JPH03159183A - レーザ装置 - Google Patents

レーザ装置

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Publication number
JPH03159183A
JPH03159183A JP1300536A JP30053689A JPH03159183A JP H03159183 A JPH03159183 A JP H03159183A JP 1300536 A JP1300536 A JP 1300536A JP 30053689 A JP30053689 A JP 30053689A JP H03159183 A JPH03159183 A JP H03159183A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
intensity distribution
laser
phase
distribution
Prior art date
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Pending
Application number
JP1300536A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Takenaka
裕司 竹中
Kimiharu Yasui
公治 安井
Masaki Kuzumoto
昌樹 葛本
Shigenori Yagi
重典 八木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP1300536A priority Critical patent/JPH03159183A/ja
Publication of JPH03159183A publication Critical patent/JPH03159183A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、レーザ装置に関し、特にレーザ発振器から
発生されるレーザビームの品質改良に関するものである
[従来の技術] 第12図は、例えばレーザハンドブック(オーム化、昭
和57年)に記載された従来の安定型共振器を用いたレ
ーザ装置を示す構成図である1図において、(1)は凹
面状の、例えばCuより成る全反射ミラー、(2)は全
反射ミラー(りに対向配置された凹面状の1例えばZn
5eより成る部分反射ミラ(3)は部分反射ミラー(2
1面に施された、例えばZn5eより成る部分反射膜、
(4)は部分反射ミラー(21面に施された1例えばZ
n5e、 ThFLより成る無反射膜、(5)はレーザ
媒質で、例えばC02レーザ等のガスレーザの場合は放
電などにより励起されたガス媒質であり、YAG等の固
体レーザの場合:まフラッジ1ランプ等により励起され
た固体媒質である。(6)はレーザビーム径を制御する
アパーチャ、(7)は周囲を覆う箱体、(8)はミラー
(11、121より構成される安定型共振器の内部に発
生するレーザビーム、(9)は部分反射ミラー(2)に
より外部に取り出されるレーザビーム、(10)は例え
ばレンズ等により成る集光IL (Illは集光器(1
0)により集光された集束ビーム、(12)は加工対象
物である。
次に動作について説明する。ミラー+11 、 +21
は安定型共振器を購成し、レーザビーム(8)はミラー
+11 、 (2+の間を往復するうちにレーザ媒質(
5)により増幅されると共に、レーザビーム(8)の一
部が部分反射膜(31、部分反射ミラー(2)、及び無
反射膜(4)を介して外部に取り出される。
アパーチャ(6)は共振器内に発生するレーザビーム(
8)のモード次数を制御し、例えばレーザビーム(8)
の弔−モード化を行う、外部に取り出されたレーザビー
ム(9)は、集光器(1(すな通過することにより集束
ビーム(Iりとなり、鉄板等の加1対象物(!2)の切
断、lさ接等を効率良く行うことができる。
表定型共振器を用いたレーザ発振器から発生されるレー
ザビームのうち、加工の際、切断等でよく用いられるも
のに最低次モード、即ちTF、V、。モートのレーザビ
ームがある。このレーザビームの強度分布は第13図(
a)の距離に対する光強度のグラフに示すようにガウス
分布をなし、レーザビームの光波面の位相分布はほぼ笠
位相である。従って、このレーザビームは集光レンズ等
により集光させると、最もよく集光する。 TEMoo
モードのレーザビームを発生させるには、安定型共振器
内に設置されたアパーチャ(6)でレーザビーム径の広
がりをHil+限すればよい、これに対し、集光ビーム
の強度分布が平坦であることが望ましい焼き入れ7にお
いては、第13図fb)の距離に対する光強度のグラフ
に示すようなマルチモードのレーザビームを用いる場合
がある。マルチモードのレーザビームを発生させるには
、例えばアパーチャ(5)の直径なTEM00モードの
場合に比べ大きくするか、あるいはこれを取り除けばよ
い、アパーチャ(6)の操作により、TE’Jooモー
ド程のビーム集束は17られないが、励起空間の利用率
が増加するため、レーザ出力は増加する。
[発明が解決しようとする課Z] 従来のレーザ装置は以上のように構成されているので、
例えば焼き入れ等を行う場合、加工対象物の加工面にお
いて強度分布が矩形状もしくはそれに近いレーザビーム
を発生させる必要がたびたび生じる。従来では表定型共
振器を用いたレーザ発振器から第13図(b)に示すよ
うなマルチモードのレーザビームを発生させ、レーザビ
ームの光路上でレーザビーム径の外周部を削除すること
シこより、強度分布が矩形状もしくはそれに近いレーザ
ビームを発生せしめていた。しかし、マルチモードのレ
ーザビ一ムは、−Hにレーザ出力の変化に伴なってその
次数が変化し、強度分布が変動しやすい、その結果、加
工面における強度分布か変化し、加工性能を安定させる
ことができなくなるという問題点があった。
この発明は上記のような問屋、ψ、を解消するためにな
されたものであり、レーザ出力を変化させても、加工対
象物の加工面に8いて、常に強度分子lrが安定なレー
ザビームを発生させることのできるレーザ装置を得るこ
とを目的とする。
[課題を解決するための手段] この発明に係るレーザ装置は、レーザビームを発振する
レーザ共振器、及びレーザ共振器で得られた強度分布が
ガウス状のレーザビームの光路上に設けられ、レーザビ
ームの光波面の位相を部分的に反転させてレーザビーム
の遠視野強度分布を変換せしめろ位相調整器を備えたも
のである。
5作用] この発明における位相調整器は光波面の位相を部分的に
反転させてレーザビームの遠視野強度分布を変換せしめ
るものであり、反転のさせ方によって強度分布が矩形状
もしくはそれに近いレーザビームを発生せしめることも
できる。レーザ共振2::では強度分布がガウス状のレ
ーザビームを得5このレーザビームを位相調整器により
、加工対象物の加工面においてレーザビームの強度分布
を加圧に通したものに変換せしめている。
〔実施例〕 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図(al はこの発明の一実施例によるレーザ装置を示
す構成図、第1図(blはレーザビーム(9)の強度分
布を示すグラフ、第1図fc)は加工面におけるレーザ
ビームの強度分布を示すグラフである0図において、+
1)〜(12)は従来例と同様のものである。 (2+
1は位FHW整器であり、し〜ザビームの光路上に設置
しである。 +221は部分反射ミラー(2)より外部
に取り出されたレーザビーム(9)の強度分布(これを
近視野強度分布と称する)であり、(23)は集束ビー
ム(11)の加1面における強度分布(これを遠視野強
度分布と称する)である。
次に作用について説明する。レーザ発振器からレーザビ
ーム(9)が発生する動作は従来例と同様であり、この
一実施例において、アパーチャ(6)は、レーザビーム
(9)がTEMoaモードになるように設定された開口
を持っている。さらに部分反射ミラー(2)の無反射膜
(4)側の表面形状を凸面状に加工することにより、レ
ーザ発振器から発生されるレーザビームは、従来例と同
様に、軸対称で等(l相のTEMo。モードになる。こ
のレーザビームの強度分布と位相分布を関連づけて示す
と第2図(at 、 (blのようになる。第2図(a
lはTtvt+oモードの強度分布を距離に対する光強
度で示し、距離の中央は光軸を表わしている。また第2
 M (b)2ま距離に対する位相を表わすもので、距
離の中央は光軸、点線で位相分布を表わす、即ち、レー
ザビーム(9)の強度分布はガウス分布を示し、位相分
布は等位相分布を示す。
このTI:、M、。モードのレーザビーム(9)が位相
調整器(21)まで伝搬すると、回折の影響によりレー
ザビーム径は増大するが、強度分布及び位f口分布は第
2図に示したものと同様で変化しない1位相調整器(2
1)は、レーザビームの強度分布はそのままで、位相の
みを強度分布に対応した位置で部分的に反転させる装置
であり、具体的に一実施例を示すと第:3図のようにな
る。第3図(alの−L部では位相調整器(21)に入
射するレーザビームの強度分布を示しており、縦軸は光
強度、横軸はレーザビームの軸中心からの距離であり、
特にこの図では強度が軸上のe −8倍になる位置を1
として規格化している。第3図(alの中央部は位相調
整器(21)の正面を示し、第3図(alのF部は位相
21#整器(21)の断面を示している0図において、
(31)は、例えばCuより成るミラー基板で、レーザ
ビーム(9)にさらされる面は平坦で、レーザビームを
100%近く反射する面より構成されている。 (32
1はこの基板(3I)上に、例えばレーザビームの軸中
心から規格化距離として例えば0.6と0.95の間に
設置された基板(31)と手行な段差部である。この位
相調整器(2I)に入射したレーザビームの位相が反射
後に反転するためには、段差部(32)の段差dの大き
さは、レーザビーム(9)の波長をλとすると式(1)
のような条件を満足すればよい。
d= (2m −1) /4 ・λ  ・・−(1)(
m=1.2.3・−1 第3図(b)は第3図(alに示すような円形輪帯の段
差部(32)を持つ位相調整器(21)へのレーザビー
ムの入射及び反射を表わしており、入射角θは成度程度
の小さなものである。
このような位相#!器(2I)を用いることで、反射後
のレーザビームの強度分布及び位相分布は第4図(a)
 、  (b)に示すようなものとなり、強度分布は変
化しないが、位相分布は段差部の部分で反転したものと
なる。このレーザビームなレンズ笠の集光器(■0)を
用いて集光すると、その焦点面において、第5図に示す
ように、強度分布が矩形状に近いレーザビームが得られ
る。この強度分布を持つレーザビームを、・例えば焼き
入れ等のレーザ加工に用いた場合、匝めて良好な加工特
性が得られる。
なお、第3図では入射角θが成度程度の小さな場合を示
したが、第6図(bl に示すように入射角θが大きな
場合には、第6図(alに示すような段差部(32)が
楕円形輪帯である位FJ:J調整器(21)が考えられ
る。この時、段差dlは第3図(a)の段差dに対しで
、式(2)の条件を満足すれば良い。
d I = 1 /cosθ−d     ・・・[2
1また、を記実施例では反射型の位相調整器(2りを示
したが、第7図(b)に示すように透過型の「i相21
#整器(21)を用いてもよい、第7図(a)において
、(4I)は1例えば無反射膜を施したZn5e等の、
レーザビームを透過させる材料よりなる基板であり、(
42)はレーザビームに位相差を与える段差部である。
この段差d2は式(3)の条件を満足すれば良い、nは
基板(4I)の材料の屈折率である。
d2 =(2m−1)/2 (n−1)  ・λ・・・
(3) (rr+=1. 2. 3−i 位置[調整器(21)は1例えば蒸着やICBコーチf
ング、切削等のt法により、きわめて安価なコストで製
作することができる。
以上述べたものはレーザ発振器から発生されるレーザビ
ームが等位相面を持つようにするため、部分反射ミラー
(2)として無反射膜(4)側の表面形状を凸面状に加
工したものを例に用いたが、これに限るものではなく、
例えば第8図に示すように、レーザ発振器と位Fli調
′!Ii器の間の光路」−にコリメートレンズ【51)
を設置しても笠位相化されたレーザビームが得られる。
また、上記実施例では等位相化されたレーザビームが位
相調整器(21Jに入射する場合について説明したが、
これに限るものではなく、例えばコリメートレンズ(5
1)を取り除くなどして得られる球面状の位相分布を持
つレーザビームの場合についても同様の効果を発圧する
さらに、上記実施例では位相調整器(2I)の段差部が
一重の輪帯である場合を示したが、これに限るものでは
なく、第9図(alに示す様に、さらに基板(91)の
外周部に二1■、三組と輪帯の段差部(92)を設けて
もよく、その場合には、遠視野強度分布(230よ、第
9図(blに示すように第5図に示したものと比較して
、より矩形状に近い強度分111を示すものが得られる
このように、段差の形状はF、記に限るものではなく、
レーザビームの光軸に対し軸対称な凹凸段スモのある位
相調整器を備えることで、レーザビームの遠視野強度分
布を矩形状強度分布に変換せしめることができる。
さらに、上記実施例では遠視野強度分布(23)か矩形
状に近い分布をもつ場合について示したが、位相調整器
(21)の輪帯段差部の径をR整することにより、第1
0図に示すような強度分布のものも得られる。即ち、や
や平坦化された強度分布(第1O図(a))のものやリ
ング状強度分布(第10図1b))等、加工方法に通し
たレーザビームを発生させることができる。さらに、第
11図に示すように、輪帯段差部の?蚤が異なる位相!
′!l整器(+12] をレーザビームの光路上に複数
個設置して、集光器fl+3)で集光することにより、
レーザビームの強度分布をその加工方法に適したさまざ
まな強度分布(+151 に変換させることができ、シ
ステム化が可能である。また、この場合に各々位相調整
器(1!2)を光路上で切り換えて用いるようにしても
よい。
なお、上記実施例ではレーザ発振器から発生されるレー
ザビームの強度分布が軸対称のガウス分布である場合に
ついて説明したが、これに限るものではなく、例えば不
安定型共振器もしくは位相整合型共振器から発生される
レーザビームの遠視野強度分布のメインローブのみを位
f111Fl W器(21)に入射させてもよい、要す
るにこの発明による位相調整器は、強度分布がガウス状
であるレーザビームの光波面の位相を、光強度分布に対
応した位置で部分的に反転させることにより、そのレー
ザビームの強度分布を変換せしめる作用を持つものであ
れば良い。
また、上記実施例ではレーザビームの光波面に与える位
相差がλ/2(λはレーザビームの波長を示す〕である
場合について説明したが、厳密にλt’2である必要は
なく、位相差λ/2に対して誤差上13%以内、即ち3
/8λ〜λ/2程度であるならば良い。
[発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、レーザビームを発振す
るレーザ共振器、及びレーザ共振器で得られた強度分布
がガウス状のレーザビームの光路上に設けられ、レーザ
ビームの光波面の位相を部分的に反転させてレーザビー
ムの遠視野強度分布を変換せしめる位相調整器を備えた
ことにより、強度分布がガウス状のレーザビームをさま
ざまな強度分布のレーザビームに変換でき、このレーザ
装置を例えばレーザ加工装置として用いた場合、准めて
良好なレーザ加工特性が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)はこの発明の一実施例によるレーザ装置を
示す構成図、第1図(bl 、 (c)は各々レーザビ
ームの光軸からの距離に対する光強度を示すグラフ、第
2図(al、(b)は安定型共振器のTEJ。。 モードにおけるレーザビームの強度分布と位相分布を示
すグラフ、第3図(atはこの発明の一実施例に係る位
相調整器の強度分布を示すグラフ、平面、断面を示す図
、第3図(b)はこの発明の一実施例に係る位相調整器
の反射を示す説明図、第4図(a) 、 (blはこの
発明の一実施例に係る位相調整器を通過後のレーザビー
ムの強度分布と位相分布を示すグラフ、第5図は第4図
に示す特性のレーザビームを集光した時の強度分布を示
すグラフ図、第6図(a)はこの発明の他の実施例に係
る位相調整器の平面及び断面を示す図、第6図(tlは
その反射を説明する説明図、第7図(alはこの発明の
さらに他の実施例に係る位相J1整器の字面及び断面を
示す図、第7図(blはその反射を説明する説明図、第
8図はこの発明の他の実施例によるレーザ装置を示す構
成図、第9図(alは二重の輪帯段差部をもつ位相調整
器の強度分布を示すグラフ、平面、断面を示す図、第9
図(blはその効果として現われる遠視野強度分布を示
すグラフ5第10図fal 、 (bl は位相調整器
の輪帯の径が異なるもの遠視野強度分布を示すグラフ、
第11図はこの発明のさらに他の実施例に係り、位相、
g整器を複数個用いたシステムを示す構成図、第12図
は従来のレーザ装置の一例を示す構成図、第13図(a
l 、(tl は各々安定型共振器を用いたレーザ発振
器から発生されるレーザビームの強度分布をビーム中央
からの距離に対する光強度で示すグラフである。 (り・・・全反射ミラー、(2)・・・部分反射ミラー
、(3)・・・部分反射膜、(4)・・・無反射膜、(
5)・・・レーザ媒質、(6)・・・アパーチャ、(7
)  ・・・レーザ発振器、(9)・・・レーザビーム
、(21)、(+12)  ・・・位相調整器、(11
1)・・・レーザ発振器である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レーザビームを発振するレーザ共振器、及び上記レーザ
    共振器で得られた強度分布がガウス状のレーザビームの
    光路上に設けられ、上記レーザビームの光波面の位相を
    部分的に反転させて上記レーザビームの遠視野強度分布
    を変換せしめる位相調整器を備えたレーザ装置。
JP1300536A 1989-11-16 1989-11-16 レーザ装置 Pending JPH03159183A (ja)

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JP1300536A JPH03159183A (ja) 1989-11-16 1989-11-16 レーザ装置

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JP1300536A JPH03159183A (ja) 1989-11-16 1989-11-16 レーザ装置

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ID=17886007

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04105781A (ja) * 1990-08-22 1992-04-07 Agency Of Ind Science & Technol レーザー光集光照射装置
WO2009128219A1 (ja) * 2008-04-15 2009-10-22 株式会社リンクスタージャパン 脆性材料基板の加工装置および切断方法
US9211609B2 (en) * 2005-12-28 2015-12-15 Intel Corporation Laser via drilling apparatus and methods

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