスメクチック相を
示す電気的絶縁性のスメクチック液晶材料と室温でネマ
ティック相を示す同様の性質のネマティック液晶材料と
の比率が!0:1以下である混合液晶材料を使用して本
発明方法により製造された情報記録媒体に電界を形成し
た前後、及び電界形成後に電界をゼロとした場合の可視
域の各波長における光の透過率を表わしたグラフ。 第2図は第1図に示す情報記録媒体と同様の材料を使用
して従来の方法により製造された情報記録媒体に対する
第1図と同様の光の透過率を表わしたグラフ、第3図は
室温でネマティック相を示す同様の性質のネマティ7り
液晶材料を使用して従来の方法により製造された情報記
録媒体に対する第1図と同様の光の透過率を表わしたグ
ラフである。 特 許 出 願 人 日本ビクター株式会社00 00 00 光の波長(nm) − 第1図 光の波長(nm) 第2図 光の波長(nm)□ 第3図
Claims (3)
- (1)電気光学的にメモリ性の画像記録が形成可能な液
晶材料を絶縁性の高分子マトリックス中に分散したメモ
リ性の高分子−液晶膜とこの高分子−液晶膜の少なくと
も片側に電極を接合して情報記録媒体を構成した後、前
記情報記録媒体の高分子−液晶膜に画像記録を行なう前
に前記液晶材料がアイソトロピック相となる加熱処理を
行なうことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。 - (2)前記液晶材料が室温でスメクチック相を示す電気
的絶縁性のスメクチック液晶材料である請求項1記載の
製造方法。 - (3)前記液晶材料が室温でスメクチック相を示す電気
的絶縁性のスメクチック液晶材料と室温でネマティック
相を示す同様の性質のネマティック液晶材料との比率が
10:1以下である混合液晶材料である請求項1記載の
製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1947690A JPH03223809A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 情報記録媒体の製造方法 |
EP19900306805 EP0404575B1 (en) | 1989-06-22 | 1990-06-21 | Recording medium |
DE1990621789 DE69021789T2 (de) | 1989-06-22 | 1990-06-21 | Aufzeichnungsmedium. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1947690A JPH03223809A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 情報記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03223809A true JPH03223809A (ja) | 1991-10-02 |
Family
ID=12000388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1947690A Pending JPH03223809A (ja) | 1989-06-22 | 1990-01-30 | 情報記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03223809A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7227603B1 (en) | 1993-07-22 | 2007-06-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid-crystal electro-optical apparatus and method of manufacturing the same |
US8212968B2 (en) | 1993-07-22 | 2012-07-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid-crystal electro-optical apparatus and method of manufacturing the same |
-
1990
- 1990-01-30 JP JP1947690A patent/JPH03223809A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7227603B1 (en) | 1993-07-22 | 2007-06-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid-crystal electro-optical apparatus and method of manufacturing the same |
US7561246B2 (en) | 1993-07-22 | 2009-07-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid-crystal electro-optical apparatus and method of manufacturing the same |
US8212968B2 (en) | 1993-07-22 | 2012-07-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid-crystal electro-optical apparatus and method of manufacturing the same |
US8243233B2 (en) | 1993-07-22 | 2012-08-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid-crystal electro-optical apparatus and method of manufacturing the same |
US8396690B2 (en) | 1993-07-22 | 2013-03-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid-crystal electro-optical apparatus and method of manufacturing the same |
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