JPH03208399A - Ｉｃ位置決め装置 - Google Patents
Ｉｃ位置決め装置Info
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- JPH03208399A JPH03208399A JP2001482A JP148290A JPH03208399A JP H03208399 A JPH03208399 A JP H03208399A JP 2001482 A JP2001482 A JP 2001482A JP 148290 A JP148290 A JP 148290A JP H03208399 A JPH03208399 A JP H03208399A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract 1
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はＩＣ（集積回路）のアウターリードを、プリン
ト基板上のパターンに全リードを同時に半田付けするＩ
Ｃ半田付は装置等に適用して好適なＩＣ位置決め装置に
関する。
ト基板上のパターンに全リードを同時に半田付けするＩ
Ｃ半田付は装置等に適用して好適なＩＣ位置決め装置に
関する。
［従来の技術］
近年、ＩＣリードはＩＣ自体の微細化および高密度化に
伴い、その数が急激に増加し、またリード幅およびリー
ド間隔も著しく狭くなってきていることから、プリント
基板への半田付は実装に際しては、高い位置決め精度が
要求されている。
伴い、その数が急激に増加し、またリード幅およびリー
ド間隔も著しく狭くなってきていることから、プリント
基板への半田付は実装に際しては、高い位置決め精度が
要求されている。
第２図はＩＣ半田付は装置に用いられている従来のＩＣ
位置決め装置を示す模式図である。同図において、１は
前後左右方向に移動調整されると共に回転されるステー
ジ、２はステージ１上に設置されたプリント基板、３は
ステージ１の上方に上下動自在に配置されてＩＣ４を吸
着保持し、これをプリント基板２上に半田付は等により
接合するヒーターツール、５はプリント基板１とＩＣ４
との間に配置されたアライメント光学系で、このアライ
メント光学系５はハーフミラ−６、ハーフミラ−６の両
側に配設された全反射ミラー７および顕微鏡８とで構成
されている。ＩＣ４を光源１２からの光によって照射す
ると、その反射光９はハーフミラ−６に入射し、反射光
１０と透過光１）に２分割される。反射光１０は全反射
ミラー７に当たって反射し、同一光路を通って再びハー
フミラ−６に入射する。そしてこの反射光１０はハーフ
ミラ−６を透過して顕微鏡８に入射し、ＩＣ４の像をそ
のスクリーン上に結像させる。一方、プリント基板２を
光源１３からのひかりで照射すると、その反射光１）は
ハーフミラ−６に入射してその一部が透過し、残りが反
射して前記顕微鏡８に入射し、プリント基板２の像をス
クリーン上に結像させる。したがって、スクリーン上に
はプリント基板２とＩＣ４の像が合成され、そのずれを
視認しながらステージ１を移動調整してプリント基板２
とＩＣ４の像を一致させることで、位置合わせが行われ
る０位置合わせが完了すると、アライメント光学系５を
プリント基板２の上方から側方に退避させて、ヒーター
ツール３を下降させ、ＩＣ４をプリント基板２上に所定
圧にて加圧し、加熱することで接合される。
位置決め装置を示す模式図である。同図において、１は
前後左右方向に移動調整されると共に回転されるステー
ジ、２はステージ１上に設置されたプリント基板、３は
ステージ１の上方に上下動自在に配置されてＩＣ４を吸
着保持し、これをプリント基板２上に半田付は等により
接合するヒーターツール、５はプリント基板１とＩＣ４
との間に配置されたアライメント光学系で、このアライ
メント光学系５はハーフミラ−６、ハーフミラ−６の両
側に配設された全反射ミラー７および顕微鏡８とで構成
されている。ＩＣ４を光源１２からの光によって照射す
ると、その反射光９はハーフミラ−６に入射し、反射光
１０と透過光１）に２分割される。反射光１０は全反射
ミラー７に当たって反射し、同一光路を通って再びハー
フミラ−６に入射する。そしてこの反射光１０はハーフ
ミラ−６を透過して顕微鏡８に入射し、ＩＣ４の像をそ
のスクリーン上に結像させる。一方、プリント基板２を
光源１３からのひかりで照射すると、その反射光１）は
ハーフミラ−６に入射してその一部が透過し、残りが反
射して前記顕微鏡８に入射し、プリント基板２の像をス
クリーン上に結像させる。したがって、スクリーン上に
はプリント基板２とＩＣ４の像が合成され、そのずれを
視認しながらステージ１を移動調整してプリント基板２
とＩＣ４の像を一致させることで、位置合わせが行われ
る０位置合わせが完了すると、アライメント光学系５を
プリント基板２の上方から側方に退避させて、ヒーター
ツール３を下降させ、ＩＣ４をプリント基板２上に所定
圧にて加圧し、加熱することで接合される。
［発明が解決しようとする課題］
ところで、このようなハーフミラ一方式による従来のＩ
Ｃ位置決め装置においては、プリント基板２によって反
射されハーフミラ−６を介して顕微鏡８に入射する光は
元の光量の半分に減少する。
Ｃ位置決め装置においては、プリント基板２によって反
射されハーフミラ−６を介して顕微鏡８に入射する光は
元の光量の半分に減少する。
これに対して、ＩＣ４によって反射された光９はハーフ
ミラ−６で反射される際、光量を１／２とされた反射光
１０は全反射ミラー７に当なり戻ってくると更にハーフ
ミラ−６を透過する際に２分されるため、顕微鏡８に入
射する光量は元の光量の１／４に減少する。したがって
、光の損失が大きく、スクリーン上の像が著しく低輝度
になると云う欠点があった。
ミラ−６で反射される際、光量を１／２とされた反射光
１０は全反射ミラー７に当なり戻ってくると更にハーフ
ミラ−６を透過する際に２分されるため、顕微鏡８に入
射する光量は元の光量の１／４に減少する。したがって
、光の損失が大きく、スクリーン上の像が著しく低輝度
になると云う欠点があった。
この場合、肉眼での直接視認においては位置合わせに何
とか支障ない明るさを確保し得るが、ＣＣＤ（電荷結合
素子）カメラによって像を撮像し、これを電気信号に変
換してＣＲＴ（陰極線管）で表示する場合は、十分な輝
度が得られず極めて見にくいものである。
とか支障ない明るさを確保し得るが、ＣＣＤ（電荷結合
素子）カメラによって像を撮像し、これを電気信号に変
換してＣＲＴ（陰極線管）で表示する場合は、十分な輝
度が得られず極めて見にくいものである。
このため、大光量の光源を用いて映像輝度を上げること
も考えられるが、アライメント光学系５がプリント基板
２とＩＣ４との間に位置しているため、照明を斜め方向
から当てなければならず、光量を均一にすることが困難
であり、実用的ではない、また、プリント基板２とＩＣ
４との反射率の相違により、両者の輝度を等しくするに
は光量を変える必要があり、２系統の照明を用意する必
要がある。
も考えられるが、アライメント光学系５がプリント基板
２とＩＣ４との間に位置しているため、照明を斜め方向
から当てなければならず、光量を均一にすることが困難
であり、実用的ではない、また、プリント基板２とＩＣ
４との反射率の相違により、両者の輝度を等しくするに
は光量を変える必要があり、２系統の照明を用意する必
要がある。
したがって、本発明は上記したような従来の問題点に鑑
みてなされたもので、その目的とするところは、光の損
失が少なく、高輝度の像が得られ、位置合わせを容易性
つ高精度に行い得るようにしたＩＣ位置決め装置を提供
するものである。
みてなされたもので、その目的とするところは、光の損
失が少なく、高輝度の像が得られ、位置合わせを容易性
つ高精度に行い得るようにしたＩＣ位置決め装置を提供
するものである。
［課題を解決するための手段Ｊ
本発明は上記目的を達成するためになされたもので、そ
の第１の発明は、ステージ上にａ！置された基板とこの
基板の上方に配置されたＩＣとの位置決めを行うＩＣ位
置決め装置において、第１の光路中に配設され基板のあ
る定められた第１の部位のパターン像を形成する第１の
光学素子群と、第２の光路中に配設され前記ＩＣの前記
第１の部位に対応する部分の像を反転させて形成する第
２の光学素子群と、前記第１および第２の光学素子群に
よって形成された前記第１の部位のパターン像とＩＣ像
とを同一視野に合成する光学素子とを備えた第１のアラ
イメント光学系と、第１の光路中に配設され基板のある
定められた第２の部位のパターン像を形成する第１の光
学素子群と、第２の光路中に配設され前記ＩＣの前記第
２の部位に対応する部分の像を反転させて形成する第２
の光学素子群と、前記第１および第２の光学素子群によ
って形成された前記第２の部位のパターン像とＩＣ像と
を同一視野に合成する光学素子とを備えた第２のアライ
メント光学系を備え、前記第１および第２のアライメン
ト光学系により合成された像を表示手段によって表示す
るようにしたものである。
の第１の発明は、ステージ上にａ！置された基板とこの
基板の上方に配置されたＩＣとの位置決めを行うＩＣ位
置決め装置において、第１の光路中に配設され基板のあ
る定められた第１の部位のパターン像を形成する第１の
光学素子群と、第２の光路中に配設され前記ＩＣの前記
第１の部位に対応する部分の像を反転させて形成する第
２の光学素子群と、前記第１および第２の光学素子群に
よって形成された前記第１の部位のパターン像とＩＣ像
とを同一視野に合成する光学素子とを備えた第１のアラ
イメント光学系と、第１の光路中に配設され基板のある
定められた第２の部位のパターン像を形成する第１の光
学素子群と、第２の光路中に配設され前記ＩＣの前記第
２の部位に対応する部分の像を反転させて形成する第２
の光学素子群と、前記第１および第２の光学素子群によ
って形成された前記第２の部位のパターン像とＩＣ像と
を同一視野に合成する光学素子とを備えた第２のアライ
メント光学系を備え、前記第１および第２のアライメン
ト光学系により合成された像を表示手段によって表示す
るようにしたものである。
また、第２の発明は、ステージ上に載置された基板とこ
の基板の上方に配置されたＩＣとの位置決めを行うＩＣ
位置決め装置において、第１の光路中に配設され基板の
ある定められた第１の部位のパターン像を形成する第１
の光学素子群と、第２の光路中に配設され前記ＩＣの前
記第１の部位に対応する部分の像を反転させて形成する
第２の光学素子群と、前記第１および第２の光学素子群
によって形成された前記第１の部位のパターン像とＩＣ
像とを同一視野に合成する光学素子とを備えた第１のア
ライメント光学系と、該アライメント光学系を前記基板
のある定められた第２の部位および前記ＩＣの前記第２
の部位に対応する部分に移動させる摺動機構とを備え、
前記第１および第２の部位においてそれぞれ合成された
像を表示手段によって合成して表示するようにしたもの
である。
の基板の上方に配置されたＩＣとの位置決めを行うＩＣ
位置決め装置において、第１の光路中に配設され基板の
ある定められた第１の部位のパターン像を形成する第１
の光学素子群と、第２の光路中に配設され前記ＩＣの前
記第１の部位に対応する部分の像を反転させて形成する
第２の光学素子群と、前記第１および第２の光学素子群
によって形成された前記第１の部位のパターン像とＩＣ
像とを同一視野に合成する光学素子とを備えた第１のア
ライメント光学系と、該アライメント光学系を前記基板
のある定められた第２の部位および前記ＩＣの前記第２
の部位に対応する部分に移動させる摺動機構とを備え、
前記第１および第２の部位においてそれぞれ合成された
像を表示手段によって合成して表示するようにしたもの
である。
［作用］
本発明において、基板のある定められた第１、第２の部
位のパターン像は、それぞれ第１、第２のアライメント
光学系の第１の光路中に配設された第１の光学素子群に
よって形成される。一方、ＩＣの基板の前記ある定めら
れた第１、第２の部位に対応する部分の像は、それぞれ
第１、第２のアライメント光学系の第２の光路中に配設
された第２の光学素子群によって反転形成される。そし
て、これらのパターン像とＩＣ像は光学素子によって各
アライメント光学系ごとに同一視野に合成され、この合
成された像が表示手段によって表示される。この合成像
のずれは、ステージの移動調整によって補正され、プリ
ント基板とＩＣの位置合わせがなされる。
位のパターン像は、それぞれ第１、第２のアライメント
光学系の第１の光路中に配設された第１の光学素子群に
よって形成される。一方、ＩＣの基板の前記ある定めら
れた第１、第２の部位に対応する部分の像は、それぞれ
第１、第２のアライメント光学系の第２の光路中に配設
された第２の光学素子群によって反転形成される。そし
て、これらのパターン像とＩＣ像は光学素子によって各
アライメント光学系ごとに同一視野に合成され、この合
成された像が表示手段によって表示される。この合成像
のずれは、ステージの移動調整によって補正され、プリ
ント基板とＩＣの位置合わせがなされる。
この場合、プリント基板のパターン像とＩＣ＠を得るた
めにプリント基板とＩＣに対してそれぞれアライメント
光学系を別設しているので、ハーフミラ−を含まない光
学素子でアライメント光学系を構成することができる。
めにプリント基板とＩＣに対してそれぞれアライメント
光学系を別設しているので、ハーフミラ−を含まない光
学素子でアライメント光学系を構成することができる。
［実施例］
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明に係るＩＣ位置決め装置の一実施例を示
す模式図である。なお、図中第２図と同一構成部品、部
分については同一符号を以て示し、その説明を省略する
。同図において、２０はプリント基板２を照射する光源
、２１はＩＣ４を照射する光源、２２はステージ１上に
載置されたプリント基板２とこのＩＣ４との位置決めを
行う第１のアライメント光学系である。第１のアライメ
ント光学系２２は、第１の光路２３中に配設されプリン
ト基板２のある定められた第１の部位Ａ１のパターン像
を形成する第１の光学素子群２４と、第２の光路２５中
に配設され前記ＩＣ４の前記第１の部位ＡＩに対応する
部位Ｂ１の像を反転させて形成する第２の光学素子群２
６と、前記第１および第２の光学素子群２４．２６によ
って形成された基板パターン像とＩＣ像とを収束し、同
一視野に合成する光学素子２７とで構成されている。
す模式図である。なお、図中第２図と同一構成部品、部
分については同一符号を以て示し、その説明を省略する
。同図において、２０はプリント基板２を照射する光源
、２１はＩＣ４を照射する光源、２２はステージ１上に
載置されたプリント基板２とこのＩＣ４との位置決めを
行う第１のアライメント光学系である。第１のアライメ
ント光学系２２は、第１の光路２３中に配設されプリン
ト基板２のある定められた第１の部位Ａ１のパターン像
を形成する第１の光学素子群２４と、第２の光路２５中
に配設され前記ＩＣ４の前記第１の部位ＡＩに対応する
部位Ｂ１の像を反転させて形成する第２の光学素子群２
６と、前記第１および第２の光学素子群２４．２６によ
って形成された基板パターン像とＩＣ像とを収束し、同
一視野に合成する光学素子２７とで構成されている。
第１−の光学素子群２４は直角プリズム２８と、対物レ
ンズ２９とで構成され、第２の光学素子群２６は直角プ
リズム３０と、対物レンズ３１と、梯形プリズム３２と
で構成されている。像合成用の光学素子２７は第１およ
び第２の光路２３．２５に対して共通に配設され前記基
板パターン像と１Ｃ＠をＣＣＤ素子３３の一点上に結像
させるリレーレンズによって構成されている。
ンズ２９とで構成され、第２の光学素子群２６は直角プ
リズム３０と、対物レンズ３１と、梯形プリズム３２と
で構成されている。像合成用の光学素子２７は第１およ
び第２の光路２３．２５に対して共通に配設され前記基
板パターン像と１Ｃ＠をＣＣＤ素子３３の一点上に結像
させるリレーレンズによって構成されている。
この場合、プリント基板２のＡ１部は上方から見た像で
あるのに対して、ＩＣ４のＢ１部は下方から見た像のた
め、そのままでは合成しても重す合わせることができず
、そのため前記第２の光学素子群２６の梯形プリズム３
２によってＢ１部のＩＣ像を反転させるようにしている
。
あるのに対して、ＩＣ４のＢ１部は下方から見た像のた
め、そのままでは合成しても重す合わせることができず
、そのため前記第２の光学素子群２６の梯形プリズム３
２によってＢ１部のＩＣ像を反転させるようにしている
。
第１−のアライメント光学系２２の倍率はで与えられる
。
。
但し、ｆは、プリント基板２から対物レンズ２９までの
光路長、Ｆはリレーレンズ２７からＣＣＤ素子３３まで
の光路長である。例えば、ｆ−６０關、Ｆ ＝ ３００
ｍ−に設定すると、倍率５倍のアライメント光学系を
形成し得る。
光路長、Ｆはリレーレンズ２７からＣＣＤ素子３３まで
の光路長である。例えば、ｆ−６０關、Ｆ ＝ ３００
ｍ−に設定すると、倍率５倍のアライメント光学系を
形成し得る。
前記ＣＣＤ素子３３上に結像された基板パターン像とＩ
Ｃ像は、電気信号に変換され、ＣＲＴ３４の画面上に表
示される。
Ｃ像は、電気信号に変換され、ＣＲＴ３４の画面上に表
示される。
３５はステージ１上に載置されたプリント基板２とこの
ＩＣ４との位置決めを行う第２のアライメント光学系で
、このアライメント光学系３５は前記第１のアライメン
ト光学系２２と同一に構成されて左右対称的に配設され
るもので、第１の光路３６中に配設されプリント基板２
のある定められた第２の部位Ａ２のパターン像を形成す
る第１の光学素子群３７と、第２の光路３８中に配設さ
れ前記ＩＣ４の前記第２の部位Ａ２に対応する部位Ｂ２
の像を反転させて形成する第２の光学素子群３９と、前
記第１および第２の光学素子群３７．３９によって形成
された基板パターン像とＩＣ像とを収束し同一視野に合
成する光学素子４０とで構成されている。第１の光学素
子群３７は直角プリズム４１と、対物レンズ４２とで構
成され、第２の光学素子群３９は直角プリズム４３と、
対物レンズ４４と、梯形プリズム４５とで構成されてい
る。像合成用の光学素子４０は第１および第２の光路３
６．３８に対して共通に配設され前記基板パターン像と
ＩＣ（ｌをＣＣＤ素子４６の一点上に結像させるリレー
レンズによって構成されている。前記ＣＣＤ素子４６上
に結像された基板パターン像とＩＣ像は、電気信号に変
換され、前記ＣＲＴ３４の画面上に表示される。
ＩＣ４との位置決めを行う第２のアライメント光学系で
、このアライメント光学系３５は前記第１のアライメン
ト光学系２２と同一に構成されて左右対称的に配設され
るもので、第１の光路３６中に配設されプリント基板２
のある定められた第２の部位Ａ２のパターン像を形成す
る第１の光学素子群３７と、第２の光路３８中に配設さ
れ前記ＩＣ４の前記第２の部位Ａ２に対応する部位Ｂ２
の像を反転させて形成する第２の光学素子群３９と、前
記第１および第２の光学素子群３７．３９によって形成
された基板パターン像とＩＣ像とを収束し同一視野に合
成する光学素子４０とで構成されている。第１の光学素
子群３７は直角プリズム４１と、対物レンズ４２とで構
成され、第２の光学素子群３９は直角プリズム４３と、
対物レンズ４４と、梯形プリズム４５とで構成されてい
る。像合成用の光学素子４０は第１および第２の光路３
６．３８に対して共通に配設され前記基板パターン像と
ＩＣ（ｌをＣＣＤ素子４６の一点上に結像させるリレー
レンズによって構成されている。前記ＣＣＤ素子４６上
に結像された基板パターン像とＩＣ像は、電気信号に変
換され、前記ＣＲＴ３４の画面上に表示される。
この場合、ＣＲＴ３４の画面は左右２分割され、その一
方に第１のアライメント光学系２２による合成像が表示
され、他方に第２のアライメント光学系３５による合成
像が表示される。
方に第１のアライメント光学系２２による合成像が表示
され、他方に第２のアライメント光学系３５による合成
像が表示される。
４８は基板パターン像とＩＣ像を直角プリズム４１．４
３に導くための光ファイバである。この場合、本実施例
においては図示を省略したが、第１のアライメント光学
系２２にも同様の光ファイバ４８が用いられるものであ
る。
３に導くための光ファイバである。この場合、本実施例
においては図示を省略したが、第１のアライメント光学
系２２にも同様の光ファイバ４８が用いられるものであ
る。
このような構成において、基板パターン像とＩＣ像との
位置合わせは、ＣＲＴ３４に表示されている像を見なが
らステージ１を移動調整し、左右共に基板パターン像と
１Ｃ像がぴったり一致するようずれを補正することで行
われる。
位置合わせは、ＣＲＴ３４に表示されている像を見なが
らステージ１を移動調整し、左右共に基板パターン像と
１Ｃ像がぴったり一致するようずれを補正することで行
われる。
なお、ＩＣ４をヒーターツール３に吸着する際の位置合
わせも、上記したと同様の光学系により、ヒーターツー
ル３とＩＣ４を同時に見ながらＩＣ４を吸着保持した保
持テーブルを移動調整し、両方の像を重ね合わせること
により行われる。
わせも、上記したと同様の光学系により、ヒーターツー
ル３とＩＣ４を同時に見ながらＩＣ４を吸着保持した保
持テーブルを移動調整し、両方の像を重ね合わせること
により行われる。
かくしてこのような構成からなるＩＣ位置決め装置によ
れば、別設した光源を含む２つの光学素子群によってプ
リント基板２のパターン像と、ＩＣ４の像を別々に形成
し、合成するようにしているので、従来装置と異なり、
ハーフミラ−によって光を透過光と反射光に２分する必
要がなく、光量の損失を減少させることができる。した
がって、大光量の光源を使用せずとも高輝度の像が得ら
れ、高精度に位置合わせすることができる。
れば、別設した光源を含む２つの光学素子群によってプ
リント基板２のパターン像と、ＩＣ４の像を別々に形成
し、合成するようにしているので、従来装置と異なり、
ハーフミラ−によって光を透過光と反射光に２分する必
要がなく、光量の損失を減少させることができる。した
がって、大光量の光源を使用せずとも高輝度の像が得ら
れ、高精度に位置合わせすることができる。
なお、上記実施例はプリント基板２のある定められた部
位Ａ Ｉ−Ａ ２のパターン像によって位置合わせを行
うようにしたが、これに限らずプリント基板２に表示さ
れたアライメント用マークを基板パターン像として使用
してもよいことは勿論である。また、像をＣＣＤ素子３
３．４６によって電気信号に変換し、これをＣＲＴ３４
によって映像表示させるようにしたが、表示手段として
顕微鏡を用い、リレーレンズ２７．４０によって合成さ
れた像を直接そのスクリーン上に結像させるようにして
もよい。
位Ａ Ｉ−Ａ ２のパターン像によって位置合わせを行
うようにしたが、これに限らずプリント基板２に表示さ
れたアライメント用マークを基板パターン像として使用
してもよいことは勿論である。また、像をＣＣＤ素子３
３．４６によって電気信号に変換し、これをＣＲＴ３４
によって映像表示させるようにしたが、表示手段として
顕微鏡を用い、リレーレンズ２７．４０によって合成さ
れた像を直接そのスクリーン上に結像させるようにして
もよい。
また、上記実施例においては、一対のアライメント光学
系を備えた場合について説明したが、左右いずれかのア
ライメント光学系だけをＸ−Ｙテーブル等の摺動機構に
載置し、ＩＣおよび基板上に定めた２箇所の位置決め部
位に移動させることによって両者を位置決めしてもよく
、本発明はこのように構成されたＩＣ位置決め装置をも
含むものである。
系を備えた場合について説明したが、左右いずれかのア
ライメント光学系だけをＸ−Ｙテーブル等の摺動機構に
載置し、ＩＣおよび基板上に定めた２箇所の位置決め部
位に移動させることによって両者を位置決めしてもよく
、本発明はこのように構成されたＩＣ位置決め装置をも
含むものである。
［発明の効果］
以上説明したように本発明に係るＩＣ位置決め装置によ
れば、個々独立した光学素子群によって基板パターン像
と１Ｃ像を形成し、これらの像を合成するようにしてい
るので、光量の損失の大きいハーフミラ−を使用するこ
となく光学系を形成でき、位置合わせを容易に且つ高精
度に行うことができる。
れば、個々独立した光学素子群によって基板パターン像
と１Ｃ像を形成し、これらの像を合成するようにしてい
るので、光量の損失の大きいハーフミラ−を使用するこ
となく光学系を形成でき、位置合わせを容易に且つ高精
度に行うことができる。
第１図は本発明に係るＩＣ位置決め装置の一実施例を示
す模式図、第２図は従来装置の模式図である。 １・・・ステージ、２・・・プリント基板、３・・−ヒ
ーターツール、４・・・ＩＣｌ３・・・ハーフミラ−１
２０，２１・・・光源、２２・・・第１のアライメント
光学系、２３・−・第１の光路、２４−・・第１の光学
素子群、２５・・・第２の光路、２６・・・第２の光学
素子群、２７・・・光学素子、３３・・・ＣＣＤ素子、
３４・−・ＣＲＴ、３５・・・第２のアライメント光学
系、３６・・・第１の光路、３７・・・第１の光学素子
群、３８・・・第２の光路、３つ ・−第２の光学素子
群。
す模式図、第２図は従来装置の模式図である。 １・・・ステージ、２・・・プリント基板、３・・−ヒ
ーターツール、４・・・ＩＣｌ３・・・ハーフミラ−１
２０，２１・・・光源、２２・・・第１のアライメント
光学系、２３・−・第１の光路、２４−・・第１の光学
素子群、２５・・・第２の光路、２６・・・第２の光学
素子群、２７・・・光学素子、３３・・・ＣＣＤ素子、
３４・−・ＣＲＴ、３５・・・第２のアライメント光学
系、３６・・・第１の光路、３７・・・第１の光学素子
群、３８・・・第２の光路、３つ ・−第２の光学素子
群。
Claims (2)
- （１）ステージ上に載置された基板とこの基板の上方に
配置されたＩＣとの位置決めを行うＩＣ位置決め装置に
おいて、 第１の光路中に配設され基板のある定められた第１の部
位のパターン像を形成する第１の光学素子群と、第２の
光路中に配設され前記ＩＣの前記第１の部位に対応する
部分の像を反転させて形成する第２の光学素子群と、前
記第１および第２の光学素子群によって形成された前記
第１の部位のパターン像とＩＣ像とを同一視野に合成す
る光学素子とを備えた第１のアライメント光学系と、第
１の光路中に配設され基板のある定められた第２の部位
のパターン像を形成する第１の光学素子群と、第２の光
路中に配設され前記ＩＣの前記第２の部位に対応する部
分の像を反転させて形成する第２の光学素子群と、前記
第１および第２の光学素子群によって形成された前記第
２の部位のパターン像とＩＣ像とを同一視野に合成する
光学素子とを備えた第２のアライメント光学系を備え、
前記第１および第２のアライメント光学系により合成さ
れた像を表示手段によって表示するようにしたことを特
徴とするＩＣ位置決め装置。 - （２）ステージ上に載置された基板とこの基板の上方に
配置されたＩＣとの位置決めを行うＩＣ位置決め装置に
おいて、 第１の光路中に配設され基板のある定められた第１の部
位のパターン像を形成する第１の光学素子群と、第２の
光路中に配設され前記ＩＣの前記第１の部位に対応する
部分の像を反転させて形成する第２の光学素子群と、前
記第１および第２の光学素子群によって形成された前記
第１の部位のパターン像とＩＣ像とを同一視野に合成す
る光学素子とを備えた第１のアライメント光学系と、該
アライメント光学系を前記基板のある定められた第２の
部位および前記ＩＣの前記第２の部位に対応する部分に
移動させる摺動機構とを備え、前記第１および第２の部
位においてそれぞれ合成された像を表示手段によって合
成して表示するようにしたことを特徴とするＩＣ位置決
め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001482A JPH0744357B2 (ja) | 1990-01-10 | 1990-01-10 | Ｉｃ位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001482A JPH0744357B2 (ja) | 1990-01-10 | 1990-01-10 | Ｉｃ位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03208399A true JPH03208399A (ja) | 1991-09-11 |
| JPH0744357B2 JPH0744357B2 (ja) | 1995-05-15 |
Family
ID=11502657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001482A Expired - Fee Related JPH0744357B2 (ja) | 1990-01-10 | 1990-01-10 | Ｉｃ位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0744357B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0843057A (ja) * | 1994-07-28 | 1996-02-16 | Copal Co Ltd | 整列確認装置 |
| JPH1137712A (ja) * | 1997-07-15 | 1999-02-12 | Nikon Corp | 光学アライメント装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58182718A (ja) * | 1982-04-20 | 1983-10-25 | Datsuku Eng Kk | 位置合わせ装置 |
| JPS60103700A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-07 | 株式会社日立製作所 | 部品の位置決め装置 |
-
1990
- 1990-01-10 JP JP2001482A patent/JPH0744357B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58182718A (ja) * | 1982-04-20 | 1983-10-25 | Datsuku Eng Kk | 位置合わせ装置 |
| JPS60103700A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-07 | 株式会社日立製作所 | 部品の位置決め装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0843057A (ja) * | 1994-07-28 | 1996-02-16 | Copal Co Ltd | 整列確認装置 |
| JPH1137712A (ja) * | 1997-07-15 | 1999-02-12 | Nikon Corp | 光学アライメント装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0744357B2 (ja) | 1995-05-15 |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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