JPH03156793A - Semiconductor memory - Google Patents
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- JPH03156793A JPH03156793A JP1296836A JP29683689A JPH03156793A JP H03156793 A JPH03156793 A JP H03156793A JP 1296836 A JP1296836 A JP 1296836A JP 29683689 A JP29683689 A JP 29683689A JP H03156793 A JPH03156793 A JP H03156793A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体記憶装置、特にそのテスト時(以下テ
ストモードと呼ぶ)に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, particularly during testing thereof (hereinafter referred to as test mode).
第4図は従来の半導体記憶装置のエフ0線プリチヤージ
回路の回路図、第6図は第4図における各入力信号’h
Al 4y#及びI/O線、Ilo線の電圧波形図であ
る。Fig. 4 is a circuit diagram of a conventional F0 line precharge circuit of a semiconductor memory device, and Fig. 6 shows each input signal 'h' in Fig. 4.
It is a voltage waveform diagram of Al 4y#, I/O line, and Ilo line.
次に動作について説明する0読み時し動作時において、
まず入力信号Aが%7.ow I (以下りと記す)か
ら4H1gh”(以下Hと記す)になり、トランジスタ
(1)をONして、I/O線及びI/O線をマao −
Vth (電源電圧−トランジスタ(1)のしきい値電
圧)にプリチャージする。このプリチャージ能力は通常
動作時(以下ノーマルモードと呼ぶ)とテストモードと
では変わらない0その後、入力信号!がLからHとなり
、センスアンプで増幅されたb口線及びbit線の電位
がそれぞれI/O.1111及びI/O線に伝わり、I
/O線とIlo線に電位差が生ずる。そして、プリアン
プが動きだす時間Tての電位差はΔVとなり、このΔV
はノーマルモードとテストモードでは変わらない。Next, we will explain the operation.At the time of 0 reading and operation,
First, input signal A is %7. ow I (hereinafter referred to as below) becomes 4H1gh” (hereinafter referred to as H), transistor (1) is turned on, and the I/O line and I/O line are changed to 4H1gh” (hereinafter referred to as H).
Precharge to Vth (power supply voltage - threshold voltage of transistor (1)). This precharge ability does not change between normal operation (hereinafter referred to as normal mode) and test mode.0 After that, the input signal! changes from L to H, and the potentials of the b-line and bit line amplified by the sense amplifier become I/O. 1111 and the I/O line, and the I
A potential difference occurs between the /O line and the Ilo line. Then, the potential difference at time T when the preamplifier starts to operate is ΔV, and this ΔV
is the same in normal mode and test mode.
従来の半導体記憶装置は以上のように構成されていたの
で、ノーマルモードとテストモードではIlo 線、I
lo線の電位差△Vに差が見られないので、テストモー
ドにおいてマージナルなプリアンプを持つ半導体記憶装
置を選別することができないという問題点があつ九。Since the conventional semiconductor memory device is configured as described above, in the normal mode and test mode, the Ilo line and I
Another problem is that semiconductor memory devices with marginal preamplifiers cannot be selected in test mode because no difference is seen in the potential difference ΔV of the lo line.
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、テストモード時にマーシナ〜なプリアンプを
持つ半導体記憶装置を選別することを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to select semiconductor memory devices having a preamplifier that is insignificant during a test mode.
この発明に係る半導体記憶装置は、テストモード時にお
いてI10線、I/O線をプリチャージする能力を高く
するようにしたものである。The semiconductor memory device according to the present invention has a high ability to precharge the I10 line and the I/O line during the test mode.
この発明における半導体記憶装置のI/O線。 An I/O line of a semiconductor memory device according to the present invention.
I/O線プリチャージ回路は、テストモードによりプリ
アンプに厳しいテストが行なわれ、マージナルなプリア
ンプを持つ半導体記憶装置を選別できる0
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の一実施例である半導体記憶装置のI/O
線プリチャージ回路の回路図である。In the I/O line precharge circuit, the preamplifier is subjected to a severe test in the test mode, and a semiconductor memory device having a marginal preamplifier can be selected. [Embodiment] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1st
The figure shows an I/O of a semiconductor memory device which is an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram of a line precharge circuit.
図において、(1)はノーマルモード時、テストモード
時にI/O,5ItI10線をプリチャージするトラン
ジスタ、(2)はbit Is、 tels線の電位を
それぞれI/O線、I10線に伝えるI10ゲートトラ
ンジスタ、(3)はテストモード時のみにI10線*x
101aをプリチャージするトランジスタである。In the figure, (1) is a transistor that precharges the I/O and 5ItI10 lines in normal mode and test mode, and (2) is an I10 gate that transmits the potential of the bit Is and tels lines to the I/O line and I10 line, respectively. Transistor, (3) is I10 line *x only in test mode
This is a transistor that precharges 101a.
第2図は第1図におけるノーマルモード時の入力信号%
A夕%2B$4y#及びI/O線、I/O#!の電圧波
形図である。Figure 2 shows the input signal percentage in normal mode in Figure 1.
A evening%2B$4y# and I/O line, I/O#! FIG.
第3図は第1図におけるテストモード時の入力信号%)
、I %Tzl %yN及びI/O破、I10線の電圧
波形図である。Figure 3 shows the input signal percentage in test mode in Figure 1)
, I%Tzl%yN and I/O failure, which is a voltage waveform diagram of the I10 line.
次に動作について説明する。Next, the operation will be explained.
初めに、ノーマルモード時の読み出し動作について説明
する。First, the read operation in normal mode will be explained.
入力信号ムがLからHになりトランジスタ(1)が’0
Nt(、、x7o線及びI/OIIIAをTco −v
thにプリチャージする。その後、入力信号rがLから
Rとなりトランジスタ(2)が%□ Nヶし、センスア
ンプで増幅されたbit線及び1)it !i&の電位
が、それぞれI10線及びxyo線に伝わりI/O線と
I/O線に電位差が生ずる。そしてプリアンプが動きだ
−t−時間Tでの電位差はΔvnとなる。The input signal becomes H from L and transistor (1) becomes '0'.
Nt(,,x7o line and I/OIIIA as Tco -v
Precharge to th. After that, the input signal r changes from L to R, transistor (2) changes to %□N, and the bit line amplified by the sense amplifier and 1) it! The potential of i& is transmitted to the I10 line and the xyo line, respectively, and a potential difference is generated between the I/O line and the I/O line. Then, when the preamplifier starts moving - t - the potential difference at time T becomes Δvn.
次に、テストモード時の読み出し動作について説明する
。テストモードでは入力信号Aと同時に入力信号TNも
LからHになる(この時の入力信号でlは、外部テスト
モードビンへの電圧印加、または、タイ之ング制御によ
って発生する)0そして、トランジスタ(t) t (
2)が0NLI/111及びI/O@を”0O−7th
にプリチャージする。この時のプリチャージ能力はノー
マルモードと比べて、トランジスタ(3)がONしてい
るので高くなっている。その後、入力信号τが乙からE
となり、トランジスタ(2)がONし、センスアンプで
増幅されたbit fl及びbit+liの電位がそれ
ぞれI/O#I及びI/O線に伝わり、I/O線とxy
o線に電位差が生ずる。そして、プリアンプが動きだす
時間Tでの電位差はΔVτとなる。ΔV!はノーマルモ
ード時のΔvnと比べると、プリアンプの能力が高いの
で小さくなっている。Next, the read operation in the test mode will be explained. In the test mode, the input signal TN also changes from L to H at the same time as the input signal A (l in the input signal at this time is generated by voltage application to the external test mode bin or timing control). (t) t (
2) is 0NLI/111 and I/O@”0O-7th
Precharge to. The precharge capability at this time is higher than in the normal mode because the transistor (3) is turned on. After that, the input signal τ is changed from B to E.
Then, the transistor (2) turns on, and the potentials of bit fl and bit+li amplified by the sense amplifier are transmitted to the I/O #I and I/O lines, respectively, and the I/O line and xy
A potential difference occurs in the o line. Then, the potential difference at time T when the preamplifier starts operating is ΔVτ. ΔV! is smaller than Δvn in the normal mode because the preamplifier has a high ability.
以上のように、プリアンプが動作する時のX70線xy
o 線の電位差が、ノーマルモード時よシナストモー
ド時の方が小さいために、プリアンプに厳しいテストが
行なえる。As mentioned above, when the preamplifier operates, the X70 line xy
Since the potential difference between the o lines is smaller in the synast mode than in the normal mode, severe tests can be performed on the preamplifier.
以上のようにこの発明によれば、工yo M をI/O
線のプリチャージ能力を7−マμモードに比ベテストモ
ードにおいて高くすることによって、プリアンプに厳し
いテストが行なえ、マージナルなプリアンプを持つ半導
体記憶装置を選別できる。As described above, according to the present invention, the I/O
By increasing the precharge capability of the line in the 7-maμ mode in the comparison test mode, the preamplifier can be subjected to severe testing, and semiconductor memory devices with marginal preamplifiers can be selected.
第1図はこの発明の一実施例による半導体記憶装置のI
10線プリチャージ回路の回路図、第2図は第1図の入
力信号ゞA′ ゞTll1′令!夕及びI/O線、I/
O線のノーマルモード時の波形図、第3図は第1図の入
力信号%AI %11 令Y′及びI/O線、I/O
線のテストモード時の波形図、第4図は従来の半導体記
憶装置のI/O 線プリチャージ回路の回路図、第5図
は第4図の入力信号SA#1!夛 及びI/O線、
エフo線の波形図である。
図において、(1)〜(3)はトランジスタを示す。
なお、図中、同一符号は同一 または相当部分を示す。FIG. 1 shows I of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
The circuit diagram of the 10-wire precharge circuit, Figure 2 shows the input signal ゞA'ゞTll1' command of Figure 1! evening and I/O line, I/
The waveform diagram of the O line in normal mode, Figure 3 shows the input signal %AI%11 of Figure 1, the input signal Y', the I/O line, and the I/O line.
4 is a circuit diagram of a conventional I/O line precharge circuit of a semiconductor memory device, and FIG. 5 is a waveform diagram of the input signal SA#1! of FIG. 4 in the line test mode.夛 and I/O line,
It is a waveform diagram of the F-o line. In the figure, (1) to (3) indicate transistors. In addition, the same symbols in the figures indicate the same or equivalent parts.
Claims (1)
I/O線及び■線のプリチャージ能力を高くしたことを
特徴とする半導体記憶装置。1. A semiconductor memory device characterized in that during testing of the semiconductor memory device, the precharge capability of an I/O line and a line is made higher than during normal operation.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1296836A JPH03156793A (en) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1296836A JPH03156793A (en) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Semiconductor memory |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03156793A true JPH03156793A (en) | 1991-07-04 |
Family
ID=17838787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1296836A Pending JPH03156793A (en) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Semiconductor memory |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03156793A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06195974A (en) * | 1992-10-19 | 1994-07-15 | Nec Corp | Dynamic ram |
EP0709388A1 (en) | 1994-10-25 | 1996-05-01 | Hüls Aktiengesellschaft | Process for the preparation of alkoxy silanes |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP1296836A patent/JPH03156793A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06195974A (en) * | 1992-10-19 | 1994-07-15 | Nec Corp | Dynamic ram |
EP0709388A1 (en) | 1994-10-25 | 1996-05-01 | Hüls Aktiengesellschaft | Process for the preparation of alkoxy silanes |
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