JPH03207890A - 金属メツキを増強するのに適する分散液 - Google Patents

金属メツキを増強するのに適する分散液

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JPH03207890A
JPH03207890A JP13132490A JP13132490A JPH03207890A JP H03207890 A JPH03207890 A JP H03207890A JP 13132490 A JP13132490 A JP 13132490A JP 13132490 A JP13132490 A JP 13132490A JP H03207890 A JPH03207890 A JP H03207890A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は非導電性物質の表面、特にプリント配線板(P
WB)の貫通孔壁へ導電性金属層を電気メッキする方法
、そのために用いる新規な分散液及びそれによって製造
されたプリント配線板に関する。
関連技術の説明 過去25年間プリント配線板工業はプリント配線板中の
貫通孔壁を電気メッキするのに無電解メッキによる銅の
付着方法に依存してきた。
貫通孔壁のメッキはプリント配線板の両側又はこれに加
えて多層板の内層の、金属回路パターン間の接続を行な
うのに必要である。
貫通孔壁への無電解メッキによる銅の付着は典型的には
PwBの予備クリーニングとそれに続く次の工程図に従
って行なわれる。
予備クリーンされたP旧 ↓ これらの工程による回路板は、又電気メッキ工程の前に
光像形成(photaimage )されてもよい。
通常、各貫通孔壁上に付着した銅の厚さは約1±02ミ
ルである。
?用の無電解メッキ方法は、工業上いくつかの欠点を有
している。それは比較的に長い工程時間を必要とする。
多数の処理浴は常に監視が必要■複雑な化学作用と個々
の或分の別々の補充を必要とする。パラジウム/錫活性
剤は費用のかかる廃水処理を必要とする。その上、これ
らの無電解メッキ方法は汚染に対して非常に敏感である
。最後に、多数の洗浄浴は多量の水を必要とする。
無電解メッキで貫通孔を被覆(メッキ)するに先立って
、グラファイトを用いて被覆(メッキ)用貫通孔壁が製
造された。例えばRa+lovsk7等による米国特許
第5,[”99,608号は少なくとも半コロイド状態
の金属・ξラジウムの薄い非導電性のフイルムを最初に
貫通孔壁に付着させることによって電気メッキ用のプリ
ント配線板の買通孔壁を形成させる方法を教示している
。該特許はさらに電気メッキするための導電層としてそ
れ壕でグラファイトが用いられてきたことを開示してい
る(第1欄第65〜70行と第4欄第72行から第5欄
第11行参照)。この特許によると、グラファイトの使
用がいくつかの欠点を有することを指摘してpシ、該欠
点にはグラファイトを使用する際の調節の不足、得られ
る電気メッキ金属の付着の弱さ、貫通孔直径の不均一及
びグラファイトの低い耐電性が含筐れている。
Shortt等による米国特許第ろ,1 6 3.5’
8 8号には1又グラファイト又はその均等物が電気回
路板の貫通孔壁を導電性にするために使用され、その後
でその上に電気メッキ金属を行なうことが記載されてい
る(第3欄45行から第4欄2行参照)。
金属コーティング用又はメッキ用の非導電性物質を製造
するための数多くの方法においてグラ7アイトが用いら
れてきた。例えばAlois B]Ankによる米国特
許第409,096号はアスベスト屋根材の表面に最初
に揮発性液体中の黒鉛粉末(グラファイト)をワニスと
して塗布し次に揮発性液体を蒸発させて黒鉛微粒子でア
スベストを覆い、続いてそのアスベスト塗布グラファイ
トシ一トを銅電気メッキ溶液中に浸漬して該アスベスト
シ一トに電流を流してその上に薄い銅フイルムを形或さ
せることを教示している。該銅一塗布シートは次に錫、
鉛又は亜鉛の溶融金属浴中に入れられてから該溶融浴か
ら取シ出されて溶融金属を固化させる。その結果得られ
た金属盗布アスベストシ一トは、比較的柔軟性があわ、
熱の伝導性がなくそして耐炎性を有すると説明されてい
る。
Go1dbergによる米国特許第1,037,469
号及びUnno Icよる米国特許第1,352,33
1号は、初めに非導電性物質にワックスをコーティング
し、次に該ワックスをグラファイト又は他の金属の微粉
砕粒子のスラリーでコーティングし、次いで該微粒子で
コーティングされた表面を銅又は他の金属で電気メッキ
することによう井導伝性物に電気メッキを施す方法を開
示している。回路板の孔は通常非常に直径が小さく、ワ
ックスに浸漬すると孔をつ1らせて、孔壁を電気メッキ
物質でコーティングするのに妨げになるので、これらの
方法のいずれもが回路板の孔壁のコーティングには適し
ていない。
I,auXによる米国響許第2,2 4 3,4 2 
9号には非導電性の表面に薄いグラファイト層を形成さ
せ、次いで電気メッキで銅層を施し、最後に他の金属を
電気メッキで付着させる工程からなる非導電性表面の電
気メッキ方法が記載されている。
それとは別に,非導電性物質への導電塗装として,カー
ボンブラック方式が使用されてきた。
例えば, Saunclersによる米国特許第4,0
 3 5,2 65号には、グラファイトとカーボンブ
ラックの両者と空気一硬化性のバインダーを一緒に含有
する導電性の塗料組成物が記載されている。これらの塗
料は発熱体として用いられる建物の壁に適用するのに適
している。
Lin等による米国特許第4,0 9 0.9 8 4
号は(a).+?リアクリレートエマ〃ジョン、(b)
導電性カーボンブラック分散液及び(C)チキントロピ
ツクケ゛ル化剤からなるガラス繊維用の半導電性塗料を
開示している。使用される導電性カーボンブラック分散
液は、適当な分散剤とそれに分散された約3〜約4重量
φの導電性カーボンブラックとからなっている。
Al1ardによる米国特許第4.2 3 9,7 9
 4号には導電性カーボンブラックを特定の分散剤でラ
テックスバインダー中に分散させ、次に、このカーボン
ブラック分散液を不織布に含浸させ、続いて乾燥させて
水分を除去することによって、不織布の表面に分散した
9)カーボンブラックの薄い塗膜を形戊させることが開
示されている。
現一在、無電解メッキ技術ようももつと確実で費用のか
からない非導電性表面への電気メッキ方法が必要とされ
ている。特に、プリント配線板の導電性層間のよシ効果
的な電気的接続を得るために、プリント配線板の貫通孔
壁への均一で連続した金属表面を得るためのよシ良い全
体的な電気メッキ方法が必要である。
本発明の第一の目的は非導電性表面への改良された電気
メッキ方法を提供することである。
不発明の他の目的はプリント配森板の貫通孔壁に導電性
金属層を適用するための改良された電気メッキ方法を提
供することである。
本発明の更に他の目的は現在知られている無電解メッキ
方法に比べてよシ経済的で且つ単純化されたプリント配
線板の非導電眉の表面への導電性金属層の形成方法を提
供することである。
本発明の更に他の目的は、プリント配線板の銅板間のよ
う確実な電気的接続を得るために、プリント配線板の貫
通孔壁に電気メッキによシ銅眉を与えることである。
【図面の簡単な説明】
本発明はこれら目的を違或するために1下記の工程、す
なわち (a)■ 分散液中で約30ミクロンよb小さい平均粒
子直径を有するカーボ′ンブラック粒子、■ 9)カー
ボンブラックと相容性を有する界面活性剤の有効分散量
:及び ■ 液体分散媒 からなるカーボンブラック分散液(上記分散液に釦ける
カーボンブラックの量は非導電性物質表面の実質的に全
部を被覆するのに充分な量であう,且つ分散液の約4重
量多よシも少ない量である)を調製し、 (b)  前記分散液を非導電性物質の表面に適用し(
C)  前記カーボンブラック粒子から実質的に全ての
液状分散媒を分離し、それによってカーボンブラック粒
子を前記の非導電性表面上に実質的に連続した層状で付
着させ;そして(d)  付着したカーボンブラック層
と非導電性物質の表面の上に実質的に連続した導電性金
属層を電気メッキする ことからなる非導電性物質表面に導電性金属層を電気メ
ッキする方法を提供するものである0本発明の方法は特
にプリント配森板の貫通孔壁の非導電性部分に銅のよう
な導電性金属表面を施するのに適している。プリント配
線板は通常2つの導電性金4眉(例えば銅又はニッケル
板或は箔)又は多数のそれらの交互層間に位置する非導
電性層(例えばエポキシ稠脂/ガラス繊維混合物)から
なっている。貫通孔壁の非導電性部分に導電性金属層を
適用すると、導電性金属眉は電気的に接続される。しか
しながら、本発明は任意の形状又は表面積を有する非導
電性物質に対してもその表面への導電性金属の電気メッ
キが有効である。 更に、本発明は父上記の方法によって製造されたプリン
ト配線板をも包含する(即ち、貫通孔壁がカーボンブラ
ックのみ、又はカーボンブラックとその上の金属メッキ
によってコーティングされたプリント配線板)。 好筐しい態様の説明 上記のように,本発明の好壕しい態様は、2つの銅板又
は銅箔を分離させている非導電性層に設けられた貫通孔
壁に銅の金属メッキ層を適用することである。この工程
には、電気メッキの前に貫通孔壁の非導電性部分に特定
のカーボンブラック分散液を用いることが必要である。 カーボンブラック分散液はこれ筐での無電解メッキ銅浴
及びそれに付随する全ての化学工程に完全にとってかわ
るものである。即ち、カーボンブラック分散液は予備活
性化工程1 PσSn活性剤、促進剤工程及び無電解メ
ッキ浴それ自体と置き換わるものである。 プリント配線板においては,通常銅が電気メッキ金属と
して用いられているが、ニッケル、金,銀のような他の
金属も本発明の方法によって電気メッキに使用できる。 プリント配線板(プリント回路板としても知られている
)は通常、2つ又はそれ以上の銅板?は銅箔とそれらを
互いに分離する非導電性層とからなる積層物である。非
導電性層はエポキシ樹脂含浸ガラス繊維粒子のよう■有
機物が好!しい。しかしながら、非導電性層は1熱硬化
性樹脂、熱可塑性樹脂及びそれらの混合物でも良く、又
それらはガラス繊維や充填剤のような補強材を含有して
いてもよいし、していなくてもよい。 好適■熱可塑性桐脂としてはアセタール樹脂:メテルア
クリレートのようなアクリル樹脂:エチルセルロース、
酢酸セルロース,フロピオン酸セルロース、セルロース
アセテートフチレート、硝酸セルロースなどのセルロー
ス樹脂:塩素化ポリエーテル;ナイロン:.+?リエチ
レン;ポリプロピレン:ポリステレン;アクリロニトリ
ノレーステレン共重合体,アクリロニトリルーブタジエ
ンーステレン(ABS)共1合体のようなスチレン系重
合体;ポリカーボネート:.??リクロロトリフロロエ
チレン:酢酸ビニル、ビニルアルコール、ビニルブチラ
ール、塩化ヒニル、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体,
塩化ビニリデン及びビニルホルマールのようなビニル重
合体及び共重合体があげられる。 好適な熱硬化性樹脂にはアルキA/7タレート、7ラン
:メラミンーホルムアルデヒド:フェノールーホルムア
ルデヒト、フエノールーフルフラール共重合体;の単独
或いはそれらとブタジエンーアクリロニトリル共重合体
又はアクリロニトリルーブタジエンーステレン(ABS
)共重合体との混合物:ポリアクリル酸エステル.シリ
コ”tlJ]W;尿素−ホルムアルデヒド.エポキシ樹
脂:.+?リイミト゛:アルキル樹脂.グリセリルフタ
レート:;??リエステル等が包含される。 多くのプリント配線板の設計に3いては、電気的な通路
又はパターンは、そのパターンの特定の個所で分離して
いる銅板間を接続することが必要である。これは通常、
銅板と非導電性層の積層物を通して該設計の所望の場所
に孔をあけ、次に分離している金属板間を接統すること
によって行なわれる。プリント配線板の孔の直径は一般
に約05〜約10mmの範囲であシ、好1しくは、約1
〜5冒である。 貫通孔を穿孔したのち孔壁を比較的滑らかにするために
スクラビングするのが好1しい。多層プリント配線板の
場合には、貫通孔の内部銅中間層表面をきれいにするた
めに汚れ取シ又はエッチバック(etchback)処
理を行なうのが望1しい。適当な予備工程としては現在
行なわれている慣用の処理のうちの一部壕たはすべてを
使用することができる。 メッキのために貫通孔の表面が滑らかにされた後1該プ
リント配線板は本発明の9)カーボンブラック分散液を
受入れ易くするために、予備クリーニングするのが好壕
しい。好オしい予備クリーニング処理の1つは、最初に
プリント配線板をクリーナー/コンディショナー浴中に
約60℃で約5分間置いてグリースや他の不純物を孔壁
の表面から取除くことである。これを行なうについての
好1しいクリーナー/コンディショナーの一つは、主に
水中にモノメタノールアミンとエチレングリコールを添
加したものからなる。好壕しいクリーナー/コンディシ
ョナーは1クリーナー/コンディショナー1021の商
品名でPhillip.A.Hunt Ohem.社に
よって販売されている。 クリーナー/コンデインヨナーを適用した後、PwBは
次に脱イオン水で洗浄されて該板からクリーナー/コン
デインヨナーの残液が取除かれ?。次に,外側の銅表面
をきれいにするのが望筐しい。これは該板を過硫酸ナト
リウムミクロエッチング溶液又は硫酸水溶液又はそれら
の両者の中に浸漬することによって行■われる。好1し
い過硫酸ミクロエッチング溶液としてはPhillip
 A.lHunt Cihem.社製の MICRC)
− 11TCH 6 0 1がある。これは12当シ2
00pの過硫酸ナトリウムと05重量嘩の硫酸を含有し
ている。過硫酸ナトリウムミクロエッチング溶液も硫酸
溶液も、エポキシ/ガラス繊維の表面又はPWBの貫通
孔の部分に対しては影響を及ぼさないことが知られてい
る。上記の穿孔又は予備クリーニングのどれもが本発明
にかいて必須なものではないことを認識すべきである。 慣用の同様な処理をそのかわりに使用してもよい。 そのような処理には、例えば,回路板をクロム酸一硫酸
エソテング浴中に約60℃で約60秒間浸けてそれから
取出し、次に過剰の酸エッチング浴を除去するために、
脱イオン水で30秒間洗浄する方法や1プラズマによる
汚れ除去なども含1れる。 本発明の方法は予備クリーン処理を施された同を次の工
程図に従って電気メッキすることからなる。 予備クリーン化戸出 ↓ 本発明のカーボンブラック分散液が最初にクリーン処理
を行なった陶に適用される。この分散液は、3種の必須
或分1即ちカーボンブラック、カーボンブラックを分散
しうる1種1たはそれ以上の界面活性剤及び水のような
液体分散媒を含んでいる。pwsに分散液を適用するの
に好適な方法には浸漬、スプレー,又は陶工業で採用さ
れている化学薬品の他の適用方法が含壕れる。このカー
ボンブラック分散液を用いるのに1個の処理浴で充分で
あるが,再処理やその他の目的のために1個よシ多い浴
を使用してもよい。 この分散液の調製にかいては上記5つの必須戊分及び他
の任意の好1しい戊分は安定な分散液を造るために完全
に混合される。これは濃厚状態にある分散液をボーノレ
ミル、コロイダノレミル、高剪断ミル又は他の高速混合
手段に付して行なわれる。その完全に混合された分散液
は後で処理浴の所望の濃度が得られる璽で攪拌しながら
水で希釈することができる。好ましい混合方法は濃厚な
分散液をガラス鉱物又はプラスチックビーズを含有して
いる容器中で約1〜24時間ボー/l/ ミ)vで混合
することである。この完全な混合によってカーボンブラ
ック粒子は界面活性剤で緊密に被覆されるか又は湿潤化
されるようになる。この濃厚な混合物は次いで水又は他
の分散溶媒液で所望の濃度に希釈される。処理浴は希釈
と適用工程の両方の間中、分散液の安定を保つために攪
拌しておくのが好喧しい。 上で述べたように、カーボンブラック粒子は分散液中で
約3ミクロンよシも小さい平均粒径を有していなければ
ならない。カーボンブラック粒子の平均粒径は実質的に
平坦なメッキとメッキ層の剥離防止のために可能な限シ
小さいのが望1しい。カーボンブラック粒子の干均粒径
は分散液中で約0.1〜約6.0ミクロンであるのが好
筐し(,0.2〜約2.0ミクロンがよう好ましい。 本明細書及び特許請求の範囲で用いられる「平均粒径」
という用語は粒子の平均直径(数平均)を意味する。分
散液における平均直径は、NicompMode4 2
 7 0サブミクロン粒度測定器( Version6
0)又はHIAC! PA− 7 2 0自動粒度分析
器(両方ともPacユfic !9cientific
社よシ入手可能)を用いて決めるのがよい。 全てのタイプの9)カーボンブラックが本発明で使用出
来、普通に入手できるファーネスカーボンも含普れる。 しかしながら1水でスラリーにされた時に初めは酸性又
は中性、即ち約1〜約75の田、特に好1しくは約2〜
約4のρHのカーボンブラックを用いるのが好寸しい。 好!しいタイプのカーボンブラック粒子は約1〜約10
重量φの揮発或分を含有し、アモルファス構造を有する
ものである。反対に、米国特許第3, 0 9 9, 
6 0 8号及び同第3,163,588号で述べられ
ている貫通孔をめっきするのに用いられるグラファイト
粒子は,結晶形態の比較的純粋な炭素であシ、水溶液の
一には影響を及ぼさない。 本発明のカーボンブラック粒子のかわシにグラファイト
粒子を用いると、後続の電気メッキのあとの非導電性物
に対する銅の付着力が弱いことが指摘された。下記の比
較例1と2を参照。 好1しいカーボンブラック粒子は、又非常に多孔性であ
シ、通常約45〜約1 j 0 0m2/9、好1しく
け約300と約600m2/9の間の表面積( BET
法( Brunauer−Emmett−Tejler
法)による)を有している。 本発明で用いるのに適しているカーボンブラックの例と
してはCabot XC−72R Oonclucti
ve,Ca’bot Monarch 8 0 0, 
Cabot Monarch 1 300 (全てCa
bot社製)がおる。他の好適なカーボンブラックに#
Colum’b’tan  T−10189、Oolu
mbianOonductex 975 Conduc
tive , Co1umbian OC− 4 0−
220、及びOolumbian Raven3500
 (全てCiO’lumbianOor’bon社から
入手可能)がちる。Monarch 8 0 0とRa
ven3500の2つがその分散容易性と低声によう最
も好壕しい。 本明細書及び特許請求の範囲で用いられている「液体分
散媒」という用語には1水と極性溶媒(プロトン性と非
プロトン性の両方)が含iれる。適切なプロトン性極性
有機溶媒には、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール,インブタノール及びぱンタノールのような01〜
5の低級アルコール;グリコー/I/(例えばトリエチ
レンクリコール)のような多価アルコール,セロソルブ
のようなエーテルアルコール;ギ酸や?酸のような有機
酸;トリクロ口酢酸のような酸誘導体:メタンスルホン
酸のようなスルホン酸が包含される。適切な非プロトン
性極性有機溶媒としては,アセトアルデヒドのようなア
ルデヒド:アセトンのようなケトン;トルエンやミネラ
ルスピリットのよう■非プロトン性芳香族溶媒:ジクロ
ロ7ロロメタンやジクロロジフ口ロメタン(FREON
)のような非プロトン性ハロゲン化炭化水素:ジメチル
ホルムアミド(DMF):ジ、メチルスルホキシド(D
MSO) :及びギ酸メチル、酢酸エチル及びセロソル
ブアセテートのようなカルボン酸エステルが包含される
。価格と使用上の容易性の点から水が好曾しい液体分散
媒である。飲み水に普通にみられる石灰、弗素、ヨウ素
及びその他の不純物が含1れない脱イオン水を使用する
のが好筐し〈それは、後に続く電気メッキ工程の間に他
のイオンが混入するのを?小にするためである。 水及びカーボンブラックに加えて、第3の戒分が分散液
中で必要であシ,それはカーボンブラックを液体分散媒
に分散させうる界面活性剤テアル(即ち、カーボンブラ
ックと液体分散媒を混和性にする)。 1つ又はそれ以上の界面活性剤が、カーボンブラックの
湿潤性と安定性を高めるために分散液に添加され,それ
によってカーボンブラックの非導電層の孔や繊維間への
浸透が最犬になる。 適切■湿潤剤にはアニオン系、非イオン系及びカチオン
系界面活性剤が含1れる(又は、両性界面活性剤のよう
なそれらの混合物)。界面活性剤はカーボンブラック分
散液に溶解し、且つ安定なものでなければならず、好1
しくは消泡性のものであるべきである。一般に、水のよ
うな極性連続相中では界面活性剤は高HLB数(8−1
8)?有するのが好筐しい。界面活性剤の好オしいタイ
プは、主に分散液の声に依存している。もし分散液がア
ルカリ性(即ち全体の一が塩基性領域にある)■らばア
ニオン系又は非イオン系界面活性剤を用いるのが好まし
い。使用可能なアニオン系界面活性剤にはDARVAN
 Nll1 (R.T.V@merbil.t社輛)、
ECCOWET LF(Eastern Color 
and (Thanica1社製) ,  PETRO
AA.PICTR○ULF(Petro Chemic
a’1社製)及びAKRSOL○T (America
n Cyanamid社製)のようなt7タレンスルホ
ン酸のナトリウム又はカリウム塩が包含される。好まし
いアニオン系界面活性剤にはMAPHOS55、56、
8135.6[IA,  L6(Mazer Chem
ica1社製)のような中性リン酸エステル系のものが
ある。カーボンブラック分散液用に最も適しているのは
MAPHOS 5 6である。適切な非イオン系界面活
性剤としてはFIY−TERffENrB−7リーズ(
 0’lin社製)のようなエトキシル化ノニルフェノ
ール又はPOLY−TERGENT SL−シリーズ(
0ユ1n社製)のようなアルコキシル化鎖状アルコール
があげられる。 もし分散液全体が酸性ならば特定の陰イオン系界面活性
剤又は陽イオン系界面活性剤を用いるのが好1しい。陰
イオン系界面活性剤のうちで使用可能iものは上で述べ
たナフタレンスルホン酸のナトリウム又はカリウム塩で
ある。使用できる陽イオン系界面活性剤には, AMM
ONYXT ( Onyx Chemica1社製)の
ようなセチルジメチルベンジルアンモニウムクロライト
: AEROSOLC−6 1 (American 
Cyanamid社!2!)のようなエタノール化アル
キルグアニジンアミン錯体:リポコール(lipoca
l) : DOWFAX 2A工(Dow Chemi
ca1社製)のようなドデンルジ7エニルオキサイドジ
スルホン酸(DDODA) :STRODKX(Dex
ter Chemica1社製)のようなDDODAの
ナトリウム塩;及び有機リン?エステル錯体の塩が包含
される。好壕しい界面活性剤には, MAFO 1 3
のような脂肪アミンに基づく複雑■アミノ酸の両性のカ
リウム塩及びMAZEKN S − 5又はMAZTR
EAT ( Mazer Chemica1社製)のよ
うなカチオン系エトキシ化大豆(soya)アミンがあ
げられる。界面活性剤の混合物も使用することができる
。 分散液中のカーボンブラックの量は、分散液の約4重量
優よb少なくなければならず、好壕しくは約2重量噂以
下である。カーボンブラックを高濃度で使用すると望1
しく■いメッキ特性が生ずることが見出された。同じ理
由から、固形分濃度(即ち、液体分散媒以外の全ての成
分)は、分散液の約10重量嘩よシ少ないのが好1しく
、約56重量嘩よシ少ないのがもつと好筐しい。 本発明の上記3つの必須成分,即ち、カーボンブラック
、液体分散媒及び界面活性剤だけで?散液を生成させて
もよい。ある場合には他の好壕しい戊分を分散液に添加
するのが望iしい。 カーボンブラック含有分散液に添加する好1しい或分の
1つにアルカリ水酸化物のような強塩基性物質がある。 適切な強塩基性物質としては水酸化カリウム、水酸化ナ
トリウム,及び水酸化リチウムのようなアルカリ金属水
酸化物があげられる。所望によシ、水酸化アンモニウム
又は水酸化カルシウムのようなアルカリ土類金属水酸化
物を用いてもよい。水酸化カリウムが最も好さしい強塩
基性物質である。本明細書及び特許請求にふ・いて「ア
ルカリ水酸化物」という用語は、これらの強塩基性物質
を意味する。 カーボンブラック分散液の一を約10〜約14、好捷し
くは約10〜約12にするのに充分■割合でアルカリ水
酸化物がカーボンブラック分散液に?加される。 アルカリ水酸化物はそれ単独で又はシリカと一緒に分散
液に添刀口されてもよい。好!しいシリカはヒユームド
シリカである。好1しいヒユームドシリカは高密度粒子
の形状のものであり、CabOt社よ,9 CAB−0
−SIL MS−7SDの商品名で市販されている。し
かしながら、嵩密度及び粒子径の適した他のヒユームド
シリカも使用できる。 ヒユームドシリカの適切■嵩密度は一般に約5〜10.
+?ンド/立方フィートの範囲である。ヒユームドシリ
カの適切な粒子直径は一般に約0005〜約0.025
 ミクロンの範囲であシ,ヨリ好1しくは約0.01〜
o.o1sミクロンの範囲であ?緒に使用すると、アル
カリ水酸化物はその場でヒユームドシリカ粒子と反応し
て相当する溶解性アルカリシリケートを形成する。過剰
のアルカリ水酸化物が存在すると分散液は水酸化物とシ
リケートを含有する。水酸化リチウムと水酸化カルシウ
ムのよう■アルカリ土類金属水酸化物は、シリケート沈
殿物を生ずるのでシリカと一緒に使用すべきではない。 9)カーボンブラック粒子の多孔性は、分散液からのア
ルカリシリクートの吸着を強化する。その結果,乾燥後
にカーボンブラック粒子の孔にフ・ケるアルカリシリケ
ートの濃度が比較的高くなる。孔にアルカリシリケート
が存在すると、次に続く電気メッキ工程でのカーボンブ
ラック粒子の導電性が強化される。 本発明の他の態様では、アルカリ水酸化物及びシリカを
鉱酸で置き換えてもよい。HCn , H2SO4、F
15P04等の適当な鉱酸によって9)カーボンブラッ
ク分散液を酸性にしてもよい. ENOg tri銅と
望筐し〈ない反応を生ずるので除くべきである。 一般に、酸の適切な濃度は約1規定である。 下記にカーボンブラックの水性アルカリ分散液の適切な
典型的処方例について、種々の戒分に対する一般的な割
合いの範囲と好筐しい割合いの範囲との両方を示す。 カーボンブラック  0、1〜4重量%    0.2
〜2重量多界面活性剤0.0 1 〜4iiJl% 0
.05〜2fi%水酸化アルカリ   0〜1重量% 
  0.4〜0.8重量多ヒュームドシリ一カ  0〜
1重量%   0.2〜[1.8重量優水   残余 
  残余 カーボンブラックの分散液は典型的には攪拌容器に入れ
られ、プリント配線板がその中に浸漬されるか、分散液
で噴霧されるが、さもなければ分散液に接触させられる
。浸漬浴中の分散液の温度は約15〜約35℃の範囲、
好筐しくは約20〜30℃の範囲に維持され、そこに予
備処理されたプリント配線板が浸漬される。浸漬時間は
一般に約1〜約10分、好筐し〈ぱ約3〜約5分である
。浸漬の間に、カーボンブラック含有分散液はプリント
配線板の孔に浸透し、非導電層の成分を形成しているガ
ラス繊維及びエポキシ樹脂を湿らせ、それらと接触する
。浸漬された該板は次にカーボンブラック含有分散液の
浴から取シ出され、次いで、分散液が壕だつ筐っている
プリント配線板の孔のつ1シを取シ除くために圧縮空気
に曝すのがよい。それとともに、銅板の表面から過剰の
9)カーボンブラック含有塩基性分散液が除去される。 カーボンブラックで覆われた該配線板は次に用いられた
分散液中の実質的に全ての水(即ち、約95重量優以上
)が除去され,カーボンブラックを含有する乾燥した付
着物を非導伝性層の孔及び他の露出表面に残す処理工程
に移される。 これは、室温における蒸発、真空、昇温下での該配線板
の短時間加熱又は他の同じような方法によって行われる
。昇温下での加熱が好1しい方法である。加熱は、通常
、約75℃〜約120℃、好1しくは約80℃〜98℃
、で約5〜約45分間行われる。孔壁の被覆を完全にす
るために、カーボンブラック分散液への板の浸漬工程及
び次の乾燥工程は、1回又はそれ以上繰シ返して行うこ
とができる。 この乾燥工程によってカーボンブラック分散液で完全に
コーティングされた板が得られる。 この分散液は望筐しい穿孔された孔の表面を被覆するだ
けでなく、望筐しくない銅板又は箔の表面をも被覆する
。そのために光障形成工程の前に全ての9)カーボンブ
ラックが銅板又は銅箔の表面から除去されなければなら
ない。 銅表面、特に穿孔された孔のヘリからのカーボンブラッ
クの除去は、孔璧のガラス繊維及びエポキシ樹脂表面の
コーティングを完全に残した状態で、機械的iスクラビ
ング処理又はミクロエンチングによって行われるのが好
筐しい。 ミクロエヅチングが使用の際の容易性から好ましい。適
切な過硫酸ナトリウムミクロエッチング剤は、1工C!
RO−KTC!H 601’であシ、Philip A
Hunt C!hemical社から入手でき、そして
上に記載したとおシである。このミクロエッチング作用
のメカニズムは銅箔上に付着したカーボンブラックを直
接侵すのではなくて、むしろコーティングに対する接着
作用を与える銅の初めの2〜3原子層をもっぱら侵すこ
とによるものである。それ故、完全にコーティングされ
た板はミクロエッチング溶液中に浸漬されて、銅表面か
ら9)カーボンブラックを”箔状(blake)”で分
離して溶液中にミクロー箔の形状で移す。ミクロー箔は
ミクロエッチング浴からポンプを用いて済過されるか又
はPWB工業界で普通用いられている堰型デ過装置によ
って除去される。カーボンブラックの分散、任意工程で
あるミクロエッチング釦よび後続の脱イオン水による任
意の洗浄はPWB ヲポリプロピレン又はポリ塩化ビニ
ル(FVT!)で造られた浴中に浸漬し、再循環ポンプ
又はエアーポンプで攪拌しながら行われる。 多層型の板の場合にはこのミクロエッチング工程は特に
好1しい。なぜならば、乾燥工程後に、外側の鋼板又は
箔だけでなく孔内1(露出している銅の内側の板又は箔
も9)カーボンブラックでコーティングされている。そ
れ故、このミクロエッチング工程は3つの非常に望lし
い働き合同時に果す。 A.ミクロエッチングは銅板又は箔或は多層孔中の銅の
内側の板又は箔に接着している全ての余分なカーボンブ
ラック物質を取シ去る。 B,ミクロエッチングは銅表面を化学的にきれいにしそ
してわずかにミクロエンチングして乾燥フイルムを適用
するため又は、銅を電気メッキで付着させるための秀れ
た《−スとする。 C.ミクロエッチングは穿孔された孔の囲シの銅板又は
箔の縁を化学的にきれいにする。これは孔壁表面の電解
的に付着した銅と外側の銅箔との間の境界面がカーボン
ブラック物質で汚染されないようにする。 任意のミクロエッチング工程及びその後の水洗工程の後
に、PWBは、光像形成工程及びその後の電気メッキ又
は直接的な盤電気メッキ工程ヘと送られる。 このように処理されたプリント配線板は次に適当々電気
メッキ浴に浸漬され、非導電層の孔壁土に銅の被覆が行
われる。 本発明はPWBの貫通孔壁へ金属層を適用するのに慣用
の電気メッキ処理の全ての使用を意図しているものであ
る。したがって、本発明は特定の電気メッキ浴に限定さ
れるものではない。 典型的な銅電気メッキ浴は下記の戒分を次の割合いで含
むものである。 h2s04(if量で)  20〜30オンス/カロン
 23オンス/カロン(約150−225レ包)  (
約172fA)塩素イオン 20〜100Ill?/′R 501F/F! 電気メ ツキ浴は一般に攪拌され、 好筐しくは 約20℃〜約25℃の温度に維持される。電気メッキ浴
には通常鋼からなるアノードが備えられ、メンキすべき
プリント配線板はカンードとして電気メッキ回路に接続
される。例えば2つの銅板の間に位置する非導伝層の孔
壁上に約1ミル±0.2ミル筐での厚さの銅メツキが生
成されるように、1平方フィート当シ約15アンRアの
電流を約60〜90分間電気メッキ回路に流す。この孔
壁の銅メツキはプリント配線板の銅眉間に電流路を形成
させる。所望によシ、他の適切な電気メッキ条件を用い
てもよい。所望ならば、他の銅塩又はニッケル、金、銀
等の塩のような他の金属塩を含有する電気メッキ浴が使
用される。 プリント配線板は銅メツキ浴から取シ出され、水洗され
そして乾燥されて、プリント配線板の製造技術で知られ
ているように、フオトレジスト化合物を適用して次の処
理へと供給される。 カーボンブラック液浴中での浸漬時間を過剰にしても、
カーボンブラックコーティングの厚さは認められるほど
増加しないことが見出された。このことは、これが表面
吸着工程であシ、一旦孔の輪郭の全表面が覆われるとも
はや物質の堆積が生じないことを意味していると思われ
る。 非導電性表面に銅層が電気メッキされる本発明の方法は
、多くの予期しない効果を与え、それには次のようなも
のが含捷れる。 1. 従来の無電解鋼メッキ技術で必要であった予備活
性剤、pa/sn活性剤及び促進剤の使用が不要である
。 2.慣用の無電解法に比べて、本発明の方法によると電
気メッキ用のPWBを得るために処理工程が少〈でよ〈
、そして処理時間も短くてよい。又、無電解メッキ法に
比べて汚染の問題が著しく少ない。 無電解メッキ浴の使用に関連する安定性の問題及び副反
応の問題がない。洗浄浴中の普通の痕跡量のイオン性不
純物は9)カーボンブラック分散液にはほとんど影響を
及ぼさない。 その上、処理中の温度変化も影響を与えないことが明ら
かになっている。 4.貫通孔壁に電気メッキされた銅の均一な厚さが一層
達成され、そして、電気メッキされた部分にかける形状
欠陥やボイドが最少になるか又はなくなる。孔内での接
着の熱的特性及び接着の物理的特性が秀れている。 電気メンキされた銅層が非導電性表面のエポキシ及びガ
ラス繊維上に均一に付着し、標準的な結合物(θo/a
 e r )衝撃試験では′剥離(pu:L″Lawa
7) ’がない。 五 5、 6. 従来技術において欠点として知られている、電気
メッキを行うのに必要とされていた高い導電性のグラフ
ァイト又は粉末金属が不要である。本発明の方法の多孔
質カーボンブ:)ノク粒子は明らかに銅一含有電解液を
多量に吸着して電気コンダクタンスと非導電性層表面へ
の電気メッキを達成する。 貫通孔中のカーボンブラックコーティングは、電気メッ
キ処理の前に行われる後続の光像形成工程に釦いて損わ
れない。又、光像形成の前の物理的なスクラビングは孔
のコーティングに有害な影響を及ぼさない。本発明の方
法はプリント配線板の非導電性部分の孔壁の電気メッキ
に釦いて使用するのに特に適しているが、当業者は本発
明の方法によって他の非導電性物質の表面が導電性金属
によってコーティングされうろことを認めるであろう。 Z a 本発明の方法は特別の鋼電気メッキ浴化学薬品又は
特別の光沢用添加剤を必要としない。 それは現在米国で市販されている全ての電気メノキ浴、
つや消しと光沢仕上げの両方のタイプ,と適合する。 2 本発明の9)カーボンブラック液浴はそれの戒分の
実施濃度にかいて広い自由度を有している。又、浴がな
か実施可能な量の成分を含有しているか否かの決定は、
塩基度の一滴定と多による固形分含量を決定することに
よって容易に行われる。この浴の維持が簡単なことは無
電解メッキ法の多くの工程に必要な広範な化学的な監視
とは対照的である。 次の実施例は,本発明をさらに充分に明らかにするため
のものでアシ、それによって限定することを意図するも
のではない。全ての部及び・ξ−セントは特記されてい
ない限り重量によるものである。 回路板の説明 いくつかの積層回路板が本発明の方法にょシ処理された
。各回路板はエポキシ樹脂/ガラス繊維層の反対側に加
圧融着によって2枚の35ミクロンの厚さの薄い銅板を
固着させたものからなっている。各板に釦けるエポキシ
樹脂/ガラス繊維層の厚さは約1.55mであった。こ
れらの回路板は、巾が約20ので長さが約28cmであ
った。約50〜約100個の孔があシ、その直径は約1
. 0 vanで、銅板とエポキシ樹脂/ガラス繊維層
を通して穿孔した。 実施例 1 これらの穿孔された回路板の1つを、最初に該板の表面
を機械的にスクラビングし、次いでそれを次の順序で水
性浴(各々が約4. D J2容積)中に所定の時間浸
漬することによってその貫通孔を銅電気メンキするため
に作製した。 1.クリーナー/コンディショナー(5分)2、脱イオ
ン水による洗浄(2分) 五 過硫酸ナトリウムミクロエッチング(1分)4.脱
イオン水による洗浄(2分) 5,  1 0qb H2El04 ( 2分)6.脱
イオン水による洗浄(2分) Z 9)カーボンブラック予備メッキ(被覆)分散液(
4分)C I10℃で乾燥(10分)〕a 過硫酸ナト
リウムミクロエヅチング(1分)θ 脱イオン水による
洗浄(1分) 浴1は主にモノメタノールアミンとエチレングリコール
が水中に存在するクリーナー/コンディショナー配合物
を含有する水溶液であシ、板の孔壁表面から油脂や不純
物を除去するためのものであった。このクリーニングを
促進するために浴は約60℃に加熱された。クリーナー
/コンデイショナー配合物はPhilip A. Hu
nt Ohemica’1社によってクリーナー/コン
ディショナー102の商品名で販売されている。 浴3は室温の水性浴で、脱イオン水/リットル当,? 
200fの過硫酸ナトリウムと濃硫酸0.5重量嘩を含
有していた。その目的は板の銅表面をミクロエッチング
することであった。この過硫酸ナトリウムミクロエッチ
ングはPhilip A.Hunt Chemical
社から入手できる1工CRO−ETDH601′であっ
た。 浴5は10重量嗟のH2SO4を含有する室温の脱イオ
ン水浴であった。この浴は核板の表面から銅酸化物を除
去することであった。 浴7は、本発明のカーボンブラック予備メノキ成分を含
有する室温の脱イオン水であった。 この浴にふ・ける処理成分は次のとおりであった。 0.06重量多 ア=オン系界面活性剤■0.46重量
% KO!2) 0.34量多 ヒユームドシリカ■ 0.21重量優 9)カーボンブラック■1.04重量
多 全固形分 浴の残シは脱イオン水であった。 ■ MAPHOS 56アニオン系界面活性剤−Maz
erChemical社(−90重量多の界面活性剤、
10重量予のH20 )。 ■ 固体水酸化カリウムドレヅト(86重量4 KOH
、14重量多水)。 ■ CAB−○−S工L MS−7SDヒユームドシリ
カ( Oabot社製)。 ■ RAVEN 35009)カーボンブラック( C
abot社製)。 浴者7のこの9)カーボンブラック分散液はこの分散液
の濃厚物をビンの容積の約Aに石のビーズを入れた広ロ
ビン中でボールミリングすることによって調製された。 連続相が得られるように界面活性剤が脱イオン水/ X
Oa /シリカ中に溶解サれた。次にカーボンブラック
が添加された。ミリング時間は6時間であった。ミリン
グ後に、該濃厚化物は上記の割合の分散液を調製するの
に充分な脱イオン水で希釈された。 浴8は浴5と同じミクロエンチング処方であった。その
目的は板の銅表面をミクロエッチングしてその表面から
付着したカーボンブラックを除去することである。ガラ
ス繊維/エポキシ上に付着した9)カーボンブラックは
、このミクロエンチングによシ影響を受けなかった。 洗浄浴2,4,6及び9は1つの処理浴から次のものへ
と化学成分が持ち越されるのを防止するために用いられ
た。 この浴の順序に従って処理を行った後で回路板は次いで
攪拌手段と加熱手段を有する電気メッキ浴中に入れられ
たが、この浴は次の組成からなっていた。 ?酸銅         a5オンス/ガロン(63.
75f/Il) H2SOn (重i)       30オンス/ガロ
ン( 2 2 5 f/■) 塩素イオン        24.3η/ff1回路板
は約42の容積を有する電気メッキ容器中でカン一ドと
して接続された。2本の銅棒が電解液中に入れられ、ア
ノードとして電池回路に接続された。銅棒は約8crn
の長さで巾約3.2の及び厚さ約0. 6 cmであっ
た。各々の表面は約25cTn2であった。1平方フィ
ート当シ15アンRアの直流を電気メッキ浴の電極に8
5分間流した。浴はその間中約25℃の温度に維持され
、そしてエアスプレーによって攪拌が行わ?た。その間
の終シに回路榎は電解液から取シ出されて電気メッキ回
路から分離され、脱イオン水で洗浄され、そして乾燥さ
れた。 得られた電気メッキされた板を試験した結果、孔壁は比
較的に均一な銅層でメンキされておシ(1.0ミル±0
.2ミル)そして′ドングボーニング(dog bon
ing)’は観察されΔかった(即ち、この後の方の効
果はメッキ層がPWBo銅積層に近い部厚さになる望1
しくない状態である)。標や.ヶ■ヶ3.O■、.5ヤ
y / i 5r .維層或分の孔壁からのメンキされ
た銅の剥離はなかった。 Q :tpcテストm2.6. 8Bンルダーフロート
テストによる熱応力理論(Therma’l stre
ss MethcidOlogyVia Solder
 Float Test)’、ここで、そしてこれ以後
は標準ソルダー衝撃テスト(standa柑so1ae
rshock test)と称する。 実施例 2〜8 RAIN 3500以外の異なったタイプの9)カーボ
ンブラックを用いて本発明の有効性を説明するために実
施例1の工程が繰゜シ返された。9)カーボンブラック
メッキ浴7がわずかに変性されていくつかの異なったタ
イプのカーボンブラックカエテストされた。これらの浴
の処理戒分は次の通シであった。 0.37重量% MAPHOS 56 (水中で90%
)0.79重量% KOH(水中で86嘩)0,58重
量多 CAB−07S工L MS−7SDO,42重量
多 カーボンブラック(表1を参照)各浴の残りは脱イ
オン水であった。最も重要な特徴は孔壁にメンキされた
銅の接着であった。 ゜実施例2〜8の全ての板はエポキゾ/ガラス繊維の貫
通孔にメヅキされた鋼の標準ソルダー衝撃テスト(工P
CテストHa 2.6. 2.B )で良好な接着を示
した。得られた電気メッキ板の試験は孔壁が各々の場合
に比較的に均一な銅層(1ミル±0.2ミル)で覆われ
て釦シ、そしてゝドソグボーニング(aog boni
ng)ゝは観察されなかった。 いくつかの板では孔中のメッキの約5〜約10%で2,
3のボイドが観察されたが、これは、界面活性剤MAP
HOS 56の特定のカーボンブラックとのわずかな不
適合性によるものと考えられる。このわずかな不適合性
はこれらの特定のカーボンブラックが、好壕しいcab
ot Monarch1300及びColumbian
 Raven 3500に比べて一が高いことによるも
のと考えられる。テストされた特定の9)カーボンブラ
ック及びそれらの物理的性質及び得られるホイド効果を
下の表1に示す。 実施例 9〜15 本発明の生産能力を示すために、カーボンブラック分散
液中にシリカを含有させずに夾施例1の工程を繰返した
。実施例2〜8のカーボンブラック予備被覆(メンキ)
浴◆7をシリカなしで造シ、それ故各分散液に訃ける成
分の割合は次のと釦シであった。 MAPHOS 56(水中で90%)−0.37重量優
KOH (水中で86%)−0.79%カーボンブラッ
ク(表2参照)−0.42%全固杉分    −1.5
重量多 上記成分の残シは脱イオン水であった。全ての被覆板は
標準ソルダー衝撃テストによってテストした時に良好な
接着を有した。それらは、ドングボーニング′を示さず
、そして平坦な銅メツキを有した。これらの9)カーボ
ンブラック分散液で予備処理された銅メヅキ回路板の他
の結果を下記の表2に示す。表2のこれらの結果を表1
の結果と比較すると成分中でのシリカの不存在は回路板
の貫通孔のメッキに不利に作用しないことを示している
。 関連する実験では、アクリロニトリルブタジエンスチレ
ン(ABC)共重合体クーポンが実施例8( sio2
含有)又は実施例1 5 (Si02不含)と同様に9
)カーボンブラック分散液で処理され次に電気メノキさ
れた。メッキ工程で、実施例8( Si02含有)と同
様の分散液が約2回メンキされ、実施例15の分散液も
同様である。両者とも標準テープ剥離テスト(工PCテ
ストl@2、4、1)によってテストした時良好なメッ
キ接着を有していた。 実施例 16〜19 本発明の有効性を示すために、シリカを含有しないで9
)カーボンブラック分散液中のKOHの量を変えて実施
例1の操作を再び繰返した。 力一ボンブラック予備被覆(メッキ)分散液浴+7は,
各成分の割合が下記のと釦シであった。 MAPHOS56(90%基準)  0.37% 0.
37% 0.37% 0.37優KOH(86%基準)
     0.36%  0.18%  0.091 
  0RAVEN  3500       0.42
%  0.42% 0,42%  0.42%全固形分
   1.15%  0.97%  o.s8% 07
9%表3は得られたμsと分散液の特性を示す。実施例
19(濃度ゼロ)はMAPHOS 56界面活性剤が酸
性領域で安定ではなく、シたがって酸性のRAVEN 
3500を分散させるには効果がなかったので分散液と
しては劣ったものであった。最も良?■分散液特性は生
成した分散液の一が高い時に認められた。実施例19を
除いてこれらの実験の全ては、ほんのわずかのボイド(
該板の孔の約5〜約10優がボイドを有した)を有する
良好で均一なメンキ(1ミル±(12ミル)ヲ示し、そ
して、標準ンルダー衝撃テストを行った時良好な接着を
示した。 実施例 20〜25 カーボンブラック分散液中にシリカ又はKOHのいずれ
かを含有させないで、本発明D有効性を示すために再び
実施例1の操作が繰返された。 かわシに、酸性9)カーボンブラック予備被覆(メッキ
)分散液浴◆7が用^られた。各分散液における選ばれ
た界面活性剤及びカーボンブラヅクの割合は各々2.5
重量優であった。分散液を調製する前に、分散液の残シ
を構成している脱イオン水はHCj2で1.0規定溶液
に酸性化された。 用いられた9)カーボンブラック粒子と界面活性剤は分
散液及びボイド特性とともに表4に示す。 表4から分るように、ボイド特性は実施例20、23及
び25ではボイドがよシ少なかった(孔のたった約1〜
2餐にボイト゛があった)。全ての実施例が標準ンルダ
ー衝撃テストで良好な接着を示した。 ?施例 26 商業的iパターンメッキ工程の採用 多層及び両サイド鋼エポキシ/ガラス繊維回路板が本発
明の方法によって商業的■工程で処理された。銅板及び
エポキシ樹脂/ガラス繊維層を通して少くとも50個の
孔、直径約1.0箇が穿孔され、そしてイガとシ(パリ
とシ)された。 これらの穿孔されそしてばb取シされた回路板は、最初
に板の表面を機械的にスクラビングし、次いで以下の順
序で水性浴中に所定の時間浸漬することによって像形成
及び銅メノキ用に作製された。 浴1. クリーナー/コンディショナー溶液  (4分
)浴2,洗浄             (2分)浴5
.過硫酸ナトリウムミクロエッチング  (1分)浴4
.洗浄             (2分)浴5. 1 0 % H2SO4溶液 (2分) 浴6. 洗浄 (2分) 浴2 9)カーボンブラック予備メッキ分散液   (
4分)〔185〜190℃で10分乾燥〕浴a 過硫酸
ナトリウムミクロエッチング   (2分)浴2洗浄 (2分) 浴1は板の孔壁表面から油脂と他の不純物を除去するた
めの水中のモノメタノールアミンとエチレングリコール
から本質的になるクリーナー/コンディショナー成分を
含有する水溶液であった。このクリーニングを促進する
ために浴は約148下に加熱された。クリーナー/コン
ディショナーはPhilip A. Hunt Cbe
mica1社によってクリーナー/コンディショナー1
02の商品名で販売されている。 浴3は室温の水性浴であり、そして0.5重量嘩の濃H
2SOIlと一緒に脱イオン水1リノトル当!)20O
fの過硫酸ナトリウムを含有していた。 その目的は板の銅表面をミクロエッチングすることであ
った。ミクロエッチングは,  PhlipA. Hu
nt Chemica1社よシ入手できるMI(Xi−
KTCH601であった。 浴5は10重量多のH2SO4を含有する室温の脱イオ
ン水の浴であった。この浴の目的は板の表面から銅酸化
物を除去することであった。 浴7は本発明の9)カーボンブラック予備メッキ(予備
被覆)戒分を含有する脱イオン水の室温の浴であった。 この浴における処理成分は次のとふ・シであった。 0.06重量多 ア=オン系界面活性剤■0.46重量
係 水酸化カリウム■ 0.31重量多 ヒー−ムドシリカ■ 1.32重量肇   全固形分 浴の残シは脱イオン水であった。 浴8は浴3と同じミクロエッチング組成であった。その
作用は板の銅表面をミクロエノチングしてそれらの表面
から付着した9)カーボンブラックを除くことである。 洗浄浴2、4、6及び9は1つの処理浴から次のものへ
と化学薬品を持越すことを防止するために用いられた。 上記の浴の順序で処理された後、回路板は次いで機械的
にスクラビングされ、そして像形成工程、続いて銅電気
メッキ工程に送られた。 得られた電気メッキ板の試験によシ孔壁が比較的均一な
銅層(即ち、約1ミル±0.;”ル)で覆われそして′
ドッグボーニングゝがないことが分った。標準ンルダー
衝撃テXトでは、エポキ7/ガラス繊維層成分の孔壁に
電気メンキされた銅は良好な接着(即ち、剥離しない)
を有していた。これらのメッキされた回路板は又、xp
aテス} 2.4.21 ’熱的な接着強度′及び工p
c−TR−578に記載されている2ミル(M工L)仕
様(Specification) 851100 ’
長期熱衝撃試験及び熱サイクル試験′に合格した。 ■ アニオン系界面活性剤MAPHOS 56 − M
azer(!hemical社製(90重量優の界面活
性剤、10重量優の水)。 ■ 固体水酸化カリウムぼレソト(86重量優のKOH
、14重量蝿の水)。 ■ C!AB−0−SIL M61−7SDヒユームド
シリカ(cabot社製) ■ RAVEN 35009)カーボンブラック( C
a’bot社製)比較例 1及び2 カーボンブラック予備メッキ浴7がグラファイトを含有
するように変性されたことを除いて実施例1の操作が繰
シ返された。2つのグラファイト配合物は次のと唄シ調
製された。 比較例1 5.6重量% KOH(86%) 5.7重量%  CAB−0−S工I, MS−7SD
2、5重量優 MAPROS 56 ( 9 0%)比
較例2 1.1重量% KOH(86%) 0.7重量多 1:!AB−0−SIL MS−7SD
O.5重量% MAPHOS 56  ( 9 0%)
各配合物の残シは、脱イオン水であった。固体の平均粒
度はH工AC粒度測定器で測シ、そして?方の配合物と
も五1ミクロンの直径と1117の平均容積であった。 メッキ後、回路板の貫通孔の欠陥を検査した。比較例1
の配合物で予備メッキ処理された板は、わずかのボイド
しか認められ■かったが、ソルダー衝撃テストで不合格
であった。孔中の銅メツキはエポキシ/ガラス繊維層か
ら剥離してし1つた。エポキシ/ガラス繊維層と剥離し
た銅メヅキとの間に乾燥したグラファイト分散液の層が
可袂的に観察された。厚い層は、銅の接着不足によるも
のと思われた。比較例2の配合物で処理された板では、
ボイドのない孔は皆無か又はほとんどなかった。 この後者のグラファイト配合物では、ボイドのない孔が
ないため標準衝撃テストを行うことができなかった。要
するに、両方のグラファイト配合物は上述した実施例の
9)カーボンブラック配合のものと比較して銅電気メッ
キに対しては全〈劣っていた。 実施例 27 GAF社によって市販されている平均分子量約10,0
00のポリビニルピロリドン(PVP)を界面活性剤と
して使用して実施例1の操作を繰返した。得られた回路
板の特性は、実施例1で造られた回路板の性質と本質的
に同じであった。 実施例 28 液体分散媒として、水のかわシに各々、メタノール、イ
ンプロビルアルコール、t−ブチルアルコール又ハポリ
エチレングリコールを用いて実施例1の操作を繰返した
。いずれの場合も、得られた回路板に1?して孔壁を覆
っている銅にい〈らかのポ′イドがあったが、標準結合
衝撃テストを合格した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)[1]分散液中で約3.0ミクロンより小さい平均
    粒径を有するカーボンブラック粒子; [2]カーボンブラックと相容性のある界面活性剤の有
    効分散量;及び [3]液体分散媒 からなる非導電性表面の金属メッキを増強するのに適す
    る分散液(前記分散液において、カーボンブラックの量
    は非導電性物質表面の実質的に全部を被覆するに充分な
    量であり且つ分散液の約4重量%よりも少ない量であ る)。 2)更に分散液のpHを約10〜約14の範囲に上昇さ
    せるのに充分な量の少なくとも1種の水酸化アルカリを
    分散液中に含有している特許請求の範囲第1項記載の分
    散液。 3)水酸化アルカリが水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
    ム、水酸化リチウム、水酸化アンモニウム及び水酸化カ
    ルシウムからなる群から選ばれる特許請求の範囲第2項
    記載の分散液。 4)更にヒユームドシリカ粒子と水酸化アルカリとの反
    応によつて形成されるアルカリシリケートを分散液中に
    含有している特許請求の範囲第2項記載の分散液。 5)液体分散媒が水である特許請求の範囲第1項記載の
    分散液。 6)液体分散媒が炭素数1〜15のアルキルアルコール
    である特許請求の範囲第1項記載の分散液。 7)約10重量%より少ない固形分を含有している特許
    請求の範囲第1項記載の分散液。8)カーボンブラック
    粒子の初めのpHが約1〜約7.5である特許請求の範
    囲第1項記載の分散液。 9)カーボンブラック粒子の初めのpHが約2〜約4で
    ある特許請求の範囲第8項記載の分散液。 10)カーボンブラック粒子が多孔質の粒子である特許
    請求の範囲第1項記載の分散液。11)界面活性剤がリ
    ン酸エステルアニオン系界面活性剤である特許請求の範
    囲第1項記載の分散液。 12)貫通孔の壁の非導電性部分にカーボンブラックの
    実質的に連続した層が付着されているプリント配線板。 13)カーボンブラックの連続した層中にアルカリシリ
    ケートが混合されている特許請求の範囲第12項記載の
    プリント配線板。 14)貫通孔の壁の非導電性部分にカーボンブラックの
    実質的に連続した層が付着され、その上に金属メッキが
    施されているプリント配線板。 15)金属が銅である特許請求の範囲第14項記載のプ
    リント配線板。
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