JPH03219407A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH03219407A
JPH03219407A JP31536189A JP31536189A JPH03219407A JP H03219407 A JPH03219407 A JP H03219407A JP 31536189 A JP31536189 A JP 31536189A JP 31536189 A JP31536189 A JP 31536189A JP H03219407 A JPH03219407 A JP H03219407A
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magnetic layer
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中西 寛次
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Abstract

PURPOSE:To eliminate magnetic strain by providing soft magnetic layers which are exposed in the tip opposite surfaces of a magnetic head core which has the tip opposite surfaces and recessed parts formed behind the opposite surfaces and forming a gap between the core opposite surfaces. CONSTITUTION:The ferrite core 1 which has the tip opposite surfaces 1a and 1a' and the recessed parts 1b and 1b' formed behind the opposite surfaces is coupled and integrated. The soft magnetic layers 2 and 2' and SiO2 layers 3 and 3' are formed on the tip opposite surfaces 1a and 1a' and recessed parts 1b and 1b' of the core 1, the soft magnetic layers 2 and 2' face each other, and the gap is constituted between the soft magnetic layer opposite surfaces. The SiO2 layers 3 and 3' are coupled with glass filling parts 5 and 5'. The soft magnetic layers 2 and 2' have a composition formula FeaBbNc. In the formula, (a), (b), and (c) are atomic % and B is at least one kind among Zr, Hf, Ti, Nb, Ta, V, Mo, and W; and 0<b<=20.0 and 0<c<=22 hold (except b<=7.5 and c<=5), thereby obtaining the composite magnetic head.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ヘッドのコア材料として、高飽和磁束密度と
高周波透磁率を持つ軟磁性層を用いた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention uses a soft magnetic layer having high saturation magnetic flux density and high frequency magnetic permeability as the core material of the head.

高密度記録再生用磁気ヘッドに関する。The present invention relates to a magnetic head for high-density recording and reproduction.

[発明の背景コ 例えばオーディオテープレコーダやVTR(ビデオテー
プレコーダ)等の磁気記録再生装置においては、記録信
号の高密度化や高品質化等が進められており、この高記
録密度化に対応して、磁気記録媒体として磁性粉にFe
、Co、Ni等の金属あるいは合金からなる粉末を用い
た。いわゆるメタルテープや2強磁性金属材料を真空薄
膜形成技術によりベースフィルム上に直接被着した。い
わゆる蒸着テープ等が開発され、各分野で実用化されて
いる。
[Background of the Invention] For example, in magnetic recording and reproducing devices such as audio tape recorders and VTRs (video tape recorders), the density and quality of recording signals are increasing, and it is necessary to respond to this increase in recording density. Fe is added to magnetic powder as a magnetic recording medium.
, Co, Ni, or other metals or alloys were used. A so-called metal tape or two ferromagnetic metal materials were deposited directly onto the base film by vacuum thin film formation technology. So-called vapor deposition tapes have been developed and put into practical use in various fields.

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕ところ
で、このような所定の保磁力を有する磁気記録媒体の特
性を発揮せしめるためには、磁気ヘッドのコア材料の特
性として、高い飽和磁束密度を有するとともに、同一の
磁気ヘッドで再生を行なおうとする場合においては、高
透磁率を併せて有することが要求される。
[Prior art and problems to be solved by the invention] By the way, in order to exhibit the characteristics of a magnetic recording medium having a predetermined coercive force, the core material of the magnetic head must have a high saturation magnetic flux density. If the same magnetic head is to be used for reproduction, it is also required to have high magnetic permeability.

従来は、センダスト合金(Fe−St−Ai!。Conventionally, sendust alloy (Fe-St-Ai!

B s z l0KG)や、Co系アモルファス合金な
どが用いられていたが、センダスト合金は、膜の内部応
力が大きく、また結晶粒が成長し易く厚膜化が難しい。
B s z 10 KG), Co-based amorphous alloys, etc. have been used, but Sendust alloy has a large internal stress in the film and crystal grains tend to grow, making it difficult to thicken the film.

また、飽和磁束密度BsがIDKG程度で。Also, the saturation magnetic flux density Bs is about IDKG.

  4 今以上の高密度記録には飽和磁束密度Bsが不充分であ
る。また、Co系アモルファス合金は特性も良く高飽和
磁束密度Bsのものも作製できるが、450℃程度で結
晶化してしまうため、ヘッド形成する際に高温でガラス
接合できず、充分な接合強度が得られないという難点が
あった。
4. The saturation magnetic flux density Bs is insufficient for higher density recording. In addition, Co-based amorphous alloys have good properties and can be manufactured with high saturation magnetic flux density Bs, but because they crystallize at about 450°C, glass bonding cannot be performed at high temperatures when forming heads, and sufficient bonding strength cannot be obtained. The problem was that it couldn't be done.

その他の軟磁性材料としては窒化鉄があり、−般に、窒
素含有雰囲気中で鉄をターゲットとしてイオンビーム蒸
着あるいはスパッタリング等により薄膜状に形成される
。しかしながら、この軟磁性薄膜は、ガラスボンディン
グ等の際の加熱によって保磁力が大幅に上昇してしまい
特性の安定性が不充分であるという問題があった。
Other soft magnetic materials include iron nitride, which is generally formed into a thin film by ion beam evaporation or sputtering using iron as a target in a nitrogen-containing atmosphere. However, this soft magnetic thin film has a problem in that its coercive force increases significantly due to heating during glass bonding, etc., resulting in insufficient stability of characteristics.

特開昭83−299219号公報には、゛このような問
題点を改良せんとした次の軟磁性薄膜が記載されている
Japanese Unexamined Patent Publication No. 83-299219 describes the following soft magnetic thin film intended to improve these problems.

rFexNy Az  (ただし+  X+ ’l+ 
 Zは各々組成比を原子%として表し、AはSL、Aj
i。
rFexNy Az (However, + X+ 'l+
Z represents the composition ratio as atomic %, A is SL, Aj
i.

Ta、B、Mg、Ca、Sr、Ba、Cr。Ta, B, Mg, Ca, Sr, Ba, Cr.

Mn、Zr、Nb、Ti、Mo、V、W、Hf。Mn, Zr, Nb, Ti, Mo, V, W, Hf.

Ga、Ge、希土類元素の少なくとも1種を表す。)な
る組成式で示され、その組成範囲が045≦y≦5.0 0.5≦ 2 ≦ 7,5 x+y+z=lo。
Represents at least one of Ga, Ge, and rare earth elements. ), and its composition range is 045≦y≦5.0 0.5≦2≦7,5 x+y+z=lo.

であることを特徴とする軟磁性薄膜。」しかし、特開昭
83−299219号公報に記載の軟磁性薄膜もまた加
熱によって保磁力が上昇するのを避けられないので2例
えばガラスボンディング工程等の加熱工程を要する磁気
ヘッドの製造に用いることは好ましくない。
A soft magnetic thin film characterized by: However, the soft magnetic thin film described in JP-A-83-299219 cannot be used for manufacturing magnetic heads that require a heating process such as a glass bonding process because the coercive force inevitably increases due to heating. is not desirable.

さらに−軸異方性を有していないため高周波における透
磁率を高くすることができないという欠点がある。
Furthermore, since it does not have -axis anisotropy, it has the disadvantage that magnetic permeability at high frequencies cannot be increased.

また、製膜条件にもよるが、−数的に結晶質材料は、膜
を付着する過程でセルフシャドウィング効果によって柱
状晶になり易く1粒界部にボイドが形成されるために磁
気的に不連続になり軟磁気特性が劣化してしまう傾向が
ある。このセルフシャドウィング効果は、磁気ヘッドを
作製する際の様に下地に段差がある場合や厚膜化する場
合に特に顕著となり、充分な特性が得られないという難
点があった。
Also, although it depends on the film forming conditions, numerically crystalline materials tend to become columnar crystals due to the self-shadowing effect during the film deposition process, and voids are formed at one grain boundary, so magnetically There is a tendency for the soft magnetic properties to deteriorate due to discontinuity. This self-shadowing effect becomes particularly noticeable when there are steps on the base or when the film is thick, such as when manufacturing a magnetic head, and there is a problem in that sufficient characteristics cannot be obtained.

前記公報に記載の軟磁性薄膜には以上のような問題点が
あるので、磁気ヘッドコア材料として好ましくなかった
The soft magnetic thin film described in the above-mentioned publication had the above-mentioned problems and was not suitable as a magnetic head core material.

本発明は、上記従来技術の問題点を改良した磁気ヘッド
の提供を目的とする。
An object of the present invention is to provide a magnetic head that improves the problems of the prior art described above.

[課題を解決するための手段] 本発明によれば次の磁気ヘッドにより上記目的を達成す
ることができる。
[Means for Solving the Problems] According to the present invention, the above object can be achieved with the following magnetic head.

■ 先端対向面及び該対向面から後退して形成される凹
所を有する磁気ヘッドコアの少なくとも該対向面に露出
する軟磁性層を備え、該コアの対向面間にギャップを構
成してなり、前記軟磁性層は、  F eB Bb N
O(但し、a、b、cは各々原子%を示し、BはZr、
Hf、Ti、Nb。
(2) A magnetic head core having a tip facing surface and a recess formed receding from the facing surface, a soft magnetic layer exposed at least on the facing surface, and a gap formed between the facing surfaces of the core; The soft magnetic layer is FeB Bb N
O (however, a, b, c each indicate atomic %, B is Zr,
Hf, Ti, Nb.

Ta、V、Mo、Wの少なくとも1種以上を表わす。)
なる組成式で示され、その組成範囲はo<b≦20 0<c≦22 の範囲(但し、b≦ 7.5かつc≦5を除く)である
ことを特徴とする複合磁気ヘッド。
Represents at least one of Ta, V, Mo, and W. )
1. A composite magnetic head characterized in that the composition range is o<b≦20 and 0<c≦22 (excluding b≦7.5 and c≦5).

■ 基板上に下部軟磁性層と絶縁層とコイル導体層と上
部軟磁性層とを順次有し、前記下部軟磁性層と上部軟磁
性層間にヘッドの記録媒体指向面に達する磁気ギャップ
層を備えて成り、前記軟磁性層は、Fel Bl、Ne
  (但し、a、b、cは各々原子%を示し、BはZr
、Hf、Ti、Nb。
■ A lower soft magnetic layer, an insulating layer, a coil conductor layer, and an upper soft magnetic layer are sequentially provided on the substrate, and a magnetic gap layer that reaches the recording medium orientation plane of the head is provided between the lower soft magnetic layer and the upper soft magnetic layer. The soft magnetic layer is made of Fel Bl, Ne
(However, a, b, and c each indicate atomic %, and B is Zr.
, Hf, Ti, Nb.

Ta、 v、Mo、Wの少なくとも1種以上を表わす。Represents at least one of Ta, v, Mo, and W.

)なる組成式で示され、その組成範囲はo<b≦20 0<c≦22 の範囲(但し、b≦7.5かつc≦5を除く)であるこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。この組成範囲を点E、
F、G、H,I、Jにより第1図に示す。
), and the composition range is o<b≦20 and 0<c≦22 (excluding b≦7.5 and c≦5). This composition range is point E,
They are shown in FIG. 1 by F, G, H, I, and J.

好ましくは、前記組成範囲は 69≦a≦93 2≦b≦15 5.5< c≦22 の範囲である。この組成範囲を点Q、に、L。Preferably, the composition range is 69≦a≦93 2≦b≦15 5.5<c≦22 is within the range of This composition range is defined as points Q, L, and L.

U、Mにより第1図に示す。It is shown in FIG. 1 by U and M.

より好ましくは、前記組成範囲は、前記三者の三成分組
成座標系(Fe、B、N)においてP (91,2,7
) Q (92,5,2,5,5) R(87,7,5,5,5) S (73,12,15) T (69,12,19) U (69、9,22) V (78,5,19) の7点を結ぶ線分で囲まれた範囲である。この組成範囲
を点P、Q、R,S、T、U、V、により第1図に示す
More preferably, the composition range is P (91,2,7
) Q (92,5,2,5,5) R (87,7,5,5,5) S (73,12,15) T (69,12,19) U (69,9,22) V (78, 5, 19) This is the range surrounded by the line segment connecting the seven points. This composition range is shown in FIG. 1 by points P, Q, R, S, T, U, and V.

さらに好ましくは、結晶粒径が300Å以下であり、軟
磁性層が一軸異方性を有する。
More preferably, the crystal grain size is 300 Å or less, and the soft magnetic layer has uniaxial anisotropy.

[好適な実施態様及び作用] 本発明の磁気ヘッドの軟磁性層は、Fe及びNと、特定
の添加元素B、即ち、Zr、Hf。
[Preferred Embodiments and Effects] The soft magnetic layer of the magnetic head of the present invention contains Fe and N, and specific additive elements B, namely Zr and Hf.

Ti、Nb、Ta、V、Mo、Wの少なくとも1種以上
の元素とから成り、これらFeとNと特定の添加元素B
(2種以上も含む)の三者は、前記特定の組成範囲内に
ある。
It consists of at least one element of Ti, Nb, Ta, V, Mo, and W, and these Fe and N and a specific additive element B
All three (including two or more types) are within the above-mentioned specific composition range.

前記組成範囲が、0くb≦20かつ、Q<c≦22の範
囲(但し、b≦ 7.5かつc≦5を除く)である場合
、好ましくは、b≧ 0.5かつC≧ 0.5とする。
When the composition range is 0, b≦20, and Q<c≦22 (excluding b≦7.5 and c≦5), preferably b≧0.5 and C≧0. .5.

b<0.5又はc<0.5の場合にはその存在による効
果が明瞭でないことがあるからである。
This is because when b<0.5 or c<0.5, the effect of its presence may not be clear.

前記添加元素Bが20原子%を越えるか、又は。The additive element B exceeds 20 atomic %, or.

Nが22原子%を越える場合には、良好な軟磁性が得ら
れない。
If N exceeds 22 atomic %, good soft magnetism cannot be obtained.

前記組成範囲が、69≦a≦93かつ2≦b≦15かつ
5.5< c≦22の場合は、より良好な軟磁性を示す
When the composition range is 69≦a≦93, 2≦b≦15, and 5.5<c≦22, better soft magnetism is exhibited.

より好ましくは、前記組成は、前記三者の三成分組成座
標系(Fe、B、N)において、前記特定の点P、Q、
R,S、T、U、Vの7点を結ぶ線分で囲まれた範囲で
ある。この組成範囲では保磁力が特に小さいので、磁気
ヘッドのコア材料と0 して好適である。最も好ましい範囲は、保磁力が1.5
0e以下(さらには10e以下)を示す組成範囲である
More preferably, the composition is at the specific points P, Q, in the ternary composition coordinate system (Fe, B, N) of the three
This is the range surrounded by line segments connecting the seven points R, S, T, U, and V. Since the coercive force is particularly small in this composition range, it is suitable as a core material for a magnetic head. The most preferable range is a coercive force of 1.5.
This is a composition range showing 0e or less (even 10e or less).

前記添加元素BがZrである場合、軟磁性層の好ましい
組成範囲は。
When the additive element B is Zr, the preferable composition range of the soft magnetic layer is as follows.

F  ed   (Z  re   N5−e  ) 
 +*o−d77≦ d ≦88 0.3≦ e ≦0.38 で示される範囲である。この組成範囲を点W。
F ed (Z re N5-e)
+*o-d77≦d≦88 0.3≦e≦0.38. Point W represents this composition range.

x、y、zにより第1図に示す。これらの点W。It is shown in FIG. 1 by x, y, z. These points W.

x、y、zの座標は、はぼ次のとおりである。The x, y, and z coordinates are approximately as follows.

W (88,3,8,8゜4) X (8g、 4.5B、 7.44)Y (77、8
,74,14,28) Z (77、1!、9.18.1) 即ち、この範囲では、Feを77〜88原子%含み、か
つ、軟磁性層中のZrの含有率b(原子%)とNの含有
率C(原子%)の比c / bがおよそ1.63〜2.
33となっている。この組成範囲の軟磁性層は、良好な
軟磁性(例えば、保磁力Hc<5Oe)を有する。
W (88,3,8,8゜4) X (8g, 4.5B, 7.44)Y (77,8
, 74, 14, 28) Z (77, 1!, 9.18.1) That is, in this range, Fe is contained at 77 to 88 atomic %, and the Zr content b (atomic % ) and the N content C (atomic %) c/b is approximately 1.63 to 2.
It is 33. A soft magnetic layer having this composition range has good soft magnetic properties (for example, coercive force Hc<5Oe).

前記添加元素は、一種又は二種以上にすることができる
。例えばZrのみ添加することができるが、その他の添
加元素でZrの一部(例えば添加されるZrのうちの3
0原子96)を置き換えることができる。
The additive elements may be one or more kinds. For example, only Zr can be added, but some of the Zr (for example, 3 of the added Zr) can be added with other additive elements.
0 atoms 96) can be replaced.

また、FeはCo、Ni又はRuの一種以上で置き換え
ることができる。例えば軟磁性層を構成するFeのうち
の30原子96程度まで置き換えることができる。
Further, Fe can be replaced with one or more of Co, Ni, and Ru. For example, up to about 30 atoms and 96 atoms of Fe constituting the soft magnetic layer can be replaced.

本発明の磁気ヘッドの軟磁性層は1例えばRFスパッタ
法等の気相析着法により前記特定組成の非晶質層を得て
、この非晶質層を例えば350〜650℃で熱処理し前
記非晶質層の一部ないし全部を結晶化させて形成するこ
とができる。好ましくは、磁界中で熱処理して一軸磁気
異方性を誘導し前記非晶質層の一部ないし全部を結晶化
させて形成する。
The soft magnetic layer of the magnetic head of the present invention is obtained by obtaining an amorphous layer having the above-mentioned specific composition by, for example, a vapor phase deposition method such as RF sputtering method, and then heat-treating this amorphous layer at, for example, 350 to 650°C to obtain the above-mentioned composition. It can be formed by crystallizing part or all of the amorphous layer. Preferably, the amorphous layer is formed by heat treatment in a magnetic field to induce uniaxial magnetic anisotropy and crystallize part or all of the amorphous layer.

本発明の薄膜磁気ヘッドの軟磁性層を前記の方法により
形成する場合、形成される基板の種類に1 2 より形成後の軟磁性層の緒特性に差が生じる場合がある
ので、適宜基板を選択して製造することが好ましい。
When forming the soft magnetic layer of the thin film magnetic head of the present invention by the method described above, there may be a difference in the initial characteristics of the formed soft magnetic layer depending on the type of substrate. It is preferable to select and manufacture.

[実施例] 以下、まず本発明の磁気ヘッドの軟磁性層として用いら
れる軟磁性薄膜の製造例及び特性について詳述する。
[Example] Hereinafter, first, a manufacturing example and characteristics of a soft magnetic thin film used as a soft magnetic layer of a magnetic head of the present invention will be described in detail.

(実施例1) F eg−y Z ry  (y m  5.0.10
.(L L5.0 (at%))の組成の合金ターゲッ
トを作製し、それぞれ2.5〜12.5モル%の窒素を
含む、窒素含有アルゴンガス雰囲気中で、ガス圧力0.
8Pa、投入電力200Wの条件で高周波スパッタリン
グを行ない種々の組成の非晶質合金膜を得た。これらの
各薄膜を磁界中で熱処理し、軟磁性薄膜を得て、それら
の飽和磁束密度Bs、保磁力Hcを測定した。
(Example 1) F eg-y Z ry (y m 5.0.10
.. An alloy target having a composition of (L L5.0 (at%)) was prepared, and each target was heated in a nitrogen-containing argon gas atmosphere containing 2.5 to 12.5 mol% nitrogen at a gas pressure of 0.
High frequency sputtering was performed under conditions of 8 Pa and input power of 200 W to obtain amorphous alloy films of various compositions. Each of these thin films was heat treated in a magnetic field to obtain soft magnetic thin films, and their saturation magnetic flux density Bs and coercive force Hc were measured.

BsおよびHcの測定は交流BHトレーサー(印加磁界
50Hz、 250e、ただしHc>25の場合は、9
00e)による(以下同様)。基板には結晶化ガラス基
板(PEG3130CHOYA製)及び単結晶サファイ
ア基板を用いた。また膜厚はいずれも0.6μm程度と
した。
Bs and Hc were measured using an AC BH tracer (applied magnetic field 50Hz, 250e, but if Hc > 25,
00e) (the same applies hereafter). A crystallized glass substrate (PEG3130 manufactured by CHOYA) and a single crystal sapphire substrate were used as the substrates. Further, the film thickness was approximately 0.6 μm in all cases.

これらの結果を第1−A表に示す。なお、Hcは容易軸
方向の値で示す。また、一部の軟磁性薄膜については、
  5  MHzにおける透磁率μ及び磁歪について測
定した。磁歪は、膜に応力を加えた時の・BH特性の変
化から磁歪の正負判定を行なった。この結果も第1−A
表に示す。
These results are shown in Table 1-A. Note that Hc is expressed as a value in the easy axis direction. In addition, for some soft magnetic thin films,
Magnetic permeability μ and magnetostriction at 5 MHz were measured. Magnetostriction was determined from the change in the BH characteristics when stress was applied to the film. This result is also 1-A
Shown in the table.

一方、第1−B表には、スパッタ時の雰囲気中に窒素を
含有しない以外は前記実施例1の軟磁性薄膜の製造方法
と同様にして結晶化ガラス基板上に得られた3種の熱処
理薄膜(比較例1のNo、 1 。
On the other hand, Table 1-B shows three types of heat treatments obtained on crystallized glass substrates in the same manner as in the manufacturing method of the soft magnetic thin film of Example 1 except that nitrogen was not contained in the atmosphere during sputtering. Thin film (No. 1 of Comparative Example 1.

2.3)の組成、飽和磁束密度Bs及び保磁力■Cの測
定結果を示す。
The measurement results of the composition, saturation magnetic flux density Bs, and coercive force ■C of 2.3) are shown below.

また、前記実施例1の軟磁性薄膜の製造方法により製造
した軟磁性薄膜の組成と保磁力Hcの関係及び磁歪の正
負判定(結晶化ガラス基板を用い550℃で熱処理した
場合)を第2図に示す。さらに、Fe−Zr合金ターゲ
ット中のFe含有量及びスパッタガス中のN2含有量の
軟磁性薄膜製造3 4 条件と、保磁力Heと、飽和磁歪λ、との関係(結晶化
ガラス基板を用い550℃で熱処理した場合)を第3図
に示す。
In addition, FIG. 2 shows the relationship between the composition and coercive force Hc of the soft magnetic thin film manufactured by the soft magnetic thin film manufacturing method of Example 1, and the positive/negative determination of magnetostriction (when heat treated at 550° C. using a crystallized glass substrate). Shown below. Furthermore, the relationship between the soft magnetic thin film production conditions of Fe content in the Fe-Zr alloy target and N2 content in the sputtering gas, coercive force He, and saturation magnetostriction λ (using a crystallized glass substrate with 550 3) is shown in FIG.

X線回折と電気抵抗率 前記実施例1中のF e 110.11 Z r 6.
5 N12.6の組成について未熱処理(as dep
o)の薄膜と、  250゜850、 450又は55
0℃で熱処理した薄膜についてのX線回折の結果を第4
図に示し電気抵抗率の測定結果を第2表に示す。第4図
によれば、550℃熱処理の薄膜の結晶粒径は半値幅か
ら約130人であることがわかった。なお、 as d
epoの薄膜及び250℃熱処理の薄膜はアモルファス
であり、850℃及び450℃熱処理の薄膜は微結晶か
ら成り。
X-ray diffraction and electrical resistivity Fe 110.11 Z r in Example 1 above 6.
5 The composition of N12.6 was unheated (as dep
o) thin film of 250°850, 450 or 55
The results of X-ray diffraction for the thin film heat-treated at 0°C are shown in the fourth section.
The results of measuring the electrical resistivity shown in the figure are shown in Table 2. According to FIG. 4, it was found that the crystal grain size of the thin film heat-treated at 550° C. was about 130 grains based on the half-width. In addition, as d
The epo thin film and the thin film heat-treated at 250°C are amorphous, and the thin films heat-treated at 850°C and 450°C are composed of microcrystals.

550℃熱処理の薄膜はさらに成長した微結晶から成る
ことがわかった。これらの微結晶は薄膜の軟磁性に寄与
すると考えられ、このような微結晶の生成はN及びZr
の存在によるものと考えられる。第2表によれば熱処理
温度を高めることによって、この薄膜の抵抗率は低下し
ていくが。
It was found that the thin film heat-treated at 550° C. consisted of further grown microcrystals. These microcrystals are thought to contribute to the soft magnetic properties of the thin film, and the generation of such microcrystals is due to the presence of N and Zr.
This is thought to be due to the existence of According to Table 2, the resistivity of this thin film decreases by increasing the heat treatment temperature.

550℃まで温度を上げて熱処理した場合でも。Even when heat treated at temperatures up to 550℃.

その値は、純鉄、パーマロイなどよりはるかに高<、F
e−8i合金、センダストとほぼ同等の値となっている
。従って、磁気ヘッドのコアとして用いた場合には、渦
電流損失が小さく有利である。
Its value is much higher than that of pure iron, permalloy, etc.
The value is almost the same as that of e-8i alloy and Sendust. Therefore, when used as a core of a magnetic head, the eddy current loss is small and advantageous.

ビッカース硬度 さらにF e 8G、9 Z r 6.11 N12.
6の組成の薄膜について、ビッカース硬度を測定した結
果Hv−1000(kg/ad、加重10g)の値が得
られた。この値は従来から磁気ヘッド材料として用いら
れているセンダストやCo系アモルファス合金(Hv−
500〜650)に比べてはるかに高く、耐摩耗性も従
来より充分高めることができる。
Vickers hardness further F e 8G, 9 Z r 6.11 N12.
As a result of measuring the Vickers hardness of the thin film having the composition No. 6, a value of Hv-1000 (kg/ad, weight 10 g) was obtained. This value is based on sendust and Co-based amorphous alloys (Hv-
500 to 650), and the abrasion resistance can be sufficiently improved compared to conventional ones.

BH凸曲 線記実施例1と同様に製造されたいくつかの薄膜の交流
BH)レーサーによるBH凸曲線第5図に示した。
BH Convex Curves The BH convex curves of several thin film AC BH) racers produced in the same manner as in Example 1 are shown in FIG.

第5図に示したサンプルは、製膜後1kOeの磁界中、
 10TorrN 2雰囲気中において550℃、60
分間熱処理しである。この図から明らかな様に、磁5 6 界中熱処理によって薄膜には明確な面内−軸異方性が誘
導されている。従って、この薄膜の困難軸方向を磁化方
向とすることによって、  I  MHzより高い周波
数での透磁率を充分高くすることができ、この点からも
磁気ヘッド材料として有利である。また、この異方性磁
界Hkは1組成によって3〜180eと変化するため、
目標とする透磁率の大きさ、使用する周波数範囲によっ
て材料を選ぶことができる。例えば10 MHz以下に
おいて高い透磁率を得たい場合には、Hk−3〜50e
となる組成を用い、それ以上高い周波数でも透磁率を劣
化させないためには、Hkがもっと高い組成を用いるこ
ともできる。
The sample shown in Fig. 5 was placed in a magnetic field of 1 kOe after film formation.
550℃, 60℃ in 10Torr N2 atmosphere
Heat treated for minutes. As is clear from this figure, clear in-plane-axial anisotropy is induced in the thin film by the magnetic 5 6 field heat treatment. Therefore, by setting the difficult axis direction of this thin film as the magnetization direction, the magnetic permeability at frequencies higher than I MHz can be made sufficiently high, and from this point as well, it is advantageous as a magnetic head material. Also, since this anisotropic magnetic field Hk varies from 3 to 180e depending on the composition,
The material can be selected depending on the desired magnetic permeability and the frequency range used. For example, if you want to obtain high magnetic permeability below 10 MHz, use Hk-3 to 50e.
In order to prevent the magnetic permeability from deteriorating even at higher frequencies, a composition with a higher Hk can be used.

MH凸曲 線6図には、前記実施例1中のFeB。、。MH convex curve Line 6 shows FeB in Example 1. ,.

Zr6,3N1゜、6の組成の薄膜についてVSMを用
いて測定したMH凸曲線結果について示した。
The results of MH convex curves measured using VSM for thin films with compositions of Zr6,3N1°,6 are shown.

図中(a)は製膜直後(as depo)の薄膜につい
て。
In the figure, (a) shows the thin film immediately after film formation (as depo).

(b)は550℃の磁界中熱処理後の薄膜についてのM
H凸曲線示している。(反磁界補正は行なっていない。
(b) is the M of the thin film after heat treatment in a magnetic field at 550°C.
The H convex curve is shown. (Demagnetizing field correction was not performed.

ただし、サンプル形状は、φ5mmxtO1B3−であ
った。)VSMを用いて測定した保磁力は、交流BHト
レーサーで求めた値より一桁以上小さく、(b)より約
50m0eと求まった。この値はセンダストやCo系ア
モルファス合金とほぼ同等であり、軟磁気特性が優れて
いることが解る。
However, the sample shape was φ5 mm x tO1B3-. ) The coercive force measured using the VSM is more than an order of magnitude smaller than the value determined using the AC BH tracer, and was determined to be about 50 m0e from (b). This value is almost the same as that of Sendust and Co-based amorphous alloys, and it can be seen that the soft magnetic properties are excellent.

また、(b)より4πM s −14,5KGと求まり
、この値はセンダストやCo系アモルファス合金より充
分高く、高保磁力媒体に記録するための磁気ヘッド材料
として有利である。
Further, from (b), 4πM s -14.5 KG is found, which is sufficiently higher than Sendust or Co-based amorphous alloys, and is advantageous as a magnetic head material for recording on high coercive force media.

熱処理前の薄膜の4πMsは13.0KGであり熱処理
後よりやや低い。また、垂直異方性(Hk=4000e
)をもっており、Hcも高く、軟磁気特性は悪い。
The 4πMs of the thin film before heat treatment is 13.0 KG, which is slightly lower than that after heat treatment. In addition, vertical anisotropy (Hk=4000e
), Hc is high, and soft magnetic properties are poor.

耐食性 前記実施例1中のF e Bo、9 Z r 6.5 
N 12.6の組成の薄膜について耐食性の評価を、水
道水に約−週間浸漬した後の表面状態の変化から行なっ
た。その結果9本サンプルの表面状態は鏡面のまま全く
変化しなかった。比較のために、C088,47 8 N b 8.。Zr3,6アモルファス合金膜及びFe
−5i合金(電磁鋼板)についても同様の実験を行なっ
た。その結果Co−Nb−Zr合金も全く変化しなかっ
たが、Fe−8i合金は全面に錆が発生した。以上より
9本発明の磁気ヘッドの軟磁性層として用いられる軟磁
性薄膜は、耐食性にも優れていることが解った。
Corrosion resistance Fe Bo, 9 Z r 6.5 in Example 1 above
The corrosion resistance of the thin film having a composition of N 12.6 was evaluated based on the change in surface condition after being immersed in tap water for about one week. As a result, the surface condition of the nine samples remained mirror-like and did not change at all. For comparison, C088,47 8 N b 8. . Zr3,6 amorphous alloy film and Fe
A similar experiment was conducted for -5i alloy (electromagnetic steel sheet). As a result, the Co--Nb--Zr alloy did not change at all, but the Fe-8i alloy developed rust all over. From the above, it was found that the soft magnetic thin film used as the soft magnetic layer of the magnetic head of the present invention also has excellent corrosion resistance.

次に2本発明の磁気ヘッドの軟磁性層の組成範囲外の組
成の軟磁性薄膜について述べる。
Next, two soft magnetic thin films having compositions outside the composition range of the soft magnetic layer of the magnetic head of the present invention will be described.

(比較例2) F e 91.2 Z r 3i N 4.9の非晶質
合金膜を形成し、1kQeの磁界中350℃及び550
℃で1時間熱処理を行なった。前記非晶質合金膜(as
 depo) 。
(Comparative Example 2) An amorphous alloy film of F e 91.2 Z r 3i N 4.9 was formed and heated at 350° C. and 550° C. in a magnetic field of 1 kQe.
Heat treatment was performed at ℃ for 1 hour. The amorphous alloy film (as
depo).

これを350℃で熱処理した膜、及び550℃で熱処理
した膜の交流BHトレーサーによるBH曲線を、夫々第
7図の(a)〜(C)に示す。未熟処理の非晶質合金膜
(as depo)は、軟磁性を有していない(a)。
BH curves measured by an AC BH tracer for a film heat-treated at 350°C and a film heat-treated at 550°C are shown in FIGS. 7(a) to (C), respectively. The immaturely processed amorphous alloy film (as depo) does not have soft magnetism (a).

これを850℃で熱処理した膜は、−軸異方性を示す(
b)。しかし、550℃で熱処理した膜は、その特性が
悪くなっている(C)。
The film heat-treated at 850°C exhibits -axis anisotropy (
b). However, the properties of the film heat-treated at 550° C. deteriorated (C).

磁気ヘッド製造時に、溶融ガラスによる溶着(ガラスボ
ンディング)が行なわれることがあり2通常550℃程
度に加熱して行なわれる。」二記組成範囲の膜を用いた
場合、このガラスボンディング時の加熱により、最終的
に得られた磁気ヘッドにおいて良好な軟磁性を示さない
。即ち、前記組成範囲の場合には、熱的に不安定な軟磁
性薄膜しか得ることができない。
When manufacturing magnetic heads, welding (glass bonding) using molten glass is sometimes performed2, and is usually performed by heating to about 550.degree. In the case of using a film having a composition in the range described in 2 above, the final magnetic head will not exhibit good soft magnetism due to the heating during glass bonding. That is, in the case of the above composition range, only a thermally unstable soft magnetic thin film can be obtained.

(以下余白) 9 0 第 −A 表 第1−B表 第  2 表 (実施例2) F e 92.5 Z r 7.5の組成の合金ターゲ
ットを用い、  2.5. 5.0. 7.5.10.
0又は12.5モル%の窒素を夫々含む窒素含有アルゴ
ンガス雰囲気中で高周波スパッタリングを行ない2種々
の組成のFe−Zr−N非晶質薄膜をサファイア基板(
R面)上に形成した。
(The following are blank spaces) 9 0 Table A Table 1 Table B Table 2 (Example 2) Using an alloy target with a composition of F e 92.5 Z r 7.5, 2.5. 5.0. 7.5.10.
Two Fe-Zr-N amorphous thin films with various compositions were deposited on sapphire substrates (
R surface).

前記基板上に形成した非晶質薄膜を350℃又は550
℃で1時間熱処理して、Fe−Zr−N軟磁性薄膜を得
た。得られたFe−Zr−N軟磁性薄膜の組成、飽和磁
束密度Bs、保磁力Hcを第3表に示す。
The amorphous thin film formed on the substrate was heated to 350°C or 550°C.
A Fe--Zr--N soft magnetic thin film was obtained by heat treatment at .degree. C. for 1 hour. Table 3 shows the composition, saturation magnetic flux density Bs, and coercive force Hc of the obtained Fe-Zr-N soft magnetic thin film.

(比較例3) スパッタ時の雰囲気中に窒素を含有しない以外は前記実
施例2と同様にして得た熱処理薄膜の組成、飽和磁束密
度Bs、保磁力Hcも第3表に示す。
(Comparative Example 3) Table 3 also shows the composition, saturation magnetic flux density Bs, and coercive force Hc of a heat-treated thin film obtained in the same manner as in Example 2 except that nitrogen was not contained in the atmosphere during sputtering.

(以下余白) 第  3 表 (実施例3) F e so Z r +o (at%)の組成ノター
ゲットヲ用い、6.0モル%の窒素を含有する窒素含有
アルゴンガス雰囲気中でガス圧力0.8Pa、投入電力
400Wの条件で高周波スパッタリングを行ない、サフ
ァイア基板(R面、  flTO21面)上にF e 
75.9 Z r 7.3 N+8.8非晶質薄膜を形
成した。
(The following is a blank space) Table 3 (Example 3) A target with a composition of F e so Z r +o (at%) was used, and a gas pressure of 0.5% was used in a nitrogen-containing argon gas atmosphere containing 6.0 mol% nitrogen. High frequency sputtering was performed under the conditions of 8 Pa and input power of 400 W to deposit Fe on the sapphire substrate (R side, flTO21 side).
A 75.9 Z r 7.3 N+8.8 amorphous thin film was formed.

前記基板上に形成した非晶質薄膜を、250℃。The amorphous thin film formed on the substrate was heated to 250°C.

850℃、450℃、500℃又は550℃で60分間
60 minutes at 850°C, 450°C, 500°C or 550°C.

3 4 120分間、180分間、240分間、540分間、 
 1140分間、 2400分間又は4800分間等温
磁界(< 0010 >方向に1.1kOe印加)中で
熱処理して、軟磁性薄膜を得た。得られたFe−Zr−
N軟磁性薄膜のBH特性(測定磁界Hm = 25 (
0e))、保磁力Hc及び異方性磁界Hkを第13図に
示す。
3 4 120 minutes, 180 minutes, 240 minutes, 540 minutes,
A soft magnetic thin film was obtained by heat treatment in an isothermal magnetic field (1.1 kOe applied in <0010> direction) for 1140 minutes, 2400 minutes, or 4800 minutes. The obtained Fe-Zr-
BH characteristics of N soft magnetic thin film (measured magnetic field Hm = 25 (
0e)), coercive force Hc, and anisotropic magnetic field Hk are shown in FIG.

第14画は、熱処理時間t [m1nlに対して得られ
たFe−Zr−N軟磁性薄膜の(a)保磁力Hc及び(
b)異方性磁界Hkの関係を夫々示す。また。
The 14th picture shows (a) coercive force Hc and (
b) The relationship between the anisotropic magnetic field Hk is shown. Also.

第15図は、(a)熱処理時間t [min]と熱処理
温度と保磁力Hcとの関係、及び、(b)熱処理時間t
[min]と熱処理温度と異方性磁界Hkとの関係を夫
々示す。
FIG. 15 shows (a) the relationship between heat treatment time t [min], heat treatment temperature, and coercive force Hc, and (b) heat treatment time t
The relationship between [min], heat treatment temperature, and anisotropic magnetic field Hk is shown.

これらより、熱処理温度によるBH特性の変化は、35
0〜500°Cの範囲と、500℃を越える範囲と、3
50℃未満の範囲の3つの温度域で異なることがわかる
From these, the change in BH characteristics due to heat treatment temperature is 35
A range of 0 to 500°C, a range of over 500°C, and 3
It can be seen that there are differences in the three temperature ranges below 50°C.

また、前記F e 75.9 Z r 7.3 NII
+、8非晶質薄膜を、250℃で4800分間、350
℃で240分間、450℃で 180分間、500℃で
180分間又は5509Cで1140分間夫々熱処理し
て得られた5種類の軟磁性薄膜の組成(at%)、軟磁
性薄膜のZr含有率(at%)とFe含有率(at%)
との比Z r / F e 。
In addition, the above F e 75.9 Z r 7.3 NII
+, 8 amorphous thin film at 250°C for 4800 minutes, 350
Compositions (at%) of five types of soft magnetic thin films obtained by heat treatment at ℃ for 240 minutes, 450℃ for 180 minutes, 500℃ for 180 minutes, or 5509C for 1140 minutes, Zr content (at%) of the soft magnetic thin films %) and Fe content (at%)
The ratio Z r /F e .

N含有率(at%)とZr含有率(at%)との比N/
Zr、及びBH特性(測定磁界Hm=25(Oe))を
第4表に示す。下記各組成は+ F es+、2(Z 
r・NX ) 8.11但しx−N/Zrで表現できる
Ratio of N content (at%) to Zr content (at%) N/
Table 4 shows Zr and BH characteristics (measured magnetic field Hm=25 (Oe)). Each composition below is +F es+, 2(Z
r・NX) 8.11 However, it can be expressed as x-N/Zr.

第4表によれば、N/Zrの値は、熱処理温度250℃
までの範囲内と、350°C〜500℃の範囲内でほぼ
一定であり、熱処理温度約300°C付近と約500°
C付近にN/Zrの値が急に変化する熱処理温度が存在
するということが推定できる。
According to Table 4, the value of N/Zr is determined at a heat treatment temperature of 250°C.
It is almost constant within the range of 350°C to 500°C, and the heat treatment temperature is around 300°C and around 500°C.
It can be estimated that there is a heat treatment temperature near C where the value of N/Zr suddenly changes.

第  4  表 5 6 X線回折パターン 前記実施例3で得られたFe−Zr−N軟磁性薄膜と、
熱処理前のF e 75.9 Z r 7.3 N+6
.8非晶質薄膜(as depo)のX線回折パターン
(線源CuKa線40kV、 30+nA、  λ−1
,5405人)を第16図に示す。以下、このX線回折
パターンについて述べる。
Table 4 5 6 X-ray diffraction pattern Fe-Zr-N soft magnetic thin film obtained in Example 3,
F e 75.9 Z r 7.3 N+6 before heat treatment
.. 8 X-ray diffraction pattern of amorphous thin film (as depo) (ray source CuKa ray 40kV, 30+nA, λ-1
, 5,405 people) are shown in Figure 16. This X-ray diffraction pattern will be described below.

as depoの薄膜の場合、典型的なハローパターン
を示しており、非晶質化していることを裏付けている。
In the case of the as-depo thin film, it shows a typical halo pattern, confirming that it is amorphous.

主ピークの位置は熱処理温度が高くなるにつれ広角側に
ずれ、550℃熱処理で最終的に2θ−44,8’ と
なりαF e (110)ピークと一致している。 2
50℃X 4800分では2θ−43,7°となり。
The position of the main peak shifts to the wide-angle side as the heat treatment temperature increases, and finally becomes 2θ-44,8' after heat treatment at 550°C, coinciding with the αF e (110) peak. 2
At 50℃ x 4800 minutes, it becomes 2θ-43.7°.

これはF e3 Z r (440)  ピークと一致
している。
This coincides with the F e3 Z r (440) peak.

350℃から 500℃の熱処理では2θ″i 44’
であり、これはa F e (110)とF e3 Z
 r (440)ピークのほぼ中間の値に対応している
In heat treatment from 350℃ to 500℃, 2θ''i 44'
, which is a F e (110) and F e3 Z
This corresponds to a value approximately in the middle of the r(440) peak.

主ピークの半値幅から5eherrerの式により求め
た結晶粒サイズは、250℃から450℃で約100入
2500℃×180分で約 120人、550℃X 1
140分で約170人(550℃×60分間では約13
0人(実施例1及び第4図参照))と温度X時間により
連続的に大きくなっている。
The grain size, calculated from the half width of the main peak using the 5eherrer formula, is approximately 100 at 250°C to 450°C, approximately 120 at 2500°C x 180 minutes, and 120 at 550°C x 1.
Approximately 170 people in 140 minutes (approximately 13 people at 550℃ x 60 minutes)
0 people (see Example 1 and FIG. 4)) and temperature x time.

550℃熱処理の時間と主ピークの位首、結晶粒サイズ
の関係は下記の様になっている。
The relationship between the heat treatment time at 550°C, the position of the main peak, and the grain size is as follows.

このことから、550℃熱処理では比較的早く微細なα
Fe相が析出するが9時間とともにわずかながら結晶粒
の成長が生じていることが解る。
From this, heat treatment at 550°C shows that fine α is formed relatively quickly.
Although the Fe phase precipitates, it can be seen that crystal grains grow slightly over the course of 9 hours.

また、550℃熱処理では、αFe以外に新たにFe3
 Zr、ZrNと思われるピークが観測され、これらが
微細に析出してきていると考えられる。
In addition, in the heat treatment at 550°C, Fe3 was newly added in addition to αFe.
Peaks thought to be Zr and ZrN were observed, and it is thought that these were finely precipitated.

(実施例4) F e no Z r 10 (at%)の組成のター
ゲラトラ用7 8 い、5.0モル%の窒素を含有する窒素含有アルゴンガ
ス雰囲気中でガス圧力0.6Pa、投入電力200Wの
条件で高周波スパッタリングを行ない。
(Example 4) For a target rattler with a composition of F e no Z r 10 (at%) 7 8 , in a nitrogen-containing argon gas atmosphere containing 5.0 mol% nitrogen, the gas pressure was 0.6 Pa, and the input power was 200 W. High frequency sputtering was performed under the following conditions.

サファイア基板(R面)上にFe−Zr−N非晶質薄膜
を形成した。
An Fe-Zr-N amorphous thin film was formed on a sapphire substrate (R side).

前記基板上に形成した非晶質薄膜(厚さ約0.6μm)
の磁化の温度変化(室温の磁化で規格化しである。)を
VSMにより測定した。その結果を第17図に示す。測
定は、室温から開始して約3’C/ minで昇温しな
がら行ない、試料Bは340℃で120分間、試料りは
450℃で60分間、試料Eは500°Cで60分間、
試料Gは520℃で180分間、試料Fは 550℃で
120分間保持した。その後今度は、−3℃/ min
で室温まで降温しながら測定した。第17図より、熱処
理前のFe−Zr−N非晶質薄膜(as depo)の
キュリー温度は、約250℃であり、少なくとも340
℃以上で温度保持すると磁化の値が上昇し、キュリー温
度が上昇していくことがわかる。550℃で 120分
間保持した場合。
Amorphous thin film (thickness approximately 0.6 μm) formed on the substrate
The temperature change in magnetization (normalized to magnetization at room temperature) was measured by VSM. The results are shown in FIG. Measurements were performed starting at room temperature and increasing the temperature at approximately 3'C/min. Sample B was heated to 340°C for 120 minutes, the sample was heated to 450°C for 60 minutes, and sample E was heated to 500°C for 60 minutes.
Sample G was held at 520°C for 180 minutes, and sample F was held at 550°C for 120 minutes. After that, -3℃/min
Measurements were taken while the temperature was lowered to room temperature. From FIG. 17, the Curie temperature of the Fe-Zr-N amorphous thin film (as depo) before heat treatment is about 250°C, and at least 340°C.
It can be seen that when the temperature is maintained above ℃, the magnetization value increases and the Curie temperature increases. When held at 550℃ for 120 minutes.

キュリー温度は700℃以上となり、熱処理によってα
Feのキュリー温度(770℃)に近づいていくことが
わかる。室温での磁化は、いずれの場合もaS dep
oの非晶質薄膜より高いが、520〜550℃保持でほ
ぼ飽和し、 as depoの非晶質薄膜の1.12〜
1.14倍となっている。
Curie temperature is over 700℃, and heat treatment increases α
It can be seen that the temperature approaches the Curie temperature of Fe (770°C). The magnetization at room temperature is in each case aS dep
The temperature is higher than that of the as-depo amorphous thin film, but it is almost saturated when held at 520-550°C, and the as-depo amorphous thin film is 1.12~
It is 1.14 times higher.

実施例3及び実施例4かられかったことを熱処理温度ご
とに述べる。
What was learned from Examples 3 and 4 will be described for each heat treatment temperature.

(a)熱処理前(as depo) 構造的には、非晶質である。軟磁性は得られておらず、
キュリー温度がαFeに比べかなり低く、磁気モーメン
トが熱処理後よりも低い。これらはFe系の非晶質合金
として、考え得る特性である。また、Nの含有量は16
.8%と多く。
(a) Before heat treatment (as depo) Structurally, it is amorphous. Soft magnetism has not been obtained,
The Curie temperature is considerably lower than that of αFe, and the magnetic moment is lower than that after heat treatment. These are possible characteristics for an Fe-based amorphous alloy. In addition, the N content is 16
.. As many as 8%.

N/Zr=2.8となっている。N/Zr=2.8.

(b)  250℃熱処理 BH特性はas depoよりはやや改善され、Hcが
5〜70eを示していた。熱処理時間を長くすることに
より4800分で結晶化がX線的に確認され。
(b) 250°C heat treatment The BH characteristics were slightly improved compared to as depo, with Hc of 5 to 70e. By increasing the heat treatment time, crystallization was confirmed by X-rays after 4800 minutes.

また−軸異方性膜(Hc = 1.40e)が得られた
In addition, a -axis anisotropic film (Hc = 1.40e) was obtained.

主ピークの位置は、  F e3 Z r (440)
ピークに対9 0 応している。熱処理後のN含有量は、 as depo
と変わらない。
The position of the main peak is F e3 Z r (440)
90 corresponds to the peak. The N content after heat treatment is as depo
There is no difference.

(C)  350〜500℃熱処理 主ピークは、  F e3 Z r (400)とa 
F e (110)ピークの中間に位置するが、  Z
 r N (200)付近にもブロードな盛り上がりが
見られ、複雑な状態になっていると考えられる。BH特
性的には、Hc= 0.7〜0.90e、 Hk −9
〜120eで熱処理時間×温度が大きくなるにっれHk
が大きくなる傾向にある。キュリー温度はこの範囲で連
続的に変化しているが、室温の磁化は、熱処理前の1.
06〜1.08倍とほぼ一定である。熱処理後のN含有
量は500℃では熱処理前よりもやや低下するが、N/
Zrz2の領域である。
(C) 350-500°C heat treatment main peaks are F e3 Z r (400) and a
Located in the middle of the F e (110) peak, Z
A broad bulge is also seen near r N (200), indicating a complicated state. In terms of BH characteristics, Hc = 0.7 to 0.90e, Hk -9
Heat treatment time x temperature increases at ~120e
tends to become larger. Although the Curie temperature changes continuously within this range, the magnetization at room temperature is 1.
It is approximately constant at 0.6 to 1.08 times. The N content after heat treatment is slightly lower at 500°C than before heat treatment, but N/
This is the region of Zrz2.

(d)  550℃熱処理 主ピークは、明らかにαF e (110) ピークに
対応しており、新たに、Fe3Zr、ZrNと思われる
ピークも出現してくる。このことから 550”C熱処
理後には(110)配向したαFeの微細結晶(粒径1
00〜200人程度)とさらに微細なFe3Zr、Zr
N等が析出しているものと考えられる。しかし、キュリ
ー温度は、αFeのキュリー温度770°Cよりも低め
であり、これは結晶粒が微細なことと関係していると考
えられる。
(d) 550°C heat treatment The main peak clearly corresponds to the αF e (110) peak, and new peaks that appear to be Fe3Zr and ZrN also appear. From this, after heat treatment at 550"C, fine crystals of (110) oriented αFe (grain size 1
00 to 200) and even finer Fe3Zr, Zr
It is thought that N etc. are precipitated. However, the Curie temperature is lower than the Curie temperature of αFe, 770°C, and this is thought to be related to the fact that the crystal grains are fine.

Heは長時間熱処理で低下し約400分で極小となり、
その後またわずかに増加する。Hkは時間とともに低下
し、約250分でほぼ等方向になる。
He decreased due to long-term heat treatment and reached a minimum level in about 400 minutes.
After that, it increases slightly again. Hk decreases with time and becomes almost isotropic in about 250 minutes.

熱処理後のN含有量は熱処理時間に依存し、60分熱処
理ではN/ Z r z 1.8.1140分熱処理で
はN/Zr;1.1まで低下している。550℃熱処理
により一部の窒素はN2ガスとして試料外に放出される
ものと考えられる。
The N content after heat treatment depends on the heat treatment time, and it decreases from N/Z r z 1.8 after 60 minutes of heat treatment to 1.1 after 1140 minutes of heat treatment. It is considered that some nitrogen is released from the sample as N2 gas due to the 550° C. heat treatment.

このように、Fe−Zr−N非晶質薄膜を熱処理すると
、熱処理温度によって得られる軟磁性薄膜の構造及び性
質が異なる。このことは、実施例1の電気抵抗率を示す
第2表とも対応する。
As described above, when an Fe-Zr-N amorphous thin film is heat-treated, the structure and properties of the resulting soft magnetic thin film vary depending on the heat treatment temperature. This also corresponds to Table 2 showing the electrical resistivity of Example 1.

以上の内容を第18図に模式的に示した。The above contents are schematically shown in FIG.

(実施例5) Feg。Zr1゜の組成の合金ターゲットを用い。(Example 5) Feg. An alloy target with a composition of Zr1° was used.

6.0モル%の窒素を含有する窒素含有アルゴンガ1 ス雰囲気中で高周波スパッタリングを行なうことにより
+  F e VL22 r 7.3 N 16.5と
Fe75.9Z r ?、a N16,8の2種の組成
の非晶質薄膜を夫々サファイア基板(R面)上に形成し
た。ただし前者はφ6インチターゲットを用い全圧0.
15Pa、投入電力1kwで、後者はφ4インチターゲ
ットを用い全圧0.8Pa、投入電力400Wでスパッ
タリングした。
By performing high frequency sputtering in a nitrogen-containing argon gas atmosphere containing 6.0 mol% nitrogen, + Fe VL22 r 7.3 N 16.5 and Fe75.9Z r ? , a N16 and amorphous thin films with two compositions of 8 were formed on sapphire substrates (R-plane), respectively. However, the former uses a φ6 inch target and the total pressure is 0.
Sputtering was performed at a total pressure of 0.8 Pa and an input power of 400 W using a 4-inch target.

前記基板上に形成したF e 76.2 Z r 7.
3 N16.5非晶質薄膜を550℃で60分間磁界中
熱処理して+  Fe7?、a Z r 7.8 N1
3.6軟磁性薄膜(膜厚は約1卯)を得た。また、前記
基板上に形成したF e 75.9 Z r 7.l’
N16.B非晶質薄膜を550℃で磁界中熱処理して、
軟磁性薄膜を得た。軟磁性薄膜の組成は、熱処理時間が
60分間の場合にはF e 79.2 Z r 7.5
 N13.3であり、 1140分間の場合にはF e
B3.2 Z r 8.ONB、8であった。得られた
これらの軟磁性薄膜の組成、飽和磁束密度Bs。
F e 76.2 Z r 7. formed on the substrate.
3 N16.5 amorphous thin film was heat-treated at 550°C for 60 minutes in a magnetic field to obtain +Fe7? , a Z r 7.8 N1
A 3.6 soft magnetic thin film (film thickness approximately 1 μm) was obtained. Further, F e 75.9 Z r 7. formed on the substrate. l'
N16. B The amorphous thin film was heat-treated at 550°C in a magnetic field,
A soft magnetic thin film was obtained. The composition of the soft magnetic thin film is F e 79.2 Z r 7.5 when the heat treatment time is 60 minutes.
N13.3, and in the case of 1140 minutes, F e
B3.2 Z r 8. ONB was 8. The composition and saturation magnetic flux density Bs of these soft magnetic thin films obtained.

保磁力Hc及び異方性磁界Hkを第5表に示す。The coercive force Hc and anisotropic magnetic field Hk are shown in Table 5.

2 第  5  表 (実施例6) F e+x−y Hfy  (Y −5,0,10,0
,15,0(at%))の組成の合金ターゲットを用い
、2,4,6゜8.10又は12モル%の窒素を含む窒
素含有アルゴンガス雰囲気中で高周波スノク・ツタリン
グを行なうことにより9種々の組成のFe−Hf−N非
晶質薄膜をサファイア基板(R面)上に形成した。
2 Table 5 (Example 6) Fe+x−y Hfy (Y −5,0,10,0
, 15,0 (at%)) by performing high-frequency snok tuttering in a nitrogen-containing argon gas atmosphere containing 2,4,6°8.10 or 12 mol% nitrogen. Fe-Hf-N amorphous thin films of various compositions were formed on a sapphire substrate (R-plane).

前記基板上に形成した非晶質薄膜を350°C又は55
0℃、  1.1kOeの磁界中で1時間熱処理して。
The amorphous thin film formed on the substrate was heated to 350°C or 55°C.
Heat treated in a magnetic field of 1.1 kOe at 0°C for 1 hour.

Fe−Hf−N軟磁性薄膜(膜厚的1μ11)を得た。A Fe-Hf-N soft magnetic thin film (film thickness: 1μ11) was obtained.

得られたFe−If−N軟磁性薄膜の組成73 4 飽和磁束密度Bs、保磁力Hcを第6表に示す。Composition 73 of the obtained Fe-If-N soft magnetic thin film 4 Table 6 shows the saturation magnetic flux density Bs and coercive force Hc.

(比較例4) スパッタ時の雰囲気中に窒素を含有しない以外は前記実
施例6と同様にして得た3種の熱処理薄膜の組成、飽和
磁束密度Bs、保磁力Hcも第6表に示す。
(Comparative Example 4) Table 6 also shows the composition, saturation magnetic flux density Bs, and coercive force Hc of three types of heat-treated thin films obtained in the same manner as in Example 6 except that nitrogen was not contained in the atmosphere during sputtering.

(以下余白) 5 (実施例7) F e+oo−y T ay  (y −5,0,10
,0,15,0(at%))の組成の合金ターゲットを
用い、2,4,6゜ill、10又は12モル%の窒素
を含む窒素含有アルゴンガス雰囲気中で高周波スパッタ
リングを行なうことにより、N々の組成のFe−Ta−
N非晶質薄膜をサファイア基板(R面)上に形成した。
(Left below) 5 (Example 7) F e+oo-y Tay (y -5,0,10
, 0, 15, 0 (at%)) by performing high frequency sputtering in a nitrogen-containing argon gas atmosphere containing 2, 4, 6 mol %, 10 or 12 mol % nitrogen. Fe-Ta- with a composition of N
An N amorphous thin film was formed on a sapphire substrate (R side).

前記基板上に形成した非晶質薄膜を350℃又は550
℃、  1.1kOeの磁界中で1時間熱処理して。
The amorphous thin film formed on the substrate was heated to 350°C or 550°C.
℃, heat treated in a magnetic field of 1.1 kOe for 1 hour.

Fe−Ta−N軟磁性薄膜(膜厚的1μm)を得た。得
られたFe−Ta−N軟磁性薄膜の組成。
A Fe-Ta-N soft magnetic thin film (1 μm in film thickness) was obtained. Composition of the obtained Fe-Ta-N soft magnetic thin film.

飽和磁束密度Bs、保磁力Hcを第7表に示す。Table 7 shows the saturation magnetic flux density Bs and coercive force Hc.

(比較例5) スパッタ時の雰囲気中に窒素を含有しない以外。(Comparative example 5) Other than not containing nitrogen in the atmosphere during sputtering.

は前記実施例7と同様にして得た熱処理薄膜の組成、飽
和磁束密度Bs、保磁力Hcも第7表に示す。
Table 7 also shows the composition, saturation magnetic flux density Bs, and coercive force Hc of the heat-treated thin film obtained in the same manner as in Example 7.

(以下余白) 7 (実施例8) F e+on−y N by  (y −5,0,10
,0,15,0(ate))の組成の合金ターゲットを
用い、2,4,6.8又は10モル%の窒素を含む窒素
含有アルゴンガス雰囲気中で高周波スパッタリングを行
なうことにより2種々の組成のFe−Nb−N非晶質薄
膜をサファイア基板(R面)上に形成した。
(Left below) 7 (Example 8) F e+on-y N by (y -5,0,10
, 0, 15, 0(ate)) and two different compositions by performing high-frequency sputtering in a nitrogen-containing argon gas atmosphere containing 2, 4, 6.8, or 10 mol% nitrogen. An Fe--Nb--N amorphous thin film was formed on a sapphire substrate (R surface).

前記基板上に形成した非晶質薄膜を350 ”C又は5
50℃、  1.1kOeの磁界中で1時間熱処理して
The amorphous thin film formed on the substrate was heated to 350"C or 5"C.
Heat treated at 50°C in a 1.1 kOe magnetic field for 1 hour.

Fe7Nb−N軟磁性薄膜(膜厚的1μ11)を得た。A Fe7Nb-N soft magnetic thin film (film thickness: 1μ11) was obtained.

得られたFe−Nb−N軟磁性薄膜の組成。Composition of the obtained Fe-Nb-N soft magnetic thin film.

飽和磁束密度Bs、保磁力Heを第8表に示す。Table 8 shows the saturation magnetic flux density Bs and coercive force He.

(比較例6) スパッタ時の雰囲気中に窒素を含有しない以外は前記実
施例8と同様にして得た熱処理薄膜の組成、飽和磁束密
度Bs、保磁力Haも第8表に示す。
(Comparative Example 6) Table 8 also shows the composition, saturation magnetic flux density Bs, and coercive force Ha of a heat-treated thin film obtained in the same manner as in Example 8 except that nitrogen was not contained in the atmosphere during sputtering.

(以下余白) 第  8 表 9 (実施例9) ’F e 90 Z r la (ate)の組成のタ
ーゲットを用い、6.0モル%の窒素を含む窒素含有ア
ルゴンガス雰囲気中で、高周波スパッタリングを行なう
ことにより、Fe−Zr−N非晶質薄膜を基板上に形成
した。基板としては、フェライト基板上に5i02膜を
製膜して成る5i02膜被覆フエライト基板を用いた。
(Leaving space below) Table 8 (Example 9) High frequency sputtering was performed in a nitrogen-containing argon gas atmosphere containing 6.0 mol% nitrogen using a target with a composition of 'F e 90 Z r la (ate). By doing this, an Fe-Zr-N amorphous thin film was formed on the substrate. As the substrate, a 5i02 film-coated ferrite substrate, which is obtained by forming a 5i02 film on a ferrite substrate, was used.

前記非晶質薄膜は、前記5i02膜の表面に形成した。The amorphous thin film was formed on the surface of the 5i02 film.

前記基板上に形成した非晶質薄膜を、550℃。The amorphous thin film formed on the substrate was heated to 550°C.

1時間磁界中(磁界強度り、LkOe)で熱処理して、
−軸磁気異方性を有する軟磁性薄膜(膜厚5.9p)を
得た。得られた軟磁性薄膜の組成は。
Heat treated in a magnetic field (magnetic field strength, LkOe) for 1 hour,
- A soft magnetic thin film (thickness: 5.9p) having axial magnetic anisotropy was obtained. What is the composition of the soft magnetic thin film obtained?

前記基板のかわりにサファイア基板を用いる以外は同一
の条件で得られた軟磁性薄膜の組成から。
From the composition of a soft magnetic thin film obtained under the same conditions except that a sapphire substrate was used instead of the above substrate.

F e 7’1.8 Z r 7.6 N14.6 と
推定した0得られた軟磁性薄膜の電気抵抗率ρは77鳩
・印であり、ビッカース硬度Hvは1010kg/−で
あった。また、得られた軟磁性薄膜の透磁率の周波数特
性を第19−A図に示し、B−Hカーブを0 第19− B図に示す。
The electrical resistivity ρ of the obtained soft magnetic thin film was estimated to be F e 7'1.8 Z r 7.6 N14.6 and was 77 cm, and the Vickers hardness Hv was 1010 kg/-. Further, the frequency characteristics of magnetic permeability of the obtained soft magnetic thin film are shown in Fig. 19-A, and the B-H curve is shown in Fig. 19-B.

(実施例10) F egOHf xo (ate)の組成のターゲット
を用い、4.0モル%の窒素を含む窒素含有アルゴンガ
ス雰囲気中で、高周波スパッタリングを行なうことによ
り、Fe−Hf−N非晶質薄膜を基板上に形成した。基
板としては、フェライト基板上にS i 02膜を製膜
して成る5i02膜被覆フエライト基板を用いた。前記
非晶質薄膜は、前記5i02膜の表面に形成した。
(Example 10) By performing high frequency sputtering in a nitrogen-containing argon gas atmosphere containing 4.0 mol% nitrogen using a target with a composition of Fe-Hf-N amorphous A thin film was formed on the substrate. As the substrate, a 5i02 film-coated ferrite substrate, which is formed by forming an Si02 film on a ferrite substrate, was used. The amorphous thin film was formed on the surface of the 5i02 film.

前記基板上に形成した非晶質薄膜の膜厚は4.7μmで
あった。これを550℃、  1.1 [koelの磁
界中で1時間熱処理し軟磁性薄膜を得た。そして。
The thickness of the amorphous thin film formed on the substrate was 4.7 μm. This was heat treated at 550° C. in a magnetic field of 1.1 koel for 1 hour to obtain a soft magnetic thin film. and.

この薄膜の透磁率および異方性磁界Hkを測定してから
さらに2時間以外は前記と同様な条件で2時間の追加の
熱処理を行った(合計3時間の熱処理)。ここでまた透
磁率および異方性磁界を測定し、さらに時間以外は前記
と同様な条件で3時間の追加の熱処理(合計6時間の熱
処理)をして。
After measuring the magnetic permeability and anisotropic magnetic field Hk of this thin film, an additional heat treatment was performed for 2 hours under the same conditions as above except for another 2 hours (total heat treatment for 3 hours). Here, the magnetic permeability and anisotropic magnetic field were also measured, and an additional heat treatment was performed for 3 hours (total heat treatment for 6 hours) under the same conditions as above except for the time.

透磁率および異方性磁界Hkを測定した。得られ1 2 た3種の軟磁性薄膜のうちの2種の組成は、前記基板の
かわりにサファイア基板を用い膜厚を1μmとした以外
は同一の条件で得られた軟磁性薄膜の組成から、夫々r
 F e 77.4 Hf 7.5 N15.1  (
1時間熱処理)、及びF eo、e Hf 7.7 N
9.7  (6時間熱処理)と推定した。
Magnetic permeability and anisotropy field Hk were measured. The compositions of two of the three soft magnetic thin films obtained were based on the compositions of soft magnetic thin films obtained under the same conditions except that a sapphire substrate was used instead of the above substrate and the film thickness was 1 μm. , each r
Fe 77.4 Hf 7.5 N15.1 (
1 hour heat treatment), and F eo, e Hf 7.7 N
It was estimated to be 9.7 (6 hours heat treatment).

得られた軟磁性薄膜(6時間熱処理)の電気抵抗率ρは
60I!Q−cmであり、ビッカース硬度Hvは110
0kg /−であった。この軟磁性薄膜(6時間熱処理
)の透磁率の周波数特性を第20−A図に示し、B−H
カーブを第20−B図に示す。
The electrical resistivity ρ of the obtained soft magnetic thin film (heat treated for 6 hours) is 60I! Q-cm, Vickers hardness Hv is 110
It was 0 kg/-. The frequency characteristics of magnetic permeability of this soft magnetic thin film (heat treated for 6 hours) are shown in Figure 20-A, and B-H
The curve is shown in Figure 20-B.

また、前記3種の熱処理段階の透磁率(I MHzで)
μIM Hz及び異方性磁界Hkを第20−0図に示す
。第20−0図は、Fe−Hf−N薄膜の熱処理時間に
対する透磁率μm□2及び異方性磁界Hkの変化を示し
ている。
Also, the magnetic permeability (at I MHz) of the three heat treatment stages
The μIM Hz and anisotropic magnetic field Hk are shown in FIG. 20-0. FIG. 20-0 shows changes in the magnetic permeability μm□2 and the anisotropic magnetic field Hk with respect to the heat treatment time of the Fe-Hf-N thin film.

(実施例11) F e B5 T a 15 (31%)の組成のター
ゲットを用い、6.0モル%の窒素を含む窒素含有アル
ゴンガス雰囲気中で、高周波スパッタリングを行なうこ
とにより、Fe−Ta−N非晶質薄膜を基板上に形成し
た。基板としては、フェライト基板上に5i02膜を製
膜して成る5i02膜被覆フエライト基板を用いた。前
記非晶質薄膜は、前記5i02膜の表面に形成した。
(Example 11) Fe-Ta- An N amorphous thin film was formed on the substrate. As the substrate, a 5i02 film-coated ferrite substrate, which is obtained by forming a 5i02 film on a ferrite substrate, was used. The amorphous thin film was formed on the surface of the 5i02 film.

前記基板上に形成した非晶質薄膜を、550℃。The amorphous thin film formed on the substrate was heated to 550°C.

1時間磁界(磁界強度1.1koe)中で熱処理して、
−軸磁気異方性を有する軟磁性薄膜(膜厚5.6/7J
I)を得た。得られた軟磁性薄膜の組成は。
Heat treated in a magnetic field (magnetic field strength 1.1 koe) for 1 hour,
- Soft magnetic thin film with axial magnetic anisotropy (film thickness 5.6/7J
I) was obtained. What is the composition of the soft magnetic thin film obtained?

前記基板のかわりにサファイア基板を用いる以外は同一
の条件で得られた軟磁性薄膜の組成から。
From the composition of a soft magnetic thin film obtained under the same conditions except that a sapphire substrate was used instead of the above substrate.

F e 611.8 T a 11.5 N 18.7
 と推定した。
F e 611.8 T a 11.5 N 18.7
estimated that.

得られた軟磁性薄膜の電気抵抗率ρは86tlQ−cm
であり、ビッカース硬度Hvは1220kg /−であ
った。また、得られた軟磁性薄膜の透磁率の周波数特性
を第21−A図に示し、B−Hカーブを第21−B図に
示す。
The electrical resistivity ρ of the obtained soft magnetic thin film was 86 tlQ-cm
The Vickers hardness Hv was 1220 kg/-. Further, the frequency characteristics of magnetic permeability of the obtained soft magnetic thin film are shown in Fig. 21-A, and the B-H curve is shown in Fig. 21-B.

以下2図面の第8〜lO図により本発明の磁気ヘッドの
実施例について説明する。
Embodiments of the magnetic head of the present invention will be described below with reference to FIGS. 8 to 10 of the two drawings.

(実施例12) 3 4 第8図は2本発明の複合磁気ヘッドの先端拡大斜視図で
あり、第9図は、第8図の複合磁気ヘッドの矢視A拡大
図(記録媒体指向面拡大図)である。
(Example 12) 3 4 FIG. 8 is an enlarged perspective view of the tip of the composite magnetic head of the present invention, and FIG. 9 is an enlarged view of the composite magnetic head in FIG. Figure).

フェライトコア1は、先端対向面1a、la’及び該対
向面から後退して形成される凹所1b。
The ferrite core 1 has tip opposing surfaces 1a and la' and a recess 1b that is formed to be set back from the opposing surfaces.

1b′を有し、所定の位置(図示せず)で結合し一体に
なっている。フェライトコアの先端対向面la、la’
及び該対向面から後退して形成される凹所1b、lb’
 は1本発明において特定される軟磁性層2,2′及び
5i02層3.3′を順次備えている。軟磁性層2.2
′は磁気ヘッドのコアの一部を形成している。前記フェ
ライトコア1の先端対向面1aと1 a /間に存在す
る軟磁性層部分は、互いに対向しており、この軟磁性層
対向面間にギャップが構成されている。前記フェライト
コアの凹所ないしエツジ部に前記軟磁性層を介して備え
られた5i02層部分は、ガラス充填部5,5′と結合
している。
1b', and are joined at a predetermined position (not shown) to form an integral body. Ferrite core tip facing surfaces la, la'
and recesses 1b, lb' formed retreating from the opposing surface.
1 is sequentially provided with soft magnetic layers 2, 2' and 5i02 layers 3, 3' specified in the present invention. Soft magnetic layer 2.2
' forms part of the core of the magnetic head. The soft magnetic layer portions existing between the tip facing surfaces 1a and 1a/ of the ferrite core 1 are opposed to each other, and a gap is formed between the soft magnetic layer facing surfaces. The 5i02 layer portion provided in the recess or edge portion of the ferrite core via the soft magnetic layer is coupled to the glass filling portions 5, 5'.

前記軟磁性層としては2次の3種のものを夫々用いた。Three types of secondary magnetic layers were used as the soft magnetic layer.

(1)組成がF e 110.9 Z r 6.5 N
12.8であり、−軸磁気異方性を有する軟磁性層 (2)組成がF e 82.8 Hf 7.’I N 
9.7であり、−軸磁気異方性を有する軟磁性層 (3)組成がF e BG、8 T a 11.15 
N+8.7であり、−軸磁気異方性を有する軟磁性層 第8〜9図に示された複合磁気ヘッドの製造方法の一例
を次に概説する。
(1) Composition is F e 110.9 Z r 6.5 N
12.8, and the composition of the soft magnetic layer (2) having -axis magnetic anisotropy is Fe 82.8 Hf 7. 'I N
9.7, and the composition of the soft magnetic layer (3) having -axis magnetic anisotropy is Fe BG, 8 Ta 11.15
An example of a method for manufacturing the composite magnetic head shown in FIGS. 8 and 9 will be outlined below.

フェライトコア半体の先端対向面1a及び該対向面から
後退して形成される凹所1bに1例えば前記軟磁性薄膜
の製造例ないしそれに準する方法で軟磁性層2を形成す
る。前記軟磁性層に所定の方法でSiO□層を形成する
。このようにして。
A soft magnetic layer 2 is formed on the front end facing surface 1a of the ferrite core half body and the recess 1b formed at a position set back from the facing surface using, for example, the above-mentioned example of manufacturing a soft magnetic thin film or a method similar thereto. A SiO□ layer is formed on the soft magnetic layer by a predetermined method. In this way.

フェライトコア半体に前記2種の層を形成して成る多層
状のコア半休を得る。この多層状コア半休とともにヘッ
ドを構成するもう一方の多層状コア半休を同様の製造方
法により得る。
A multilayer core half is obtained by forming the two types of layers on a ferrite core half. Along with this multilayer core half, another multilayer core half that constitutes the head is obtained by a similar manufacturing method.

以上のようにして得られた一対の多層状コア半休を所定
の方向に突合せ、コア半休の凹所への溶5 6 融ガラスの充填・冷却により前記一対のコア半休同士を
接合して2図示された複合磁気ヘッドを製造する。
The pair of multilayered core halves obtained as described above are butted in a predetermined direction, and the recesses of the core halves are filled with melted glass and cooled to join the pair of core halves together, as shown in Figure 2. Manufacture a composite magnetic head.

(実施例13) 第10図は1本発明の薄膜磁気ヘッドのギャップデプス
方向(記録媒体指向面に対して垂直方向)の概略拡大断
面図であり、以下この図に基づいて説明する。
(Embodiment 13) FIG. 10 is a schematic enlarged sectional view of a thin film magnetic head of the present invention in the gap depth direction (perpendicular to the recording medium orientation plane), and the following description will be made based on this figure.

フェライト基板10は、下部軟磁性層11.絶縁層12
、コイル導体層18及び上部軟磁性層15を順次有する
。前記下部軟磁性層11と上部軟磁性層15の間には、
ヘッドの記録媒体指向面20に達する磁気ギャップ層1
4が存在する。上部軟磁性層15のもう一方の面には、
軟磁性層を保護するための保護層1Bが設けられている
。保護層16は、接合ガラス層18により保護板19と
接合している。
The ferrite substrate 10 has a lower soft magnetic layer 11. Insulating layer 12
, a coil conductor layer 18 and an upper soft magnetic layer 15 in this order. Between the lower soft magnetic layer 11 and the upper soft magnetic layer 15,
Magnetic gap layer 1 reaching the recording medium directional surface 20 of the head
There are 4. On the other surface of the upper soft magnetic layer 15,
A protective layer 1B is provided to protect the soft magnetic layer. The protective layer 16 is bonded to the protective plate 19 by a bonding glass layer 18 .

前記下部軟磁性層11及び上部軟磁性層15としては1
次の3種のものを夫々用いた。
The lower soft magnetic layer 11 and the upper soft magnetic layer 15 are 1
The following three types were used.

(1)組成がF e go、9 Z r 8.6 N1
2.6であり、−軸磁気異方性を有する軟磁性層 (2)組成がF e a2.6 Hf 7.7 N 9
.7であり・−軸磁気異方性を有する軟磁性層 (3)組成がF e 6G、8 T 8114 N 1
11.7であり・−軸磁気異方性を有する軟磁性層 第10図に示された薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例を
次に概説する。
(1) Composition is F e go, 9 Z r 8.6 N1
2.6, and the composition of the soft magnetic layer (2) having -axis magnetic anisotropy is Fe a2.6 Hf 7.7 N 9
.. 7 and - Soft magnetic layer (3) having axial magnetic anisotropy composition is Fe 6G, 8 T 8114 N 1
11.7 - Soft magnetic layer having axial magnetic anisotropy An example of a method for manufacturing the thin film magnetic head shown in FIG. 10 will be outlined below.

フェライト基板lO上に厚さ10−の下部軟磁性層11
を形成する。下部軟磁性層11は2例えば前記軟磁性薄
膜の製造例ないしそれに準する方法で形成する。次に下
部軟磁性層11上の所定の位置に5i02等によりなる
非磁性絶縁層12及びCu。
A lower soft magnetic layer 11 with a thickness of 10 − is formed on a ferrite substrate IO.
form. The lower soft magnetic layer 11 is formed by, for example, the method for manufacturing soft magnetic thin films described above or a method similar thereto. Next, a nonmagnetic insulating layer 12 made of 5i02 or the like and Cu are placed at predetermined positions on the lower soft magnetic layer 11.

八(等よりなるコイル導体層13を適宜形成した後、コ
イル導体層13を含む非磁性絶縁層12の断面を図に示
すように略台形状にイオンミリングにより加工する。次
にギャップ層14を形成し、後に形成する上部軟磁性層
15と直接接合する所定の位置(図示せず)よりギャッ
プ層14を除去して、下部軟磁性層11と同様の方法に
より、所定の位置(図示せず)で下部軟磁性層11に接
合した厚さ10μlの上部軟磁性層15を形成する。
After suitably forming the coil conductor layer 13 made of 8 (or the like), the cross section of the non-magnetic insulating layer 12 including the coil conductor layer 13 is processed into a substantially trapezoidal shape by ion milling as shown in the figure.Next, the gap layer 14 is The gap layer 14 is removed from a predetermined position (not shown) where it will be directly connected to the upper soft magnetic layer 15 to be formed later, and the gap layer 14 is removed from a predetermined position (not shown) by the same method as the lower soft magnetic layer 11. ) to form an upper soft magnetic layer 15 with a thickness of 10 μl bonded to the lower soft magnetic layer 11.

7 8 次に、保護層16を上部軟磁性層15の上に形成する。7 8 Next, a protective layer 16 is formed on the upper soft magnetic layer 15.

保護層16が形成された後、前記保護層16を平坦化し
、接合ガラス層(S i 02−PbO−B20.系ガ
ラス)18を介して保護板19と接合し記録媒体指向面
20を平滑にして9本発明の一実施例である薄膜磁気ヘ
ッドを製作した。
After the protective layer 16 is formed, the protective layer 16 is flattened and bonded to a protective plate 19 via a bonding glass layer (Si02-PbO-B20. based glass) 18 to smooth the recording medium orientation surface 20. A thin film magnetic head, which is an embodiment of the present invention, was fabricated.

(実施例14) 第11図、は2本発明の一実施例である複合磁気ヘッド
の先端拡大斜視図である。第12図は、前記複合磁気ヘ
ッドの記録媒体指向面(矢視A)概略拡大図である。
(Embodiment 14) FIG. 11 is an enlarged perspective view of the tip of a composite magnetic head which is an embodiment of the present invention. FIG. 12 is a schematic enlarged view of the recording medium orientation plane (view A) of the composite magnetic head.

磁気ヘッドコア33は、軟磁性層31と5i02等の絶
縁層32を交互に積層して成り、先端対向面33a、 
33a’及び該対向面から後退して形成される凹所33
b、 33b’ を有する。前記対向面には。
The magnetic head core 33 is made up of alternately laminated soft magnetic layers 31 and insulating layers 32 such as 5i02, and has a tip facing surface 33a,
33a' and a recess 33 formed retreating from the opposing surface.
b, 33b'. On the opposing surface.

軟磁性層の端面が露出する。即ち、前記対向面の大部分
は軟磁性層の端面で構成されている。
The end face of the soft magnetic layer is exposed. That is, most of the opposing surface is constituted by the end surface of the soft magnetic layer.

SiO□からなるギャップ層Gは、前記対向面間に形成
されている。磁気ヘッドコア88の側面は。
A gap layer G made of SiO□ is formed between the opposing surfaces. The side surface of the magnetic head core 88.

非磁性基板84〜87と結合している。充填ガラス部8
8は、非磁性基板34と36の間に充填され、磁気ヘッ
ド全体の接合強度を増大させている。
It is coupled with non-magnetic substrates 84-87. Filled glass part 8
8 is filled between the nonmagnetic substrates 34 and 36 to increase the bonding strength of the entire magnetic head.

本発明の磁気ヘッドは、従来の磁気ヘッドと比較してよ
り高硬度の軟磁性層を有するので。
The magnetic head of the present invention has a soft magnetic layer with higher hardness than conventional magnetic heads.

上記のような複合磁気ヘッドにおいても。Even in composite magnetic heads such as those mentioned above.

その記録媒体指向面はより一層の高耐摩耗性(高耐久性
)を有する。
The recording medium orientation surface has even higher abrasion resistance (higher durability).

前記軟磁性層としては1次の3種のものを夫々用いた。Three types of primary soft magnetic layers were used.

(1)組成がF e 80.9 Z r 6.5 N1
2.6であり、−軸磁気異方性を有する軟磁性層 (2)組成がF e 82.8 Hf 7.7 N 9
.7であり、−軸磁気異方性を有する軟磁性層 (8)組成がF e 6f1.ll T a 11.5
 N 18.7であり、−軸磁気異方性を有する軟磁性
層 [発明の効果] 本発明の磁気ヘッドの軟磁性層は、上述の説明からも明
らかな様に、センダスト合金やアモルファス軟磁性合金
よりもはるかに高い飽和磁束密9 0 度を有し、かつ、磁歪を零とすることができ、低保磁力
、高透磁率の優れた軟磁気特性を有する。
(1) Composition is F e 80.9 Z r 6.5 N1
2.6, and the composition of the soft magnetic layer (2) having -axis magnetic anisotropy is Fe 82.8 Hf 7.7 N 9
.. 7, and the composition of the soft magnetic layer (8) having -axis magnetic anisotropy is Fe 6f1. ll Ta 11.5
N 18.7 and a soft magnetic layer having -axis magnetic anisotropy [Effects of the Invention] As is clear from the above explanation, the soft magnetic layer of the magnetic head of the present invention is made of sendust alloy or amorphous soft magnetic material. It has a saturation magnetic flux density of 90 degrees, which is much higher than that of alloys, can have zero magnetostriction, and has excellent soft magnetic properties such as low coercive force and high magnetic permeability.

また、軟磁性層は、電気抵抗率もセンダスト並に高く一
軸異方性を有することができ、その大きさも組成や熱処
理時間によって制御することができるので、目的に応じ
た高周波透磁率を得ることかできる。さらに650 ’
Cまでの熱処理によっても特性が劣化しないことがら、
ガラスボンディングなどに対する耐熱性にも優れており
、あわせて高い硬度と耐食性を持つことがら、耐摩耗性
も高く、信頼性が高い。
In addition, the soft magnetic layer has a high electrical resistivity comparable to Sendust and can have uniaxial anisotropy, and its size can be controlled by the composition and heat treatment time, so it is possible to obtain high frequency permeability according to the purpose. I can do it. Another 650'
Since the characteristics do not deteriorate even after heat treatment up to C,
It has excellent heat resistance for glass bonding, etc., and also has high hardness and corrosion resistance, so it has high wear resistance and high reliability.

本発明の磁気ヘッドにおける軟磁性層は、非晶質合金膜
の熱処理によって微結晶化させて形成することができる
ので2層形成にあたってステップカバレッジが良好でが
っ鏡面が得られ易く多層膜化などの手段に依らなくても
結晶粒の粗大化を防ぐことができるので、厚膜化するこ
とが可能である。
The soft magnetic layer in the magnetic head of the present invention can be formed by heat-treating an amorphous alloy film to make it microcrystalline. Therefore, when forming two layers, step coverage is good and a mirror surface can be easily obtained, and multilayer films can be formed. Since coarsening of crystal grains can be prevented without relying on the above method, it is possible to increase the thickness of the film.

従って1本発明の磁気ヘッドは、高保磁力の磁気記録媒
体に対応することができ、高品質化、高帯域化、高記録
密度化を図ることができる。
Therefore, the magnetic head of the present invention can be used with magnetic recording media of high coercive force, and can achieve higher quality, wider bandwidth, and higher recording density.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は1本発明の磁気ヘッドにおける軟磁性層の組成
範囲を示す図である。第2図は、実施例1で製造した軟
磁性薄膜の組成と保磁力Hcの関係、及び磁歪の正負判
定を示す図である。第3図は、軟磁性薄膜製造条件とそ
れにより製造された軟磁性薄膜の保磁力Heと飽和磁歪
λ、との関係を示す図である。第4図は、熱処理条件の
異なる薄膜のX線回折測定結果を示す図である。第5図
は2組成の異なる薄膜の交流BH凸曲線示す図である。 第6図は、VSMより求めた熱処理前後の薄膜のIH曲
線を示す図である。第7図は1本発明の磁気ヘッドの軟
磁性層の組成範囲外の組成の軟磁性薄膜の交流BH凸曲
線示す図である。第8図は1本発明の複合磁気ヘッドの
一実施例の概略先端拡大斜視図である。第9図は、第8
図の複合磁気ヘッドの一実施例の矢視A概略拡大図であ
る。第10図は1本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の
ギャップデプス方向の概略拡大断面図であ1 る。第11図は1本発明の複合磁気ヘッドの一実施例の
先端拡大斜視図である。第12図は、第11図に示され
た複合磁気ヘッドの矢視A概略拡大図である。 第13図は、Fe−Zr−N軟磁性薄膜のBH特性、保
磁力Ha及び異方性磁界Hkを示す図である。第14図
は、熱処理時間tに対して得られたFe−Zr−N軟磁
性薄膜の保磁力Hc及び異方性磁界Hkの関係を示す図
である。第15図は、熱処理時間tと熱処理温度と保磁
力Hcとの関係。 及び熱処理時間tと熱処理温度と異方性磁界Hkとの関
係を夫々示す図である。第16図は、Fe−Zr−N軟
磁性薄膜と、熱処理前の非晶質薄膜のX線回折パターン
を示す図である。第17図は。 Fe−Zr−N軟磁性薄膜の磁化の温度変化を示す図で
ある。第18図は、熱処理時間tと熱処理温度によって
得られる軟磁性薄膜の特性の推定を示す図である。第1
9−A図、第20−A図及び第21−A図は、夫々2本
発明の一実施例の軟磁性薄膜の透磁率の周波数特性を示
す図である。第2 19− B図、第20−B図及び第21− B図は、夫
々。 本発明の一実施例の軟磁性薄膜の容易軸方向(上段)及
び困難軸方向(下段)の交流BH凸曲線示す図であり、
Bは任意単位である。第20− C図は、Fe−Hf−
N非晶質薄膜の熱処理時間に対するFe−Hf−N軟磁
性薄膜の透磁率μm□2及び異方性磁界Hkの変化を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing the composition range of the soft magnetic layer in the magnetic head of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the composition of the soft magnetic thin film manufactured in Example 1 and the coercive force Hc, and the determination of whether the magnetostriction is positive or negative. FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the soft magnetic thin film manufacturing conditions and the coercive force He and saturation magnetostriction λ of the soft magnetic thin film manufactured thereby. FIG. 4 is a diagram showing the results of X-ray diffraction measurements of thin films subjected to different heat treatment conditions. FIG. 5 is a diagram showing AC BH convex curves of thin films with two different compositions. FIG. 6 is a diagram showing IH curves of the thin film before and after heat treatment determined by VSM. FIG. 7 is a diagram showing an AC BH convex curve of a soft magnetic thin film having a composition outside the composition range of the soft magnetic layer of the magnetic head of the present invention. FIG. 8 is a schematic enlarged perspective view of the tip of an embodiment of the composite magnetic head of the present invention. Figure 9 shows the 8th
FIG. 2 is a schematic enlarged view of an embodiment of the composite magnetic head shown in FIG. FIG. 10 is a schematic enlarged sectional view in the gap depth direction of an embodiment of the thin film magnetic head of the present invention. FIG. 11 is an enlarged perspective view of the tip of an embodiment of the composite magnetic head of the present invention. FIG. 12 is a schematic enlarged view of the composite magnetic head shown in FIG. 11 in the direction of arrow A. FIG. 13 is a diagram showing the BH characteristics, coercive force Ha, and anisotropic magnetic field Hk of a Fe-Zr-N soft magnetic thin film. FIG. 14 is a diagram showing the relationship between the coercive force Hc and the anisotropic magnetic field Hk of the Fe-Zr-N soft magnetic thin film obtained with respect to the heat treatment time t. FIG. 15 shows the relationship between heat treatment time t, heat treatment temperature, and coercive force Hc. and FIG. 7 is a diagram showing the relationship between heat treatment time t, heat treatment temperature, and anisotropic magnetic field Hk, respectively. FIG. 16 is a diagram showing the X-ray diffraction patterns of a Fe-Zr-N soft magnetic thin film and an amorphous thin film before heat treatment. Figure 17 is. FIG. 3 is a diagram showing temperature changes in magnetization of a Fe-Zr-N soft magnetic thin film. FIG. 18 is a diagram showing estimation of the characteristics of a soft magnetic thin film obtained by heat treatment time t and heat treatment temperature. 1st
FIG. 9-A, FIG. 20-A, and FIG. 21-A are diagrams showing frequency characteristics of magnetic permeability of two soft magnetic thin films according to an embodiment of the present invention. Figure 2 19-B, Figure 20-B and Figure 21-B are respectively. FIG. 3 is a diagram showing AC BH convex curves in the easy axis direction (upper stage) and the hard axis direction (lower stage) of a soft magnetic thin film according to an embodiment of the present invention;
B is an arbitrary unit. Figure 20-C shows Fe-Hf-
FIG. 3 is a diagram showing changes in magnetic permeability μm□2 and anisotropic magnetic field Hk of a Fe-Hf-N soft magnetic thin film with respect to heat treatment time of an N amorphous thin film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)先端対向面及び該対向面から後退して形成される
凹所を有する磁気ヘッドコアの少なくとも該対向面に露
出する軟磁性層を備え、該コアの対向面間にギャップを
構成してなり、前記軟磁性層は、Fe_aB_bN_c
(但し、a、b、cは各々原子%を示し、BはZr、H
f、Ti、Nb、Ta、V、Mo、Wの少なくとも1種
以上を表わす。)なる組成式で示され、その組成範囲は
0<b≦20 0<c≦22 の範囲(但し、b≦7.5かつc≦5を除く)であるこ
とを特徴とする複合磁気ヘッド。(2)基板上に下部軟
磁性層と絶縁層とコイル導体層と上部軟磁性層とを順次
有し、前記下部軟磁性層と上部軟磁性層間にヘッドの記
録媒体指向面に達する磁気ギャップ層を備えて成り、前
記軟磁性層は、Fe_aB_bN_c(但し、a、b、
cは各々原子%を示し、BはZr、Hf、Ti、Nb、
Ta、V、Mo、Wの少なくとも1種以上を表わす。)
なる組成式で示され、その組成範囲は0<b≦20 0<c≦22 の範囲(但し、b≦7.5かつc≦5を除く)であるこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。(3)前記組成範囲は 69≦a≦93 2≦b≦15 5.5<c≦22 の範囲であることを特徴とする請求項1又は2記載の磁
気ヘッド。 (4)前記組成範囲は、前記三者の三成分組成座標系(
Fe、B、N)において P(91、2、7) Q(92.5、2、5.5) R(87、7.5、5.5) S(73、12、15) T(69、12、19) U(69、9、22) V(76、5、19) の7点を結ぶ線分で囲まれた範囲であることを特徴とす
る請求項1又は2記載の磁気ヘッド。 (5)前記軟磁性層が一軸異方性を有することを特徴と
する請求項1〜4の一に記載の磁気ヘッド。 (6)前記軟磁性層の結晶粒径が300Å以下であるこ
とを特徴とする請求項1〜5の一に記載の磁気ヘッド。
Scope of Claims: (1) A magnetic head core having a tip facing surface and a recess formed recessed from the facing surface, a soft magnetic layer exposed at least on the facing surface, and between the facing surfaces of the core. The soft magnetic layer comprises a gap, and the soft magnetic layer is Fe_aB_bN_c.
(However, a, b, and c each indicate atomic %, and B is Zr, H
f, Ti, Nb, Ta, V, Mo, and W. ), and the composition range is 0<b≦20 and 0<c≦22 (excluding b≦7.5 and c≦5). (2) A lower soft magnetic layer, an insulating layer, a coil conductor layer, and an upper soft magnetic layer are sequentially provided on the substrate, and a magnetic gap layer that reaches the recording medium orientation plane of the head between the lower soft magnetic layer and the upper soft magnetic layer. The soft magnetic layer comprises Fe_aB_bN_c (where a, b,
c each represents atomic %, B represents Zr, Hf, Ti, Nb,
Represents at least one of Ta, V, Mo, and W. )
1. A thin film magnetic head having a compositional formula of 0<b≦20 and 0<c≦22 (excluding b≦7.5 and c≦5). (3) The magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the composition range is 69≦a≦93, 2≦b≦15, and 5.5<c≦22. (4) The composition range is defined by the ternary composition coordinate system (
P (91, 2, 7) Q (92.5, 2, 5.5) R (87, 7.5, 5.5) S (73, 12, 15) T (69 , 12, 19) U(69, 9, 22) V(76, 5, 19). (5) The magnetic head according to any one of claims 1 to 4, wherein the soft magnetic layer has uniaxial anisotropy. (6) The magnetic head according to claim 1, wherein the soft magnetic layer has a crystal grain size of 300 Å or less.
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