JPH03203047A - Information recording medium - Google Patents

Information recording medium

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Publication number
JPH03203047A
JPH03203047A JP1340695A JP34069589A JPH03203047A JP H03203047 A JPH03203047 A JP H03203047A JP 1340695 A JP1340695 A JP 1340695A JP 34069589 A JP34069589 A JP 34069589A JP H03203047 A JPH03203047 A JP H03203047A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
substrate
antireflection layer
refractive index
antireflection
Prior art date
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Pending
Application number
JP1340695A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuru Sawano
充 沢野
Masao Yabe
矢部 雅夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP1340695A priority Critical patent/JPH03203047A/en
Publication of JPH03203047A publication Critical patent/JPH03203047A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the surface protective function as well as to obtain antireflection effect by forming an antireflection layer having specified refractive index and thickness by curing a mixture liquid of florine-contg. resin and monomers or oligomers containing polymerizable double bonds. CONSTITUTION:An antireflection layer 13 having specified refractive index and thickness satisfying formulae I and II is formed on the surface of a sub strate 11 opposite to the side for recording layer 12 on the outgoing side of laser beam. The layer 3 consists of a mixture of monomers and/or oligomers containing polymerizable double bonds, and fluorine-contg. resin or fluorine- contg. monomers. In the formulae I, II, ns is the refractive index of the sub strate, (n) is the refractive index of the antireflection layer, lambda is the wavelength of laser beam used for reproduction and (d) is the thickness of the antireflection layer. Thereby, the layer has high hardness, low refractive index and higher surface protective function as well as antireflection effect. Since the used resin is liquid or soluble in an org. solvent, the antireflection layer 13 can be easily formed by coating at low cost.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明は、レーザーにより情報の記録または再生かり能
な情報記録媒体に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of the Invention] The present invention relates to an information recording medium on which information can be recorded or reproduced using a laser.

[発明の技術的背景] 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は、一般に光ディスクと称され、ビ
デオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容
量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディス
ク・メモリーとして使用されつるものである。さらに、
光カート、光テープなども情報記録媒体として知られて
いる。
[Technical Background of the Invention] In recent years, information recording media that use high energy density beams such as laser light have been developed and put into practical use. This information recording medium is generally called an optical disk and is used as a video disk, an audio disk, a large-capacity still image file, and a large-capacity computer disk memory. moreover,
Optical carts, optical tapes, and the like are also known as information recording media.

ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク(コンパクト
・ディスク(CD))などは再生専用の光ディスクとし
て既に実用化されており、情報の書き込み可能なり R
A W (Direct Read AfterWri
te )型光ディスク、あるいは情報の書き換えが可能
な消去可能型光ディスクについても開発が進んでおり、
一部実用化されている。
Video discs, audio discs (compact discs (CDs)), etc. are already in practical use as playback-only optical discs, and information can be written on them.R
A W (Direct Read AfterWri)
te) type optical discs, or erasable type optical discs on which information can be rewritten, are also being developed.
Some of them have been put into practical use.

このようなりRAW型情報記録媒体は、基本構造として
、プラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と
、この上に設けられたBi、SnsInsTe等の金属
または半金属、あるいは色素からなる記録層とを有する
。光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームを光ディスクに照射することにより行なわれる。
The basic structure of such a RAW type information recording medium is a disc-shaped transparent substrate made of plastic, glass, etc., and a recording layer made of a metal or semimetal such as Bi or SnsInsTe, or a dye provided thereon. has. Information is written on an optical disk by, for example, irradiating the optical disk with a laser beam.

レーザーの照射は、一般に記録または再生の際の塵埃に
よる読み誤りの発生などを緩和するため、通常透光性材
料で形成した基板を介して、記録層あるいは信号形成面
にレーザーをフォーカスすることにより行なわれる。こ
れは記録用光ディスクの場合でも、再生用光ディスクの
場合でも、同様に行なわれる。しかしながら、このよう
に基板側からレーザーを照射することにより、記録また
は再生時に塵埃等の影響を受は難い反面、基板表面での
レーザーの反射による光量の損失が起こるとの問題があ
る。
Laser irradiation is generally performed by focusing the laser on the recording layer or signal forming surface through a substrate made of a translucent material, in order to reduce the occurrence of misreading due to dust during recording or reproduction. It is done. This is done in the same way for both recording optical discs and reproducing optical discs. However, by irradiating the laser from the substrate side in this manner, while recording or reproducing is less likely to be affected by dust or the like, there is a problem in that the amount of light is lost due to reflection of the laser on the substrate surface.

このため、記録可能な情報記録媒体においては、記録時
に大きなレーザーパワーを必要とし、また再生時には反
射信号量が小さくなるため、トラッキングエラーや読み
取りエラーが発生するとの問題かある。あるいは、基板
と記録層との間に屈折率の差が少ない場合は、フォーカ
シングが記録層ではなく基板に行なわれ易いとの問題も
ある。
For this reason, in a recordable information recording medium, a large laser power is required during recording, and since the amount of reflected signals is small during reproduction, there is a problem that tracking errors and reading errors occur. Alternatively, if there is little difference in refractive index between the substrate and the recording layer, there is a problem that focusing is likely to be performed on the substrate rather than the recording layer.

このような問題を解決するため基板の表面に反射防止層
を設けることが、特開昭60−89844号公報および
特開昭60−138749号公報に開示されている。特
開昭60−89844号公報には、再’を用光ディスク
で、反射防止層として、hC折率が基板と異なる値を有
し、層厚dが、d−λ/4n(但し、人は再生時に用い
るレーザーの波長を表)(但し、λは反射防止層の屈折
率を表わすンを満足する範囲にある値を存するMgF2
等の材料からなる層が開示されている。また、特開昭6
0−138749号公報には、記録または再生用光ディ
スクであって、反射防止層としては、屈折率が、 n 
= FT、  (但し、nsは基板の屈折率を表)(但
し、λは反射防止層の屈折率を表わす)で、層Ndが、
上記と同じd=λ/ 4 nを満足する範囲にある値を
有するMgF2,3N a F−A I F 3等の材
料からなる層が開示されている。
In order to solve this problem, providing an antireflection layer on the surface of the substrate is disclosed in JP-A-60-89844 and JP-A-60-138749. JP-A No. 60-89844 discloses that an optical disk for reproduction is used as an anti-reflection layer, the hC refractive index is different from that of the substrate, and the layer thickness d is d-λ/4n (however, for humans, (Table shows the wavelength of the laser used during reproduction) (However, λ represents the refractive index of the antireflection layer.
Layers made of materials such as: Also, JP-A-6
0-138749 discloses an optical disc for recording or reproduction, in which the antireflection layer has a refractive index of n
= FT, (where ns represents the refractive index of the substrate) (where λ represents the refractive index of the antireflection layer), and the layer Nd is
A layer made of a material such as MgF2, 3N a F-A IF 3 having a value in a range satisfying the same d=λ/4 n as described above is disclosed.

上記のような反射防止層は、基板表面での反射率を低下
させることから、上記トラッキングエラーや読み取りエ
ラーの発生防止には有効であるが、該防止層の材料が無
機物であるため該層を形成するのに真空蒸着、スパッタ
リング等の真空成膜を行なう必要があり、コスト高とな
る、上程が複雑になる等の製造上の不利がある。さらに
、このような無機物の層の表面は硬度等が充分でなく、
傷付き易いとの問題がある。
The anti-reflection layer described above is effective in preventing the above-mentioned tracking errors and reading errors because it reduces the reflectance on the substrate surface, but since the material of the anti-reflection layer is inorganic, it is difficult to To form the film, it is necessary to perform vacuum film formation such as vacuum evaporation or sputtering, which has disadvantages in manufacturing such as high cost and complicated process. Furthermore, the surface of such an inorganic layer does not have sufficient hardness, etc.
There is a problem with being easily damaged.

[発明の目的J 本発明は、塗布法により簡便に製造することができる反
射防止層を有する新規な情報記録媒体を提供することを
目的とする。
[Objective of the Invention J An object of the present invention is to provide a novel information recording medium having an antireflection layer that can be easily manufactured by a coating method.

また、本発明は、反射防止層を有する光ディスクであっ
て、低い記録パワーで記録が可能で、且つサーボ信号あ
るいは情報信号等の再生信号のゲインが増大した新規な
情報記録媒体を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide a new information recording medium, which is an optical disc having an antireflection layer, which can be recorded with low recording power, and has an increased gain of reproduction signals such as servo signals or information signals. purpose.

また、本発明は、高い反射率を有し且つ記録信号を再生
する際にトラッキングエラー等の再生エラーなどか発生
しない新規な情報記録媒体を提供することを目的とする
Another object of the present invention is to provide a novel information recording medium that has a high reflectance and does not cause reproduction errors such as tracking errors when reproducing recorded signals.

さらに、本発明は、反射率の低下防止に加えて表面の傷
付き防止などの光ディスクを保護する機能においても優
れた高強度の反射防止層を有する情報記録媒体を提供す
ることを目的とする。
A further object of the present invention is to provide an information recording medium having a high-strength antireflection layer that is excellent not only in preventing a decrease in reflectance but also in protecting an optical disk, such as preventing scratches on the surface.

[発明の要旨] 本発明は、基板上にレーザーにより情報の書き込みまた
は読み取りが可能な記録層が設けられ且つ該基板の記録
層が設けられていない側の表面に反射防止層が設けられ
てなる情報記録媒体において、 該反射防止層が、 重合性二重結合を有するモノマーおよび/またはオリゴ
マーとフッ素含有樹脂との混合物の硬化物からなり、且
つ 下記の式(I)ニ ーrFV、xO,8≦n≦FGx  1.2    (
I )(但し、n5は基板の屈折率を表)(但し、λは
反射防止層の屈折率を表わす) を満足する範囲にある屈折率および 下記の式(■): λ/4nX0.9≦d≦λ/4nx  1.+  (I
I)(但し、λは再生時に用いるレーザーの波長を表)
(但し、λは反射防止層の屈折率を表わし、そしてdは
反射防止層の層厚を表わす) を満足する範囲にある層厚を 有することを特徴とする情報記録媒体(A)、および 基板トにレーザーにより情報の書き込みまたは読み取り
か可能な記録層が設けられ且つ該基板の記録層が設けら
れていない側の表面に反射防止層が設けられてなる情報
記録媒体において、該反射防止層が、 重合性二重結合を有するフッ素含有モノマ〜とその他の
モノマーおよび/またはオリゴマーとの混合物の硬化物
からなり、且つ に記の式(I): を満足する範囲にある屈折率および 上記の式(■): を満足する範囲にある層厚を イfすることを特徴とする情報記録媒体(B)にある。
[Summary of the Invention] The present invention comprises a substrate provided with a recording layer on which information can be written or read by a laser, and an antireflection layer provided on the surface of the substrate on the side where the recording layer is not provided. In the information recording medium, the antireflection layer is made of a cured product of a mixture of a monomer and/or oligomer having a polymerizable double bond and a fluorine-containing resin, and has the following formula (I): rFV, xO, 8≦ n≦FGx 1.2 (
I ) (where n5 represents the refractive index of the substrate) (however, λ represents the refractive index of the antireflection layer) and the following formula (■): λ/4nX0.9≦ d≦λ/4nx 1. + (I
I) (However, λ represents the wavelength of the laser used during reproduction)
(However, λ represents the refractive index of the antireflection layer, and d represents the layer thickness of the antireflection layer.) In an information recording medium in which a recording layer on which information can be written or read by a laser is provided on the substrate, and an antireflection layer is provided on the surface of the substrate on which the recording layer is not provided, the antireflection layer is , consisting of a cured product of a mixture of a fluorine-containing monomer having a polymerizable double bond and other monomers and/or oligomers, and having a refractive index within a range satisfying the following formula (I) and the above formula: (■): The information recording medium (B) is characterized in that the layer thickness is within a range that satisfies the following.

上記本発明の情報記録媒体(A)または(B)の好まし
い態様は以下の通りである。
Preferred embodiments of the information recording medium (A) or (B) of the present invention are as follows.

1)上記重合性二重結合が、アクリロイル基またはメタ
クリロイル基であることを特徴とする上記情報記録媒体
(A)または(B)。
1) The information recording medium (A) or (B), wherein the polymerizable double bond is an acryloyl group or a methacryloyl group.

2)ト記フッ素含有樹脂が、有機溶剤に可溶で且つフッ
素含有モノマーを重合単位として含む重合体、共電合体
あるいはブロック重合体であることを特徴とする上記情
報記録媒体(A)。
2) The information recording medium (A) above, wherein the fluorine-containing resin described in (g) is a polymer, coelectric polymer, or block polymer that is soluble in an organic solvent and contains a fluorine-containing monomer as a polymerized unit.

3)上記フッ素含有樹脂が、フッ素含有アクリルモノマ
ーとメタクリル酸エステルとからなるクシ型グラフト重
合体、フルオロオレフィン・ビニルエーテル共重合体ま
たはフッ素含有エポキシ樹脂であることを特徴とする上
記情報記録媒体(A)。
3) The information recording medium (A), wherein the fluorine-containing resin is a comb-shaped graft polymer composed of a fluorine-containing acrylic monomer and a methacrylic acid ester, a fluoroolefin/vinyl ether copolymer, or a fluorine-containing epoxy resin. ).

4)上記フッ素含有モノマーが、アクリルエステルまた
はメタクリルエステルで、エステル側鎖にフッ素化炭素
を有することを特徴とする上記情報記録媒体(B)。
4) The information recording medium (B), wherein the fluorine-containing monomer is an acrylic ester or a methacrylic ester and has a fluorinated carbon in the ester side chain.

5)上記モノマーおよび/またはオリゴマーとフッ素含
有樹脂との比が、重量比で98:2〜30ニア0の範囲
にあることを特徴とする上記情報記録媒体(A)。
5) The above information recording medium (A), wherein the ratio of the above monomer and/or oligomer to the fluorine-containing resin is in the range of 98:2 to 30:0 by weight.

6)上記フッ素含有モノマーとフッ素含有モノマー以外
のモノマーおよび/またはオリゴマーとの比が、重量比
で98=2〜30 : 70の範囲にあることを特徴と
する上記情報記録媒体(B)。
6) The information recording medium (B), wherein the ratio of the fluorine-containing monomer to the monomer and/or oligomer other than the fluorine-containing monomer is in the range of 98=2 to 30:70 by weight.

7)上記入が500〜1000 n mの範囲にあるこ
とを特徴とする上記情報記録媒体(A)または(B)。
7) The above-mentioned information recording medium (A) or (B), characterized in that the above-mentioned thickness is in the range of 500 to 1000 nm.

8)上記記録層が1色素からなる層であることを特徴と
する上記情報記録媒体(A)または(B)。
8) The above-mentioned information recording medium (A) or (B), wherein the above-mentioned recording layer is a layer consisting of one dye.

9)上記記録層上に、反射層が積層されていることを特
徴とする上記情報記録媒体(A)または(B)。
9) The above-mentioned information recording medium (A) or (B), characterized in that a reflective layer is laminated on the above-mentioned recording layer.

10)L記記録層上に、反射層および保護層がこの順で
積層されていることを特徴とする上記情報記録媒体(A
)または(B)。
10) The above information recording medium (A) characterized in that a reflective layer and a protective layer are laminated in this order on the L recording layer.
) or (B).

尚、本発明の各層の屈折率は以下のように測定した。Incidentally, the refractive index of each layer of the present invention was measured as follows.

基板はそのまま波長780nm (半導体レーザー)の
光を用いて23℃にて測定した。
The substrate was measured as it was at 23° C. using light with a wavelength of 780 nm (semiconductor laser).

反射防止層、スピンコーター法にてガラス板上に500
〜1500Xの薄膜を形成し、これを波長780nm(
半導体レーザー)の光を用いて23℃にて測定した。
Anti-reflection layer, 500% coated on a glass plate using a spin coater method.
A thin film of ~1500X was formed, and this was heated to a wavelength of 780 nm (
Measurements were made at 23°C using light from a semiconductor laser).

一般に、基板材料のプラスチックの屈折率は1.4〜1
.6である。
Generally, the refractive index of the plastic substrate material is 1.4 to 1.
.. It is 6.

[発明の効果〕 本発明は、上記のように記録層を有する基板表面と反対
側の表面であるレーザー光の入射側の基板表面に重合性
二重結合を有するモノマーおよびオリゴマーからなる紫
外線硬化型樹脂と、フッ素含有樹脂またはフッ素含有モ
ノマーとの混合物の硬化物からなる反射防止層が設けら
れている。
[Effects of the Invention] As described above, the present invention provides an ultraviolet curable type of monomer and oligomer having a polymerizable double bond on the substrate surface on the laser beam incident side, which is the surface opposite to the substrate surface having the recording layer. An antireflection layer made of a cured mixture of a resin and a fluorine-containing resin or a fluorine-containing monomer is provided.

このようなフッ素含有した紫外線硬化型樹脂の硬化物か
らなる反射防止層は、液状又は有機溶剤に可溶な樹脂を
用いているので、塗布法により簡便に且つ低コストで製
造することができる。 また、一般に高い硬度を有し強
度も大きい紫外線硬化型樹脂に、低い屈折率を有するフ
ッ素含有モノマーあるいはフッ素含有樹脂のフッ素含有
化合物を含有させることによって、比較的低い屈折率を
有し、すなわち大きな反射防止効果を有し且つ被膜強度
は高い反射防止層を得ることができる。
Since such an antireflection layer made of a cured product of a fluorine-containing ultraviolet curable resin uses a liquid or organic solvent-soluble resin, it can be manufactured easily and at low cost by a coating method. In addition, by incorporating a fluorine-containing monomer with a low refractive index or a fluorine-containing compound of a fluorine-containing resin into an ultraviolet curable resin that generally has high hardness and high strength, it has a relatively low refractive index, that is, a large An antireflection layer having an antireflection effect and high film strength can be obtained.

本発明の反射防止層は、上記のように従来の反射防止層
の有する光ディスクと同様に基板表面での光の反射を防
いで、記録層表面での反射率の低下を防止する機能を有
する。従って、情報を低いレーザーパワーで記録するこ
とができ、且つトラッキング等のサーボ信号あるいは情
報信号等の再生信号のゲインを増大させることができる
。これにより、記録信号を再生する際、トラッキングエ
ラー等の再生エラーなどの発生を顕著に減少させること
ができる。
As described above, the antireflection layer of the present invention has the function of preventing reflection of light on the substrate surface and preventing a decrease in reflectance on the surface of the recording layer, similar to the conventional optical disc having an antireflection layer. Therefore, information can be recorded with low laser power, and the gain of a reproduction signal such as a servo signal for tracking or an information signal can be increased. Thereby, when reproducing a recorded signal, occurrence of reproduction errors such as tracking errors can be significantly reduced.

さらに、本発明の反射防止層は、上記のように紫外線硬
化型樹脂を用いているので高い硬度を有し強度も大きい
ことから、表面の傷付き防止、光ディスクの耐久性の向
上などの保護機能も示すものである。
Furthermore, since the antireflection layer of the present invention uses an ultraviolet curable resin as described above, it has high hardness and strength, so it has protective functions such as preventing scratches on the surface and improving the durability of optical discs. It also shows.

[発明の詳細な記述] 本発明者等は、小さなレーザーパワーで記録ができ、得
られた記録信号を再生した際の反射信号量が大きい、す
なわちトラッキングエラーや読み取りエラーか少ない反
射防止層付き情報記録媒体であって、製造が容易で、耐
久性に優れたものを開発するため研究を重ねてきた。
[Detailed Description of the Invention] The present inventors have devised information with an anti-reflection layer that can be recorded with a small laser power and has a large amount of reflected signal when the obtained recorded signal is reproduced, that is, there are fewer tracking errors and reading errors. Research has been conducted to develop a recording medium that is easy to manufacture and has excellent durability.

再生した際の反射信号量を大きくするため、基板の記録
層のない側の表面に、反射防止層を設けることは前記の
ように既に知られている。そして、その層厚dが、d=
λ/4n(但し、えは再生時に用いるレーザーの波長を
表)(但し、λは反射防止層の屈折率を表わす)、屈折
率が、n=−/””’ii’−,(但し、nsは基板の
屈折率を表)(但し、λは反射防止層の屈折率を表わす
)が好ましいことも知られている。しかしながら、この
ような反射防止層は、MgF2等の無機物の材料を使用
しているため、この層を設けるにはスパッタリング等に
よる真空成膜を行なう必要があった。従って、コスト高
でありまた製造に長時間を要する、さらに形成された膜
の強度や表面硬度が充分でなく、表面は傷が付き易いな
どの耐久性が劣っているなどの問題があった。本発明者
等は基板表面に塗布することにより形成できて、上記反
射防止層の機能も優れ、且つ保護機能にも優れた材料を
求めて種々検討を行なってきた。
As mentioned above, it is already known to provide an antireflection layer on the surface of the substrate on the side where there is no recording layer in order to increase the amount of reflected signals during reproduction. Then, the layer thickness d is d=
λ/4n (however, e represents the wavelength of the laser used during reproduction) (however, λ represents the refractive index of the antireflection layer), and the refractive index is n=-/""'ii'-, (however, It is also known that ns represents the refractive index of the substrate (where λ represents the refractive index of the antireflection layer). However, since such an antireflection layer uses an inorganic material such as MgF2, it is necessary to perform vacuum film formation by sputtering or the like to provide this layer. Therefore, there are problems such as high cost and long manufacturing time, and the formed film has insufficient strength and surface hardness, and the surface is easily scratched and has poor durability. The present inventors have conducted various studies in search of a material that can be formed by coating on the surface of a substrate, has an excellent antireflection layer function, and also has an excellent protective function.

本発明者等の検討により、上記材料の中で、紫外線硬化
型樹脂は、一般に高い硬度を有し強度も大きいものであ
るが、屈折率が光ディスクの基板の材料であるプラスチ
ックに比べてそれ程低いとはいえず、顕著な反射防止効
果が得られるとは言い難い。また、フッ素含有モノマー
、フッ素含有樹脂などのフッ素含有化合物は、比較的低
い屈折率を有し顕著な反射防止効果を得ることができる
が、得られる被膜の強度は高いものとはいえないことが
明らかとなった。
The inventors have found that among the above materials, ultraviolet curable resins generally have high hardness and strength, but their refractive index is much lower than that of plastic, which is the material for the substrate of optical disks. However, it is difficult to say that a remarkable antireflection effect can be obtained. In addition, fluorine-containing compounds such as fluorine-containing monomers and fluorine-containing resins have a relatively low refractive index and can provide a remarkable antireflection effect, but the strength of the resulting coating may not be high. It became clear.

このような知見を基に、さらに検討を重ねた結果、該反
射防止層を形成する材料として、重合性二重結合を有す
るモノ7−および/またはオリゴマーからなる紫外線硬
化型樹脂中に、フッ素含有樹脂またはフッ素含有モノマ
ーを添加した混合物を使用して、これを光硬化して反射
防止層とすることにより、上記目的が達成できることが
明らがとなった。
Based on this knowledge, we conducted further studies and found that the material for forming the antireflection layer is a UV-curable resin made of mono-7- and/or oligomers having polymerizable double bonds that contains fluorine. It has been found that the above object can be achieved by using a mixture to which a resin or a fluorine-containing monomer is added and photocuring this to form an antireflection layer.

すなわち、反射防止層として、重合性二重結合を有する
モノマーおよび/またはオリゴマーとフッ素含有樹脂と
の混合物の硬化物あるいは重合性二重結合を有するフッ
素含有モノマーと該フッ素含有モノマー以外の重合性二
重結合を有するモノマーおよび/またはオリゴマーとの
混合物の硬化物からなり、且つ下記の式(工〉: Fl)X O,8≦n≦fj;−x  1.2    
(I )(但し、nsは基板の屈折率を表)(但し、λ
は反射防止層の屈折率を表わす) を満足する範囲にある屈折率および 下記の式(■): λ/4nX0.9≦d≦λ/4nx  1.1  (I
I)(但し、えは再生時に用いるレーザーの波長を表)
(但し、λは反射防止層の屈折率を表わし、そしてdは
反射防止層の層厚を表わす) を満足する範囲にある層厚を 有する層が基板の記録層と反対側の表面に形成された情
報記録媒体により達成することができる。このような構
成を採ることにより、紫外線硬化型樹脂の高い強度を維
持しながら屈折率を低下させることができる。
That is, as an antireflection layer, a cured product of a mixture of a monomer and/or oligomer having a polymerizable double bond and a fluorine-containing resin, or a fluorine-containing monomer having a polymerizable double bond and a polymerizable resin other than the fluorine-containing monomer is used. Consisting of a cured product of a mixture with a monomer and/or oligomer having a double bond, and having the following formula (Fl)X O, 8≦n≦fj; -x 1.2
(I) (However, ns represents the refractive index of the substrate) (However, λ
represents the refractive index of the antireflection layer) and the following formula (■): λ/4nX0.9≦d≦λ/4nx 1.1 (I
I) (However, E indicates the wavelength of the laser used during reproduction.)
(However, λ represents the refractive index of the antireflection layer, and d represents the layer thickness of the antireflection layer.) A layer having a thickness within a range that satisfies the following is formed on the surface of the substrate opposite to the recording layer. This can be achieved using an information recording medium. By adopting such a configuration, the refractive index can be lowered while maintaining the high strength of the ultraviolet curable resin.

本発明の情報記録媒体を添付図面を参照しながら詳しく
説明する。
The information recording medium of the present invention will be explained in detail with reference to the accompanying drawings.

第1図および第2図は、本発明の情報記録媒体の基本的
構成を示す断面図の一例である。
FIG. 1 and FIG. 2 are examples of cross-sectional views showing the basic structure of the information recording medium of the present invention.

第1図は、基板11、その上に設けられた記録層!2お
よび記録層と反対側の基板表面に設けられた反射防止層
13からなる情報記録媒体の断面図である。
FIG. 1 shows a substrate 11 and a recording layer provided thereon! 2 and an antireflection layer 13 provided on the surface of the substrate opposite to the recording layer. FIG.

第2図は、基板21.その上に記録層22、反射R24
および保護層25が順に積層され、さらに基板の記録層
が設けられていない側の表面に反射防止層23が設けら
れた情報記録媒体の断面図である。
FIG. 2 shows the substrate 21. On top of that, a recording layer 22, a reflective R24
FIG. 3 is a cross-sectional view of an information recording medium in which a protective layer 25 and a protective layer 25 are sequentially laminated, and an antireflection layer 23 is further provided on the surface of the substrate on which the recording layer is not provided.

上記第1図または第2図で示される情報記録媒体(光デ
ィスク)の基板は一般にポリカーボネート等のプラスチ
ック材料であり、記録層は金属、色素あるいは高分子な
どのレーザーにより記録が可能な材料であればよい。第
2図のように記録層上に、反射層および保護層が設けら
れる場合は、一般に反射率の低い色素からなる記録層で
ある場合が多い。
The substrate of the information recording medium (optical disk) shown in Fig. 1 or Fig. 2 above is generally made of a plastic material such as polycarbonate, and the recording layer is made of a material such as metal, dye, or polymer that can be recorded by laser. good. When a reflective layer and a protective layer are provided on the recording layer as shown in FIG. 2, the recording layer is generally made of a dye having a low reflectance.

上記基板の記録層が設けられていない側の基板表面に形
成された反射防止層13および23は、屈折率nをFC
(nsは基板の屈折率)に近い値にすれば基板表面での
反射率を0に近づけることができ好ましく、その層厚d
をλ/4n(λは再生時に用いるレーザーの波長、nは
反射防止層の屈折率)に近い値にすることにより、基板
での反射光と反射防止層に反射光との位相が互にほぼ逆
相となり基板表面での反射率を低減することができ好ま
しい。例えば、基板がポリカーボネート製の場合、ポリ
カーボネートの屈折率は1,58なので反射防止層の屈
折率としては1.26付近(式(I)より1.01〜1
.51の範囲にあることが必要)であることが好ましく
、また層厚は、反射防止層の屈折率(n)が1.45で
、再生時レーザーの波長(ん)が7aonmの時、13
50え付近(式(n)より1210〜1479Xの範囲
であることが必要)であることが好ましいと言える。
The antireflection layers 13 and 23 formed on the surface of the substrate on the side where the recording layer is not provided have a refractive index n of FC
(ns is the refractive index of the substrate) is preferable because the reflectance on the substrate surface can be made close to 0, and the layer thickness d
By setting λ to a value close to λ/4n (λ is the wavelength of the laser used during reproduction, n is the refractive index of the anti-reflection layer), the phases of the light reflected on the substrate and the light reflected on the anti-reflection layer are approximately equal to each other. This is preferable since the phase is reversed and the reflectance on the substrate surface can be reduced. For example, when the substrate is made of polycarbonate, the refractive index of polycarbonate is 1.58, so the refractive index of the antireflection layer is around 1.26 (1.01 to 1 from formula (I)).
.. When the refractive index (n) of the antireflection layer is 1.45 and the wavelength (n) of the laser during reproduction is 7 aonm, the layer thickness is preferably within the range of 13 nm.
It can be said that it is preferable that it is around 50X (according to formula (n), it needs to be in the range of 1210 to 1479X).

上記反射防止層は、本発明では、重合性二重結合を有す
るモノマーおよび/またはオリゴマーからなる紫外線硬
化型樹脂中に、フッ素含有樹脂またはフッ素含有モノマ
ーを添加した混合物の光硬化物からなることが必要であ
る。これらの樹脂を用いて該防止層の屈折率および層厚
を上記の範囲内になるように設定して形成することによ
り、本発明の反射防止層を設けることができる。本発明
では、これらの樹脂を基板表面に塗布乾燥することによ
り簡嚇に形成することができる。
In the present invention, the antireflection layer may be made of a photocured mixture of a fluorine-containing resin or a fluorine-containing monomer added to an ultraviolet curable resin made of a monomer and/or oligomer having a polymerizable double bond. is necessary. The antireflection layer of the present invention can be provided by using these resins and forming the antireflection layer with the refractive index and layer thickness set within the above ranges. In the present invention, these resins can be easily formed by coating and drying the resin on the surface of the substrate.

尚、本発明の構成と類似したアクリルモノマーとフッ素
化アクリルモノマーとが紫外線硬化により形成された共
重合体が基板の記録層が設けられていない表面に保護層
として形成された例が特開昭62−21113号公報に
記載されている。
In addition, an example in which a copolymer formed by UV curing of an acrylic monomer and a fluorinated acrylic monomer similar to the structure of the present invention is formed as a protective layer on the surface of the substrate on which the recording layer is not provided is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. It is described in No. 62-21113.

しかしながら、この層は保護層のため層厚が20μmと
厚く本発明の反射防止の効果はほとんど得られない。
However, since this layer is a protective layer, the layer thickness is as thick as 20 μm, and the antireflection effect of the present invention is hardly obtained.

本発明の情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような
方法を用いて行なうことができる。
The information recording medium of the present invention can be produced using, for example, the method described below.

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板材料の例としては、ガラス(n 
= 1.52〜1.55) 、ポリメチルメタクリレ−
h (n = 1.49)等のアクリル樹脂(n = 
1.45〜1.50) ;ポリ塩化ビニル(n = 1
.54〜1.55) 、塩化ビニル共重合体等の塩化ビ
ニル系樹脂;エポキシ樹脂(n=1.55) ;ポリカ
ーボネート樹脂(n = 1.58) 、アモルファス
ポリオレフィン(n=1゜51〜1.55)およびポリ
エステル(n = 1.52〜1.57)を挙げること
ができる。好ましくは、基板の光学的特性、平面性、加
工性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点
から、ポリカーボネート、ポリオレフィンおよびセルキ
ャストポリメチルメタクリレートを挙げることができる
The substrate used in the present invention can be arbitrarily selected from various materials used as substrates for conventional information recording media. Examples of substrate materials include glass (n
= 1.52-1.55), polymethyl methacrylate
Acrylic resin (n = 1.49) such as h (n = 1.49)
1.45-1.50); Polyvinyl chloride (n = 1
.. 54-1.55), vinyl chloride resins such as vinyl chloride copolymers; epoxy resins (n=1.55); polycarbonate resins (n=1.58), amorphous polyolefins (n=1°51-1.55); 55) and polyesters (n = 1.52-1.57). Preferred materials include polycarbonate, polyolefin, and cell-cast polymethyl methacrylate from the viewpoint of substrate optical properties, flatness, processability, handleability, stability over time, manufacturing cost, and the like.

本発明の反射防止層は、記録層が設けられない基板表面
に形成される必要がある。本発明では、有機溶剤中に溶
解したフッ素含有樹脂またはフッ素含有モノマーを含む
紫外線硬化型樹脂をそのままあるいはさらに有機溶剤に
溶解して塗布液を調製し、基板上に塗布乾燥(光硬化)
することにより、反射防止層が設けられる。尚、反射防
止層の形成は、基板上に記録層、所望により、反射層、
保護層等を形成した後該基板の記録層が設けられていな
い側に設けても良いし、記録層を設ける前に基板の記録
層が設けられない側に先に設けても良い。
The antireflection layer of the present invention needs to be formed on the surface of the substrate on which the recording layer is not provided. In the present invention, a fluorine-containing resin dissolved in an organic solvent or an ultraviolet curable resin containing a fluorine-containing monomer is prepared as it is or further dissolved in an organic solvent to prepare a coating solution, and the coating solution is coated on a substrate and dried (photocuring).
By doing so, an antireflection layer is provided. The antireflection layer is formed by forming a recording layer on the substrate, optionally a reflective layer,
After forming the protective layer etc., it may be provided on the side of the substrate where the recording layer is not provided, or it may be provided first on the side of the substrate where the recording layer is not provided before forming the recording layer.

本発明のフッ素含有樹脂またはモノマーを含む紫外線硬
化型樹脂の硬化物からなる反射防止層は、重合性二重結
合を有するモノマーおよび/またはオリゴマーを紫外線
または電子線の照射により硬化させることにより形成さ
れるものである。
The antireflection layer made of a cured product of an ultraviolet curable resin containing a fluorine-containing resin or a monomer of the present invention is formed by curing a monomer and/or oligomer having a polymerizable double bond by irradiation with ultraviolet rays or electron beams. It is something that

本発明では、重合性二重結合を有する基としてはアクリ
ロイル基またはメタクリロイル基であることか好ましい
In the present invention, the group having a polymerizable double bond is preferably an acryloyl group or a methacryloyl group.

本発明の用いられる重合性二重結合を有するモノマーお
よびオリゴマーとしては下記の(a)〜(j)の(メタ
)アクリレートを挙げることができる。
Examples of the monomers and oligomers having polymerizable double bonds used in the present invention include the following (meth)acrylates (a) to (j).

(a)N肪族、脂環族および芳香族の2〜6価の多価ア
ルコールおよびポリアルキレングリコールのポリ(メタ
)アクリレート: 例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1
,3−または1,4−ブタンジオール、ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジオール
、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グ
リセリン、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジペ
ンタエリスリトール、水素化ビスフェノールAなどの多
価アルコールおよびジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレ
ングリコールなどのような多価アルコールのポリ(メタ
)アクリレートが挙げられる。
(a) Poly(meth)acrylates of N aliphatic, alicyclic and aromatic di- to hexavalent polyhydric alcohols and polyalkylene glycols: e.g. ethylene glycol, propylene glycol, 1
, 3- or 1,4-butanediol, hexanediol, neopentyl glycol, cyclohexanediol, trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin, sorbitol, pentaerythritol, dipentaerythritol, hydrogenated bisphenol A, and other polyhydric alcohols; Examples include poly(meth)acrylates of polyhydric alcohols such as diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, and the like.

(b)脂肪族、脂環族および芳香族の2〜6僅の多価ア
ルコールにアルキレンオキサイドを付加させた形の多価
アルコールのポリ(メタ)アクリレート; 例えばビスフェノールAジオキシエチルエーテルなどの
ように、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、グリセリン、ビスフェノールAなどの多価アルコー
ルにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加
させて得られる多価アルコールのポリ(メタ)アクリレ
ートがあげられる。
(b) Poly(meth)acrylates of polyhydric alcohols in the form of aliphatic, alicyclic, and aromatic polyhydric alcohols with 2 to 6 slightly added alkylene oxides; for example, bisphenol A dioxyethyl ether, etc. Examples include poly(meth)acrylates of polyhydric alcohols obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, and bisphenol A.

(C)ポリ(メタ)アクリロイルオキシアルキルリン酸
エステル; ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートと五酸化リン
との反応によって得られ、例えばポリ(メタ)アクリロ
イルオキシエチルリン酸エステル、ポリ(メタ)アクリ
ロイルオキシプロピルリン酸エステルなどがあげられる
(C) Poly(meth)acryloyloxyalkyl phosphate ester; Obtained by reaction of hydroxyl group-containing (meth)acrylate with phosphorus pentoxide, such as poly(meth)acryloyloxyethyl phosphate, poly(meth)acryloyloxy Examples include propyl phosphate.

(d)ポリエステルポリ(メタ)アクリレート  : ポリエステルポリ(メタ)アクリレートは通常(メタ〉
アクリル酸と多価アルコールと多価カルボン酸とをエス
テル化することによって合成される。ポリエステル型多
価アルコールのポリ(メタ〉アクリレートが主成分であ
ると想定される。
(d) Polyester poly(meth)acrylate: Polyester poly(meth)acrylate is usually (meth)
It is synthesized by esterifying acrylic acid, polyhydric alcohol, and polyhydric carboxylic acid. It is assumed that the main component is poly(meth)acrylate, which is a polyester type polyhydric alcohol.

例えばコハク酸とエチレングリコールとのポリエステル
ジオールのジ(メタ)アクリレート、マレイン酸とエチ
レングリコールとのポリエステルジオールのジ(メタ)
アクリレート、フタル酸とジエチレングリコールとのポ
リエステルジオールのジ(メタ)アクリレート、アジピ
ン酸とトリエチレングリコールとのポリエステルジオー
ルのポリ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフタル酸
とトリメチロールプロパンとのポリエステルポリオール
のポリ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフタル酸と
ペンタエリスリトールとのポリエステルポリオールのポ
リ(メタ)アクリレートなどがあげられる。これらポリ
エステルポリ(メタ〉アクリレートの中では、フタル酸
のような芳香族多価カルボン酸系のものよりも、脂肪族
または脂環族多価カルボン酸系のポリエステルポリ(メ
タ)アクリレートを用いた場合の方が架橋硬化物の耐候
性、強靭性などの物性に優れる利点がある。
For example, di(meth)acrylate of polyester diol of succinic acid and ethylene glycol, di(meth)acrylate of polyester diol of maleic acid and ethylene glycol
Acrylate, di(meth)acrylate of polyester diol with phthalic acid and diethylene glycol, poly(meth)acrylate of polyester diol with adipic acid and triethylene glycol, poly(meth)acrylate of polyester polyol with tetrahydrophthalic acid and trimethylolpropane Examples include acrylate, poly(meth)acrylate of polyester polyol of tetrahydrophthalic acid and pentaerythritol, and the like. Among these polyester poly(meth)acrylates, when using aliphatic or alicyclic polycarboxylic acid-based polyester poly(meth)acrylates rather than aromatic polycarboxylic acid-based ones such as phthalic acid, This has the advantage that the crosslinked cured product has better physical properties such as weather resistance and toughness.

(e)エポキシポリ(メタ)アクリレート;分子中に2
個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂に、エポキシ
基とほぼ当量の(メタ)アクリル酸、カルボキシル基を
有する(メタ)アクリレート、もしくは(メタ)アクリ
ル酸またはカルボキシル基をもつ(メタ)アクリレート
と多塩基酸との混合物を反応させることによって合成さ
れる。あるいはエポキシ基含有(メタ)アクリレートに
多価カルボン酸を反応させるなどの方法もある。
(e) Epoxy poly(meth)acrylate; 2 in the molecule
(meth)acrylic acid, (meth)acrylate having a carboxyl group, or (meth)acrylic acid or (meth)acrylate having a carboxyl group and a polybase in an epoxy resin having more than one epoxy group. It is synthesized by reacting a mixture with an acid. Alternatively, there is also a method of reacting an epoxy group-containing (meth)acrylate with a polyhydric carboxylic acid.

例えばビスフェノールAジグリシジルエーテル型、グリ
セリンジグソシジルエーテル型、ポリアルキレンゲリコ
ールジグリシジルエーテル型、多塩基酸ジグリシジルエ
ステル型、シクロヘキセンオキサイド型などの各エポキ
シ樹脂と(メタ)アクリル酸との付加反応生成物などが
あげられる。
For example, the addition reaction between various epoxy resins such as bisphenol A diglycidyl ether type, glycerin diglycidyl ether type, polyalkylene gellicol diglycidyl ether type, polybasic acid diglycidyl ester type, and cyclohexene oxide type, and (meth)acrylic acid. Things can be given.

(f)ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート  : 上類にポリウレタン結合単位を有する多価アルコールの
(メタ)アクリレートの構造を有し、通常ビトロキシル
基含有(メタ)アクリレートと、ポリイソシアネート及
び必要により多価アルコールとを反応させるなどの方法
で合成される。
(f) Polyurethane poly(meth)acrylate: It has the structure of polyhydric alcohol (meth)acrylate having a polyurethane bonding unit in the upper class, and usually contains bitroxyl group-containing (meth)acrylate, polyisocyanate, and polyhydric alcohol if necessary. It is synthesized by a method such as reacting with

例えば2−ヒドロキシルエチル(メタ)アクリレートま
たは2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートとジ
イソシアネートとの付加反応生成物、2−ヒドロキシル
エチル(メタ)アクリレートとジイソシアネートと2価
アルコールとの付加反応生成物などがこの例に相当する
For example, the addition reaction product of 2-hydroxylethyl (meth)acrylate or 2-hydroxypropyl (meth)acrylate and diisocyanate, the addition reaction product of 2-hydroxylethyl (meth)acrylate, diisocyanate, and dihydric alcohol, etc. Corresponds to an example.

(g)ポリアミドポリ(メタ)アクリレート;主鎖にポ
リアミド結合単位を有する多価アルコールの(メタ)ア
クリレートの構造を有し、通常、ポリアミド型多価カル
ボン酸にとドロキシ基含有(メタ〉アクリレート又はエ
ポキシ基含有(メタ)アクリレートを反応させるか、ポ
リアミド型多価アルコールに(メタ)アクリル酸を反応
させるなどの方法で合成される。
(g) Polyamide poly(meth)acrylate; It has the structure of polyhydric alcohol (meth)acrylate having a polyamide bonding unit in the main chain, and is usually a polyamide-type polycarboxylic acid and a droxy group-containing (meth)acrylate or It is synthesized by reacting an epoxy group-containing (meth)acrylate or by reacting a polyamide-type polyhydric alcohol with (meth)acrylic acid.

例えばエチレンジアミンとフタル酸との反応によって得
られるポリアミド型多価カルボン酸と2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレートまたはグリシジル(メタ)ア
クリレートの反応生成物などがこの例に相当する。
For example, a reaction product of a polyamide-type polycarboxylic acid obtained by the reaction of ethylenediamine and phthalic acid and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycidyl (meth)acrylate corresponds to this example.

(h)ポリシロキサンポリ(メタ)アクリレート; 主鎖にポリシロキサン結合単位を有する多価アルコール
の(メタ)アクリレートの構造を有し、通常ポリシロキ
サン結合単位を有する多価アルコールに(メタ)アクリ
レートを反応させるなどの方法で合成される。
(h) Polysiloxane poly(meth)acrylate; It has a (meth)acrylate structure of a polyhydric alcohol with a polysiloxane bonding unit in the main chain, and (meth)acrylate is usually added to a polyhydric alcohol with a polysiloxane bonding unit. It is synthesized by a method such as a reaction.

(i)側鎖及び/又は末端に(メタ)アクリロイルオキ
シ基を有するビニル系又はジエン系低重合体: ビニル系又はジエン系低重合体の側鎖又は末端に、エス
テル結合、ウレタン結合、アミド結合、エーテル結合な
どを介して(メタ)アクリロイルオキシ基が結合されて
いる構造を有する。通常側鎖または末端にヒドロキシ基
、カルボキシル基、エポキシ基等を有する低重合体に、
これらの基と反応性の(メタ)アクリル酸、カルボキシ
ル基含有(メタ)アクリレート、ヒドロキシル基含有(
メタ)アクリレート、エポキシ基含有(メタ)アクリレ
ート、イソシアネート基含有(メタ〉アクリレート、ア
ミノ基含有(メタ)アクリレートなどを反応させること
によって合成される。
(i) Vinyl-based or diene-based low polymer having (meth)acryloyloxy groups in the side chain and/or terminal: Ester bond, urethane bond, amide bond in the side chain or terminal of the vinyl-based or diene-based low polymer , has a structure in which (meth)acryloyloxy groups are bonded via an ether bond or the like. Low polymers that usually have hydroxy groups, carboxyl groups, epoxy groups, etc. in side chains or terminals,
(meth)acrylic acid, carboxyl group-containing (meth)acrylate, and hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid, which are reactive with these groups.
It is synthesized by reacting meth)acrylate, epoxy group-containing (meth)acrylate, isocyanate group-containing (meth)acrylate, amino group-containing (meth)acrylate, etc.

例えば(メタ)アクリル酸と他のビニルモノマーとの共
重合体にグリシジル(メタ)アクリレートを反応させた
反応生成物などがあげられる。
For example, there may be mentioned a reaction product obtained by reacting a copolymer of (meth)acrylic acid and another vinyl monomer with glycidyl (meth)acrylate.

なお、この系に属する架橋性オリゴマーは、分子量が高
くなると一般に高粘度または固体状になり易いので、後
記のように液体低粘度のモノマー(架橋性単量体)など
に溶解して用いるか、もしくは低分子量(通常数平均分
子量3000以下)の液体オリゴマーを用いることが好
ましい。
In addition, crosslinkable oligomers belonging to this system generally tend to become highly viscous or solid as the molecular weight increases, so they can be used by being dissolved in a liquid low viscosity monomer (crosslinking monomer) as described later, or Alternatively, it is preferable to use a liquid oligomer with a low molecular weight (usually a number average molecular weight of 3000 or less).

(j)前記(a)〜(i)記載の架橋性モノマーの変性
物; 上記の各架橋性rJL量体中に残存するヒドロキシル基
又はカルボキシル基の少なくとも一部を、これらの基と
反応性の酸クロライド、酸無水物、イソシアネート又は
、エポキシ化合物と反応させることによって変性した変
性物であり、変性の方法及び具体例は例えば特開昭49
−128994号公報、特開昭49−128088号公
報などに示される。
(j) Modified products of the crosslinkable monomers described in (a) to (i) above; It is a modified product modified by reacting with an acid chloride, an acid anhydride, an isocyanate, or an epoxy compound.
This is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 128994, Japanese Patent Application Laid-Open No. 128088-1988, and the like.

化合物としては次のようなものである。The compounds are as follows.

i ) CH2=CH−Coo−Cn H2n++ただ
し、nは1〜12の整数 ji) cH2=ct+−coo (CH2(:H2O
) RR=CnH2ns、− ただし、nは1〜12の整数 1ii)  にH2=CH−1;DO(C8,CH20
)2RR=Co)(2ns1− ただし、nは1〜12の整数 iv) ii)及びi ii)の−(:82CH20−
頑をCH。
i) CH2=CH-Coo-Cn H2n++ However, n is an integer from 1 to 12 ji) cH2=ct+-coo (CH2(:H2O
) RR=CnH2ns, - where n is an integer from 1 to 12 1ii) to H2=CH-1;DO(C8,CH20
)2RR=Co)(2ns1- where n is an integer from 1 to 12 iv) ii) and i iii) -(:82CH20-
CH stubbornness.

−C8,−(:)l−0−頻に変えたものv ) CH
2= CHCOOX  OHCH3 X = −CH2(:H2−1−CH2(:)I−(:
H2(:H−0− CH3 vi)その他 テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジシクロベンタ
ジエニロキシエチルアクリレート、水添ジシクロベンタ
ジエニロキシエチルアクリレート vii)     CH3 CH2= C−COOR’ R’  : −CH2CH20H5 −CH2CHCHs τ H CH3 viij) N−ビニルピロリドン iX)イソビニルアクリレート、ジシクロペンタジェニ
ルアクリレート、水添ジシクロベンタジエニルアクリレ
ート X)スチレン これらオリゴマー、モノマー(単官能ビニル化合物)は
、被着材、ディスク構造等に応じ単独もしくは適宜混合
して用いることができる。
-C8, -(:)l-0-frequently changed v ) CH
2= CHCOOX OHCH3 X = -CH2(:H2-1-CH2(:)I-(:
H2 (:H-0- CH3 vi) Other tetrahydrofurfuryl acrylate, dicyclobentadienyloxyethyl acrylate, hydrogenated dicyclobentadienyloxyethyl acrylate vii) CH3 CH2= C-COOR'R' : -CH2CH20H5 - CH2CHCHs τ H CH3 viij) N-vinylpyrrolidone iX) Isovinyl acrylate, dicyclopentadienyl acrylate, hydrogenated dicyclobentadienyl acrylate They can be used alone or in an appropriate mixture depending on the disk structure and the like.

光ffi合開合剤始剤外線で硬化させる場合に必要であ
り(電子線硬化には必要としない)、例としてはベンゾ
インアルキルエーテル、ベンジルケタール、アセタール
類、アセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、キ
サントン誘導体、ベンズアルデヒド誘導体などを挙げる
ことができる。
Optical ffi polymerization initiator Necessary when curing with external radiation (not required for electron beam curing), examples include benzoin alkyl ether, benzyl ketal, acetals, acetophenone derivatives, benzophenone derivatives, xanthone derivatives, Examples include benzaldehyde derivatives.

またE配化合物の具体例としては、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ヘンジイン
イソブチルエーテル、ベンゾフェノン、ペンシル、2,
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2
−ジメトキシ−2−ヒドロキシアセトフェノン、ジフェ
ニルジスルフィド、2−ヒドロキシ−2−プロピオフェ
ノン、4.4゛ −ヒスジエチルアミノベンゾフェノン
、シメチルアミノヘンズアルデヒド、エチル−4゜4°
−ヒスジメチルアミノベンゾフェノン、エチルアントラ
キノン、2−クロロチオキサントンなどを挙げることが
できる。これらの増感剤は単独でも、あるいは適宜組合
わせても使用することができる。
Specific examples of compound E include benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, hendiin isobutyl ether, benzophenone, pencil, 2,
2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2
-dimethoxy-2-hydroxyacetophenone, diphenyl disulfide, 2-hydroxy-2-propiophenone, 4.4゛ -hisdiethylaminobenzophenone, dimethylaminohenzaldehyde, ethyl-4゜4゛
-Hisdimethylaminobenzophenone, ethyl anthraquinone, 2-chlorothioxanthone, etc. can be mentioned. These sensitizers can be used alone or in appropriate combinations.

又必要に応じてシランカップリング剤を用いることがで
きる。シランカップリング剤としては、エポキシシラン
系のシランカップリング剤、例えばγ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、アミノシラ
ン系のシランカップリング剤、例えばN−β−アミノエ
チル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β
−アミノエチル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシ
シラン、ビニルシラン系のシランカップリング剤、例え
ば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランな
どが好ましい。
Moreover, a silane coupling agent can be used if necessary. Examples of the silane coupling agent include epoxysilane-based silane coupling agents, such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, aminosilane-based silane coupling agents, For example, N-β-aminoethyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-aminoethyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane,
-Aminoethyl-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, vinylsilane-based silane coupling agents, such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, are preferred.

本発明では、上記オリゴマーおよびモノマーを含む溶液
(紫外線硬化型樹脂)中に、フッ素含有樹脂またはフッ
素含有モノマーを添加して反射防止層形成用塗布液を調
製する。
In the present invention, a fluorine-containing resin or a fluorine-containing monomer is added to a solution (ultraviolet curable resin) containing the above oligomer and monomer to prepare a coating solution for forming an antireflection layer.

上記フッ素含有樹脂としては、有機溶剤に可溶な樹脂で
あって且つフッ素含有モノマーを重合単位として含む重
合体、共重合体あるいはブロック重合体などのいわゆる
フッ素樹脂、およびフッ素変性樹脂を挙げることができ
る。重合体であるフッ素樹脂の例としては、ポリテトラ
フルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、
ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、テトラフル
オロエチレン−へキサフルオロプロピレン共重合体およ
びフルオロオレフィンービニリエーテル共償金体などを
挙げることができる。
Examples of the fluorine-containing resin include so-called fluororesins such as polymers, copolymers, or block polymers that are soluble in organic solvents and contain fluorine-containing monomers as polymerized units, and fluorine-modified resins. can. Examples of fluororesins that are polymers include polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene,
Examples include polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, and fluoroolefin-vinylyether covalent metal.

上記フッ素樹脂のようなフッ素含有樹脂は、ポリフッ化
ビニリデンのように特定の有機溶剤に可溶なものもある
が、一般に有機溶剤に不溶で、共重合体、ブロック重合
体、グラフト重合体および変性樹脂として他の成分を導
入することによりイi機溶剤に可溶にすることができる
。好ましくは、フッ素含有アクリルモノマーとメタクリ
ル酸エステルとからなるクシ型グラフト重合体、フルオ
ロオレフィン・ビニルエーテル共重合体、ポリフッ化ビ
ニリデンおよびフッ素変性樹脂としてフッ素含有エポキ
シ樹脂を挙げることができる。
Although some fluorine-containing resins such as the above-mentioned fluororesins are soluble in specific organic solvents, such as polyvinylidene fluoride, they are generally insoluble in organic solvents, and include copolymers, block polymers, graft polymers, and modified polymers. By introducing other components as a resin, it can be made soluble in the organic solvent. Preferred examples include a comb-shaped graft polymer comprising a fluorine-containing acrylic monomer and a methacrylic acid ester, a fluoroolefin-vinyl ether copolymer, polyvinylidene fluoride, and a fluorine-containing epoxy resin as the fluorine-modified resin.

上記具体例として、クシ型グラフト重合体であるマクロ
マーF−3など(東亜合成化学工業■製)、フルオロオ
レフィン・ビニルエーテル共重合体であるルミフロンL
F−100、同LF−200など(旭硝子■製)、テト
ラフルオロエチレン・ビス−2,2−トリフルオロメチ
ル−4,5−ジフルオロ−1,3−ジオキソールである
テフロンAF−1600(デュポン社製)などを挙げる
ことができる。またフッ素樹脂のディスバージョンタイ
プのものも塗布可能であれば使用してもよい。
Specific examples of the above include Macromer F-3 (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.), which is a comb-shaped graft polymer, and Lumiflon L, which is a fluoroolefin vinyl ether copolymer.
F-100, LF-200 (manufactured by Asahi Glass), Teflon AF-1600 (manufactured by DuPont), which is tetrafluoroethylene bis-2,2-trifluoromethyl-4,5-difluoro-1,3-dioxole ), etc. A dispersion type of fluororesin may also be used if it can be coated.

一般に、上記フッ素含有樹脂を有機溶剤(例えば、クシ
型グラフト重合体にメチルセロソルブあるいはポリフッ
化ビニリデンにN−メチル−2−ピロリジノンを使用)
に溶解した溶液を上記オリゴマーおよびモノマーを含む
溶液中添加して、反射防止層形成用塗布液を調製する。
Generally, the above fluorine-containing resin is treated with an organic solvent (for example, methyl cellosolve is used for a comb-shaped graft polymer, or N-methyl-2-pyrrolidinone is used for polyvinylidene fluoride).
A solution containing the oligomer and monomer is added to the solution containing the oligomer and monomer to prepare a coating solution for forming an antireflection layer.

L記フッ素含有樹脂を溶解するための溶剤は、溶剤の使
用する樹脂に対する溶解力を考慮して適宜決定して使用
することができる。そのような溶剤としては、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル
、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソ
ルブなどのセロソルブ、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン、ジク
ロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルムな
どのハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、エチル
エーテル、ジオキサンなどのエーテル、エタノール、n
−プロパツール、イソプロパツール、n−ブタノールな
どのアルコール、ジメチルホルムアミドなどのアミド、
2,2,3゜3−テトラフロロプロパツール等フッソ系
溶剤、N−メチル−2−ピロリジノンなどを挙げること
ができる。
The solvent for dissolving the fluorine-containing resin described in L can be appropriately determined and used in consideration of the dissolving power of the solvent for the resin used. Such solvents include esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and cellosolve acetate, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and chloroform. halogenated hydrocarbons such as tetrahydrofuran, ethers such as ethyl ether, dioxane, ethanol, n
- Alcohols such as propatool, isopropatool, n-butanol, amides such as dimethylformamide,
Examples include fluorocarbon solvents such as 2,2,3°3-tetrafluoropropanol, N-methyl-2-pyrrolidinone, and the like.

また上記フッ素含有樹脂と重合性二重結合を有するモノ
マーおよび/またはオリゴマーとの比は、重量比で2二
98〜70 二30の範囲にあることが好ましく、さら
に好ましくは2:98〜60:40の範囲にある。なお
、本発明のイノー機溶剤に可溶なフッ素含有樹脂とは、
塗布に使用する溶剤100gに0.01g以り溶解4能
な樹脂を意味する。
The ratio of the fluorine-containing resin to the monomer and/or oligomer having a polymerizable double bond is preferably in the range of 2:298 to 70:230, more preferably 2:98 to 60: It is in the range of 40. In addition, the fluorine-containing resin soluble in the ino solvent of the present invention is
It means a resin capable of dissolving 0.01 g or more in 100 g of the solvent used for coating.

上記オリゴマーおよびモノマーを含む溶液(紫外線硬化
型樹脂)に重合性二重結合を有するフッ素含有モノマー
を添加して本発明の反射防止層形成用塗布液を調製する
ことができる。上記フッ素含有モノマーとしては、該重
合性二重結合がアクリロイル基またはメタクリロイル基
であることが数的で、好ましくは該エステル側鎖がフッ
化アルキルである。本発明に使用できるフッ素含4fモ
ノマーとして例えば以Fのものを挙げることができる。
The coating solution for forming an antireflection layer of the present invention can be prepared by adding a fluorine-containing monomer having a polymerizable double bond to a solution (ultraviolet curable resin) containing the above oligomer and monomer. In the fluorine-containing monomer, the polymerizable double bond is numerically an acryloyl group or a methacryloyl group, and preferably the ester side chain is a fluorinated alkyl group. Examples of the fluorine-containing 4f monomer that can be used in the present invention include the following F monomers.

(] )  CH2−C(CH3) C00Ct1□C
F3(2) に112=CIICOOCR2CF3(3
)  Ct(2−C(Ctb) C00Ct+□(CF
2)2F(4) CH2−に(:00GHz (CF2
) 2F(5)  GH2=(:(CH3)C00CH
z (CF2):IF(6) (7) (8) (9) (lO) (II) (12) (:H2J: (CL)COO(CH2) 2 (CF
z)aF(:Hz−CHCOO((:L)2(CF2)
aFCH2”C(C)+3) GOOCH2(CF2)
2HCH2−CHCOOCH2(CF2)28(:)1
2−C(1;H3)COO(:)Iz (II:Fz)
JCH2”CHCOOCH2(CF2)4Hマーおよび
モノマーを含む溶液中に添加して、反射防止層形成用塗
布液を調製する。上記モノマーは通常液状であるのでそ
のまま添加すれば良いが、有機溶剤(好ましくはフッ素
アルコールなどのフッ素系溶剤)に溶解した溶液を添加
してもよい。また、上記フッ素含有モノマーとフッ素含
有モノマー以外のモノマーおよび/またはオリゴマーと
の比は、重量比で2=98〜70:30の範囲にあるこ
とが好ましく、さらに好ましくは5=95〜60 : 
40の範囲である。
(] ) CH2-C(CH3) C00Ct1□C
F3(2) to 112=CIICOOCR2CF3(3
) Ct(2-C(Ctb) C00Ct+□(CF
2) 2F (4) CH2- (:00GHz (CF2
) 2F(5) GH2=(:(CH3)C00CH
z (CF2):IF(6) (7) (8) (9) (lO) (II) (12) (:H2J: (CL)COO(CH2) 2 (CF
z)aF(:Hz-CHCOO((:L)2(CF2)
aFCH2”C(C)+3) GOOCH2(CF2)
2HCH2-CHCOOCH2(CF2)28(:)1
2-C(1;H3)COO(:)Iz (II:Fz)
A coating solution for forming an antireflection layer is prepared by adding JCH2''CHCOOCH2(CF2)4Hmer and a monomer to a solution containing the monomer.Since the above monomer is usually in liquid form, it can be added as is, but an organic solvent (preferably A solution dissolved in a fluorine-based solvent (such as fluorine alcohol) may be added.Also, the ratio of the fluorine-containing monomer to the monomer and/or oligomer other than the fluorine-containing monomer is 2=98 to 70: It is preferably in the range of 30, more preferably 5=95-60:
The range is 40.

上記のようにして調製された、上記オリゴマおよびモノ
マーとフッ素含有樹脂またはフッ素合有モノマーとから
なる反射防止層形成用塗布液は、基板の記録層が設けら
れていない側の表面に塗布形成される。なお、L記オリ
ゴマーおよびモノマーを含む塗布液中には、更に有機溶
剤、帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加
剤を目的に応じて添加してもよい。導電性材料等の帯電
防止剤を添加することにより、塵埃などの付着防止に有
効である。
The coating liquid for forming an antireflection layer, which is prepared as described above and consists of the oligomer and monomer and a fluorine-containing resin or a fluorine-containing monomer, is coated on the surface of the substrate on which the recording layer is not provided. Ru. In addition, various additives such as an organic solvent, an antistatic agent, an antioxidant, and a UV absorber may be further added to the coating liquid containing the L oligomer and monomer depending on the purpose. Adding an antistatic agent such as a conductive material is effective in preventing the adhesion of dust and the like.

上記塗布液は、スピンコード、デイツプコート、エクス
トルージョンコートなどの塗布法によりE記塗布液を記
録層のない基板表面に塗布(有機溶剤を含む場合は乾燥
後)後、紫外線照射して硬化させることにより形成する
ことができる。
The above coating liquid should be applied to the surface of the substrate without a recording layer using coating methods such as spin code, dip coating, extrusion coating, etc. (after drying if it contains an organic solvent), and then cured by irradiating it with ultraviolet rays. It can be formed by

上記塗布液を紫外線にて硬化させる場合、高圧水銀灯な
どを用いて、0.1〜60秒間、その塗布層に紫外線を
1〜100cmの距離から照射することにより硬化させ
て、反射防止層を形成することができる。電Y°線によ
り硬化させる場合は、線型加速装置、ハンプグラフ加速
器などの電子加速装置を用いて行なわれる。
When the above coating liquid is cured with ultraviolet rays, the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays from a distance of 1 to 100 cm for 0.1 to 60 seconds using a high-pressure mercury lamp to form an antireflection layer. can do. When curing with electric Y° rays, an electron accelerator such as a linear accelerator or a hump graph accelerator is used.

本発明の反射防止層は、上記紫外線硬化型樹脂、フッ素
含存モノマーおよびフッ素含有樹脂以外にE配属折率を
満足する範囲内で他の樹脂含んでいてもよいが、一般に
屈折率が高くなる傾向があり充分な反射防止効果が得難
い。また、表面が傷付き易くなり保護効果も少なくなる
The antireflection layer of the present invention may contain other resins in addition to the ultraviolet curable resin, fluorine-containing monomer, and fluorine-containing resin within a range that satisfies the E assignment refractive index, but generally the refractive index becomes high. This makes it difficult to obtain a sufficient antireflection effect. Moreover, the surface becomes easily scratched and the protective effect is reduced.

基板−1−には、トラッキング用溝またはアドレスD 
””′、等の情報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグ
ルーブ層および/またはプレピット層が設けられてもよ
い。プレグルーブ層等の材料としては、アクリル酸のモ
ノエステル、ジエステル、トリニスデルおよびテトラエ
ステルのうちの少なくとも種のモノマー(またはオリゴ
マー)と光重合開始剤との混合物を用いることができる
The substrate -1- has a tracking groove or an address D.
A pre-groove layer and/or a pre-pit layer may be provided for the purpose of forming unevenness representing information such as """. As a material for the pregroove layer, etc., a mixture of at least one monomer (or oligomer) of acrylic acid monoester, diester, trinisder, and tetraester and a photopolymerization initiator can be used.

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られたl;I型
(スタンバ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重
合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗4液層
上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線
の照射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させ
る。次いで、基板を母型から剥離することによりプレグ
ルーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層
の層厚は一般に0.05〜100μmの範囲にあり、好
ましくは0.1〜50μmの範囲である。基板材料がプ
ラスチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などに
より直接基板にプレグルーブおよび/またはプレピット
が設けられてもよい。
The pre-groove layer is formed by first coating a mixture of the above acrylic acid ester and polymerization initiator on a precisely made type I (stambar), and then coating the substrate on top of this four-liquid layer. After being placed, the liquid layer is cured by irradiation with ultraviolet rays through the substrate or the mother mold, thereby fixing the liquid phase to the substrate. Next, by peeling the substrate from the mother mold, a substrate provided with a pregroove layer is obtained. The thickness of the pregroove layer is generally in the range of 0.05 to 100 μm, preferably in the range of 0.1 to 50 μm. When the substrate material is plastic, pregrooves and/or prepits may be provided directly on the substrate by injection molding, extrusion molding, or the like.

反射防止層が設けられていない側の基板(またはプレグ
ルーブ層等)上には、記録層が設けられる。
A recording layer is provided on the substrate (or pregroove layer, etc.) on the side where the antireflection layer is not provided.

記録層に用いられる材料が金属の例としては、Te、Z
nsI nsSnsZr%AIL、Cu、Ge等の金属
;Bi、As、Sb等の半金属;Ge、Si等の半導体
;およびこれらの合金またはこれらの組合せを挙げるこ
とができる。また、これらの金属または半金属の硫化物
、酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化
物等の化合物:およびこれらの化合物と金属との混合物
も記録層に用いることができる。ざらに相変化記録に用
いられる高分子化合物等を用いてもよい。
Examples of metal materials used for the recording layer include Te, Z
Mention may be made of metals such as nsI nsSnsZr%AIL, Cu and Ge; metalloids such as Bi, As and Sb; semiconductors such as Ge and Si; and alloys thereof or combinations thereof. Compounds such as sulfides, oxides, borides, silicon compounds, carbides, and nitrides of these metals or semimetals; and mixtures of these compounds and metals can also be used in the recording layer. A polymer compound generally used for phase change recording may also be used.

記録層は、上記の記録材料を蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティングなどの方法によって基板−Lまたは
中間塗布層上に形成することができる。高分子化合物等
は塗布により設けることができる。所望により、中間層
の下に下塗り層を介在させてもよい。記録層は単層また
は重層でもよいが、そのR厚は光情報記録に要求される
光学濃度の点から一般に工OO乃至5500大の範囲で
ある。
The recording layer can be formed on the substrate-L or the intermediate coating layer by using the above recording material by a method such as vapor deposition, sputtering, or ion blasting. The polymer compound etc. can be provided by coating. If desired, an undercoat layer may be interposed below the intermediate layer. The recording layer may be a single layer or a multilayer, but its R thickness is generally in the range of 0.0 mm to 5500 mm in view of the optical density required for optical information recording.

記録層の材料が色素の場合、本発明に使用される色素は
、例えば、イミダゾキノキサリン系色素、インドリジン
系色素などのシアニン系色素、フタロシアニン系色素、
ビリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系
色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなとの金属錯
塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、イ
ンドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフ
ェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、メロシ
アン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げることが
できる。
When the material of the recording layer is a dye, examples of the dye used in the present invention include cyanine dyes such as imidazoquinoxaline dyes and indolizine dyes, phthalocyanine dyes,
Bylylium/thiopyrylium dyes, azulenium dyes, squarylium dyes, metal complex dyes with Ni, Cr, etc., naphthoquinone/anthraquinone dyes, indophenol dyes, indoaniline dyes, triphenylmethane dyes, Examples include allylmethane dyes, merocyan dyes, oxonol dyes, aminium/diimmonium dyes, and nitroso compounds.

以下余白 色素層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤、
金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモニウム系
色素(クエンチャ−)を溶剤に溶解して塗布液を調製し
、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成し
たのち乾燥することにより行なうことができる。
Below, the formation of the margin pigment layer involves adding the above pigment, optionally a binder,
Dissolving a metal complex dye or aminium/diimmonium dye (quencher) in a solvent to prepare a coating solution, then applying this coating solution to the substrate surface to form a coating film, and then drying. I can do it.

L記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、n−プロパツール、イソプロパ
ツール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、2.2.3.3−テトラフロ
ロプロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、50容量
%以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。
Solvents for preparing the dye coating solution listed in L include esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and cellosolve acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone, and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and chloroform. , ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether, and dioxane, alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, and n-butanol, amides such as dimethylformamide, and fluorocarbons such as 2.2.3.3-tetrafluoropropanol. Examples include solvents. Note that these non-hydrocarbon organic solvents may contain hydrocarbon solvents such as aliphatic hydrocarbon solvents, alicyclic hydrocarbon solvents, and aromatic hydrocarbon solvents, as long as the amount is within 50% by volume. .

塗布液中にはさらに酸化防止ql、UV吸収剤、可塑剤
、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい
Depending on the purpose, various additives such as antioxidant QL, UV absorber, plasticizer, lubricant, etc. may be added to the coating liquid.

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成イf機高分子物質を挙げることができる。
When a binder is used, examples of the binder include cellulose derivatives such as gelatin, nitrocellulose, and cellulose acetate; natural organic polymeric substances such as dextran, rosin, and rubber; and carbonized materials such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyisobutylene. Hydrogen resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride/polyvinyl acetate copolymers, acrylic resins such as polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate,
Synthetic polymeric materials such as polyvinyl alcohol, chlorinated polyolefins, epoxy resins, butyral resins, rubber derivatives, and initial condensates of thermosetting resins such as phenol-formaldehyde resins can be mentioned.

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
Examples of the coating method include a spray method, a spin code method, a dip method, a roll coat method, a blade coat method, a doctor roll method, and a screen printing method.

色素層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。
When a binder is used as a material for the dye layer, the ratio of the dye to the binder is generally 0.01 to 99% (weight ratio).
It is preferably in the range of 1.0 to 95% (weight ratio).

上記色素層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般
に100〜5500Xの範囲にあり、好ましくは200
〜3000大の範囲にある。
The dye layer may be a single layer or a multilayer, but its layer thickness is generally in the range of 100 to 5,500X, preferably 200X.
It is in the range of ~3000.

上記記録層の上には反射層が設けられてもよい 反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se
、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo
、W、MnsRe。
A reflective layer may be provided on the recording layer. The light reflective material that is the material of the reflective layer is a material that has a high reflectance to laser light, and examples thereof include Mg, Se, etc.
, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo
, W., MnsRe.

Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、I r。Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir.

Pt、Cu、Ag、Au、ZnsCd、Al1、Ga、
InsSi、Ge、Te、Pb、Po、SnsBiなど
の金属および半金属を挙げることかできる。これらのう
ちで好ましいものはAiL、Au、CrおよびNiであ
る。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二
種以上の組合せでまたは合金として用いてもよい。
Pt, Cu, Ag, Au, ZnsCd, Al1, Ga,
Mention may be made of metals and metalloids such as InsSi, Ge, Te, Pb, Po, SnsBi. Among these, preferred are AiL, Au, Cr and Ni. These substances may be used alone, or in combination of two or more or as an alloy.

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより基板
の上に形成することができる。反射層の層厚は一般には
100〜3000大の範囲にある。
The reflective layer can be formed on the substrate by, for example, vapor deposition, sputtering, or ion-blating the light-reflecting material described above. The thickness of the reflective layer is generally in the range of 100 to 3000 mm.

上記反射層−Lには保護層を設けてもよい。A protective layer may be provided on the reflective layer-L.

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、Sins5in2.Si3N4、MgF2、SnO
2等を挙げることができる。また、有機物質としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げ
ることができ、好ましくはUV硬化性樹脂である。
Examples of materials used for the protective layer include Sins5in2. Si3N4, MgF2, SnO
2nd place can be mentioned. In addition, as organic substances,
Examples include thermoplastic resins, thermosetting resins, UV curable resins, etc., with UV curable resins being preferred.

上記保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得ら
れたフィルムを接着層を介して飽和炭化水素系溶剤に可
溶な樹脂からなる保護層上にラミネートすることにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な
溶剤に溶解して塗ノfi液を調製したのち、この塗布液
を塗布し、乾燥することによっても形成することができ
る。紫外線硬化型樹脂の場合には、そのままもしくは適
当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を
塗布し、前記と同様にしてUV光を照射して硬化させる
ことによって形成することかできる。紫外線硬化型樹脂
としては、前記反射防止層で用いたモノマー、オリゴマ
ー等を使用することができる。これらの塗布液中には、
更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加
剤を目的に応して添加してもよい。
The protective layer can be formed, for example, by laminating a film obtained by extrusion of plastic onto a protective layer made of a resin soluble in a saturated hydrocarbon solvent via an adhesive layer. Alternatively, it may be provided by methods such as vacuum deposition, sputtering, and coating. In addition, in the case of thermoplastic resins and thermosetting resins, it can also be formed by dissolving these in an appropriate solvent to prepare a coating solution, then applying this coating solution and drying. . In the case of an ultraviolet curable resin, it may be formed by preparing a coating liquid as it is or by dissolving it in an appropriate solvent, applying this coating liquid, and curing it by irradiating it with UV light in the same manner as above. can. As the ultraviolet curable resin, the monomers, oligomers, etc. used in the antireflection layer can be used. In these coating solutions,
Furthermore, various additives such as antistatic agents, antioxidants, and UV absorbers may be added depending on the purpose.

上記別の保護層の層厚は一般には0.1−100μmの
範囲にある。
The layer thickness of said further protective layer is generally in the range 0.1-100 μm.

また、保護層の代わりに樹脂フィルムを用いて、光ディ
スクを覆うことによって保護してもよい。
Furthermore, the optical disc may be protected by covering it with a resin film instead of the protective layer.

本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を反射層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。
In the present invention, the information recording medium may be a single board having the above-mentioned structure, or alternatively, two substrates having the above-mentioned structure may be placed facing each other so that the reflective layer is on the inside, and adhesive or the like is used. By joining, a laminated type recording medium can also be manufactured.

また、本発明の反射防止層は、基板側からレーザーを照
射する際の基板の反射を防止する目的で設けられる。従
って、反射防止層を形成することができ、その効果が得
られるものであればどのような情報記録媒体にも適用で
きる。このような情報記録媒体としては、再生専用型、
追記(DRAW)型、書換可能型、光磁気など、記録可
能か不可能あるいは記録層の種類等に依らず、どのよう
な媒体にも適用できる。また媒体の形状も、光ディスク
、光カード、光デーゾ、フレキシブルディスク等何でも
よい。
Further, the antireflection layer of the present invention is provided for the purpose of preventing reflection of the substrate when laser is irradiated from the substrate side. Therefore, the present invention can be applied to any information recording medium as long as it is possible to form an antireflection layer and obtain the same effect. Such information recording media include read-only type,
It can be applied to any type of medium, such as write-once (DRAW) type, rewritable type, magneto-optical, etc., regardless of whether it is recordable or not, or the type of recording layer. Moreover, the shape of the medium may be any, such as an optical disk, an optical card, an optical disc, or a flexible disk.

上記情報記録媒体への記録は、例えば下記のように行な
われる。
Recording on the information recording medium is performed, for example, as follows.

まず、情報記録媒体を定線速度または定角速度で回転さ
せながら、半導体レーザー光などの記録用の光を、基板
側から該プレグルーブのグループにレーザー光を照射し
てCDフォーマットのEFM信号などの信号を、該グル
ープの記録層に種々の形状変化(金属記録層の場合は記
録層にビット、色素記録層および反射層を有する場合は
色素記録層および反射層の界面に空洞、等)を形成する
ことにより記録する。一般に、記録光としては750〜
850nmの範囲の発振波長を有する半導体レーザービ
ームか用いられる。一般に1〜15mWのレーザーパワ
ーで記録される。
First, while rotating the information recording medium at a constant linear velocity or constant angular velocity, a recording light such as a semiconductor laser beam is irradiated from the substrate side to the pregroove group to generate an EFM signal of CD format. Signals are formed in various shapes in the recording layer of the group (bits in the recording layer in the case of a metal recording layer, cavities at the interface between the dye recording layer and the reflective layer in the case of a dye recording layer and a reflective layer, etc.). Record by doing. Generally, recording light is 750~
A semiconductor laser beam with an oscillation wavelength in the range of 850 nm is used. Generally recorded with a laser power of 1-15 mW.

記録に際しては、上記トラッキング用プレグルーブを用
いてプッシュプル法などによるトラッキング制御か行な
われる。情報の記録は、プレグルーブのグループまたは
グループ間のランドに行なわれる。
During recording, tracking control is performed using the tracking pre-groove by a push-pull method or the like. Information is recorded in groups of pregrooves or on lands between groups.

情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同一の定線速度
または定角速度で回転させながら半導体レーザーなどの
レーザー光を基板側から照射してその反射光を検出する
ことにより、3ビーム法などによるトラッキング制御を
行ないながら情報を再生することができる。
Information can be reproduced using a three-beam method, for example, by rotating the recording medium at the same constant linear velocity or constant angular velocity as described above, irradiating laser light such as a semiconductor laser from the substrate side, and detecting the reflected light. Information can be reproduced while performing tracking control.

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。
Examples and comparative examples of the present invention are described below. However, each of these aspects does not limit the invention.

[実施例1] l04 1.7gと 0.17gとを、2.2,3.3−テトラフロロプロパ
ツール100m1に超音波を1時間付与しながら溶解し
て塗布液を調製した。
[Example 1] A coating liquid was prepared by dissolving 1.7 g and 0.17 g of 104 in 100 ml of 2,2,3,3-tetrafluoropropanol while applying ultrasonic waves for 1 hour.

プレグルーブが設けられた円盤状のボリカーホネート基
板(外径: 120mm、内径:15mm、厚さ:1.
2mm、トラックピッチ=1.6μm、グループの深さ
:800X、グループ位置二半径45mm〜116mm
の範囲)Eに、色素塗布液をスピンコード法により回転
数200 rprnの速度で塗布を開始して5秒間維持
し。
A disc-shaped polycarbonate substrate provided with a pregroove (outer diameter: 120 mm, inner diameter: 15 mm, thickness: 1.
2mm, track pitch = 1.6μm, group depth: 800X, group position two radius 45mm ~ 116mm
(range) E, coating of the dye coating solution was started at a rotational speed of 200 rprn by the spin code method and maintained for 5 seconds.

徐々に回転数をにげながら30秒後置終回転数1000
 rpmとなった所で停止し、次いで乾燥させてグルー
プ内の層厚が1300又の色素記録層を形成した。
Gradually reduce the rotation speed for 30 seconds and reach a final rotation speed of 1000.
The dye recording layer was stopped at the rpm and then dried to form a dye recording layer having a layer thickness of 1300 in each group.

L記色素記録層上にAuをDCスパッタ装置にて、Ar
圧力が2Pa、電力が200Wの条件にてスッパタリン
グして層厚1300Xの反射層を形成した。
Ar
Sputtering was performed under conditions of a pressure of 2 Pa and a power of 200 W to form a reflective layer with a layer thickness of 1300×.

反射層上にさらに紫外線硬化型樹脂(商品名:3070
、スリーボンド■製)をスピンコード法により回転数2
00 rpa+の速度で塗布を開始して5秒間維持し、
徐々に回転数を上げながら30秒後置終回転数1000
 rpmとなった所で停止し、次いで該塗布層に紫外線
を照射(200w 7cm”の水銀灯を10秒間)する
ことによって層厚2μmの紫外線硬化型樹脂からなる保
護層を形成した。
Furthermore, ultraviolet curing resin (product name: 3070) is applied on the reflective layer.
, manufactured by Three Bond ■) using the spin code method at a rotation speed of 2.
Start application at a speed of 00 rpa+ and maintain for 5 seconds,
After 30 seconds while gradually increasing the rotation speed, the final rotation speed is 1000.
The coating layer was stopped at the rpm, and then the coated layer was irradiated with ultraviolet light (200W 7cm'' mercury lamp for 10 seconds) to form a protective layer made of ultraviolet curable resin with a layer thickness of 2 μm.

一]二記記録層が設けられなかった基板の反対側の表面
に、下記の塗布液をスピンコード法により回転数200
 rpvaの速度で塗布を開始して5秒間維持し、徐々
に回転数を上げながら30秒後置終回転数1000 r
pmとなった所で停止し、次いで該塗布層に紫外線を照
射(200w / c m 2の水銀灯を10秒間)す
ることによって層厚1400Xの反射防止層を形成した
1) Apply the following coating solution to the opposite surface of the substrate on which the recording layer described in 2 was not provided using a spin code method at a rotation speed of 200.
Start application at the speed of RPVA, maintain it for 5 seconds, and gradually increase the rotation speed for 30 seconds to a final rotation speed of 1000 r.
pm, and then the coating layer was irradiated with ultraviolet light (200 W/cm 2 mercury lamp for 10 seconds) to form an antireflection layer with a layer thickness of 1400×.

−−止Pづ  塗布− 紫外線硬化型樹脂(商品名、UR−4502、菱しイヨ
ン■製)             4gフッ素原f含
有グラフトポリマー(商品名:マクロマーF−3、東亜
合成化学工業■製)   1gメチルエチルケトン  
       20m1メチルセロソルブ      
    80m1但し、上記塗布液は、先にフッ素原子
含有グラフトポリマーをメチルエチルケトンに溶解した
後、他の成分と混合して調製した。
--Stop Pzu Application- Ultraviolet curable resin (trade name: UR-4502, manufactured by Hishishi Ion ■) 4g Fluorine element F-containing graft polymer (trade name: Macromer F-3, manufactured by Toagosei Chemical Industry ■) 1g Methyl ethyl ketone
20ml methyl cellosolve
80 ml However, the above coating liquid was prepared by first dissolving the fluorine atom-containing graft polymer in methyl ethyl ketone and then mixing it with other components.

このようにして、基板上に、反射調整層、色素記録層、
反射層および保護層が設けられ、そして該基板の裏側に
反射防止層が設けられた情報記録媒体(第2図参照)を
製造した。
In this way, the reflection adjusting layer, the dye recording layer,
An information recording medium (see FIG. 2) was produced in which a reflective layer and a protective layer were provided, and an antireflection layer was provided on the back side of the substrate.

[実施例2] 実施例1において、反射防止層形成用の塗布液を下記の
組成に変えて反射防止層を設けた以外は実施例1と同様
にして情報記録媒体(第2図参照)を製造した。
[Example 2] An information recording medium (see Figure 2) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming the antireflection layer was changed to the following composition and an antireflection layer was formed. Manufactured.

″ I止 ≦゛用塗布゛ 紫外線硬化型樹脂(商品名:UR−4502、菱しイヨ
ン■製)             4gβ−(パーフ
ルオロオクチル)エチルアクリレート(商品名ニライト
エステルFA−108、共栄社油脂化学工業■製)  
         1gメチルセロソルブ      
   100m1[実施例3J 実施例1において、反射防止層形成用の塗布液を下記の
組成に変えて反射防止層を設けた以外は実施例1と同様
にして情報記録媒体(第2図参照)を製造した。
`` Application for I stop ≦゛ Ultraviolet curable resin (product name: UR-4502, manufactured by Hishishi Ion ■) 4g β-(perfluorooctyl) ethyl acrylate (product name Nirite Ester FA-108, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo ■ made)
1g methyl cellosolve
100 m1 [Example 3J An information recording medium (see Figure 2) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating liquid for forming the antireflection layer was changed to the following composition and an antireflection layer was formed. Manufactured.

止  5    1′ 紫外線硬化型樹脂(商品名:UR−4502、三菱レイ
ヨン■製)             4gポリフッ化
ビニリデン(商品名:キナール(kynar) 、レン
サルト(Renssalt Chemical)社製)
                  IgN−メチル
−2−ピロリジノン    20m1メチルセロソルブ
          80m1但し、上記塗布液は、先
にポリフッ化ビニリデンをN−メチル−2−ピロリジノ
ンに溶解した後、他の成分と混合して調製した。
Stop 5 1' Ultraviolet curing resin (product name: UR-4502, manufactured by Mitsubishi Rayon ■) 4g polyvinylidene fluoride (product name: kynar, manufactured by Renssalt Chemical)
IgN-methyl-2-pyrrolidinone 20 ml Methyl cellosolve 80 ml However, the above coating solution was prepared by first dissolving polyvinylidene fluoride in N-methyl-2-pyrrolidinone and then mixing it with other components.

[比較例1コ 実施例1において、反射防止層を下記のようにして反射
防止層を設けた以外は実施例1と同様にして情報記録媒
体(第2図参照)を製造した。
Comparative Example 1 An information recording medium (see FIG. 2) was produced in the same manner as in Example 1 except that the antireflection layer was provided as described below.

1−記記録層が設けられなかった基板の反対側の表面に
、MgF2を真空蒸着にて、圧力が2×1O−3P a
の条件にて蒸着して層厚13oo芙の反射防11層を形
成した。
1- MgF2 was vacuum-deposited on the surface of the opposite side of the substrate on which the recording layer was not provided, at a pressure of 2×1O-3P a
11 anti-reflection layers with a thickness of 130 mm were formed by vapor deposition under the following conditions.

[比較例2] 実施例1において、反射防止層形成用の塗布液をド記の
組成に変えて反射防止層を設けた以外は実施例1と同様
にして情報記録媒体(第2図参照)を製造した。
[Comparative Example 2] An information recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming the antireflection layer in Example 1 was changed to the composition shown below to form an antireflection layer (see Figure 2). was manufactured.

k並動i2種影1目PL奄遣 紫外線硬化型樹脂(商品名:UR−4502、杢しイヨ
ン■製)              4gメチルセロ
ソルブ          50m1[比較例3] 実施例1において、反射防止層を下記のようにして反射
防1)、層を設けた以外は実施例1と同様にして情報記
録媒体(第2図参照)を製造した。
k Parallel motion i 2 type shadow 1 PL Amakari ultraviolet curable resin (product name: UR-4502, manufactured by Mokushi Ion ■) 4 g methyl cellosolve 50 ml [Comparative example 3] In Example 1, the antireflection layer was changed as follows. An information recording medium (see FIG. 2) was produced in the same manner as in Example 1 except that the anti-reflection layer 1) was provided.

上記記録層が設けられなかった基板の反対側の表面に、
ポリテトラフルオロオレフィン(PTFE)をRFスパ
ッタにて、Ar圧力が2Pa、電力が500Wの条件に
て蒸着して層厚1400iの反射防止層を形成した。
On the opposite surface of the substrate where the recording layer was not provided,
Polytetrafluoroolefin (PTFE) was deposited by RF sputtering under conditions of Ar pressure of 2 Pa and power of 500 W to form an antireflection layer with a layer thickness of 1400 i.

[参考例1] 実施例1において、反射防止層を設けなかった以外は実
施例1と同様にして情報記録媒体を製造した。
[Reference Example 1] An information recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the antireflection layer was not provided.

E記で用いたポリカーボネート基板および形成された反
射防止層について下記のように屈折率を測定した。
The refractive index of the polycarbonate substrate used in Section E and the formed antireflection layer was measured as follows.

ポリカーボネート基板はそのまま、反射防止層は、それ
ぞれ各材料を上記のように塗4またはスパッタリングに
てガラス板に薄層(500〜1500X)を形成し、そ
の反射率と透過率を測定して、屈折率を求めた。
For the antireflection layer, leave the polycarbonate substrate as it is, and form a thin layer (500 to 1500X) on a glass plate by coating each material as described above or by sputtering, measure the reflectance and transmittance, and calculate the refraction. The rate was calculated.

上記の結果、ポリカーボネート基板の屈折率が1.58
、実施例1の反剤防止層が1.48、実施例2の反射防
止層が1.45、実施例3の反射防IL層が145、比
較例1の反射防IF層が1.38、比較例2の反射防止
層が1,50そして比較例3の反射防止層が1.35で
あった。
As a result of the above, the refractive index of the polycarbonate substrate is 1.58.
, the antireflection layer of Example 1 is 1.48, the antireflection layer of Example 2 is 1.45, the antireflection IL layer of Example 3 is 145, the antireflection IF layer of Comparative Example 1 is 1.38, The antireflection layer of Comparative Example 2 had an antireflection value of 1.50, and the antireflection layer of Comparative Example 3 had an antireflection value of 1.35.

[情報記録媒体の評価] 上記で得られた情報記録媒体について、光デイスク評価
機(パルステック工業■製)を用いて、発振波長780
nmのレーザーを用いて記録時のレーザーパワー(記録
パワー)7mW、線速度1.3m/秒にて、CDフォー
マットのEFM信寸を5己録した。
[Evaluation of information recording medium] Regarding the information recording medium obtained above, an oscillation wavelength of 780
EFM measurements of the CD format were recorded five times using a laser with a wavelength of 100 nm at recording laser power (recording power) of 7 mW and linear velocity of 1.3 m/sec.

再生信号とトラックエラー信号が得られるように改造し
たCDプレーヤーを用いて、発振波長780nmのレー
ザーで再生パワー0.5mWにて−h rrer記録信
号−の再生を行なった。
Using a CD player modified so that a reproduction signal and a track error signal can be obtained, the -hrrer recording signal- was reproduced using a laser with an oscillation wavelength of 780 nm and a reproduction power of 0.5 mW.

1)グループ反射率(%) 未記録部分のグループにレーザーを照射し、入射レーザ
ー光量に対して、反射光量を再生信号検出センサーで検
出して、その検出した出力から求めた。
1) Group reflectance (%) A group of unrecorded portions was irradiated with a laser, and a reproduction signal detection sensor detected the amount of reflected light relative to the amount of incident laser light, and was determined from the detected output.

2)トラックサーボゲイン(dB) 。Cu部分のグループにレーザーを照射するようにトラ
ッキングを行ない、該トラック信号に1kHzの外乱を
人力して、その時に得られる[・ラックエラー信号をサ
ーボアナライザー(SR200、小野側器■製)で測定
した。参考例1をOdBとした時の相対値を表記した。
2) Track servo gain (dB). Tracking is performed by irradiating a group of Cu parts with a laser, and a 1 kHz disturbance is manually applied to the track signal, and the rack error signal obtained at that time is measured with a servo analyzer (SR200, manufactured by Ono Saiki). did. Relative values are expressed when Reference Example 1 is expressed as OdB.

3)CI(誤り訂正信号)エラー(F/秒)記録部分の
グループにレーザーを照射するようにトラッキングを行
なって再生状態にし、EFMデコーダにより出力される
C1フラグ(F)の回数をカウンターでカウントし、C
Iフラグを測定した時間(秒)で割った値で表記した。
3) Track the CI (error correction signal) error (F/sec) by irradiating a group of recorded parts with a laser, put it into playback mode, and count the number of C1 flags (F) output by the EFM decoder with a counter. C
It was expressed as the value obtained by dividing the I flag by the measurement time (seconds).

4)層の被膜強度 メタノールを含浸させた脱脂綿を用いて、各反射防止層
の表面を50回拭いた。これによる表面の傷付きの程度
により以下のように評価した。
4) Coating Strength of Layer The surface of each antireflection layer was wiped 50 times using absorbent cotton impregnated with methanol. The degree of surface scratches caused by this was evaluated as follows.

AA:全く傷が付かない。AA: No scratches at all.

BB:長さ数mm程度の傷が付いた。BB: A scratch with a length of about several mm was observed.

CC:長さ10mm以上の傷または剥離が生じた。CC: A scratch or peeling with a length of 10 mm or more occurred.

上記測定結果を第1表に示す。The above measurement results are shown in Table 1.

第1表 グル−プ  トラックサーボ 反射率    ゲイン (零)       (dB) 実施例1  74  0.7 実施例2  76  1.0 実施例3 75 0.9 1 エアー (F/秒) 被膜 強度 13     AA 12     AA 13     AA 比較例1  77  1.4  20  8B比較例2
  72  0−5  13   AA比較例3  7
9  1.7  10  8B参考例1 0 O、O B 上記第1表より明らかなように、実施例1および2の基
板、記録層、反射層および保護層からなる基本構成を有
する光ディスクの基板の裏側に、塗布法による簡便な方
法で反射防止層が設けられた情報記録媒体は、反射防止
層を持たない参考例1に比較して反射率およびトラック
サーボゲインが高く、C1エラーが小さいものとなって
いる。
Table 1 Group Track servo reflectance Gain (zero) (dB) Example 1 74 0.7 Example 2 76 1.0 Example 3 75 0.9 1 Air (F/sec) Film strength 13 AA 12 AA 13 AA Comparative example 1 77 1.4 20 8B Comparative example 2
72 0-5 13 AA Comparative Example 3 7
9 1.7 10 8B Reference Example 1 0 O, O B As is clear from Table 1 above, the substrate of the optical disk having the basic structure consisting of the substrate, recording layer, reflective layer and protective layer of Examples 1 and 2. An information recording medium with an antireflection layer provided on the back side using a simple coating method has higher reflectance and track servo gain, and has a smaller C1 error than Reference Example 1, which does not have an antireflection layer. It has become.

また、反射防止層が従来の無機化合物の蒸着膜である比
較例1に比較して本発明の実施例1.2および3の反射
防止層は反射防止機能において劣らず(トラックサーボ
ゲインはやや劣るが、Clエラーで勝っている)、製造
上の優位性と高い強度を有するものであることが明らか
である。
Moreover, compared to Comparative Example 1, in which the antireflection layer is a conventional vapor-deposited film of an inorganic compound, the antireflection layers of Examples 1, 2, and 3 of the present invention are not inferior in antireflection function (the track servo gain is slightly inferior). However, it is clear that it has manufacturing advantages and high strength.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第2図は、それぞれ本発明の情報記録媒体
の一例の断面図である。 11.21:基板 12.22:記録層 13.23:反射防止層 24:反射層 25:保護層
1 and 2 are cross-sectional views of an example of the information recording medium of the present invention, respectively. 11.21: Substrate 12.22: Recording layer 13.23: Antireflection layer 24: Reflection layer 25: Protective layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基板上にレーザーにより情報の書き込みまたは読み
取りが可能な記録層が設けられ且つ該基板の記録層が設
けられていない側の表面に反射防止層が設けられてなる
情報記録媒体において、該反射防止層が、 重合性二重結合を有するモノマーおよび/またはオリゴ
マーとフッ素含有樹脂との混合物の硬化物からなり、且
つ 下記の式( I ): √n_s×0.8≦n≦√n_s×1.2( I )(但
し、n_sは基板の屈折率を表わし、nは反射防止層の
屈折率を表わす) を満足する範囲にある屈折率および 下記の式(II): λ/4n×0.9≦d≦λ/4n×1.1(II)(但し
、λは再生時に用いるレーザーの波長を表わし、nは反
射防止層の屈折率を表わし、そしてdは反射防止層の層
厚を表わす) を満足する範囲にある層厚を 有することを特徴とする情報記録媒体。 2、基板上にレーザーにより情報の書き込みまたは読み
取りが可能な記録層が設けられ且つ該基板の記録層が設
けられていない側の表面に反射防止層が設けられてなる
情報記録媒体において、該反射防止層が、 重合性二重結合を有するフッ素含有モノマーとその他の
重合性二重結合を有するモノマーおよび/またはオリゴ
マーとの混合物の硬化物からなり、且つ 下記の式( I ): √n_s×0.8≦n≦√n_s×1.2( I )(但
し、n_sは基板の屈折率を表わし、nは反射防止層の
屈折率を表わす) を満足する範囲にある屈折率および 下記の式(II): λ/4n×0.9≦d≦λ/4n×1.1(II)(但し
、λは再生時に用いるレーザーの波長を表わし、nは反
射防止層の屈折率を表わし、そしてdは反射防止層の層
厚を表わす) を満足する範囲にある層厚を 有することを特徴とする情報記録媒体。
[Claims] 1. Information in which a recording layer on which information can be written or read by a laser is provided on a substrate, and an antireflection layer is provided on the surface of the substrate on the side where the recording layer is not provided. In the recording medium, the antireflection layer is made of a cured product of a mixture of a monomer and/or oligomer having a polymerizable double bond and a fluorine-containing resin, and has the following formula (I): √n_s×0.8≦ A refractive index within a range that satisfies n≦√n_s×1.2(I) (where n_s represents the refractive index of the substrate, n represents the refractive index of the antireflection layer) and the following formula (II): λ/4n×0.9≦d≦λ/4n×1.1 (II) (However, λ represents the wavelength of the laser used during reproduction, n represents the refractive index of the antireflection layer, and d represents the antireflection layer. An information recording medium characterized by having a layer thickness within a range that satisfies the following. 2. In an information recording medium in which a recording layer on which information can be written or read by a laser is provided on a substrate, and an antireflection layer is provided on the surface of the substrate on which the recording layer is not provided, the reflection The prevention layer is made of a cured product of a mixture of a fluorine-containing monomer having a polymerizable double bond and another monomer and/or oligomer having a polymerizable double bond, and has the following formula (I): √n_s×0 .8≦n≦√n_s×1.2(I) (where n_s represents the refractive index of the substrate, n represents the refractive index of the antireflection layer) and the following formula ( II): λ/4n×0.9≦d≦λ/4n×1.1 (II) (where λ represents the wavelength of the laser used during reproduction, n represents the refractive index of the antireflection layer, and d represents the layer thickness of the antireflection layer).
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009211078A (en) * 2009-04-10 2009-09-17 Hitachi Ltd Antireflection film, image display device having the same, optical recording medium, solar power generation module, and method for forming antireflection film

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009211078A (en) * 2009-04-10 2009-09-17 Hitachi Ltd Antireflection film, image display device having the same, optical recording medium, solar power generation module, and method for forming antireflection film

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