JPH03185443A - 転写剤塗布方法 - Google Patents
転写剤塗布方法Info
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- JPH03185443A JPH03185443A JP32505989A JP32505989A JPH03185443A JP H03185443 A JPH03185443 A JP H03185443A JP 32505989 A JP32505989 A JP 32505989A JP 32505989 A JP32505989 A JP 32505989A JP H03185443 A JPH03185443 A JP H03185443A
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- sheet
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- Pending
Links
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
銀を転写する際に用いられる転写剤の塗布方法に関する
。
。
従来の技術
従来より銀の感光性を利用した転写銀による像形成は広
く行われている。このプロセスの簡単な断面図を、第3
図に示す。第3図(A)に示されるように被転写材とし
ての基板1は硫化物2が存在するものを用いる。第3図
(B)に示されるネガシート3は支持体4とハロゲン化
銀を含む乳剤層5とからなる。次にこのネガシート3に
第3図(C)で示されるように光源6から発せられる光
をマスク7でパターニングして照射する。ネガシート3
の露光部8は、ハロゲン化銀感光して銀となる。さらに
第3図(D)で示されるようにこのネガシート3の上に
チオ硫酸ナトリウムなどを含む転写剤9を塗布する。こ
れによりネガシート3の未露光部10に存在していたハ
ロゲン化銀はチオ硫酸ナトリウムと反応し、水溶性のチ
オ硫酸銀となる。その後すぐにネガシート3の前記転写
剤9が塗布された面を、第3図(E)で示されるように
基板1の硫化物2が存在する面と密着させる。これによ
り基板1上にある硫化物2に接したチオ硫酸ナトリウム
は、還元作用を受けて銀を析出させる。
く行われている。このプロセスの簡単な断面図を、第3
図に示す。第3図(A)に示されるように被転写材とし
ての基板1は硫化物2が存在するものを用いる。第3図
(B)に示されるネガシート3は支持体4とハロゲン化
銀を含む乳剤層5とからなる。次にこのネガシート3に
第3図(C)で示されるように光源6から発せられる光
をマスク7でパターニングして照射する。ネガシート3
の露光部8は、ハロゲン化銀感光して銀となる。さらに
第3図(D)で示されるようにこのネガシート3の上に
チオ硫酸ナトリウムなどを含む転写剤9を塗布する。こ
れによりネガシート3の未露光部10に存在していたハ
ロゲン化銀はチオ硫酸ナトリウムと反応し、水溶性のチ
オ硫酸銀となる。その後すぐにネガシート3の前記転写
剤9が塗布された面を、第3図(E)で示されるように
基板1の硫化物2が存在する面と密着させる。これによ
り基板1上にある硫化物2に接したチオ硫酸ナトリウム
は、還元作用を受けて銀を析出させる。
この結果、第3図(F)に示されるように露光時に用い
たマスク7とはポジティブ・ネガティブの関係にある転
写銀パターン11が基板l上に得られる。
たマスク7とはポジティブ・ネガティブの関係にある転
写銀パターン11が基板l上に得られる。
露光後のネガシート3上に転写剤を濾布する場合、以下
のような方法を用いている。第4図に示されるようにタ
ンク12内に転写剤9を満たす。
のような方法を用いている。第4図に示されるようにタ
ンク12内に転写剤9を満たす。
このタンク12内には1対の密着ローラー13が設けら
れている。このタンク12内に露光済みのネガシート3
と転写シート14あるいは銀を転写させたい基板(図示
せず)などの被とを入れた後、密着ローラー13で両者
を密着させネガシート3から転写シート14に銀転写さ
せている。なお、第4図において、16は両者を転写剤
9から引揚げる際のガイドである。
れている。このタンク12内に露光済みのネガシート3
と転写シート14あるいは銀を転写させたい基板(図示
せず)などの被とを入れた後、密着ローラー13で両者
を密着させネガシート3から転写シート14に銀転写さ
せている。なお、第4図において、16は両者を転写剤
9から引揚げる際のガイドである。
発明が解決しようとする課題
しかし、この方法では、ネガシートは転写剤と接触した
後さらに被転写材と密着されるまで移動するため、転写
後の銀パターンは幾分ぼやけてしまう。さらに転写剤を
繰り返し使用していると劣化するため、頻繁に転写剤の
能力を確認する必要がある。またネガシートと、転写シ
ートあるいは基板との密着時に位置ずれを起こすことを
完全に防ぐことはできない。
後さらに被転写材と密着されるまで移動するため、転写
後の銀パターンは幾分ぼやけてしまう。さらに転写剤を
繰り返し使用していると劣化するため、頻繁に転写剤の
能力を確認する必要がある。またネガシートと、転写シ
ートあるいは基板との密着時に位置ずれを起こすことを
完全に防ぐことはできない。
課題を解決するための手段
本発明は、上記の問題点を解消するため、ネガシートあ
るいは被転写材の少なくとも一方の一辺に、転写剤が含
まれた転写剤保持体が疎水性部材で覆われた構造を有し
た転写剤だめを設け、露光後のネガシートと被転写材と
転写剤だめより密着状態で順次押圧していくことにより
、ネガシートと被転写材との間に転写剤を撞布すること
を特徴とする。
るいは被転写材の少なくとも一方の一辺に、転写剤が含
まれた転写剤保持体が疎水性部材で覆われた構造を有し
た転写剤だめを設け、露光後のネガシートと被転写材と
転写剤だめより密着状態で順次押圧していくことにより
、ネガシートと被転写材との間に転写剤を撞布すること
を特徴とする。
作 用
転写剤だめは吸水性のある物質に転写剤を滲み込ませこ
れを疎水性物質でカバーしたものである。なおこの疎水
性シートは外からの圧力によることにより容易に破れる
ものであり、また吸水物質は圧力を受けることにより容
易に転写剤を放出するものである。
れを疎水性物質でカバーしたものである。なおこの疎水
性シートは外からの圧力によることにより容易に破れる
ものであり、また吸水物質は圧力を受けることにより容
易に転写剤を放出するものである。
露光後のネガシート基板を重ね合わせ、次ぎに転写剤だ
めの部分より密着ローラーなどを用いてネガシートと基
板の密着を開始する。これにより、ネガシート上に設け
られた転写剤だめから、密着ローラーの圧力によりまず
転写剤が押し出され、密着ローラーの通過とともにネガ
シートと基板の間を転写剤が広めることができる。
めの部分より密着ローラーなどを用いてネガシートと基
板の密着を開始する。これにより、ネガシート上に設け
られた転写剤だめから、密着ローラーの圧力によりまず
転写剤が押し出され、密着ローラーの通過とともにネガ
シートと基板の間を転写剤が広めることができる。
実施例
以下、本発明の一実施例を添付図面に基いて説明する。
第1図(A)に示されるように、ネガシート3は支持体
4とハロゲン化銀を含む乳剤層とからなる。転写剤だめ
15はネガシート3の乳剤面の一辺上に設けられている
。転写剤だめ15は、チオ硫酸ナトリウム水溶液などか
ら成る転写剤を含んだ木綿製不織布でできた転写剤保持
部17を疎水性シート18が覆って構成されている。こ
の疎水性シート18はパラビン紙でできており密着ロー
ラで圧力を受けたときに容易に破れるように、第2図に
示す破裂部19を設けている。この破裂部19は疎水性
シートを重ね合わせてあり接着などの処理は行っていな
い。このネガシート3に光源6からの光をマスク7でパ
ターニングする。乳剤層5の露光[8は銀を析出する。
4とハロゲン化銀を含む乳剤層とからなる。転写剤だめ
15はネガシート3の乳剤面の一辺上に設けられている
。転写剤だめ15は、チオ硫酸ナトリウム水溶液などか
ら成る転写剤を含んだ木綿製不織布でできた転写剤保持
部17を疎水性シート18が覆って構成されている。こ
の疎水性シート18はパラビン紙でできており密着ロー
ラで圧力を受けたときに容易に破れるように、第2図に
示す破裂部19を設けている。この破裂部19は疎水性
シートを重ね合わせてあり接着などの処理は行っていな
い。このネガシート3に光源6からの光をマスク7でパ
ターニングする。乳剤層5の露光[8は銀を析出する。
次に第1図(B)に示されるように基板1の硫化物2の
存在する面とネガシート3の乳剤面とを重ね合わせ、両
者を密着ローラー13で密着する。
存在する面とネガシート3の乳剤面とを重ね合わせ、両
者を密着ローラー13で密着する。
このとき密着ローラー13は転写剤だめ15のある部分
より移動する。まず転写剤だめ15は密着ローラー13
によって押しつぶされ転写剤9を出す。転写剤9はロー
ラー13が進むにつれ、第1図(C)に示されるように
基板lとネガシート3との間を広まってゆく。このこと
により、乳剤層6の未露光[11に存在しているハロゲ
ン化銀は転写剤9に含まれるチオ硫酸ナトリウムと反応
し、水溶性のチオ硫酸銀を生成しこれが基板1上の硫化
物と反応し基板l上に銀が転写できる。
より移動する。まず転写剤だめ15は密着ローラー13
によって押しつぶされ転写剤9を出す。転写剤9はロー
ラー13が進むにつれ、第1図(C)に示されるように
基板lとネガシート3との間を広まってゆく。このこと
により、乳剤層6の未露光[11に存在しているハロゲ
ン化銀は転写剤9に含まれるチオ硫酸ナトリウムと反応
し、水溶性のチオ硫酸銀を生成しこれが基板1上の硫化
物と反応し基板l上に銀が転写できる。
なお上記実施例では、転写剤だめの構成物である浸水性
物質として木綿性不織布を用いたがポリビニルアルコー
ル製の布など吸水性のあるものであればかまわない。ま
た疎水性シートはバラビン紙以外にいわゆるビニールシ
ートなどほかの疎水性シートを用いてもかまわない。ま
た、この転写剤だめはネガシート上に設けたが、基板(
被転写材〉の硫化物が存在する面の一辺に設けてもかま
わない。
物質として木綿性不織布を用いたがポリビニルアルコー
ル製の布など吸水性のあるものであればかまわない。ま
た疎水性シートはバラビン紙以外にいわゆるビニールシ
ートなどほかの疎水性シートを用いてもかまわない。ま
た、この転写剤だめはネガシート上に設けたが、基板(
被転写材〉の硫化物が存在する面の一辺に設けてもかま
わない。
発明の効果
本発明によれば、従来の方法に比ベネガシートは転写剤
が触れた後、被転写材と密着されるまでの時間を短縮す
ることができるので、基板上に転写される銀のパターン
のぼけは著しく改善された。
が触れた後、被転写材と密着されるまでの時間を短縮す
ることができるので、基板上に転写される銀のパターン
のぼけは著しく改善された。
また、本発明の転写剤塗布方法では、転写材が転写だめ
に保存され一度のみ使用されるため、従来の方法で必要
であった転写剤の管理が必要なくなった。
に保存され一度のみ使用されるため、従来の方法で必要
であった転写剤の管理が必要なくなった。
さらにネガシートと基板の密着時の位置決め精度が著し
く向上したため、基板上に転写された銀パターンの位置
ずれはなくなった。
く向上したため、基板上に転写された銀パターンの位置
ずれはなくなった。
第1図(A)、(B)、(C)は本発明の一実施例にお
ける転写剤塗布方法の工程を示す断面図、第2図は転写
剤だめの断面図、第3図(A)、(B)。 (C)、<D)、(E)、(F)は従来例において転写
銀による像形成を示す断面図、第4図は従来の転写剤塗
布方法を示す断面図である。 l・・・・・・基板、3・・・・・・ネガシート、9・
・・・・・転写剤、15・・・・・・転写剤だめ、17
・・・・・・転写剤保持部、18・・・・・・疎水性シ
ート。
ける転写剤塗布方法の工程を示す断面図、第2図は転写
剤だめの断面図、第3図(A)、(B)。 (C)、<D)、(E)、(F)は従来例において転写
銀による像形成を示す断面図、第4図は従来の転写剤塗
布方法を示す断面図である。 l・・・・・・基板、3・・・・・・ネガシート、9・
・・・・・転写剤、15・・・・・・転写剤だめ、17
・・・・・・転写剤保持部、18・・・・・・疎水性シ
ート。
Claims (1)
- ネガシートあるいは被転写材の少なくとも一方の一辺に
、転写剤が含まれた転写剤保持体が疎水性部材で覆われ
た構造を有した転写剤だめを設け、露光後のネガシート
と被転写材と転写剤だめより密着状態で順次押圧してい
くことにより、ネガシートと被転写材との間に転写剤を
塗布することを特徴とする転写剤塗布方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32505989A JPH03185443A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 転写剤塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32505989A JPH03185443A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 転写剤塗布方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03185443A true JPH03185443A (ja) | 1991-08-13 |
Family
ID=18172695
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32505989A Pending JPH03185443A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 転写剤塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03185443A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3162419A1 (en) | 2015-10-26 | 2017-05-03 | Bandai Co., Ltd. | Shoulder joint structure of doll body |
-
1989
- 1989-12-14 JP JP32505989A patent/JPH03185443A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3162419A1 (en) | 2015-10-26 | 2017-05-03 | Bandai Co., Ltd. | Shoulder joint structure of doll body |
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