JPH03153059A - ケーシングを備える電子回路 - Google Patents
ケーシングを備える電子回路Info
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- JPH03153059A JPH03153059A JP2287360A JP28736090A JPH03153059A JP H03153059 A JPH03153059 A JP H03153059A JP 2287360 A JP2287360 A JP 2287360A JP 28736090 A JP28736090 A JP 28736090A JP H03153059 A JPH03153059 A JP H03153059A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、請求項1の上位概念に記載の少なくとも一部
の領域が焼結されたセラミックシートから形成される基
板上に設けられた、ケーシングを備える電子回路に関す
る。
の領域が焼結されたセラミックシートから形成される基
板上に設けられた、ケーシングを備える電子回路に関す
る。
従来の技術
焼結されないセラミックシートいわゆるグリーンシート
は市場で販売され、このグリーンシートに利用者は導体
路を印刷し、電子回路のための支持プレートとして用い
る。たとえばシルクスクリーン印刷方法で行われる導体
路の被着の後にセラミックシートは焼結される、すなわ
ち特定の温度にさらされて、前の可撓性シートから、堅
牢で扁平なプレートに固化される。多数のセラミックシ
ートを積層し、この成層体をプレスし次いで焼結して扁
平な多層回路を作ることは公知である。多数のレベル面
に配置されている導体路により複雑なレイアウトを実現
することができる。
は市場で販売され、このグリーンシートに利用者は導体
路を印刷し、電子回路のための支持プレートとして用い
る。たとえばシルクスクリーン印刷方法で行われる導体
路の被着の後にセラミックシートは焼結される、すなわ
ち特定の温度にさらされて、前の可撓性シートから、堅
牢で扁平なプレートに固化される。多数のセラミックシ
ートを積層し、この成層体をプレスし次いで焼結して扁
平な多層回路を作ることは公知である。多数のレベル面
に配置されている導体路により複雑なレイアウトを実現
することができる。
発明が解決しようとする課題
本発明の課題は、従来の技術に必要である、基板上に設
けられている電子回路を収容する別個のケーンングを不
要とする電子回路を提供することにある。
けられている電子回路を収容する別個のケーンングを不
要とする電子回路を提供することにある。
発明の効果
従来の技術に比して、請求項1の特徴部分に記載の構成
を有する本発明は、従来の技術では基板の上に通常は配
置されている電子回路を収容する別個のケーシングが不
要となる利点を有する、何故ならば基板の少なくとも一
部はセラミックシート(グリーンシート)により形成さ
れ、このセラミックシートは同時にケーシングの少なく
とも1つの部分壁を形成するからである。したがってセ
ラミックシートは2重の役割を果たす、すなわち一方で
は回路支持体として機能し、他方ではケーシング又は部
分ケーシング(例えば蓋)として作用する。
を有する本発明は、従来の技術では基板の上に通常は配
置されている電子回路を収容する別個のケーシングが不
要となる利点を有する、何故ならば基板の少なくとも一
部はセラミックシート(グリーンシート)により形成さ
れ、このセラミックシートは同時にケーシングの少なく
とも1つの部分壁を形成するからである。したがってセ
ラミックシートは2重の役割を果たす、すなわち一方で
は回路支持体として機能し、他方ではケーシング又は部
分ケーシング(例えば蓋)として作用する。
有利には、焼結の前の可撓性セラミックシートのたわみ
性及び成形性を利用して、3次元の形状のケーシング部
材を形成する。焼結されていないセラミックシートは、
ケーシングのために所望の形状に導体路を場合に応じて
成形した後にこの状態で焼結される。電子回路の回路素
子のための収容室を形成するために3次元の成形が行わ
れる。焼結の後にシートは堅牢かつ密なケース壁を形成
する。その内側には、所望の場合には電子回路の回路素
子が装着される。セラミックシートからケーシングの役
割の他に電子回路の支持体としても作用する場合には電
子回路の高い実装密度を実現することができる。
性及び成形性を利用して、3次元の形状のケーシング部
材を形成する。焼結されていないセラミックシートは、
ケーシングのために所望の形状に導体路を場合に応じて
成形した後にこの状態で焼結される。電子回路の回路素
子のための収容室を形成するために3次元の成形が行わ
れる。焼結の後にシートは堅牢かつ密なケース壁を形成
する。その内側には、所望の場合には電子回路の回路素
子が装着される。セラミックシートからケーシングの役
割の他に電子回路の支持体としても作用する場合には電
子回路の高い実装密度を実現することができる。
本発明の1つの実施例では、回路支持体と接続されてい
る7ランジ状端縁領域を有するセラミックシートを浴槽
状形状に形成する。回路支持体は例えば扁平なセラミッ
ク基板、有利には厚膜ハイブリッドとして形成すること
ができるこのセラミック基板に対応して配置されている
セラミックシートは、その浴槽状の形状のために、電子
回路を保護するキャップのようなものを形成している。
る7ランジ状端縁領域を有するセラミックシートを浴槽
状形状に形成する。回路支持体は例えば扁平なセラミッ
ク基板、有利には厚膜ハイブリッドとして形成すること
ができるこのセラミック基板に対応して配置されている
セラミックシートは、その浴槽状の形状のために、電子
回路を保護するキャップのようなものを形成している。
7ランジ状端縁領域は、セラミック基板へのハーメチッ
クシールにより密封して固定される。
クシールにより密封して固定される。
1つの有利な実施例では2つの浴槽状セラミックシート
を用い、それらの7ランジ状端縁領域を、密封されたケ
ーシングが形成されるように互いに接合する。ケーシン
グ壁自身はその内側に電子回路の回路素子を有し、した
がって極端に簡単で低コストの解決方法を提供する。
を用い、それらの7ランジ状端縁領域を、密封されたケ
ーシングが形成されるように互いに接合する。ケーシン
グ壁自身はその内側に電子回路の回路素子を有し、した
がって極端に簡単で低コストの解決方法を提供する。
焼結された2つのセラミックシートを互いに固定する又
はセラミックシートを回路支持体に固定することは接着
剤、導電性接着剤、はんだ、又は焼結されたガラスペー
ストにより行われこの場合には外部の影響に対して密封
された閉鎖が常に行われる。電子回路を給電線及びデー
タ線に接続することができるように、有利にはセラミッ
クシートの端縁領域に、外部に導く電気接続端子を設け
る。接続端子への接続は有利には貫通接続部材により行
われる。
はセラミックシートを回路支持体に固定することは接着
剤、導電性接着剤、はんだ、又は焼結されたガラスペー
ストにより行われこの場合には外部の影響に対して密封
された閉鎖が常に行われる。電子回路を給電線及びデー
タ線に接続することができるように、有利にはセラミッ
クシートの端縁領域に、外部に導く電気接続端子を設け
る。接続端子への接続は有利には貫通接続部材により行
われる。
本発明の1つの有利な実施例では、電子回路の回路素子
を冷却する流体が貫流する少なくとも1つのチャネルが
形成されるようにセラミックシートを回路支持体に対応
して設ける。この構成により、許容されない加熱が発生
することなしに、比較的強く加熱される出力半導体の使
用が可能となる。流体としては有利には適当な液体が用
いられる。液体はケーシングの内部に密閉封入され、シ
t;がって液体は特に高温の個所で蒸発し、低温ゾーン
で行われる凝縮の後に再び蒸発個所に戻る。この対流は
すぐれた冷却効果を発揮する。
を冷却する流体が貫流する少なくとも1つのチャネルが
形成されるようにセラミックシートを回路支持体に対応
して設ける。この構成により、許容されない加熱が発生
することなしに、比較的強く加熱される出力半導体の使
用が可能となる。流体としては有利には適当な液体が用
いられる。液体はケーシングの内部に密閉封入され、シ
t;がって液体は特に高温の個所で蒸発し、低温ゾーン
で行われる凝縮の後に再び蒸発個所に戻る。この対流は
すぐれた冷却効果を発揮する。
前述の閉鎖チャネルの代わりに、冷却回路のだめの1つ
の入口と1つの出口とを有するチャネルを設けると有利
である。これにより冷却効率はさらに著しく高まる。特
に回路支持体を少なくとも1つの入口と少なくとも1つ
の出口とにより貫通し、入口と出口はチャネルに連通さ
せることができる。入口及び出口には特にセラミック接
続タップが対応して配置され、したがって冷却流体は入
口のセラミックタップを介して流入し、セラミックプレ
ートの開口部を通過し、チャネルを貫流し、回路支持体
の中の別の開口部を通り、出口に対応して配置されてい
るセラミックタップから再び流出する。有利には接続タ
ップにホースを接続し、このホースに熱交換器等を接続
する。接続タップはさらに流体の充填を容易にする。
の入口と1つの出口とを有するチャネルを設けると有利
である。これにより冷却効率はさらに著しく高まる。特
に回路支持体を少なくとも1つの入口と少なくとも1つ
の出口とにより貫通し、入口と出口はチャネルに連通さ
せることができる。入口及び出口には特にセラミック接
続タップが対応して配置され、したがって冷却流体は入
口のセラミックタップを介して流入し、セラミックプレ
ートの開口部を通過し、チャネルを貫流し、回路支持体
の中の別の開口部を通り、出口に対応して配置されてい
るセラミックタップから再び流出する。有利には接続タ
ップにホースを接続し、このホースに熱交換器等を接続
する。接続タップはさらに流体の充填を容易にする。
セラミックタップは、焼結されたガラスペースト又は接
着剤により回路支持体に固定される別の1つの実施例で
は、換気される拡散区間をチャネルが形成するようにチ
ャネルを狭く、例えば扁平で長く形成する。これにより
ケースの内部室は換気されるが、しがし拡散勾配は、湿
度等の侵入が防止できるほどに小さい。したがって、換
気される回路の腐食又はその他の不利な影響は発生しな
い。したがって、回路部分をさらに特別に不働態化する
必要はない又は不要となる。
着剤により回路支持体に固定される別の1つの実施例で
は、換気される拡散区間をチャネルが形成するようにチ
ャネルを狭く、例えば扁平で長く形成する。これにより
ケースの内部室は換気されるが、しがし拡散勾配は、湿
度等の侵入が防止できるほどに小さい。したがって、換
気される回路の腐食又はその他の不利な影響は発生しな
い。したがって、回路部分をさらに特別に不働態化する
必要はない又は不要となる。
実施例
次に本発明を実施例に基づき図を用いて詳しく説明する
。第1図はケーシングlを示し、ケーンングlの内部室
2の中に電子回路4の回路素子3が設けられている。回
路素子3は主に出力半導体により形成されている。回路
素子3はケーンングlの内壁5に配置され、回路素子3
のリード線は有利には、ケーシングlの部分壁6に設け
られている導体路(図示せず)のポンディングにより電
気接続されている。
。第1図はケーシングlを示し、ケーンングlの内部室
2の中に電子回路4の回路素子3が設けられている。回
路素子3は主に出力半導体により形成されている。回路
素子3はケーンングlの内壁5に配置され、回路素子3
のリード線は有利には、ケーシングlの部分壁6に設け
られている導体路(図示せず)のポンディングにより電
気接続されている。
ケーシングlの上記部分壁6は、セラミックシート7す
なわちグリーンシートを焼結したものから成る。第1図
の実施例ではケーシングlは2つの部分から形成され、
これら2つのケーシング部材 のみから成る。
なわちグリーンシートを焼結したものから成る。第1図
の実施例ではケーシングlは2つの部分から形成され、
これら2つのケーシング部材 のみから成る。
このようなシートはスクリーン印刷方法で導体路を印刷
される。次いでシートは、焼結の前に存在するたわみ性
及び成形性を利用して、第1図に示されている3次元で
形成されているケーシング部材8に成形され、次いで焼
結されてその形状を固定される。前は可撓性であったセ
ラミック/−ドアは焼結後に堅牢な形状をとる。導体路
が内壁5の上に装着され、したがってこの場所に電子回
路4の回路素子3を装着することができる。第1図の実
施例では前記2つのケーシング部材8は浴槽状に形成さ
れ、それぞれ1つのフランジ状端縁領域9を有し、7ラ
ンジ状端縁領域9はケーシングの密封閉鎖に用いられる
。焼結されたセラミックシート7はしたがって3次元の
形状を形成し、これによりケーシングの役割を果たし、
さらに電子回路4の回路支持体として用いられる。この
場合にシートを積層し、次いでこの成層体を焼結して3
次元のケーシング部材を形成することも可能である。成
層性により電子回路の複雑なレイアウトが可能となる、
何故ならば各層は導体路を備えることができるからであ
る。
される。次いでシートは、焼結の前に存在するたわみ性
及び成形性を利用して、第1図に示されている3次元で
形成されているケーシング部材8に成形され、次いで焼
結されてその形状を固定される。前は可撓性であったセ
ラミック/−ドアは焼結後に堅牢な形状をとる。導体路
が内壁5の上に装着され、したがってこの場所に電子回
路4の回路素子3を装着することができる。第1図の実
施例では前記2つのケーシング部材8は浴槽状に形成さ
れ、それぞれ1つのフランジ状端縁領域9を有し、7ラ
ンジ状端縁領域9はケーシングの密封閉鎖に用いられる
。焼結されたセラミックシート7はしたがって3次元の
形状を形成し、これによりケーシングの役割を果たし、
さらに電子回路4の回路支持体として用いられる。この
場合にシートを積層し、次いでこの成層体を焼結して3
次元のケーシング部材を形成することも可能である。成
層性により電子回路の複雑なレイアウトが可能となる、
何故ならば各層は導体路を備えることができるからであ
る。
ケーシング部材8の前記2つの7ランジ状端縁領域9の
密閉接続は有利には接着剤、導電性接着剤、はんだ、又
は焼結ガラスペースにより行われる。
密閉接続は有利には接着剤、導電性接着剤、はんだ、又
は焼結ガラスペースにより行われる。
電子回路4を給電線及びデータ線に接続しなければなら
ないので有利には端縁領域9に、外方に引出されている
電気接続端子10が設けられている。電気接続端子10
は回路素子3と導体路を介して接続されており、外部か
らケーシングlに導かれている給電線及びデータ線に接
続することができる。導体路への接続端子10の接続は
適当な貫通接続部材11を介して行われる。
ないので有利には端縁領域9に、外方に引出されている
電気接続端子10が設けられている。電気接続端子10
は回路素子3と導体路を介して接続されており、外部か
らケーシングlに導かれている給電線及びデータ線に接
続することができる。導体路への接続端子10の接続は
適当な貫通接続部材11を介して行われる。
第2図の実施例はケーシングlを示し、ケーシングlは
、焼結された浴槽状セラミックシート7と回路支持体1
2とにより形成されている回路支持体12は扁平なセラ
ミック基板13であり、セラミック基板13の上側14
には電子回路4の回路素子3が配置されている。セラミ
ック基板13は厚膜ハイブリッド15であり、厚膜ハイ
ブリッド15は、前述の構成のように一方ではケーシン
グ部材8を形成し、他方では電子回路のための支持体と
して用いられる。
、焼結された浴槽状セラミックシート7と回路支持体1
2とにより形成されている回路支持体12は扁平なセラ
ミック基板13であり、セラミック基板13の上側14
には電子回路4の回路素子3が配置されている。セラミ
ック基板13は厚膜ハイブリッド15であり、厚膜ハイ
ブリッド15は、前述の構成のように一方ではケーシン
グ部材8を形成し、他方では電子回路のための支持体と
して用いられる。
焼結された浴槽状セラミックシート7は同様にケーシン
グ部材8を形成し、同様にその内壁5に回路素子3を設
けることもできる(図示せず)。第3図の実施例と同様
に7ランジ状端縁領域9を設けることができ、7ランジ
状端縁領域9は適当な手段でセラミック基板13に密封
固定することができる。さらにセラミック基板13はそ
の端縁エツジ16に電子回路4のための電気接続端子1
0を有する。
グ部材8を形成し、同様にその内壁5に回路素子3を設
けることもできる(図示せず)。第3図の実施例と同様
に7ランジ状端縁領域9を設けることができ、7ランジ
状端縁領域9は適当な手段でセラミック基板13に密封
固定することができる。さらにセラミック基板13はそ
の端縁エツジ16に電子回路4のための電気接続端子1
0を有する。
第3図の実施例でも同様に扁平な回路支持体12が設け
られ、回路支持体12はセラミック基板13として形成
されている。外側に位置する上側17には電子回路4の
出力半導体装着されている。電子回路4のその他の回路
素子は、簡単化のために図示されていない。前述の実施
例と同様に回路素子3又は出力半導体18のリード線1
9は導体路とポンディングにより接統されている。
られ、回路支持体12はセラミック基板13として形成
されている。外側に位置する上側17には電子回路4の
出力半導体装着されている。電子回路4のその他の回路
素子は、簡単化のために図示されていない。前述の実施
例と同様に回路素子3又は出力半導体18のリード線1
9は導体路とポンディングにより接統されている。
セラミック基板13は、貫通開口部として形成されてい
る入口20と、同様に貫通開口部として形成されている
出口21とにより貫通されている。セラミック基板13
の下側22には、焼結された3次元の有利には浴槽状の
セラミックシート7が、このセラミックシート7とセラ
ミ7り基板13との間にチャネル23が形成されるよう
に設けられ、チャネル23は回路素子冷却用流体の貫流
に用いられる。入口20と出口21とはチャネル23に
連通ずる。
る入口20と、同様に貫通開口部として形成されている
出口21とにより貫通されている。セラミック基板13
の下側22には、焼結された3次元の有利には浴槽状の
セラミックシート7が、このセラミックシート7とセラ
ミ7り基板13との間にチャネル23が形成されるよう
に設けられ、チャネル23は回路素子冷却用流体の貫流
に用いられる。入口20と出口21とはチャネル23に
連通ずる。
セラミック基板13の上側I7の上で入口20と出口2
1とにセラミックタップ24又は25が対応して配置さ
れ、セラミックタップ24及び25には冷却回路を接続
することができるセラミックタップは例えばガラスペー
スト、接着剤、はんだにより画定される。ガラスペース
トはのり状物質であり、接続領域に塗布され焼結により
固定され、これにより密閉接続を得ることができる。
1とにセラミックタップ24又は25が対応して配置さ
れ、セラミックタップ24及び25には冷却回路を接続
することができるセラミックタップは例えばガラスペー
スト、接着剤、はんだにより画定される。ガラスペース
トはのり状物質であり、接続領域に塗布され焼結により
固定され、これにより密閉接続を得ることができる。
第3図の前述の実施例により電子回路を特に良好に冷却
することができる、何故ならば、セラミックタップ24
を貫通する流体は、チャネル23を貫流する際に損失熱
を効果的に搬出することができるからである。加熱され
た流体は出口21に対応して配置されているセラミック
タップ25から排出され、次いで有利には熱交換器を通
過し、したがって流体は冷却されて再び入口20にセラ
ミックタップ24を介して供給される。流体としては有
利には液体が用いられる。
することができる、何故ならば、セラミックタップ24
を貫通する流体は、チャネル23を貫流する際に損失熱
を効果的に搬出することができるからである。加熱され
た流体は出口21に対応して配置されているセラミック
タップ25から排出され、次いで有利には熱交換器を通
過し、したがって流体は冷却されて再び入口20にセラ
ミックタップ24を介して供給される。流体としては有
利には液体が用いられる。
セラミック基板13の下面22と、焼結されたセラミッ
クシート7の内壁5とに同様に回路素子3又は導体路、
抵抗などを装着することができ、その際には適当な冷却
回路を配置しなければならない。これらの回路素子のた
めにセラミンク基板13と、焼結されたセラミックシー
ト7とがそれぞれケーシングlのケーシング部材8を形
成する。
クシート7の内壁5とに同様に回路素子3又は導体路、
抵抗などを装着することができ、その際には適当な冷却
回路を配置しなければならない。これらの回路素子のた
めにセラミンク基板13と、焼結されたセラミックシー
ト7とがそれぞれケーシングlのケーシング部材8を形
成する。
図示されていない別の実施例ではチャネル23は、換気
される拡散区間を形成するように狭く特に扁平に形成さ
れている。この場合にはセラミックタップ24及び25
には冷却回路は接続されておらず、したがってチャネル
23は外気に換気される。しかしチャネル23は非常に
狭く、特に扁平に形成されているので、湿度のための拡
散勾配は、湿度等が敏感な回路に侵入することができな
いほどに小さい。
される拡散区間を形成するように狭く特に扁平に形成さ
れている。この場合にはセラミックタップ24及び25
には冷却回路は接続されておらず、したがってチャネル
23は外気に換気される。しかしチャネル23は非常に
狭く、特に扁平に形成されているので、湿度のための拡
散勾配は、湿度等が敏感な回路に侵入することができな
いほどに小さい。
前述の拡散区間を形成するためには、貫通開口部(入口
20、出口21)がセラミック基板の中に存在する必要
はない、何故ならば外気への通路は、焼結されたセラミ
ックシート7と回路支持体12との間の7ランジ状端縁
領域9の中に形成することもできるからである。第2図
及び第3図の実施例で示されているセラミック基板13
の代わりに、焼結されたセラミックシート7を用いるこ
ともできることは当然であるさらに、別の1つの実施例
では、チャネル23が外気への通路を有せず、したがっ
て冷却剤として用いられる液体が(例えば出力半導体1
8の下の)高温個所で蒸発し、チャネル23の低温ゾー
ンで再び凝縮されて蒸発個所に戻る。
20、出口21)がセラミック基板の中に存在する必要
はない、何故ならば外気への通路は、焼結されたセラミ
ックシート7と回路支持体12との間の7ランジ状端縁
領域9の中に形成することもできるからである。第2図
及び第3図の実施例で示されているセラミック基板13
の代わりに、焼結されたセラミックシート7を用いるこ
ともできることは当然であるさらに、別の1つの実施例
では、チャネル23が外気への通路を有せず、したがっ
て冷却剤として用いられる液体が(例えば出力半導体1
8の下の)高温個所で蒸発し、チャネル23の低温ゾー
ンで再び凝縮されて蒸発個所に戻る。
この構造によっても非常に良好な冷却効果が得られる。
第1図は電子回路が設けられている焼結されたセラミッ
クシートから成るケーシングの横断面図、第2因は1つ
のケーシング部分がセラミックシートから成り別の1つ
のケーシング部分が扁平なセラミック基板から成るケー
シングの別の1つの実施例の断面図、第3図は電子回路
の回路素子の冷却用流体の貫流のためのチャネルを有す
る別の1つの実施例の断面図である。 l・・・ケーシング、2・・・内部室、3・・・回路素
子4・・・電子回路、5・・・内壁、6・・・部分壁、
7・・・セラミックシート、8・・・ケーシング部材、
9・・・端縁領域、10・・・接続端子、11・・・貫
通接続部材、I2・・・回路支持体、13・・・セラミ
ック基板14・・・上側、15・・・厚膜ハイブリッド
、16・・・端縁エツジ、17・・・上側、18・・・
出力半導体19・・・リード線、20・・・入口、21
・・・出口、23・・・チャネル、24・・・セラミッ
クタップ、25・・・セラミックタップ。 Fig、 1
クシートから成るケーシングの横断面図、第2因は1つ
のケーシング部分がセラミックシートから成り別の1つ
のケーシング部分が扁平なセラミック基板から成るケー
シングの別の1つの実施例の断面図、第3図は電子回路
の回路素子の冷却用流体の貫流のためのチャネルを有す
る別の1つの実施例の断面図である。 l・・・ケーシング、2・・・内部室、3・・・回路素
子4・・・電子回路、5・・・内壁、6・・・部分壁、
7・・・セラミックシート、8・・・ケーシング部材、
9・・・端縁領域、10・・・接続端子、11・・・貫
通接続部材、I2・・・回路支持体、13・・・セラミ
ック基板14・・・上側、15・・・厚膜ハイブリッド
、16・・・端縁エツジ、17・・・上側、18・・・
出力半導体19・・・リード線、20・・・入口、21
・・・出口、23・・・チャネル、24・・・セラミッ
クタップ、25・・・セラミックタップ。 Fig、 1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少なくとも一部の領域が焼結されたセラミックシー
トから形成される基板上に設けられたケーシングを備え
る電子回路において、 セラミックシート(グリーンシート)がケ ーシング(1)における少なくとも1つの部分壁(6)
を形成することを特徴とするケーシングを備える電子回
路。 2、焼結の前の可撓性セラミックシート(7)のたわみ
性及び成形性を利用して、3次元の形状のケーシング部
材(8)を形成することを特徴とする請求項1に記載の
ケーシングを備える電子回路。 3、セラミックシート(7)に導体路を設けることを特
徴とする請求項1又は2に記載のケーシングを備える電
子回路。 4、セラミックシート(7)が電子回路(4)の支持体
として使用されることを特徴とする請求項1ないし3の
うちのいずれか1項に記載のケーシングを備える電子回
路。 5、回路支持体(12)と接続されているフランジ状端
縁領域(9)を有するセラミックシート(7)が浴槽状
形状を有することを特徴とする請求項1ないし4のうち
のいずれか1項に記載のケーシングを備える電子回路。 6、回路支持体(12)が扁平なセラミック基板(13
)であることを特徴とする請求項1ないし5のうちのい
ずれか1項に記載のケーシングを備える電子回路。 7、セラミック基板(13)を厚膜ハイブリッドとして
形成することを特徴とする請求項1ないし6のうちのい
ずれか1項に記載のケーシングを備える電子回路。 8、回路支持体(12)が第2の浴槽状セラミックシー
ト(7)であり、該第2の浴槽状セラミックシート(7
)のフランジ状端縁領域(9)を第1のセラミックシー
ト(7)の端縁領域(9)と連結することを特徴とする
請求項1ないし7のうちのいずれか1項に記載のケーシ
ングを備える電子回路。 9、セラミックシート(7)を接着剤、導電接着剤、又
は焼結されたガラスペーストによりハーメチックシール
により密封して固定することを特徴とする請求項1ない
し8のうちのいずれか1項に記載のケーシングを備える
電子回路。 10、第1及び/又は第2のセラミックシート(7)の
端縁領域に、外部に導かれる電気接続端子(10)を設
けることを特徴とする請求項1ないし9のうちのいずれ
か1項に記載のケーシングを備える電子回路。 11、電子回路(4)の回路素子(3)を冷却する流体
が貫流する少なくとも1つのチャネル(23)が形成さ
れるようにセラミックシート(7)を回路支持体(12
)に対して配置することを特徴とする請求項1ないし1
0のうちのいずれか1項に記載のケーシングを備える電
子回路。 12、流体のための少なくとも1つの入口(20)と少
なくとも1つの出口(21)とにより回路支持体(12
)を穿孔し、該入口(20)と該出口(21)とはチャ
ネル(23)に連通することを特徴とする請求項1ない
し11のうちのいずれか1項に記載のケーシングを備え
る電子回路。 13、入口(20)と出口(21)とに冷却回路のため
のセラミック接続タップ(24、25)を対応して設け
ることを特徴とする請求項1ないし12のうちのいずれ
か1項に記載のケーシングを備える電子回路。 14、焼結されたガラスペースト又は接着剤によりセラ
ミック接続タップ(24、25)を固定することを特徴
とする請求項1ないし13のうちのいずれか1項に記載
のケーシングを備える電子回路。 15、換気される拡散区間をチャネル(23)が形成す
るように該チャネル(23)を狭く、例えば扁平に形成
することを特徴とする請求項1ないし14のうちのいず
れか1項に記載のケーシングを備える電子回路。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3935792A DE3935792A1 (de) | 1989-10-27 | 1989-10-27 | Elektronische schaltung auf gesinterter keramikfolie |
DE3935792.9 | 1989-10-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03153059A true JPH03153059A (ja) | 1991-07-01 |
Family
ID=6392344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2287360A Pending JPH03153059A (ja) | 1989-10-27 | 1990-10-26 | ケーシングを備える電子回路 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03153059A (ja) |
DE (1) | DE3935792A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6539626B2 (en) | 1998-06-05 | 2003-04-01 | Dsm N.V. | Process of making curved ceramic moulded part containing internal electrically conductive paths |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5408126A (en) * | 1993-12-17 | 1995-04-18 | At&T Corp. | Manufacture of semiconductor devices and novel lead frame assembly |
DE19542883C2 (de) * | 1995-02-02 | 2002-01-17 | Fraunhofer Ges Forschung | Chip-Gehäusung sowie Verfahren zur Herstellung einer Chip-Gehäusung |
DE19615481C5 (de) * | 1996-04-03 | 2013-03-14 | Curamik Electronics Gmbh | Gewölbtes Metall-Keramik-Substrat |
FR2765068B1 (fr) * | 1997-06-23 | 1999-08-06 | Alsthom Cge Alcatel | Dispositif d'electronique de puissance a systeme de refroidissement ameliore |
DE10035170B4 (de) * | 2000-07-19 | 2005-11-24 | Siemens Ag | Keramikkörper mit Temperiervorrichtung, Verfahren zum Herstellen und Verwendung des Keramikkörpers |
DE102013221120A1 (de) | 2013-10-17 | 2015-04-23 | Zf Friedrichshafen Ag | Steuerungseinrichtung |
DE102013221110A1 (de) | 2013-10-17 | 2015-04-23 | Zf Friedrichshafen Ag | Steuerungseinrichtung |
-
1989
- 1989-10-27 DE DE3935792A patent/DE3935792A1/de not_active Ceased
-
1990
- 1990-10-26 JP JP2287360A patent/JPH03153059A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6539626B2 (en) | 1998-06-05 | 2003-04-01 | Dsm N.V. | Process of making curved ceramic moulded part containing internal electrically conductive paths |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3935792A1 (de) | 1991-05-02 |
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