JPH03209151A - Focusing method for glass substrate defect detecting optical system - Google Patents
Focusing method for glass substrate defect detecting optical systemInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業−Lの利用分野コ
この発明は、ガラス基板に対する欠陥検出光学系の合焦
方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of Industry-L] This invention relates to a method of focusing a defect detection optical system on a glass substrate.
[従来の技術コ
画像表示に使用される液晶パネルは、微小な各岐晶素子
に薄膜トランジスタが組み込まれた精巧で大型のものが
開発されている。その基板にはガラス板が用いられ、表
面に欠陥があるときは品質が劣化するので欠陥検査装置
により検査される。[Conventional technology] Large and sophisticated liquid crystal panels have been developed that are used for image display, with thin film transistors built into each microscopic crystal element. A glass plate is used as the substrate, and if there is a defect on the surface, the quality deteriorates, so it is inspected by a defect inspection device.
第3図(a)はガラス基板(以下単に基板という)に対
する欠陥検出光学系の基本構成を示す。図示しない光源
よりのレーザビームLが角度偏向され、集束レンズ2に
より集束されたスポットが、被検査の基板1に対して入
射角φで投光され、その表面を紙而に直角方向に走査す
る。表面に欠陥があるときはスポットが散乱し、散乱光
は反射角ε(ε〈φ)の方向に設けられた東光レンズ3
により集光され、スポットに対する焦点位置に設けられ
たスリット板4のスリットStを透過し、光電変換訟5
に受光されて検山電圧が出力される。なお、スリフトS
tはスポット以外の場所からの迷光を除去してS/Nを
向ヒするためのものである。FIG. 3(a) shows the basic configuration of a defect detection optical system for a glass substrate (hereinafter simply referred to as a substrate). A laser beam L from a light source (not shown) is angularly deflected, and a spot focused by a focusing lens 2 is projected onto the substrate 1 to be inspected at an incident angle φ, and scans the surface of the substrate 1 in a perpendicular direction. . When there is a defect on the surface, the spot will be scattered, and the scattered light will pass through the Toko lens 3 installed in the direction of the reflection angle ε (ε<φ).
The light is focused by , passes through the slit St of the slit plate 4 provided at the focal position with respect to the spot, and is converted into a photoelectric conversion case 5.
The light is received and the detection voltage is output. In addition, Thrift S
t is used to improve the S/N ratio by removing stray light from places other than the spot.
さて、液晶パネルにわいては岐品素子が形成された表曲
にイt7トする欠陥は品質を咀書する。しかし、裏面側
は!I1にバックライトを照射するのみであるので、)
1(板1l体の暇疵や付着した異物などは特別に大きく
ない限り門題とされない。 一方、レーザビームのスボ
,トは強度を強くするためにIl″f径を微小とされる
ので、その焦点深度はあまり深くない。従ってスポ,ト
の焦点をノヨ板1の表面に正確に合ブ、(1することが
必要である。このために合メ、((焦点合わせ)が行わ
れている。Now, when it comes to liquid crystal panels, defects that occur in the front panel on which the original device is formed will determine the quality. But the back side! Since it only irradiates the backlight to I1,)
1 (Defects and attached foreign matter on the plate 1l body are not considered as a problem unless they are particularly large. On the other hand, the diameter of the laser beam grooves is made small in order to increase the intensity, so Its depth of focus is not very deep.Therefore, it is necessary to precisely align the focus of the spot on the surface of the plate 1.For this purpose, focusing is performed. There is.
第31文I(a),(b)により従来の合焦方法を説明
する。入射角φのレーザビームLに対して、反射角φの
方1;11で11:.反射光LCを受光レンズ6により
集東してC C I)センサ7により受光する。基板1
が而常の場合はLcは図示の点aに受光されるとし、図
(b)に示すように基板1が七ド方向に移動すると、ス
ポットは点Pより点Qに移るのでLcが〜F行移動して
受光位置が点a′に変化する。この受光{−j’Z置の
変化fa(a’ −a)を計測して基板1のL下移動量
ΔZを計算し、基板1または検出光学系を移動させてス
ポットが合熊される。The conventional focusing method will be explained using the 31st sentence I(a) and (b). For a laser beam L with an incident angle φ, the reflection angle φ is 1:11 and 11:. The reflected light LC is focused by the light receiving lens 6 and received by the CCI) sensor 7. Board 1
In the normal case, Lc is received at point a in the figure, and as the substrate 1 moves in the direction of 7 degrees as shown in figure (b), the spot moves from point P to point Q, so Lc becomes ~F. The light receiving position changes to point a' by the row movement. This change in the received light {-j'Z position fa(a'-a) is measured to calculate the L downward movement amount ΔZ of the substrate 1, and the spots are aligned by moving the substrate 1 or the detection optical system.
[解決しようとする課題コ
七記したように液晶パネルの裏面の異物などは欠阿でな
いので検出する必要がなく、表面と裏面を区別して欠陥
を検出するために、上記の検出光学系に対して裏面側に
も対称的に検出光学系を設ける方法が行われる。[Problems to be Solved] As mentioned above, there is no need to detect foreign objects on the back side of the liquid crystal panel since they are not defects. A method is used in which a detection optical system is provided symmetrically also on the back side.
第4図(a)は基板の支持方法を示すもので、ノκ板1
は周辺の端部で支持只8により支持される。Figure 4(a) shows the method of supporting the board.
is supported by supports 8 at the edges of the periphery.
このためにノλ板のサイズが大きい場合は湾曲する。For this reason, if the size of the λ plate is large, it will curve.
上記の合イ、(凡方法は−トド方向の移動に対してはイ
f効であるが、湾曲したJA板には適用できない。The above method is effective for movement in the -tod direction, but cannot be applied to curved JA plates.
第4図(b)は湾曲した双板に対して上記の合焦力法を
適用した場合の問題点を説明するもので、nllllL
た基板の表面の一部分をとり碩斜角Δθの直線(平面)
をなすものとする。湾曲によりスボ7}は点Pから点Q
に移動してスポットはΔZ下降し、受光位1aはaから
a#に変化する。さらに傾斜角Δθにより正反射光Lc
の方向が角度2Δ0たけ変化するので、受光位置はその
分だけ余分に変化してa′となり、変化星としては(a
’−a)が計測される。なお、スポットとCCDセンサ
7の距離をRとすると(a −a“)は2RΔOであ
るが、これは(a’−a)に含まれ、これのみは計測で
きない。次に、このような正反射光Lcの方同変化とと
もに、散乱光に対する受光系の光軸Lsの方向が角度2
Δ0変化してスポットの焦点がスリッ}Stより外れて
alll定か不能となる問題がある。Figure 4(b) explains the problem when applying the above focusing force method to curved double plates.
Take a part of the surface of the board and draw a straight line (plane) with an oblique angle Δθ
shall be carried out. Due to the curvature, subbo 7} moves from point P to point Q.
The spot moves down by ΔZ, and the light receiving position 1a changes from a to a#. Furthermore, due to the inclination angle Δθ, the specularly reflected light Lc
Since the direction of changes by an angle of 2Δ0, the receiving position changes by that amount and becomes a', and as a changing star, (a
'-a) is measured. Note that if the distance between the spot and the CCD sensor 7 is R, then (a - a'') is 2RΔO, but this is included in (a' - a) and cannot be measured alone. As the direction of the reflected light Lc changes, the direction of the optical axis Ls of the light receiving system with respect to the scattered light changes at an angle of 2.
There is a problem in that the focus of the spot deviates from the slit (St) due to a change in Δ0, and it becomes impossible to determine everything.
以上において、Δ2′は第3図(b)におけるΔZとは
異なり、またΔθは未知である。従って、スボ,トの合
焦と、スリットstの位置合わせを行うことが不可能で
ある。In the above, Δ2' is different from ΔZ in FIG. 3(b), and Δθ is unknown. Therefore, it is impossible to focus the grooves and position the slits st.
この允明は以−Lに鑑みてなされたもので、Mtlf]
したノ人板に対するスボノトの合焦と、スリットの位置
合わせを確夫に行う方法を提供することを目的とするも
のである。This decision was made in view of the above, and Mtlf]
It is an object of the present invention to provide a method for reliably focusing the subonoto and positioning the slit with respect to the slit.
[課題を解決するための千段]
この発明は、レーザビームを集束したスポットをガラス
基板に投光して走査する投光系と、ガラスJス板の表面
の欠陥による散乱光を集光する集光レンズと、スポット
に対する集光レンズの焦点位1Hに設けられたスリット
、および集光された散乱光を受光する受光器よりなる受
光系とにより構成された欠陥検出光学系に対する合焦方
法である。[A Thousand Steps to Solve the Problem] The present invention provides a projection system that projects a focused laser beam onto a glass substrate and scans it, and a projection system that focuses scattered light due to defects on the surface of the glass substrate. A focusing method for a defect detection optical system consisting of a condenser lens, a slit provided at a focal position 1H of the condenser lens with respect to the spot, and a light receiving system comprising a light receiver that receives the condensed scattered light. be.
ガラス基板の表面および裏面によるレーザビームの正反
射光をそれぞれ受光し、ガラス基板の湾由lに起因する
上下移動および傾斜による受光位置の変化挺をそれぞれ
計測するCCDセンサを設ける。A CCD sensor is provided that receives the specularly reflected light of the laser beam from the front and back surfaces of the glass substrate, and measures changes in the light receiving position due to vertical movement and inclination caused by the curvature of the glass substrate.
計測された受光位置の変化量よりガラス基板の上ド移動
量および傾斜角を計算し、ガラス基板または欠陥検出光
学系を、計算された上下移動量だけ移動して表面に対す
る合フ.(蒐を行う。また、受光系のスリットを計算さ
れた傾斜句だけ角度移動してスリットを集光レンズの焦
点位置に位置合わせするものである。The amount of upward movement and inclination angle of the glass substrate is calculated from the measured amount of change in the light receiving position, and the glass substrate or defect detection optical system is moved by the calculated amount of vertical movement to align with the surface. In addition, the slit of the light receiving system is moved by the calculated angle of inclination to align the slit with the focal position of the condenser lens.
上記において、正常なガラス基板の表面に対すルレーサ
ビームの入射角、屯反射角をφ、ガラス基板の屈折中お
よび厚さをそれぞれn.d,表面および裏面の正反射光
の受光位同をa,b,ガラスμ板の消曲により変化した
受光位置をa’,b、およびスボノトと−1−記C C
I)センサ間の距離をRとして、Jヨ板の傾斜角Δ0
と−ヒト移動量Δ2とを次式:
Δ0=sln−’ [Δt÷( 2 d tanφ’
cosφ}コ
・・・・・・ (1)ただし、Δj= (b
’−b)− (a’ −a)・・・・・・(2)
Δz=(1−tanφ tanΔ0)
X[(a’ −a) −2R Δ θコcosφ
÷ sin2 φ・・・・・・(3)
sinφ’ = ( sinφ)÷n
− − (4 )により計算する。In the above, the incident angle and the reflection angle of the Luresa beam with respect to the surface of a normal glass substrate are φ, and the refraction angle and thickness of the glass substrate are n. d, the receiving position of the specularly reflected light on the front and back surfaces are a, b, the light receiving position changed due to the bending of the glass μ plate is a', b, and Suboto and -1- C C
I) When the distance between the sensors is R, the inclination angle Δ0 of the J-Yo plate is
and -human movement amount Δ2 are expressed by the following formula: Δ0=sln-' [Δt÷( 2 d tanφ'
cosφ}co
...... (1) However, Δj= (b
'-b)-(a'-a)...(2) Δz=(1-tanφ tanΔ0) X[(a'-a)-2R Δ θ cosφ
÷ sin2 φ・・・・・・(3) sinφ' = (sinφ)÷n
− − Calculate according to (4).
[作川コ
以上の計算式(1)〜〈4)により、基板の傾斜角ΔO
と]ニ−ド移動量ΔZとかえられるので、適当な移動機
構に楼り基板または検出光学系を上下にΔZ移動してス
ポットが合焦され、またスポットに対してスリット板を
2ΔOだけ角度移動してスリットが位置合わせされる。[Sakukawa: From the above calculation formulas (1) to (4), the tilt angle ΔO of the substrate
] Since the needle movement amount ΔZ can be changed, the spot is focused by moving the substrate or detection optical system up and down ΔZ using an appropriate moving mechanism, and the slit plate is also moved angularly by 2ΔO with respect to the spot. the slits are aligned.
ここで、上記の計算式(1)〜(4)は、湾曲した越板
の−・部分をとって平而と見倣し、これに対する正反射
光の方向の変化を図式解析してえられたもので、その解
析方法と結果は次の実施例において説明する。Here, the above calculation formulas (1) to (4) can be obtained by taking the - part of the curved plank, imitating it as it is, and graphically analyzing the change in the direction of specularly reflected light with respect to it. The analysis method and results will be explained in the next example.
[実施例]
弟1図(a),(b)により、まず湾曲により傾斜した
/,C板の表面に対する正反射光の方向を解析する。[Example] Using Figures 1 (a) and (b), first, the direction of specularly reflected light with respect to the surface of the C plate which is inclined due to curvature is analyzed.
i[常なノ^板の表面をS1湾■した基板の一部の平向
をS″とし、傾斜角をΔθとする。これに対して入射角
φでレーザビームLのスポットが投光される。前記した
第4図(b)と同様に、湾l11]によりスポットが点
PからQに移動し、それらの高さの差はΔZ′である。i[The plane of the part of the substrate whose surface is S1 bay■ is S'', and the inclination angle is Δθ.On the other hand, the spot of the laser beam L is projected at the incident angle φ. As in FIG. 4(b), the spot moves from point P to point Q due to the bay l11], and the difference in height between them is ΔZ'.
IE反射角φの方向の正反射光Lcは、表面SによりC
CDの点aに、また平面S′により点a′に受光される
。いま、Δθ=0とした場合の点Qの正反射光の受光位
置をa#で表し、点Qより線分Paに対して垂線をドし
て交点をTとすると線分TQの長さは(a”−a)に等
しい。また、図(b)の詳細図で判明するように、点P
における表面Sの法apvとPQのなす角はφで、PQ
とTQのなす角は(2φ−π/2)であるから(a”−
a)とΔz’ (=PV)の間には次の関係式が成立
する。The specularly reflected light Lc in the direction of the IE reflection angle φ is reflected by the surface S
The light is received at point a of CD and at point a' by plane S'. Now, when Δθ=0, the receiving position of the specularly reflected light at point Q is represented by a#, and if a perpendicular line is drawn from point Q to line segment Pa and the intersection is T, the length of line segment TQ is (a”-a). Also, as can be seen in the detailed view of figure (b), point P
The angle between PQ and the modulus apv of surface S at is φ, and PQ
Since the angle between and TQ is (2φ-π/2), (a”-
The following relational expression holds between a) and Δz' (=PV).
(a”−a)=TQ=PQ sin2φ=Δ2′÷co
sφXsjn 2φ
・・・・・・(5)
この場合、正反射光Lcの変化にはさらに(a−a″)
=2RΔθが加わり、桔局、
(a’−a)=Δzsin2φ÷COSφ+2RΔθ
・・・・・・(6)
となる。ここで、RはスポットとCCDセンサ間の距離
で既知であり、(a a)は計測される芥である。(a”-a)=TQ=PQ sin2φ=Δ2′÷co
sφXsjn 2φ (5) In this case, the change in the specularly reflected light Lc is also caused by
=2RΔθ is added, (a'-a)=Δzsin2φ÷COSφ+2RΔθ
・・・・・・(6)
becomes. Here, R is the known distance between the spot and the CCD sensor, and (a a) is the waste to be measured.
なお、散乱光に対する受光系の光軸LSの方向が角度2
Δ0変化することは前記の通りである。Note that the direction of the optical axis LS of the light receiving system with respect to the scattered light is at an angle of 2
As mentioned above, Δ0 changes.
スポットを合焦するためには点QからPに戻すことが必
要で、基板または検出光学系のいずれかを上下に移動す
るが、その移動潰はΔ2′でなくて図示のΔ2でよい。In order to focus the spot, it is necessary to return from point Q to P, and either the substrate or the detection optical system is moved up and down, but the displacement may be Δ2 as shown in the figure instead of Δ2'.
この差は図により、ΔZ −Δz=VQtanΔθ
:PQsinφtanΔθ
=Δz’ tanφtanΔθ
これを変形して、
Δz=(1−tanφtanΔ0)Δ2′かえられ、さ
らに式(5)よりΔ2′を求めて式(3)かえられる。This difference is shown in the figure as ΔZ - Δz=VQtanΔθ :PQsinφtanΔθ =Δz' tanφtanΔθ Transforming this, Δz=(1−tanφtanΔ0)Δ2' is changed, and then Δ2' is calculated from equation (5) and equation (3) I can be hatched.
Δz=(1−tanφ tanΔ0)
X[(a’ −a) −2R Δ θコcosφ
÷ sln2 φ・・・・・・(3)
ここでΔθは木知であるか、これが求められたものとし
、式(3)により計算されたΔ2だけ基板または検出光
学系を上下移動すれば点QはPに戻る。しかし)λ板は
傾斜したままであるから、光?LsをスリットStに位
置合わせすることがなお必要である。このためにはスポ
ットとスリット板4の距離をDとし、スリット板を光軸
と直角方向に2DΔ0移動する。Δz=(1−tanφ tanΔ0) X[(a' −a) −2R Δθ cosφ
÷ sln2 φ...(3) Here, it is assumed that Δθ is a tree or has been found, and if the substrate or detection optical system is moved up and down by Δ2 calculated by equation (3), the point can be reached. Q returns to P. However, since the λ plate remains tilted, is it light? It is still necessary to align Ls with slit St. For this purpose, the distance between the spot and the slit plate 4 is set to D, and the slit plate is moved by 2DΔ0 in a direction perpendicular to the optical axis.
この発明においては、Δ0を求めるために表面のほか裏
面の正反射光を検出する方法をとるもので、これを第2
図(a).(b)および(C)により説明する。図(a
)において正常な基板の場合、投光されたレーザビーム
Lは表面Sの点Qで基板の屈折’I nで屈折してFI
I折角φ′となり、裏面Bにより反射されて点Q″より
射出され、点bに受光される。正反射光1.,c2の方
向は点Pよりの正反射光Lcl と同一・である。ノ■
(板の湾曲によりLドに移動して傾斜した表面S′と裏
面B′による屈折反射光Lc2は、もとの点Q″よりΔ
Z#だけ下將した点Q′より射出されて点b′に受光さ
れ、(b’−b)が計測される。いま仮に点Qと同一の
高さの点Kより正反射光Lc2が射出されたものとする
と、受光位置は点b#となる。この場合の点Q′と点K
の品さの差は(Δ2′−Δ2“)であり、これは(b’
−b” )(=Δtとする)に等しい。ただし、(b
’−b″)は計測できない。In this invention, in order to find Δ0, a method is used to detect specularly reflected light from the back surface as well as the front surface, and this is detected by the second
Figure (a). This will be explained using (b) and (C). Figure (a
), in the case of a normal substrate, the projected laser beam L is refracted at point Q on the surface S by the refraction 'I n of the substrate, and then FI
The specularly reflected light beams 1. and c2 have the same direction as the specularly reflected light beams Lcl from the point P.ノ■
(Due to the curvature of the plate, the refracted and reflected light Lc2 from the front surface S' and back surface B', which have moved to L and tilted, is Δ from the original point Q''.
Light is emitted from point Q', which is lowered by Z#, is received at point b', and (b'-b) is measured. Assuming that specularly reflected light Lc2 is emitted from point K at the same height as point Q, the light receiving position will be point b#. Point Q' and point K in this case
The difference in quality is (Δ2'-Δ2"), which is (b'
−b”) (=Δt). However, (b
'-b'') cannot be measured.
これを求めるには、Δtが傾斜角Δθのために表面S′
が点QからQ′までの間に下降した距離に対応すること
に着目する。図(C)において、点Kから線分Q’ b
’に垂線をわろして交点をJとすると、三角形KJQ’
によりΔtとΔ0の関係が求められる。To find this, Δt is the inclination angle Δθ, so surface S'
Note that corresponds to the distance descended from point Q to Q'. In figure (C), from point K to line segment Q' b
Draw a perpendicular line to ' and let the intersection point be J, then triangle KJQ'
The relationship between Δt and Δ0 can be determined by:
sinΔO=Δt÷(QQ’ cask) −−(
7)ただし、k=π/2−φ−Δ0=π/2−φであり
、基板の厚さをdとすると、QQ’ :2d tan
φ′であるから、式(7)は次式となる。sinΔO=Δt÷(QQ' cask) --(
7) However, if k=π/2-φ-Δ0=π/2-φ and the thickness of the substrate is d, then QQ': 2d tan
Since φ', equation (7) becomes the following equation.
sinΔO=Δt÷(2dtanφ’ sinφ)−
(8)ここで、入射角φと屈折角φ′には基板の屈折十
をnとして、
sinφ’ = ( sinφ〉÷n =(
4)の関係がある。sinΔO=Δt÷(2dtanφ' sinφ)−
(8) Here, the incident angle φ and the refraction angle φ' are sinφ' = (sinφ〉÷n = (
4) There is a relationship.
次にΔtは疋反射光Lc1 とLc2のそれぞれの受光
f1γ置の変化m(b’ b)と(a’ −a)のZ
iより求めることができる。その理山は前記したように
、Δtは表面S′の傾斜による点QとQ′に高さの差に
より生じたからである。よって、Δt= (b’−b)
− (a’ −a) ・−={2)である。Next, Δt is the change m (b' b) and (a' - a) Z in the reception f1γ position of the reflected lights Lc1 and Lc2, respectively.
It can be found from i. The reason for this is that, as described above, Δt is caused by the difference in height between points Q and Q' due to the slope of surface S'. Therefore, Δt= (b'-b)
- (a' -a) ·-={2).
以上を整理すると求めるΔ0の式:
Δ0=sln−’ [Δt÷( 2 d tanφ’
cosφ)コ・・・・・・0)
かえられる。Rearranging the above, the formula for Δ0 is: Δ0=sln-' [Δt÷( 2 d tanφ'
cosφ) ko...0) Changed.
以上によりえられたこの発明における計算式(1)〜(
4)をガラス基板の合焦に適用する場合には、スボント
の走企に対応して基板の各点に対する計算を凰速に行う
ことが必要である。このためには、rめ式(1)による
Δtに対するΔθのデータと、式(3)によるΔOおよ
び(a’−a)に対するΔZのデータとを、それぞれR
OMテーブルに記憶しておき、計i1tl1されたΔt
に対してΔ0を求め、ついでΔOと計測された(a’−
a)とによりΔZを求める方法が打効である。また、ス
リット板の移動距#t2DΔ0もROMを利用すること
がよい。なおJ&板または傾斜光学系の−Lド移動に対
する機構、およびスリットの移動機構については省路す
る。Calculation formulas (1) to (1) in this invention obtained from the above
When applying 4) to focusing on a glass substrate, it is necessary to quickly perform calculations for each point on the substrate in response to the movement of the lens. For this purpose, data of Δθ with respect to Δt according to formula (1) and data of ΔZ with respect to ΔO and (a'-a) according to formula (3) are set to R.
Δt stored in the OM table and totaled by i1tl1
Δ0 was calculated for Δ0, and then ΔO was measured (a'-
The method of determining ΔZ using a) is effective. Further, it is preferable to use the ROM for the moving distance #t2DΔ0 of the slit plate. Note that the mechanism for -L movement of the J& plate or the tilted optical system and the mechanism for moving the slit will be omitted.
[允明の効果コ
以Lの説明により明らかなように、この発明によるガラ
ス基板欠陥検出光学系の合焦方法においては、湾曲した
基板によるスポットの移動に対して表面および裏面によ
る正反射光の方向の変化が図式解析され、えられた計算
式により基板の上下移動距離と傾斜角とが、正反射光の
CCDセンサにおける受光位置の変化亀より計算され、
基板に対するスポットの合焦と、スポットに対するスリ
ットの位置合わせが可能とされるもので、これにより液
晶パネルのガラス基板に対する欠陥検出光学系の検出デ
ータの信頼性が向上される効果には大きいものがある。[Kanmei's effect] As is clear from the explanation below, in the focusing method of the glass substrate defect detection optical system according to the present invention, the specularly reflected light from the front and back surfaces is affected by the movement of the spot due to the curved substrate. The change in direction is graphically analyzed, and the vertical movement distance and inclination angle of the substrate are calculated from the change in the light receiving position of the CCD sensor of the specularly reflected light using the obtained calculation formula.
It is possible to focus the spot on the substrate and align the slit with respect to the spot, which has a great effect on improving the reliability of the detection data of the defect detection optical system for the glass substrate of the liquid crystal panel. be.
第1図(a)および(b)は、この発明によるガラス基
板欠陥検出光学系の合焦方法において、湾曲したガラス
)κ板の表面による正反射光の方向変化に対する解析図
、第2図(a),(b)および(c)は、第1図(a)
,(b)に対応したガラス基板の裏面によるIE反射光
の方向変化に対する解析図、第3図(a)および(b)
は、ガラス基板に対する欠陥検出光学系の基本構成図、
および基板に対するレーザスポットの従来の合焦方法の
説明図、第4図(a)および(b)は、ガラス基板のM
tthとスポットの合焦の問題点の説明図である。
1・・・ガラス基板、 2・・・集束レンズ、3
・・・集光レンズ、 4・・・スリット板、5・
・・光電変換器、 6・・・集束レンズ、7・・・
C C I)センサ、 8・・・支持貝、L・・・
レーザビーム、 LCl ,LC2・・・正反射光、
Ls・・・光軸、 φ・・・入射角、11・
,反射角、ε・・・反射角、 φ′・・・kj
{折角、Δ0・・・基板の類斜角、 d・・・基板の厚
さ、n・・・基板の屈折率、 R,D・・・距離。
特許出頼人1(a) and 1(b) are analytical diagrams for the direction change of specularly reflected light due to the surface of a curved glass κ plate in the focusing method of the glass substrate defect detection optical system according to the present invention, and FIG. a), (b) and (c) are shown in Fig. 1(a).
, (b) An analysis diagram of the direction change of the IE reflected light due to the back surface of the glass substrate, Fig. 3 (a) and (b)
is a basic configuration diagram of the defect detection optical system for glass substrates,
FIGS. 4(a) and 4(b) are explanatory views of the conventional method of focusing the laser spot on the substrate
FIG. 3 is an explanatory diagram of problems with tth and spot focusing. 1... Glass substrate, 2... Focusing lens, 3
...Condenser lens, 4.Slit plate, 5.
...Photoelectric converter, 6...Focusing lens, 7...
C C I) Sensor, 8... Support shell, L...
Laser beam, LCl, LC2... specular reflection light,
Ls...Optical axis, φ...Incidence angle, 11.
, reflection angle, ε...reflection angle, φ'...kj
{Reflection angle, Δ0...Solid angle of the substrate, d...Thickness of the substrate, n...Refractive index of the substrate, R, D...Distance. Patent source
Claims (1)
投光して走査する投光系と、該ガラス基板の表面の欠陥
による散乱光を集光する集光レンズと、該スポットに対
する該集光レンズの焦点位置に設けられたスリット、お
よび該集光された散乱光を受光する受光器よりなる受光
系とにより構成された欠陥検出光学系において、上記ガ
ラス基板の表面および裏面による上記レーザビームの正
反射光をそれぞれ受光し、上記ガラス基板の湾曲に起因
する上下移動および傾斜による受光位置の変化量をそれ
ぞれ計測するCCDセンサを設け、該計測された変化量
より上記ガラス基板の上下移動量および傾斜角を計算し
、上記ガラス基板または上記欠陥検出光学系を該上下移
動量だけ移動して上記表面に対する上記スポットの合焦
を行い、かつ上記受光系のスリットを該傾斜角だけ角度
移動して上記集光レンズの焦点位置に位置合わせするこ
とを特徴とする、ガラス基板欠陥検出光学系の合焦方法
。(1) A projection system that focuses a laser beam onto a spot and projects it onto a glass substrate to scan it, a condensing lens that condenses light scattered by defects on the surface of the glass substrate, and a condensing lens that condenses light scattered by defects on the surface of the glass substrate; In a defect detection optical system constituted by a slit provided at the focal point of a lens and a light receiving system including a light receiver that receives the focused scattered light, the laser beam is detected by the front and back surfaces of the glass substrate. A CCD sensor is provided that receives each specularly reflected light and measures the amount of change in the light receiving position due to the vertical movement and tilt caused by the curvature of the glass substrate, and from the measured amount of change, the amount of vertical movement and the amount of vertical movement of the glass substrate is determined. Calculating the tilt angle, moving the glass substrate or the defect detection optical system by the vertical movement amount to focus the spot on the surface, and moving the slit of the light receiving system by the tilt angle. A method for focusing a glass substrate defect detection optical system, the method comprising: aligning the focal point of the condensing lens.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP390890A JPH03209151A (en) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | Focusing method for glass substrate defect detecting optical system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP390890A JPH03209151A (en) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | Focusing method for glass substrate defect detecting optical system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03209151A true JPH03209151A (en) | 1991-09-12 |
Family
ID=11570288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP390890A Pending JPH03209151A (en) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | Focusing method for glass substrate defect detecting optical system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03209151A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005201887A (en) * | 2003-12-16 | 2005-07-28 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | Method and apparatus for inspecting glass substrate, and manufacturing method of display panel |
TWI640748B (en) * | 2017-10-26 | 2018-11-11 | 頂瑞機械股份有限公司 | Method for examining a glass |
-
1990
- 1990-01-11 JP JP390890A patent/JPH03209151A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005201887A (en) * | 2003-12-16 | 2005-07-28 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | Method and apparatus for inspecting glass substrate, and manufacturing method of display panel |
JP4662424B2 (en) * | 2003-12-16 | 2011-03-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Glass substrate inspection method and inspection apparatus, and display panel manufacturing method |
TWI640748B (en) * | 2017-10-26 | 2018-11-11 | 頂瑞機械股份有限公司 | Method for examining a glass |
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