JPH031976U - - Google Patents

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JPH031976U
JPH031976U JP6273089U JP6273089U JPH031976U JP H031976 U JPH031976 U JP H031976U JP 6273089 U JP6273089 U JP 6273089U JP 6273089 U JP6273089 U JP 6273089U JP H031976 U JPH031976 U JP H031976U
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JP
Japan
Prior art keywords
chamber
epitaxial growth
boat
accommodating
liquid phase
Prior art date
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Pending
Application number
JP6273089U
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例を示す断面図、第
2図は従来の液相エピタキシヤル成長用ボートを
示す断面図である。 図において、6はスライド可能な第1の板、7
はスライド可能な第2の板、12は第1の室、1
3は第2の室、14は第3の室、15はスライド
可能な第3の板である。なお、各図中、同一符号
は同一又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. エピタキシヤル成長に用いる結晶融液を収容す
    る第1の室、この第1の室の下側に位置しエピタ
    キシヤル成長させるべき基板を収容するための第
    2の室、この第2の室の下側に位置し上記エピタ
    キシヤル成長に用いた結晶融液を収容する第3の
    室、上記第1の室と第2の室、第2の室と第3の
    室を仕切るスライド可能な板及び第3の室の底が
    スライド可能な板から成る液相エピタキシヤル成
    長用ボートにおいて、このボートを3つの室に分
    割でき第1の室と第3の室が同じ構造で且つ、第
    1の室と第2の室を仕切るスライド可能な板と第
    3の室の底のスライド可能な板が同じ構造である
    ことを特徴とする液相エピタキシヤル成長用ボー
    ト。
JP6273089U 1989-05-30 1989-05-30 Pending JPH031976U (ja)

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JPH031976U true JPH031976U (ja) 1991-01-10

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