JPH03174679A - シナプスセル - Google Patents

シナプスセル

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JPH03174679A
JPH03174679A JP2215957A JP21595790A JPH03174679A JP H03174679 A JPH03174679 A JP H03174679A JP 2215957 A JP2215957 A JP 2215957A JP 21595790 A JP21595790 A JP 21595790A JP H03174679 A JPH03174679 A JP H03174679A
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JP
Japan
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line
input
coupled
gate
transistor
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JP2215957A
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Simon M Tam
サイモン・エム・タム
Mark A Holler
マーク・エイ・ホラー
Hernan A Castro
ハーナン・エイ・カストロ
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Original Assignee
Intel Corp
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [関連出願の記載] この出願は、本発明の譲受人に対して譲渡されている゛
連想ネットワークに興奮性結合と抑制性結合との双方を
与えることが可能なシナプスセル”′と称する1989
年7月13日出願の同時係属出願第379,933号の
一部継続出願である。
[産業−にの利用骨!lIF] 本発明は、人の脳の皮質に於いて遂行される高次機能を
模倣するための連想ネットワークの分野に関する。更に
詳細には本発明は、入力ベク1〜ルとニューラル加算デ
バイスとの間に、重みを付けられた結合を提供するシナ
プスセルに関する。
[従来の技術] 近頃、記憶学習及び/又は知覚・認識などの脳の高次機
能を模倣する電子回路の開発に、多大の努力が傾注され
ている。
入力事象を感知して、そのFIT象を表わす信号パター
ンを出力する回路デバイスの一形態に、連想ネットワー
クがある。連想ネットワークは通常、等しいサイズの垂
直ラインセットと交差し且つ接触している水平ラインか
らなるマトリックスの形をとる。水平ラインは、脳の皮
質の軸索の機能をシミュレートするものであり、入力と
して使用される。乗「ラインは、ニューロンから伸びて
いる樹状突起の機能をシミュレートする。各垂直ライン
は、ニューロン細胞体の機能をシミュレートすべく動作
する加算デバイスに於いて終わる。そうした連想ネット
ワークの一例が、この出願の譲受人に対して譲渡されて
いる“4象限乗算器を用いるニューラルネットワーク用
半導体セル“′と題する1988年12月9日出願の同
時係属出願第07/283,553号に示されている。
連想ネットワークに於いては、ネットワークの水平ライ
ンと垂直ラインとの間に電気的結合を提供する回路セル
によってニューラルシナプスがシミュレートされる。個
々のシナプスは、入力と、加算要素すなわちニューロン
との間に、重みを付けられた電気的結合を提供する。ニ
ューロンは、ニューロン細胞体と、その入力を調節する
シナプスと、その出力を分配する軸索とからなる。
これらのシナプスセルは、事実上、アナログであっても
ディジタルであってもよい。アナログ的実施に於ける入
力信号の重み付き加算は、普通、アナログ電流すなわち
チャージパケットの加算によって計算される。アナログ
結合要素からなる連想ネットワーク処理装置についての
一般的説明は、1989年、クルワー学術出版社(Kl
uwerAcademic  Publishers)
刊、ジョセ・G デルガド フリアス(Jose  G
DelGado−Frias) 、ウィル・Rムーア(
Will  R,Moore)共編、゛″人工知能用V
LSI(VLSI  for  Artificial
  Intelligence)”の第230〜233
頁を参照するのがよい。
ニューラルネットワークの分野の研究者が直面する極め
て困難且つ重要な課題の一つは、接触構造体とも呼ばれ
るシナプスセルの集積化である。
これ迄に提案された幾つかの具体化束は、プログラムネ
能なバイナリから、プログラム可能なアナログ相互接続
にまで亘っている。
アナログ・シナプスセルに於いては、セルサイズについ
ての考察と、結合の重みの決定とは、注意深くバランス
させられねばならない。その上、代表的なネットワーク
システムは、供給される入力のパターンに依存する成る
パターンへとネットワーク全体が収束するまで一連の重
み変化を伴って循環する。従って、連想ネッl−ワーク
内に於ける学習は、重みの値に順応性を必要とする。双
方ともこの出願の譲受人に対して譲渡された“′ニュー
ラルネットワークセル等のための排他的論理和セル″と
題する1989年2月10日出願の同時係属出願第30
9.247号と゛浮遊ゲーl〜デバイスを用いたパター
ンマツチング用の排他的論理和セル“′と題する198
9年3月17日出願の同時係属出願第325.380号
との中に、幾つがのシナプスセル回路が述べられている
フアイア(Faggin)他の米国特許第4゜802.
103号の第2図には、浮遊ゲート1〜ランジスタ34
を用いる接点構造が開示されている。
デバイス34は、デバイス34の浮遊ゲート要素に蓄え
られている電荷の量に準じてネットワークの目標ライン
を放電させるために使用される。ネットワークの収束応
答の大きさは、浮遊ゲートトランジスタをインクリメン
タルに消去することによって変化させられる。言い換え
れば、目標ラインに関わる放電電流を増加させるために
は結合強度が強化される。予め定められた量の電荷がひ
とたび目標ラインから移動させられたならば、検出回路
が収束応答を表示する。
フアイア(Faggin)の第2図に示されている接点
構造の主な欠点は、それが単なる1象限デバイスとして
動作することである。すなわち、フアイアのシナプスセ
ルは、興奮性結合の活動化に対応して正の活動化機能を
果たすに過ぎない。
生物学的メモリは興奮性結合と抑制性結合との双方の機
能を有しており、従って、正の応答と負の応答との双方
を提供する。正の応答と負の応答との双方を提供し得る
セルの機能は、人の脳の中のシナプスによって遂行され
る実際の機能に一層よ0 く似ている。その」二、そうしたセルは素早く学習する
能力を有しているので、連想ネットワークに一層早い収
束をもたらす。それ故、必要とされるものは、正の応答
と負の応答との双方を生成することが可能な集積された
多象限シナプスセルである。
本発明は、1つ又はそれ以上の浮遊ゲー1へトランジス
タを用いるシナプスセルを包含している。
本発明の多様な実施態様は、興奮性結合のみならず抑制
性結合をする能力をも連想ボッ1〜ワークに提供すると
いう、多象限動作の利点を提供する。
さらに、本発明のセルは、極めて高い密度を成し遂げる
一方、インクリメンタルに学習する十分な能力をも提供
する。
当出願人が承知している上記り外の先行技術を以下に列
記する。デンカ−(Denker)他の米国特許第4,
760.437号。ホップフィールド(Hopfiel
d)の米国特許第4.660.1.66号。スペンサー
(Spencer)の米国特許第4,782.4.60
号。カリフォルニ1 ア州すンディエゴ市で開催された7月24〜27日の「
ニューラルネッl−ワークに関するI EEE国際会議
」にて発表されたF・、■・マッグ(F。
J、Mack)他による″混成ディジタルーアナログ手
法を使用する、マイクロエレクトロニックニューラルネ
ッ1〜ワーク用のプログラム可能なアナログシナプス”
、1989年2E刊rIEEE半導体回路ジャーナルJ
VO1,24,第1巻、第28〜34頁のクラーク(C
1ark)他による’VLSIの中に具体化されるパイ
プライン処理連想メモリ″ [発明の概要] 本発明は、入力ラインと、関連付けられた静電容量を有
する出力加算ラインとの間に、重みを付けられた結合を
提供するためのデュアルゲ−1〜・シナプスセルに関す
る。連想ボッ1〜ワークの入力ラインと出力ラインとの
間の結合は浮遊グー1〜1〜ランジスタを用いてなされ
、そのl・ランジスタのデノーアル制御ゲートは入力ラ
インへ結合され、そのドレインは出力ラインへ結合され
る。連想ネッ2 トワーク内の出力加算ラインは、普通、生物学的ニュー
ロン内のニューロン細胞体の機能をシミニレ−1−1,
得る非線形増幅器などの電圧感知要素へと接続される。
神経の結合強度すなわち重みに対応する電荷を蓄えるた
め、トランジスタの浮遊ゲートが使用される。若干の持
続期間を有する2値電圧パルスが浮遊ゲートトランジス
タ たとき、電流が流れる。この電流は、出力加算ラインに
関連付けられている静電容量を放電させるように働く。
この電流及びその結果として生ずる放電は、浮遊ゲート
要素に蓄えられている電荷と入力パルスの持続期間とに
正比例するので、本発明のシナ1スセルは乗算機能を遂
行することとなる。
その上、デヱアルゲートtf4造を用いることによって
、ネットワーク内の隣り合うデバイスのプログラミング
擾乱が事実」二除去される。
以下、添付図面を参照しつつ本発明の実施例について説
明する。
3 「実施例] 第1図には、人の脳の中のシナプスの機能を模倣する接
点構造の基本的回路モデルが示されている。(参考資料
としては、エルセヒエル(Elsevier)刊、カン
デル(Kandc I ] )、シュワルツ(Schw
artz)共著“神経科学の原理(Prjnciple
s  of  Neuroscience)”第2版の
1.04頁を参照のこと)。第1図の回路はアナログ電
流加算ラインS.を含んでおり、ラインS.はニューラ
ル加J                      
J算デバイスの入力端にて終わっている。ラインS、は
、そのラインに関連付けられている各シナプスセル個々
の寄与電流の合計を流す。ラインS。
は、ノード■にて静電容量Cに接続されている。
ノードVには、スイッチTが閉じられているときに一定
の電流■ を供給するための電流源も接続されている。
第1図の回路は、スイッチTが閉じられている期間上 
の間だけ活動化される。
第1図の回路は、当業者ならば承知している筈の、静電
容量からの基本的な放電回路である。コ4 ンデンサCに蓄えられている電荷が、電流I と期間上
 との積に正比例する量だけ放出される。
このように、第1図の基本的な接点構造を用いて、「制
御された期間のスイッチ閉」の形式の入力信号がノード
■からの電荷移動を生じさせ、この電荷移動は次に、単
に各接点構造の電圧の1つをノード■へと結合すること
によって他の電荷移動と合計される。
スイッチの閉に応答してノード■に発生する電圧変化は
、電流I (すなわち、蓄えられている重み〉と期間t
 (すなわち、ニューロンへの入力)との積であり、次
式で表わされる。
ΔV=cI  t             (1) 
 p j個の接点構造体を通じてノードVへ結合されるi個の
入力に対する、ノードVに於ける全電圧変化は、次式で
表わされる。
ΔVT OT−千” 工o i七pi(2〉ここに、各
I 、と各t 、とは独立である。
01      p 1 式(2)により与えられる電気的機能は点乗積ベク+−
ル計算として当業者に知られており、生物学】5 的ニューロンの機能をモデリングする場合にかなり一般
的に使用される計算の1つである。(ラメルバー1= 
(Rumme 1hart)及びマクレラン(McCl
ellan)による“′並列分布処理(Paralle
l  DistributedP r o c e s
 s i n g ) ”の第1巻、第2章を見よ)。
点乗積は通常、次式で表わされる。
点乗積−・方−¥Vi・wi    (3)ここに、お
よびWはそれぞれ、入力ベクトル、蓄えられている重み
を表わす。ノードVに於ける電圧から各電荷移動を独立
させるため、抵抗器の代わりに電流源が使用される。こ
れにより、入力が他の入力の影響を受けることを阻止す
る。
第1図の接点構造をプログラミングする為の簡単な学習
規則(ヘブ学習としてしばしば引用される)は、活動的
入力ラインと応答を得たい加算ラインとに結合されてい
る全ての接点に関わる電流I を増加させることである
。これは、シナプス結合を強化する効果を有する。ニュ
ーロン細胞体から希望通りの応答が得られるように■ 
の値を6 設定するため、逆伝搬法などの他の学習規則が使用され
てもよい。
第2図は、第1図の回路モデルにより表わされる接点構
造の機能を良好に果たし得る完成された回路を示してい
る。第2図の定電流源I は、電気的にチャージされ得
る浮遊ゲート要素を有するMOS)ランジスタ10によ
って実現される。■・ランジスタ10はしばしば、絶縁
物(例えば二酸化ケイ素)によって完全に取り囲まれて
いる多結晶シリコン浮遊ゲートを具備するようにして製
造される。なだれ注入、チャネル注入、トンネル効果に
よる潜り抜は等の様々な機構によって、負の電荷が浮遊
ゲートへと移動させられる。このデバイスの導電性を左
右するものは、浮遊ゲート」二の電荷である。もし、導
電率が成るレベル塩」二であるならば、そのデバイスは
2進の一方の状態にプログラムきれているものと見なさ
れる。また、もし導電率がもう1つのレベル以下である
ならば、2進の他方の状態にプログラムされているもの
と見なされる。アナログ的な適用業務に対しては、7 浮遊ゲートは、上限と下限との間の中間的レベルの導電
率を与えるように制御される。
浮遊ゲートトランジスタは従来技術に於いて様々な形式
をとっており、成るものは電気的消去と電気的プログラ
ミングとが共に可能であり、また、他のものは消去用に
例えば紫外線を必要とする。
これらの不揮発性記憶素子は、従来技術に於いては、E
PROM、EEPROM、又はフラッシュROMとして
しばしば言及される。ここに提示する本発明の実施例は
、普通の選択用1〜ランジスタを付加されている標準的
フラッシュEPROMデバイスを使用するけれども、本
発明の精神及び範囲から逸脱することなく、標準的なE
EPROM又はEPROMへと容易に置換することが出
来る。
第2図について述べれば、予め定められたゼロではない
持続期間t を有する入力電圧パルスを人力ライン12
(V、と記されている)へ与えることにより、■・ラン
ジスタ10に電流I が流れる。電流I の大きさは、
■・ランジスタ10の浮遊ゲート」二にプログラムされ
ている蓄積電荷によ8 って左右される。図示されているように、デバイス10
の制御ゲートは入力ライン12へ接続されており、デバ
イス10のドレインはライン11のノード13へ接続さ
れており、ソースは接地されている。電流■ は、ノー
ド13にてライン】1に接続されているコンデンサー8
をインクリメンタルに放電させるように動作する。これ
は、式(1)に従って、ライン11上に存在する電圧に
、上記放電に対応する変化を生じさせる。
若干の持続期間上 を有する入力電圧パルスが入力ライ
ン12へ加えられる場合をもっと詳細に考察してみよう
。入力電圧の値は事実上ディジタルであり、Oポル1−
であるか、もしくはV  などの供給電位をとる。しか
しながら、パルス幅は元来アナログであり、とり得る連
続的な入力値を表現するために使用される。入力パルス
がライン12に加えられると、浮遊ゲートトランジスタ
ー0は電流■ を導通させる。勿論、電流■ の大0 
                         
  0きさは、トランジスター0の浮遊ゲート要素」二
に実在する電荷に左右される。トランジスター0は1つ nチャネルデバイスであるのが好ましく、従って、もし
大量の負電荷が浮遊ゲート要素上に存在するならば、電
流■ は相対的に小さくなる。他方、少量の負電荷もし
くは正電荷が浮遊グー1〜上に存在するならば、電流■
 は相対的に大きくなる。
上述したように、電流1 は、予定量の電荷をコンデン
サー8からIJP出させるように動作する。
電荷は、様々な代替手段により蓄えられてもよい。
例えば、独立したコンデンサを用いる代わりに、ライン
11に付随しているバラスデイック容量が電荷を蓄える
ために用いられてよい。
入力ライン12が高状態である間に、電流丁。
と期間1. との積に正比例する量の電荷がライン11
から排出される。それに付随して、ノード13に於ける
電圧が低下する。それゆえ、第2図に示されている本発
明のシナプスセルは1象限乗算器タイプとして動作し、
その出力は、1〜ランジスタ10の浮遊ゲー1〜」二に
蓄えられている電荷の量と入力パルス幅との積に依存す
る。(すなわち、浮遊ゲート」−に格納されている電荷
か、適応性を0 有する重みを表現している。) シナゲスセルへの入力を表現するのにパルス幅を用いる
この方式は、パルスが高状態となっている活動的期間に
のみ電流が流れるので、通常の電圧レベル検出方式より
遥かに効率的である。かくて、非活動期に於けるセル内
の電力消費は著しく減少する。
過渡的電流スパイクを減少させるため、多数のシナプス
へと供給される多くの入力パルスの立上り遷移点1つ(
第2図を参照)が、互いに他のパルスに対してランダム
に、適宜ずらされてよい。
これを達成するための1つの方法は高速の自走クロック
を用いてカウンタを駆動するものであり、上記のカウン
タが、多数の入力パルスの遷移点を様々にトリガする。
このようにして、同時に多数の遷移が生ずることの無い
よう、どちらかと言えば互いに非同期的に多くの入力パ
ルスが供給される。もし、多数の人力パルスが同期させ
られてそれらの立上り遷移点1つが同時に生成されるな
らば、大きな過渡電流が流れる結果となる。そのよ1 うな電流は、明らかに望ましくないものである。
人の脳が、多分同様の理由で非同期的なパルスを生成し
ている点に留意されたい。
第2図のセルのプログラミング及び消去は、従来技術と
してよく知られた手法にてなされてよい。
フラッシュEPROMデバイスが用いられている場合に
は、例えば、デバイス]0の制御ゲート(入力ライン1
2へ接続されている)とトレイン(加算ライン11へ接
続されている)とを正の高電位へと持上げることによっ
てプログラムされてよい。デバイス10の制御ゲート及
びドレインに加えられた正の高電圧が、浮遊ゲー1〜へ
の熱い電子の注入をもたらし、それにより、スレショル
ドを」二昇させ電流■ を減少させる。
連思ネッ1〜ワーク内の全ての浮遊ゲートトランジスタ て一般に行われているように、共通ソースを正の高電位
へと持上げることにより同時に消去され得る。例えば、
)・ランジスタ10を消去する際、ライン12に接続さ
れている制御ゲー1〜は接地電位2 付近の電圧とされる。制御ゲートを接地する一方で共通
ソースに正の高電位を加えると、浮遊ゲートからソース
へとトンネル効果によって電子が潜り抜ける。この゛消
去プロセス″は、浮遊ゲートトランジスタのスレショル
ドを低下させ、電流■。を増加させる。
シナプスセル内の浮遊グー1〜トランジスタデバイスを
もっと選択的に消去するには、ソースを個別に選択し得
る電界効果型デバイスが必要とされる。ソース選択用電
界効果型デバイス15を含むそのような回路構成が第3
図に示されている。デバイス15は、普通のnチャネル
MOSトランジスタからなる。デバイス15のゲートに
接続されている選択用ライン16が正の高電位へと持ち
上げられたとき、トランジスタ10のソースは電気的に
ライン】4に接続される。次に、正のプログラミング用
高電位〈例えばV  )が、ライン1 p 4を経由して浮遊ゲーI・デバイス10のソースへと供
給される。選択的消去の間中、ネットワーク内の他の選
択用ラインの全ては、一般に接地され3 る。通常の読出し動作すなわち連想動作に於いては、ネ
ットワーク内の選択用ラインの全ては高状態とされ、そ
れらに関連付けられているプログラミング用電位ライン
(例えばライン14)は接地される。
選択用デバイス15を付加することによってこの結合要
素のセルの寸法はほぼ2倍になるけれども、デバイス1
5は、格納される重みを両方向に、すなわち正方向又は
負の方向に変化させる能力を付は加える。例えば、デバ
イス10の中に格納される重みは、デバイス10の浮遊
ゲー)〜要素をインクリメンタルにプログラミングする
(すなわち電荷を注入する)ことによって増加させられ
てもよく、また、デバイス10をインクリメンタルに消
去する(すなわち放電させる)ことによって減少させら
れてもよい。支出願人が承知している学習アルゴリズム
の大多数は、重みの、両方向へのインクリメンタルな変
化を要求する。従って、予め定められた重みマl〜リッ
クスがデバイス内にプログラムされるべきである場合を
除き、デバイス4 15を含むことは極めて好ましい。
人の脳の皮質は興奮性結合と抑制性結合との双方を有し
ているので、正確なシナプスを実現するためには、正の
応答ならびに負の応答を生成することが可能でなければ
ならない。これは、シナプスセルが2象限乗算又は4象
限乗算を遂行可能でなければならないということを意味
している。入力バターンを出力パターンヘマッピングす
るための十分な普遍性を有するニューラルネッ1〜ワー
クには、抑制性結合が必要である。
第4図のシナプスセルは2象限乗算を実現するものであ
り、2象限乗算に於いては入力電圧パルスに応じて差動
電圧が生成される。このセルは2つの浮遊ゲートトラン
ジスタ26.27を含んでおり、トランジスタ26.2
7はそれぞれ、対応する浮遊ゲート要素28.2つを有
している。トランジスタ26のドレインは電流加算ライ
ン25(Sjlと記されている)へ接続されており、方
、■・ランジスタ27のトレインは電流加算ライン26
′ (Sj2と記されている)へ接続されて5 いる。双方の1〜ランジスタのソースは、例えば接地な
どの基準電位へ結合されている。ライン25、ライン2
6′に関連付けられている静電容量は、第4図に於いて
は、それぞれノード22、ノード23へ接続されている
コンデンサ20、コンデンサ21によって表現されてい
る。各コンデンサの他方の極板は接地されている。(も
ちろん、上に述べたように、実際の静電容量20.21
の具体的表現は様々な形式をとってよい。) 種々の電圧を浮遊ゲート要素28.2つ上にプログラミ
ングすることによって、第4図のセルに両極性重みパタ
ーンが格納される。(この場合の゛′両両極性上いう語
は、重みの、興奮性と抑制性とのいずれをもとり得る能
力を表わす。)−例として、浮遊グー1〜要素2つに格
納されている電圧■  よりも大きい電圧V28を浮遊
グー1〜要素9 28に格納することによって、正の重みが定義される。
■  の方かV28よりも大きい場合には、2つ 当然、負の重みが定義される。
持続期間1. の電圧入力パルスを加えられると、6 各浮遊ゲートトランジスタは、格納されている重みと直
接的に関連する量だけの電流を導通させる。
たとえば、正の重みがプログラミングされている場合(
すなわち、■28〉■2.の場合〉には、電流I  の
方が電流I。2よりも大きくなる。
1 したがって、ノード22に於ける電圧変化の方が、ノー
ド23に於ける電圧変化よりも大きくなる。
(すなわち、コンデンサ20から移動させられる電荷の
方が、コンデンサ21から移動させられる電荷よりも多
い。)このような結果は、しきたりに従って、正の出力
応答と定義されてよい。電流■  の方が電流I。、よ
りも大きい場合には、2 コンデンサ21の方がコンデンサ20よりも一層多くの
電荷を放電し、負の出力応答となる(もちろん、コンデ
ンサ20及びコンデンサ21は同じ容量値を有するもの
と仮定する〉。このように、第4図のセルは、ニューラ
ル加算デバイスに興奮性結合と抑制性結合との双方を生
皮することが可能である。
第5図には、浮遊ゲートデバイス26.27の7 プログラミングと消去との選択的実行を容易にするため
の補助的トランジスタ35.36を組み込んでいる第4
図の2象限シナプスセルが示されている。この提示実施
例に於ける選択用トランジスタ35.36は普通のnチ
ャネルMOSデバイスであり、それら双方のゲートは選
択用ライン37へ接続されており、ドレインはそれぞれ
浮遊ゲー1−)ランジスタ26.27のソースへ接続さ
れており、ソースはそれぞれ共通ソースライン38.3
9へ接続されている。
第3図との関連で述べたように、選択用デバイス35.
36を付加することにより、格納されている個々の重み
を正方向へでも負方向へでも変更し得る能力、すなわち
改造し得る能力が付加される。これは、第5図のシナプ
スに、単純な1象眼tf4戒に比し一層早い学習(すな
わち、より早い収束応答〉の能力を与える。
時間について積分する技術を使用することにより、トラ
ンジスタデバイスを厳密にマツチングさせる必要性がか
なり緩和される。浮遊ゲー)〜デバ8 イスの各々を流れる電流が持続期間t を通じて一定値
であるならば、乗算処理は線形であり正確である。(勿
論、関連付けられた加算ラインの静電容量自身が線形で
あるものと仮定する。)さらに、第5図の回路は、選択
用デバイス35.36を使用してプログラミングと消去
とをインクリメンタルに行なう能力を与えるので、連想
ネッl〜ワークに於ける完全にインクリメンタルな学習
を可能とする。
4象限乗算が可能なシナプスは、Oから+l迄ではなく
−1から+1迄の範囲の入力ベクトル成分を表現可能と
するので極めて有益である。一般に、−1から+1迄の
範囲の成分を有する入力ベクトルの長さ(すなわち大き
さ)はほぼ一定であるが、0から+]迄の範囲の成分を
有するベク)〜ルの長さはかなり変化する。点乗積計算
を行なうシナプスを具備するニス−ロンは、長さが異な
るベタ1〜ルとは対照的な等しい長さを有する種々のパ
ターンのベクトルを識別し得るよう、−層適確に学習す
ることが可能である。
2つ 4象限乗算は、第6図に示されているように、示差的な
入力ラインと出力ラインとを用いて実行される。第6図
のシナプスセルの入力ライン50及び入力ライン51は
、それぞれ、浮遊グー1−1〜ランジスタ40及び41
のゲート、浮遊ゲー1−)ランジスタ42及び43のゲ
ートへ接続される。
■・ランジスタ40のドレイン及びl・ランジスタ42
のトレインは電流加算ライン52(S、、)へ接続され
、一方、デバイスA1のトレイン及びデバイス43のド
レインは電流加算ライン53(S、2)へ接続される。
関連付けられたコンデンサ46がノード44にて加算ラ
イン52へ接続され、また、同様のコンデンサ47がノ
ード45にて電流加算ライン53へ接続される。図示さ
れているように、各コンデンサの他方の極板はアースへ
接続されている。同様に、第6図の各1〜ランジスタの
ソースは基準電位(例えばアース)へ結合されている。
例えば、正の入力としては持続期間上  を有p する電圧パルスがライン50へ供給され、負の入0 イン5】へ供給されてよい。前に述べたように、パルス
の長さすなわち持続期間は、その入力の大きさに比例す
る。これらの浮遊ゲートトランジスタによって導通され
る電流は、入力パルスの持続期間と、デバイス40〜4
3に格納されている重みパターンとの積である。入力1
つにつき1つの入力電圧パルスのみが第6図のセルに供
給されることに留意されたい。言い換えれば、正の入力
はライン50へ供給されるパルスを右しており、ライン
51は接地された状態のままである。逆に、負入力のパ
ルスはライン51へ供給され、ライン50は接地された
状態のままに止まる。−時に1本のラインのみに入力を
供給するようにしたこの方法の採用が厳格に必ず要求さ
れるわけではない。
双方のラインが活動的となっている状況によって、正の
値を表現することも可能であり負の値を表現することも
可能である。
1 各浮遊ゲートの電位は、それぞれの浮遊ゲートトランジ
スタ V  として第6図に示されている。V41の方3 がV  よりも大きく且つV  の方が■43よ40 
            42 りも大きい場合に、負の重みパターンであると定義され
てよい。こうした状況で、正の人力(すなわち、1  
 >0、且つ、t  −0)が加えらpp      
      pn れると、1〜ランジスタ40を流れる電流よりも大きい
電流カ月−ランジスタ41を通って流れる。従って、コ
ンデンサ47の放電に起因してノード45に引き起こさ
れる電圧変化は、コンデンサ46の放電に起因してノー
ド44に引き起こされる電圧変化よりも大きい。第6図
に於けるこのような出力状態が、任意に、負の出力応答
と定義されてよい。上述からの当然の帰結として、正の
出力応答は、ノード44に引き起こされる電圧変化の方
がノード45に引き起こされる爪Y「変化を上口る状況
に対応する。
上述の約束事すなわち定義に従えば、格納される正の重
みパターンは、■  の方かV4]より0 2 も大きく且つV  の方がV42よりも大きい状3 況に対応する。正の重みパターンを格納している第6図
のセルに正の入力(すなわち、t  〉0、pp 且つ、1   =0)を加えると、ライン53上にpn 経験する放電よりも大きな放電がライン52に生じ、す
なわち正の出力応答となる。正の重みを格納している第
6図のセルに負の入力(すなわち、七  −〇、且つ、
t  〉0)を加えれば、うpp          
   pn イン52上に経験する放電よりも大きな放電がライン5
3上に生じ、すなわち負の応答となる。同様にして、格
納されている負の重みパターンへ負の入力を加えると、
正の出力応答がもたらされる。
」二連の約束事に従いつつ要点を再び述べるならば、正
の重みに正の人力が与えられると正の応答を生じ、正の
重みに負の入力が与えられると負の応答を生じ、負の重
みに負の入力が与えられると正の応答を生じ、貝の垂み
に正の入力が与えられると負の応答を生ずる。このよう
に第6図のセルは、4象限乗算を行なって興奮性結合と
抑制性結合との双方を提供することが可能である。
3 第2図〜第6図の説明に関連して述べるならば、新しい
入力パルスシーケンスすなわち新しい連想サイクルが与
えられる度毎に、その直前までに、出力電流加算ライン
に関連イ1けられているコンデンサを予め充電して置か
ねばならないことは当然である。
各浮遊ゲーj・トランジスタ40〜43のソースへ結合
される選択用トランジスタを設けることによって、イン
クリメンタルな学習能力が第6図のセルに組み込まれる
。これらの選択用1〜ランジスタは、第3図及び第5図
の教えるところに従って配列される。すなわち、幾つか
の選択用デバイスのゲー■〜が1本の電圧選択用ライン
へ接続され、それらのソースは別々のブロクラミング用
電位ラインへと接続される。プログラミング及び消去は
、第2図〜第5図に関連して上述したようにして行われ
てよい。そのような、プログラミング及び消去を容易に
するための3Z択用1〜ランジスタを用いた回路楢戒が
、第7図に示されている。
第7図には、それぞれの浮遊ゲート1−ランジス4 タ40〜43に接続されているnチャネルの選択用トラ
ンジスタ60〜63が示されている。電圧選択用ライン
67はトランジスタ60のゲート及びトランジスタ61
のゲートへ接続され、一方、選択用ライン68はトラン
ジスタ62のゲート及びトランジスタ63のゲー■・へ
接続される。トランジスタ60のソース及びトランジス
タ62のソースはライン64へ接続され、一方、デバイ
ス61のソース及びデバイス63のソースはライン65
へ接続される。ライン64及びライン65は、プログラ
ミング期間中、消去の期間中、及び、通常の読出し動作
の期間中、トランジスタ40〜43のソースに適切な電
位を与える。
8〜10 の   についての 第6図および第7図のシナプスセルには、幾らかの欠点
が無いわけではない。第7図の各浮遊ゲートトランジス
タ40〜43が純然たるEEPROMからなっており、
しかも、トランジスタ42へのプログラミングを必要と
する状況を考えてみよう。(EEPROMデバイスは、
電流が少なく5 て済むことを要するか又は実際に5ボルトで動作し得る
ことを要するような応用に対してしばしば選択される。
一方、フラッシュEPROMデバイスは、例えば列全体
がスイッチングされるような場合に大きな電流サージを
しばしばこうむり易い。
EPROMも一般に、高めの電圧で動作する。)デバイ
ス42をプログラムずべく、制御ゲートに結合されてい
るライン51かプログラミング電位V  へと上昇させ
られる。ここに提出した実施p 例に於いては、■  はほぼ15〜J8ポル1〜でp ある。次にドレインが接地され、一方、ソースは、Vs
e I ect2 <ライン68)を低電位とすること
によって浮動状態にされる。これによって電子が、デバ
イス42のドレイン領域から浮遊ゲー■・へと、ドレイ
ン付近の薄い酸化物領域を通って潜り抜ける。
デバイス42の制御ゲー1〜とデバイス43の制御ゲー
トとが同一の入力ライン51へ結合されているという事
実に起因して、1つの問題が生ずる。
デバイス42のプログラミング期間中はライン56 1がプログラミング電位V  であるから、デバp イス43もその同一の電位となる。その結果、デバイス
42をプログラムしようと企てる毎に、デバイス43の
プログラミング状態が激しく掻き乱される。
同様に、デバイス42を消去するには、制御ゲートが(
ライン51を経由して〉接地され、一方、(ライン52
に結合されている〉ドレインはプログラミング電位V 
 とされる。これは、隣りのp デバイス4oのプログラミング状態の擾乱をもたらす。
なぜならば、隣りのデバイス40のドレインも又ライン
52へ結合されており、その上、プログラミング/消去
動作期間中、入力ライン50の電圧は一般にライン51
の電圧の跡を追うからである。
つまり、第6図または第7図のシナプスセルの単一のE
EPROMI−ランジスクをプログラムするか又は消去
しようとすると、セル内の隣接するトラ−9乙夕が激し
い擾乱状態にさらされることを□yi難い。デバイス4
2をプログラミング又は7 消去する場合の第7図のセルに於ける擾乱状態が、以下
に示す表1に要約される。明らかに、第6図又は第7図
のセル内の他のデバイスのプログラミングもしくは消去
が、それに対応する擾乱を隣りのデバイスに生成する。
表1(i) 8 表1(ii) このたび提出された本発明の実施例が第8図に示されて
いる。第8図のセルは4つの同一のEEPROM)ラン
ジスタフ0〜73からなっており、その各々は、セル内
の擾乱電圧状況をほぼ半分に減らすためのデュアル制御
ゲーl−構造を有している。デバイス70〜73には選
択用トランジスタが組み合わせられていない点に留意さ
れたい。そして、それらデバイスのソースは直接的に接
地へ結合されている。但し、第7図に於いて説明したと
同様の手法にて、選択用トランジスタが第8図9 のセルへ組み込まれてもよい。
第8図のトランジスタ70は、このデバイスのフィール
ド領域の」一方に空間的拡がりをもって配置されている
第1の制御ゲート74を具備している。デバイス70の
制御ゲート74とデバイス72の制御ゲー1〜78とが
、Xj]と記されている入力ライン85へ結合されてい
る。同様に、デバイス71の制御ゲート76とデバイス
73の制御ゲート80とが、Xj2と記されている入力
ライン86へ結合されている。〈ゲート76、ゲート7
8及びゲート80も又、それらの、対応するトランジス
タのフィールド頑域の上方に配置されている。〉 トランジスタ70のチャネル領域の上方に通例配置され
ている第2の制御ゲート75は、Xi□と記されている
入力ライン90へ結合されている。
入力ライン90は、トランジスタ71の制御ゲート77
へも結合されている。デバイス72の制御ゲート7つと
デバイス73の制御ゲート81とは、X、2と記されて
いる入力ライン91へ結合され0 ている。(ゲー1〜77.79及び81は通例、対応す
るトランジスタのチャネル領域の上方に配置される。〉
アナログ電流加算ライン87.88にはそれぞれ、デバ
イス70及び72のドレイン、デバイス71及び73の
ドレインが結合されている。
第8図のセルの動作を理解する助けとするため、トラン
ジスタ72が先ずプログラムされ、次いで消去されるケ
ースを検討してみる。
トランジスタ72をプログラムするためには、(制御ゲ
ート78へ結合されている)ライン85と〈制御ゲート
79へ結合されている)ライン91との双方が、プログ
ラミング用高電位V  とp される。デバイス72のトレインは、ライン87を接地
することによって低電位とされる。ライン86.88及
び90も接地される。制御ゲート78と制御ゲート79
との双方を正の高電位にすると、ファウラーノルドハイ
ムトンネリングによって、N+ドレイン領域の」一方に
配置されている薄い酸化物を貫いて電子が浮遊ゲート内
へと注入さ1 れる。
制御ゲートに電位V  を受は取るこれ以外のp デバイスには、1〜ランジスタフo及びトランジスタ7
3がある。デバイス72のプログラミングのおかげで、
トランジスタ7oの制御ゲート74が電位V  となり
、一方、1〜ランジスタフ3は制p 御ゲート81がその同じ電位となる。しがしながら、ト
ランジスタ70及び73のもう一方の制御ゲート〈すな
わち、それぞれゲート75及びゲー1−80 )は接地
電位である。従って、デバイス70の制御ゲート及びデ
バイス73の制御ゲートへ供給される合計としての電位
は、はぼ半分に減らされる。供給電位に於けるこの減少
は、これらのデバイスの浮遊ゲート上に蓄えられている
電荷の擾乱を事実上除去するに十分である。こうして、
トランジスタ72のプログラミングによって引き起こさ
れる擾乱に対する)・ランジスタフo及び73(ならび
にトランジスタ71)の感度は、十分に低下させられる
。制御ゲートの一方には高電位を受取り他方は低電位に
とどまっているデュアル2 ゲート■・ランジスタは、「半選択モード」の動作状態
にあると言われることがある。
ここで、トランジスタ72が消去される状況について検
討してみる。1〜ランジスタフ2を消去するためには、
ライン87は電位V  とされ、−p 方、制御ゲート78、制御ゲート79にそれぞれ結合さ
れているライン85及びライン91は接地される。これ
によって、1〜ランジスタフ2の浮遊ゲート上に存在す
る電子が、薄い酸化物領域を通り抜けてデバイス72の
ドレインの中へと戻る。
■・ランジスタフ2の消去期間中に起こり得るセル内の
他の1〜ランジスタに対する擾乱を減少させるため、ラ
イン88及びライン86が接地される。
これは、トランジスタ73に於ける擾乱状態の可能性を
全て除去する。
トランジスタ70に対する擾乱を除去するために、(制
御ゲート75に結合されている)ライン90がプログラ
ミング電位■  へと上昇させら p れる。これは、デバイス70に対する擾乱を著しく減少
させる。ライン90への■  の適用は、p 3 トランジスタ71のゲーI〜77をもプログラミング電
位とする。しかしながら、デバイス72を消去している
ときにはライン86は通例接地されているので、トラン
ジスタ71は半選択モードにとどまる一一一このことは
勿論、デバイス71に対する擾乱が木質的に存在しない
ことを意味している。
第8図のシナプスセルの読出し動作期間中、X、jライ
ンとXiミラインが一緒に結合されてもよい。ずなわち
、第8図のセルを感知すべく、2つ以上の入力電圧ライ
ンへ同時に入力バルスが与えられてもよい。或いはまた
ユーザは、水平ラインXiを入力電圧ベクトルのための
信号ラインとして用いる一方で、垂直ラインXjにはV
  など C の電圧基準を供給することも出来る。例えば、もしライ
ン85及びライン86かV  であるならば、入力電圧
はライン90かライン91かのいずれかに与えられる。
その」二、プログラミング擾乱を阻止するためにデュア
ル制御ゲー1−1〜ランジスタを使用するこの4 概念は、第2図〜第7図に示されているシナプスセルの
いずれに対しても拡張され得る。勿論、そのような実施
は、入力ラインをXi要素及びXj要素へ分割すること
を含む。
このように、浮遊ゲートデバイスのデュアル制御ゲーl
−構造に適応させるため入力ラインを分割することによ
って、個々の1〜ランジスタのプログラミング期間中及
び消去期間中に通例生ずる擾乱状況の影響を受けること
のない改首されたシナプスセルが作り出される。デバイ
ス72のプログラミング及び消去に関わる電圧レベルを
表2に示す。
表2(i) /I5 表2(ii) 隣り合う浮遊ゲート1ヘランジスタに於ける擾乱を実際
に除去するためデヱアルゲ−1・構造に於ける「半選択
モード」がどのように使用されるかを、表2は良く示し
ている。
第9図は、第8図のデュアルゲ−1・l・ランジスタフ
0〜73のうちの]つのものの」二面図である。
この提示実施例に於いて、トランジスタ70〜73は、
本発明の譲受人に対して譲渡されており且つ参考資料と
してここに組み入れられる1988年11月21日出願
の゛EEPR,OMセル及びフラッシュEPROMセル
を同時に加=[するための6 プロセス°”と称する同時係属出願第274.4.20
号の中に述べられているようなプロセス、の流れを用い
て加工される。上述の同時係属出願に述べられているプ
ロセスとの基本的な違いは、制御ゲートが別個の2つの
部分75.74に分割されていることである。
第9図に示されている提示実施例は、ドレインコンタク
l−102とソースコンタクl−1,03とを含む。浮
遊ゲートは、第1の多結晶シリコン層95によって表現
されている。制御ゲー1〜は、第2の多結晶シリコン層
75.74からなる。第9図に於いては、薄いl〜ンネ
ル酸化物領域が長方形97によって表現されている。こ
のデバイスのアクティブ領域は破線96によって定義さ
れており、一方、酸化物97(第1. OB図を参照〉
領域以外の領域に於けるアクティブ領域96と層95と
の交差が、トランジスタのためのチャネル105を形成
する。実際にこのデバイスを具体化する場合、層75と
層97との交差によって形成される正方形のトンネル領
域の面積は、はぼ1.0ミクロン7 平方(μm2)である。第9図のトランジスタのユニツ
1〜セル全体のサイズは、はぼ140μm2である。
多結晶層75はI・ランジスタフ0のX、1人力に対応
し、一方、多結晶層74はX51人力に対応する。この
提示実施例に於いて、ゲート75とゲー■・74との間
の制御ゲート静電容量比はほぼ60・40である。しか
しながら、隣接1〜ランジスタの擾乱を阻止するために
、広範囲の静電容量比が使用され得るものと考えられる
。たとえば、50・50又は4060の静電容量比は合
理的な結果をもたらすであろう。
第1.OA図及び第1. OB図は共に、第9図のデュ
アル制御ゲー1−EPROMデバイスの断面図である。
第1.OA図は切断線A−A′についての断面図であり
、第10B図は線B−B′についての断面図である。第
10A図及び第1.OB図に示されているように、EE
PROM+−ランジスタフ0〜73は各々、N+ドレイ
ン領域98がら離して配置されているN+ソース領域9
つを具備する。
8 浮遊ゲーI・95は、デバイスの成る領域に於いてはフ
ィールド酸化物100によって基板101から絶縁され
(第10A図を参照)、また、デバイスの他の領域に於
いては薄いゲート酸化物104によって基板1.01か
ら絶縁されている(第10B図を参照)多結晶シリコン
ゲートからなる。浮遊ゲート95は、第10B図に示さ
れているように、ソース領域99の縁からチャネル10
5を完全に横切って伸びており、月つ、ドレイン領域9
8の部分に覆い被さっている。
電子の潜り抜けは、この提示実施例に於いてはほぼ1]
0人の厚さである極めて薄い二酸化ケイ素の層97を貫
いて生ずる。トンネル酸化物97は、デバイスのドレイ
ン領域98の上に直接に配置される。薄い絶縁体く例え
ば二酸化ケイ素)が、制御ゲート要素75.74から浮
遊ゲート95を隔てている。制御ゲート74はフィール
ド酸化物1、00の上方に配置されており、一方、制御
ゲート75は、1〜ンネル領域97の上方のみならず、
第−義的にトランジスタのチャネル領域の上方に9 配置される。EEPROMデバイス70〜73は各々、
フィールド酸化物領域100によって取り囲まれている
これまでに述べた説明を読み終えたならば、本発明につ
いての様々な変更と修正とが当業者には明らかとなるで
あろうが、例示の目的で示された特定的な実施例が本発
明を制限するものであるとみなされるべきではない。例
えば、この開示に於いてはデュアル制御ゲートデバイス
格造を具体化する為の特定の方法を示したけれども、こ
れ以外の実施方法を用いることも可能である。それゆえ
、ここに提示された実施例の詳細にわたる記述は請求の
範囲を限定する為のものではなく、本発明にとって不可
欠な特徴は請求項に列挙されている。
以」−、デュアルゲート1〜ランジスタ構造を使用する
改良されたシナプスセルについて説明を加えた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、人の脳の皮質白に於c′)るシナプスの0 機能を模倣する接点構造の基本的回路モデルの図、第2
図は、ただ1個の浮遊ゲート1−ランジスタを用いるシ
ナプスセルの図、 第3図は、選択的なプログラミング/消去を容易にする
ための補助的トランジスタを組み込んだ第2図の1象限
シナプスセルの図、 第4図は、入力電圧と格納されている重みとの2象限乗
算を提供するシナプスセルを示す図、第5図は、選択的
なプログラミング/消去を容易にするための補助的トラ
ンジスタを組み込まれている第4図の2象限セルを示す
図、 第6図は、差動入力を差動出力加算ラインへと結合して
いる4象限シナプスセルの図、第7図は、選択的なプロ
グラミング/消去を容易にずべく補助的トランジスタを
組み込んだ第6図の4象限セルの図、 第8図は、このたび提出する本発明の実施例を示す図、 第9図番よ、本発明に於いて用いられるデコーアルゲー
1〜デバイス椙造の」ユ面図、 1 明細書の浄書(内容に変更なし) 第10A 図及び第10B図は、このたび提出する本発
明の実施例に於いて用いられるデュアルゲートデバイス
構造の断面図である。 10.26.27.40〜43・・・浮遊ゲートトラン
ジスタ、 11.25.26’、52.53・・・出力電流加算ラ
イン、 12.3L  50ぐ 51.85.86.90.91
・・・入力ライン、 15.35.36.60〜63・・・ソース選択用の補
助的デバイス、 16.37.67.68・・・選択用ライン、18.2
0.21.46.47・・・コンデンサ、19・・・入
力パルスの立上り、 28.29・・・浮遊ゲート要素、 14.38.39.64.65・・・共通ソースライン
(プロア”ラミング用電位ライン)、70〜73・・・
EEPROM )ランジスタ、74.76.78.80
・・・第1制御ゲート、75.77.79.81・・・
第2制御ゲート、52− 95 第1多結品シリコン層〈浮遊ゲート)96・ ア
クティブ領域、 97−[い)〜ンネル酸化物領域、 98・・ドレイン(N + )領域、 9つ・・ソース(N+)領域、 100 ・フィールド酸化物、 101・・・基板、 】02・・・ドレインコンタク)・、 103・・ソースコンタクI・、 lO/l・−博いゲート酸化物、 105 ・ヂャネル

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)連想ネットワーク内のニユーラル加算ラインを放
    電させるためのシナプスセルであつて:前記放電の割合
    は、入力電圧パルスの持続期間と、蓄えられている重み
    との関数であり; 前記シナプスセルは、デュアルゲートトランジスタから
    なつており; 前記デュアルゲートトランジスタは、前記重みを蓄える
    ための浮遊ゲートと、基準電位へ結合されているソース
    と、前記ニューラル加算ラインへ結合されているドレイ
    ンと、第1入力ラインへ結合されている第1制御ゲート
    と、第2入力ラインへ結合されている第2制御ゲートと
    を有しており;前記第1入力ライン及び/又は前記第2
    入力ラインは、前記ドレインから前記ソースへと電流を
    流すために、前記入力電圧パルスを前記デユアルゲート
    トランジスタへと結合し; 前記電流は、前記ニューラル加算ラインを放電させる; ようにしたことを特徴とするシナプスセル。
  2. (2)ニューラル加算デバイス内の第1入力電圧ライン
    と第2入力電圧ラインとの間に興奮性結合と抑制性結合
    との双方を与えるための、適応性を有する連想ネットワ
    ーク用シナプスセルであつて:それぞれ第1入力電圧ラ
    イン、第2入力電圧ラインへ結合されている第1制御ゲ
    ート及び第2制御ゲートと、第1の電荷を蓄えるための
    第1浮遊ゲートと、第1出力加算ラインへ結合されてい
    る第1ドレインとを有する第1デュアルゲートトランジ
    スタと; それぞれ前記第1入力電圧ライン、第3入力電圧ライン
    へ結合されている第3制御ゲート及び第4制御ゲートと
    、第2の電荷を蓄えるための第2浮遊ゲートと、第2出
    力加算ラインへ結合されている第2ドレインとを有する
    第2デュアルゲートトランジスタと、を具備しており; 前記第1出力加算ラインは、そこへ結合させられた第1
    の静電容量を有しており; 前記第2出力加算ラインは、そこへ結合させられた第2
    の静電容量を有しており; 前記第1の電荷と前記第2の電荷との差が、重みを定義
    しており; 前記第1出力加算ライン及び前記第2出力加算ラインは
    、前記第1、第2、第3入力電圧ラインのうちの少くと
    も1つへ与えられる幾らかの持続期間を有する入力電圧
    パルスに応答して、前記ニューラル加算デバイスへ差分
    信号を提供し;前記差分信号の大きさ及び極性は、前記
    持続期間と前記重みとに正比例する; ようにしたととを特徴とするシナプスセル。
  3. (3)第1、第2、第3、第4入力ラインと第1、第2
    出力加算ラインとの間に、興奮性結合と抑制性結合との
    双方を与えるためのシナプスセルであつて: それぞれ前記第1入力ライン、前記第3入力ラインへ結
    合されている第1制御ゲート及び第2制御ゲートと、浮
    遊ゲートと、基準電位へ結合されているソースと、前記
    第1出力加算ラインへ結合されているドレインとを有す
    る第1デュアルゲートトランジスタと; それぞれ前記第3入力ライン、前記第2入力ラインへ結
    合されている第3制御ゲート及び第4制御ゲートと、浮
    遊ゲートと、基準電位へ結合されているソースと、前記
    第1出力加算ラインへ結合されているドレインとを有す
    る第2デュアルゲートトランジスタと; それぞれ前記第4入力ライン、前記第1入力ラインへ結
    合されている第5制御ゲート及び第6制御ゲートと、浮
    遊ゲートと、基準電位へ結合されているソースと、前記
    第2出力加算ラインへ結合されているドレインとを有す
    る第3デュアルゲートトランジスタと; それぞれ前記第4入力ライン、前記第2入力ラインへ結
    合されている第7制御ゲート及び第8制御ゲートと、浮
    遊ゲートと、基準電位へ結合されているソースと、前記
    第2出力加算ラインへ結合されているドレインとを有す
    る第4デユアルゲートトランジスタとを具備しており; 前記浮遊ゲートの各々は、幾らかの持続期間を有する入
    力電圧が前記入力ラインのうちの少くも1つへ与えられ
    たならばいつでも前記第1出力加算ラインと前記第2出
    力加算ラインとの間に差分出力信号が生成されるように
    前記トランジスタの電流を制御する電荷を蓄えており; 前記差分出力信号の大きさ及び極性は、前記電荷の大き
    さと、前記第1、第2、第3、第4トランジスタの間の
    前記電荷の差によつて形成される重みパターンと、前記
    入力パルスの持続期間とに直接的に関連付けられている
    ; ようにしたことを特徴とするシナプスセル。
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