JPH03198988A - Laser beam marking device - Google Patents
Laser beam marking deviceInfo
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- JPH03198988A JPH03198988A JP1336009A JP33600989A JPH03198988A JP H03198988 A JPH03198988 A JP H03198988A JP 1336009 A JP1336009 A JP 1336009A JP 33600989 A JP33600989 A JP 33600989A JP H03198988 A JPH03198988 A JP H03198988A
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Landscapes
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は被加工物にレーザ光によってマーキングする
ためのレーザマーキング装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a laser marking device for marking a workpiece with a laser beam.
(従来の技術)
被加工物にレーザ光によって所定のマークをマーキング
する場合、パターンが形成されたパターンマスクにレー
ザ光を照射し、そのパターンをレンズによって被加工物
の表面に結像してマーキングする方式と、レーザ光を被
加工物に対して相対的に移動させ、−筆書の要領でマー
キングする方式とがある。(Prior art) When marking a predetermined mark on a workpiece with laser light, the laser light is irradiated onto a pattern mask on which a pattern is formed, and the pattern is imaged onto the surface of the workpiece using a lens to mark the workpiece. There is a method in which the laser beam is moved relative to the workpiece to mark the workpiece in the same way as a handwriting.
パターンマスクを用いる方式の場合、パターンマスクを
交換しないとパターンを変えることができないという欠
点がある。そこで、このような欠点を除去するために、
周辺部に必要なパターンが形成された円盤状のパターン
マスクを用い、このパターンマスクを回転させてパター
ンを変える方式と、1枚のパターンマスクに必要なパタ
ーンを全て形成し、所定のパターン上でレーザ光をスキ
ャニングさせることでマーキングする方式とがあり、最
近ではパターンのフレキシビリティの高さとマーキング
速度の速さに着目されて後者の方式が採用されることが
多い。The method using a pattern mask has the disadvantage that the pattern cannot be changed without replacing the pattern mask. Therefore, in order to eliminate these drawbacks,
There are two methods: using a disk-shaped pattern mask with the necessary pattern formed on the periphery, and rotating this pattern mask to change the pattern; There is a method of marking by scanning a laser beam, and recently the latter method is often adopted due to its high pattern flexibility and high marking speed.
レーザ光を所定のパターン上でスキャニングさせてマー
キングを行う方式の場合、レーザ光をスキャニングさせ
るためにガルバノメータからなるスキャナを用い、その
スキャナでミラーの回転角を制御するようにしている。In the case of marking by scanning a laser beam over a predetermined pattern, a scanner consisting of a galvanometer is used to scan the laser beam, and the rotation angle of the mirror is controlled by the scanner.
上記スキャナは、ロータの回転角をポジションセンサに
よって感知し、それをモータドライブ電流にフィードバ
ックすることで回転角の制御が行われるようなっている
。The above scanner is configured to control the rotation angle by sensing the rotation angle of the rotor using a position sensor and feeding it back to the motor drive current.
たとえば、上記ミラーを所定の入力に対して忠実に動か
すには、ループゲイン、ダンピングなどのファクタが最
適な値に設定されている必要がある。For example, in order to faithfully move the mirror in response to a predetermined input, factors such as loop gain and damping must be set to optimal values.
その値は振幅や周波数などの入力条件によって変化する
値であるから、入力条件に応じてセットされることが好
ましい。Since the value changes depending on input conditions such as amplitude and frequency, it is preferable to set it according to the input conditions.
上記スキャナが予め設定された入力条件と異なる入力条
件で用いられると、ミラーの振幅が小さくなったり、異
常振動したりしてスキャニング速度が遅くなるなどの問
題が生じる。If the scanner is used under input conditions different from the preset input conditions, problems such as a decrease in the amplitude of the mirror, abnormal vibrations, and a decrease in scanning speed occur.
従来、レーザ光をX1Y方向にスキャニングさせるスキ
ャナは所定の入力条件で正常に駆動されるよう設定され
ていた。つまり、スキャナは比較的大きなエリアをスキ
ャニングできるように設定されていた。そのため、入力
条件に応じた大きなエリアをスキャニングさせてマーキ
ングする場合には、スキャナの制御を容易かつ確実に行
えるのだが、入力条件よりも小さなエリアをスキャニン
グさせる場合には、入力に対するスキャナの追従性が低
下し、スキャニング速度が遅くなる。すると、被加工物
が受ける単位面積当りの入熱量が多くなるから、小さな
エリアでレーザ光をスキャニングさせて形成されるマー
キングパターンは、大きなエリアでスキャニングさせて
形成されるマキングパターンに比べて深く加工されるこ
とになる。その結果、大きなパターンと小さなパターン
とが混在する場合、これらの加工深さが不均一となり、
パターンの品質低下を招くということかあった。Conventionally, a scanner that scans laser light in the X1Y directions has been set to be normally driven under predetermined input conditions. In other words, the scanner was set up to scan a relatively large area. Therefore, when scanning and marking a large area according to the input conditions, the scanner can be controlled easily and reliably, but when scanning a smaller area than the input conditions, the scanner's ability to follow the input , and the scanning speed becomes slower. As a result, the amount of heat input per unit area received by the workpiece increases, so the marking pattern formed by scanning a laser beam over a small area is deeper than the marking pattern formed by scanning a large area. It will be processed. As a result, when large patterns and small patterns coexist, their machining depths become uneven,
This may have led to a decrease in the quality of the pattern.
(発明が解決しようとする課題)
このように、レーザ光をスキャニングさせてマーキング
する方式によると、小さなエリアをスキャニングさせる
場合に、スキャナの追従性が低下し、スキャニング速度
が遅くなるので、大きなエリアをスキャニングさせてマ
ーキングする場合に比べて加工が深くなるということが
ある。(Problem to be Solved by the Invention) As described above, according to the method of marking by scanning a laser beam, when scanning a small area, the followability of the scanner decreases and the scanning speed becomes slow, so it is difficult to mark a large area. The machining may be deeper than when marking by scanning.
この発明は上記事情にもとずきなされたもので、その目
的とするところは、レーザ光を小さなエリアでスキャニ
ングさせる場合に、スキャニング速度が遅くなることが
ないようにしたレーザマーキング装置を提供することに
ある。This invention was made based on the above circumstances, and its purpose is to provide a laser marking device that does not reduce the scanning speed when scanning a small area with a laser beam. There is a particular thing.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段及び作用)上記課題を解決
するためにこの発明は、レーザ発振器と、このレーザ発
振器から出力されたレーザ光をパターンマスク上でX、
Y方向にスキャニングさせる第1のスキャニング手段と
、この第1のスキャニング手段によってスキャニングさ
れるレーザ光の被加工物上におけるマーキング位置を制
御する位置制御手段とを具備したレーザマーキング装置
において、上記レーザ光の光路の上記レーザ発振器と第
1のスキャニング手段との間には、レーザ光を上記第1
のスキャニング手段よりも高速でXSY方向の少なくと
も一方向にスキャニングさせるための第2のスキャニン
グ手段を設ける。[Structure of the Invention] (Means and Effects for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the present invention includes a laser oscillator and a laser beam outputted from the laser oscillator that is
A laser marking device comprising a first scanning means for scanning in the Y direction and a position control means for controlling a marking position on a workpiece of a laser beam scanned by the first scanning means. A laser beam is transmitted between the laser oscillator and the first scanning means in the optical path of the first scanning means.
A second scanning means is provided for scanning in at least one direction of the XSY direction at a higher speed than the second scanning means.
このような構成によれば、レーザ光を小さなエリアでス
キャニングさせるときには、第2のスキャニング手段に
よってレーザ光を高速でスキャニングさせれば、レーザ
光を大きなエリアでスキャニングさせる場合とほぼ同じ
速度でスキャニングさせることができる。According to such a configuration, when scanning a small area with a laser beam, if the second scanning means scans the laser beam at a high speed, the laser beam can be scanned at approximately the same speed as when scanning a large area. be able to.
(実施例) 以下、この発明の一実施例を図面を参照して説明する。(Example) An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図に示すレーザマーキング装置はレーザ発振器1を
備えている。レーザ発振器1としてはビークパワーの高
いQスイッチ出力の得られるものが適する。The laser marking device shown in FIG. 1 includes a laser oscillator 1. The laser marking device shown in FIG. As the laser oscillator 1, one that can provide a Q-switch output with high peak power is suitable.
上記レーザ発振器1がら出力されたレーザ光りは第1の
集光レンズ2で収束されて第1のXミラー3に入射する
。この第1のXミラー3で反射したレーザ光りは上記第
1のXミラー3とで第1のスキャニング手段を構成する
第1のXミラー4に入射するようになっている。上記第
1のXミラー3はガルバノメータからなる第1のXスキ
ャナ5によってX方向に所定の回転角度で駆動され、上
記第1のXミラー4は第1のYスキャナ6によってY方
向に所定の回転角度で駆動されるようになっている。し
たがって、レーザ光りは上記第1のXミラー3と第1の
Xミラー4とでX1Y方向にスキャニングさせることが
できるようになっている。The laser beam output from the laser oscillator 1 is converged by a first condenser lens 2 and enters a first X mirror 3. The laser beam reflected by the first X mirror 3 is made to enter a first X mirror 4 which together with the first X mirror 3 constitutes a first scanning means. The first X mirror 3 is driven by a first X scanner 5 made of a galvanometer at a predetermined rotation angle in the X direction, and the first X mirror 4 is rotated by a first Y scanner 6 at a predetermined rotation angle in the Y direction. It is designed to be driven at an angle. Therefore, the laser beam can be scanned in the X1Y directions by the first X mirror 3 and the first X mirror 4.
上記第1のXミラー4で反射したレーザ光りはリレーレ
ンズ7に入射する。このリレーレンズ7の出射側にはパ
ターンマスク8が配置されている。The laser beam reflected by the first X mirror 4 enters the relay lens 7. A pattern mask 8 is arranged on the output side of the relay lens 7.
このパターンマスク8には、上側にA、B、Cなどの大
きなパターンP、が形成され、下側にはalbScなど
の小さなパターンP2が形成されている。In this pattern mask 8, large patterns P such as A, B, and C are formed on the upper side, and small patterns P2 such as albSc are formed on the lower side.
上記パターンマスク8の所定のパターンを透過して第2
の集光レンズ1oで集束されたレーザ光りは位置制御手
段を構成する第2のXミラー9と第2のXミラー11と
を順次反射して被加工物12を照射するようになってい
る。上記第2のXミラー9は第2のXスキャナ13によ
ってX方向の回転角度が制御され、上記第2のXミラー
11は第2のYスキャナ14によってY方向の回転角度
が制御されるようになっている。したがって、上記パタ
ーンマスク8の所定のパターンを透過したレーザ光りは
、上記第2のXミラー9とff12のXミラー11とに
よって位置決めされて被加工物12を照射し、所定パタ
ーンをマーキングするようになっている。The second pattern passes through the predetermined pattern of the pattern mask 8.
The laser beam focused by the condensing lens 1o is sequentially reflected by a second X mirror 9 and a second X mirror 11 constituting a position control means to irradiate the workpiece 12. The rotation angle of the second X mirror 9 in the X direction is controlled by a second X scanner 13, and the rotation angle of the second X mirror 11 in the Y direction is controlled by a second Y scanner 14. It has become. Therefore, the laser beam that has passed through the predetermined pattern of the pattern mask 8 is positioned by the second X mirror 9 and the X mirror 11 of ff12 and irradiates the workpiece 12 to mark the predetermined pattern. It has become.
上記レーザ発振器1と第1のXミラー3との間のレーザ
光りの光路上には第2のスキャニング手段を構成する高
速ミラー15が設置されている。A high-speed mirror 15 constituting a second scanning means is installed on the optical path of the laser beam between the laser oscillator 1 and the first X mirror 3.
この高速ミラー15はレーザ光りを小さなエリアでY方
向に高速でスキャニングさせることができる高速スキャ
ナ16によってY方向に所定の回転角度で駆動されるよ
うになっている。すなわち、上記高速スキャナ16は小
さいエリアを高い周波数でスキャニングできるよう設定
されている。これに対して上記第1のXスキャナ5と第
1のYスキャナ6とは、比較的大きなエリアを上記高速
スキャナ16に比べて低い周波数でスキャニングできる
よう設定されている。This high-speed mirror 15 is driven at a predetermined rotation angle in the Y-direction by a high-speed scanner 16 that can scan a laser beam in a small area at high speed in the Y-direction. That is, the high-speed scanner 16 is set so that it can scan a small area at a high frequency. On the other hand, the first X scanner 5 and the first Y scanner 6 are set so that they can scan a relatively large area at a lower frequency than the high speed scanner 16.
なお、第1のXSYスキャナ5.6と高速スキャナ16
とは、それぞれのミラーを同じ角速度、つまりレーザ光
りを同じ速度で移動させることができるように設定され
ている。Note that the first XSY scanner 5.6 and the high-speed scanner 16
is set so that each mirror can move at the same angular velocity, that is, the laser beam can move at the same speed.
つぎに、上記構成のレーザマーキング装置によって被加
工物12にマーキングする場合について説明する。Next, the case where the workpiece 12 is marked by the laser marking device having the above configuration will be described.
まず、被加工物12にパターンマスク8の上側に形成さ
れた大きなパターンP1のうち、たとえば“A”をマー
キングする場合には、高速スキャナ16を停止し、第1
のXスキャナ5と第2のYスキャナ6とを作動させ、レ
ーザ光りを上記パターンP、の“A”のエリアでスキャ
ニングさせる。First, when marking, for example, "A" out of the large pattern P1 formed on the upper side of the pattern mask 8 on the workpiece 12, the high-speed scanner 16 is stopped and the first
The X scanner 5 and the second Y scanner 6 are operated to scan the area "A" of the pattern P with laser light.
すなわち、第2図(a)は大きなパターンP、である“
A”をマーキングする場合に、レーザ光りがスキャニン
グするエリアS1を示し、このエリアS1は横寸法が4
ax 、縦寸法が4ayである。そして、レーザ光りは
第1のXミラー3が第1のXスキャナ5によって駆動さ
れることで第2図(C)に直線り、で示す横方向(X方
向)を−2axから+ 2axの範囲にわたってスキャ
ニングするとともに、第1のXミラー4が第1のYスキ
ャナ6によって駆動されることで第2図(b)に曲線L
2で示す一2ayから+2ayの縦方向(Y方向)の範
囲を周波数1/Tでスキャニングする。このように、レ
ーザ光りがX方向とY方向とにスキャニングされれば、
エリアS1の全体がレーザ光りによってスキャニングさ
れるから、パターンマスク8に形成された“八〇のパタ
ーンP1を被加工物12にマーキングすることができる
。被加工物12上における“A1のマーキング位置は、
第2のXミラ−9と第2のYミラー11との角度を変え
ることで任意に設定することができる。That is, FIG. 2(a) is a large pattern P.
When marking "A", the laser light indicates the area S1 to be scanned, and this area S1 has a horizontal dimension of 4.
ax, and the vertical dimension is 4ay. The first X mirror 3 is driven by the first X scanner 5, so that the laser beam is directed in a straight line as shown in FIG. At the same time, the first X mirror 4 is driven by the first Y scanner 6, so that the curve L shown in FIG.
The range in the vertical direction (Y direction) from 12ay to +2ay indicated by 2 is scanned at a frequency of 1/T. In this way, if the laser beam is scanned in the X direction and the Y direction,
Since the entire area S1 is scanned by laser light, the "80 patterns P1 formed on the pattern mask 8 can be marked on the workpiece 12. The marking position of "A1" on the workpiece 12 is ,
It can be set arbitrarily by changing the angle between the second X mirror 9 and the second Y mirror 11.
つぎに、被加工物12にパターンマスク8の下側に形成
された小さなパターンP2のうち、たとえば“a をマ
ーキングする場合には、第1のYスキャナ6を停止して
高速スキャナ16と第1のXスキャナ5とを作動させる
。第3図(a)は、小さなパターンP2である amを
マーキングする場合に、レーザ光りがスキャニングする
エリアS2を示す。このエリアS2の横・J゛法は2a
x、縦寸法は2ayである。そして、レーザ光りは、第
1のXミラー3が第1のXスキャナ5によって駆動され
ることで第3図(c)に直線り、で示す横方向(X方向
)を−aXから十aXの範囲にわたってスキャニングす
るとともに、高速ミラー15が高速スキャナ16によっ
て第3図(b)に曲線L4で示す−ayから+ayの範
囲を周波数1/lで駆動されることでエリアS2の縦方
向(X方向)を繰り返してスキャニングする。このよう
に、レーザ光りがX方向とY方向とにスキャニングされ
ることにより、エリアS2全体がスキャニングされるか
ら、パターンマスク8に形成された小さなパターンP2
の amを被加工物12にマーキングすることができる
。Next, when marking, for example, "a" of the small pattern P2 formed on the lower side of the pattern mask 8 on the workpiece 12, the first Y scanner 6 is stopped and the high speed scanner 16 and the first 3(a) shows an area S2 scanned by the laser beam when marking a small pattern P2 am.The horizontal direction of this area S2 is 2a.
x, and the vertical dimension is 2ay. The first X mirror 3 is driven by the first X scanner 5, so that the laser beam is directed in a straight line as shown in FIG. While scanning the area, the high-speed mirror 15 is driven by the high-speed scanner 16 at a frequency of 1/l in the range from -ay to +ay shown by the curve L4 in FIG. ) to scan repeatedly. In this way, by scanning the laser beam in the X direction and the Y direction, the entire area S2 is scanned, so that the small pattern P2 formed on the pattern mask 8 is scanned.
am can be marked on the workpiece 12.
上記高速スキャナ16は、レーザ光りを“aに対応する
小さなエリアS2で第1のYスキャナ6に比べて高い周
波数1/lでスキャニングさせることができる。そのた
め、高速スキャナ16は、追従性の低下などによるスキ
ャニング速度の低下を招くことがなく、レーザ光りをス
キャニングさせることができ、しかもそのときのレーザ
光りの移動速度は、大きなエリアS1をスキャニングす
るときと同じになるよう設定されている。したがって、
被加工物12に a の小さなパターンP2とA”の大
きなパターンP、とを同じ深さでマーキングすることが
できるから、マーキングの品質向上が計れる。The high-speed scanner 16 can scan the laser beam in the small area S2 corresponding to "a" at a higher frequency of 1/l than the first Y scanner 6. The laser light can be scanned without reducing the scanning speed due to such factors, and the moving speed of the laser light is set to be the same as when scanning the large area S1. ,
Since the small pattern P2 of a and the large pattern P of A'' can be marked at the same depth on the workpiece 12, the quality of marking can be improved.
第3図(b)において、破線で示す曲線り、は、大きな
エリアSlに用いられる第1のYスキャナ6によって小
さなエリアS2をスキャニングさせた場合で、その場合
には上記第1のYスキャナ6の追従性が振動の発生など
によって低下し、設定範囲であるーayから+ayの範
囲よりも狭い範囲を遅い速度でスキャニングすることに
なるから、単位面積当りの入熱量が増大し、パターンが
深く加工されることになる。In FIG. 3(b), the curve indicated by the broken line is a case where a small area S2 is scanned by the first Y scanner 6 used for a large area Sl, and in that case, the first Y scanner 6 is used for scanning a small area S2. The followability of the pattern decreases due to vibrations, etc., and a narrower range than the set range from -ay to +ay is scanned at a slower speed, which increases the amount of heat input per unit area and causes the pattern to become deeper. It will be processed.
また、高速スキャナ16をレゾナント型とすれば、1個
ずつパターンを選択してタイプライタ的にマーキングす
る場合のマーキング速度を高めることが可能である。Furthermore, if the high-speed scanner 16 is of a resonant type, it is possible to increase the marking speed when selecting patterns one by one and marking them like a typewriter.
なお、上記一実施例では高速スキャナによってレーザ光
を小さなエリアの高さ方向(Y方向)に沿ってスキャニ
ングさせるようにしたが、上記高速スキャナをX方向の
スキャニング用としてもよく、さらには2つの高速スキ
ャナを設け、X方向とY方向との両方向を高速でスキャ
ニングできるようにしてもよい。In the above embodiment, the laser beam is scanned along the height direction (Y direction) in a small area using the high speed scanner, but the high speed scanner may also be used for scanning in the X direction. A high-speed scanner may be provided to scan both the X and Y directions at high speed.
[発明の効果]
以上述べたようにこの発明は、レーザ光を第1のスキャ
ニング手段によってスキャニングさせるレーザマーキン
グ装置において、レーザ光の光路のレーザ発振器と上記
第1のスキャニング手段との間に、レーザ光を上記第1
のスキャニング手段よりも高速でスキャニングさせる第
2のスキャニング手段を設けるようにした。したがって
、レーザ光を小さなエリアでスキャニングさせるときに
上記第2のスキャニング手段によってスキャニングさせ
れば、レーザ光の速度低下を招くことなくスキャニング
させることができるから、マーキングするパターンの大
きさに応じてスキャニングエリアが異なっても、各パタ
ーンの加工深さを一定にすることができる。[Effects of the Invention] As described above, the present invention provides a laser marking device in which a laser beam is scanned by a first scanning means, in which a laser beam is connected between a laser oscillator in the optical path of the laser beam and the first scanning means. Light above 1st
A second scanning means is provided which scans at a higher speed than the second scanning means. Therefore, if the second scanning means is used to scan a small area with a laser beam, scanning can be performed without reducing the speed of the laser beam, so scanning can be performed according to the size of the pattern to be marked. Even if the areas are different, the processing depth of each pattern can be made constant.
図面はこの発明の一実施例を示し、第1図は装置全体の
概略的構成の斜視図、第2図(a)はレーザ光をスキャ
ニグする大きなエリアの説明図、第2図(b)は上記エ
リアをX方向にスキャニングする波形図、第2図(c)
は同じくY方向にスキャニングする波形図、第3図(a
)はレーザ光をスキャニグする小さなエリアの説明図、
第3図(b)は上記エリアをX方向にスキャニングする
波形図、第3図(c)は同じくY方向にスキャニングす
る波形図である。
1・・・レーザ発振器、3・・・第1のXミラー(第1
のスキャニング手段)、4・・・第1のYミラー(第1
のスキャニング手段)、5・・・第1のXスキャナ(第
1のスキャニング手段)、6・・・第1のYスキャナ(
第1のスキャニング手段)、8・・・パターンマスク、
9・・・第2のXミラー 11・・・第2のYミラー
12・・・被加工物、13・・・第2のXスキャナ、1
4・・・第2のYスキャナ、15・・・高速ミラ(第2
のスキャニング手段)、16・・・高速スキャナ(第2
のスキャニング手段)。The drawings show one embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a perspective view of the general structure of the entire device, FIG. 2(a) is an explanatory diagram of a large area to be scanned with laser light, and FIG. Waveform diagram of scanning the above area in the X direction, Figure 2 (c)
is also a waveform diagram for scanning in the Y direction, Figure 3 (a
) is an explanatory diagram of a small area to be scanned with laser light,
FIG. 3(b) is a waveform diagram when the area is scanned in the X direction, and FIG. 3(c) is a waveform diagram when the area is similarly scanned in the Y direction. 1... Laser oscillator, 3... First X mirror (first
scanning means), 4...first Y mirror (first
scanning means), 5... first X scanner (first scanning means), 6... first Y scanner (
first scanning means), 8...pattern mask,
9...Second X mirror 11...Second Y mirror
12... Workpiece, 13... Second X scanner, 1
4...Second Y scanner, 15...High speed mirror (second
scanning means), 16... high-speed scanner (second scanning means), 16... high-speed scanner (second
scanning means).
Claims (1)
ザ光をパターンマスク上でX、Y方向にスキャニングさ
せる第1のスキャニング手段と、この第1のスキャニン
グ手段によってスキャニングされるレーザ光の被加工物
上におけるマーキング位置を制御する位置制御手段とを
具備したレーザマーキング装置において、上記レーザ光
の光路の上記レーザ発振器と第1のスキャニング手段と
の間には、レーザ光を上記第1のスキャニング手段より
も高速で少なくともX、Y方向の一方向にスキャニング
させるための第2のスキャニング手段が設けられている
ことを特徴とするレーザマーキング装置。A laser oscillator, a first scanning means for scanning a laser beam output from the laser oscillator in the X and Y directions on a pattern mask, and a first scanning means for scanning a laser beam outputted from the laser oscillator in the X and Y directions on a pattern mask, and scanning the laser beam scanned by the first scanning means on the workpiece. In the laser marking device, the laser beam is transmitted at a higher speed than the first scanning means between the laser oscillator and the first scanning means in the optical path of the laser beam. A laser marking device characterized in that a second scanning means is provided for scanning in at least one direction of the X and Y directions.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1336009A JPH03198988A (en) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | Laser beam marking device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1336009A JPH03198988A (en) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | Laser beam marking device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH03198988A true JPH03198988A (en) | 1991-08-30 |
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ID=18294750
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1336009A Pending JPH03198988A (en) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | Laser beam marking device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03198988A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5837962A (en) * | 1996-07-15 | 1998-11-17 | Overbeck; James W. | Faster laser marker employing acousto-optic deflection |
US7050208B2 (en) | 2001-11-28 | 2006-05-23 | Overbeck James W | Scanning microscopy, fluorescence detection, and laser beam positioning |
-
1989
- 1989-12-25 JP JP1336009A patent/JPH03198988A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5837962A (en) * | 1996-07-15 | 1998-11-17 | Overbeck; James W. | Faster laser marker employing acousto-optic deflection |
US7050208B2 (en) | 2001-11-28 | 2006-05-23 | Overbeck James W | Scanning microscopy, fluorescence detection, and laser beam positioning |
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