JPH03152121A - ポリ―p―フェニレンビニレン置換体からなるフィルムの製造方法 - Google Patents

ポリ―p―フェニレンビニレン置換体からなるフィルムの製造方法

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JPH03152121A
JPH03152121A JP29256089A JP29256089A JPH03152121A JP H03152121 A JPH03152121 A JP H03152121A JP 29256089 A JP29256089 A JP 29256089A JP 29256089 A JP29256089 A JP 29256089A JP H03152121 A JPH03152121 A JP H03152121A
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(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は高導電性を有するカルボキシル基核置換−ポ
リ−p−フェニレンビニレン及びその製造方法に関する
。この重合体は導電性高分子として有用である。
〈従来の技術〉 ポリ−ルーフユニしンビニレンの置換体につい・では特
開昭60−11528号公報に開示されているアルキル
基、アルコキシ基置換体が知られている。
また、導電性高分子のドーパントを分子鎖に結合する観
点から検討されたアルキレンスルホン酸基の置換体につ
いても公知である(Wu旧らの文献、Proceedi
ngs of the AC3Division of
 PolymericMaterials  :  5
cience  and  Engineering 
 Vol、59゜1164−1166、1988)。
〈発明が解決しようとする問題点〉 以上のようにこれまで知られている種々の置換ポリ−p
−フェニレンビニレンの置換基は分子内の電子状態やイ
オン状態に影響を与えるものが殆どである。しかし、ポ
リ−p−フェニレンビニレンの機能化や導電性向上に有
効な置換基、すなわち、機能性分子との反応性を有する
置換基や、置換基間の相互作用の強い置換基を有する核
置換ポリ−p−フェニレンビニレンについては知られて
いなかった。
本発明の目的は、新規な直鎖状共役系高分子である、反
応性や水素結合を利用し、機能性分子の結合や、分子間
相互作用の向上を図ることができるカルボキシル基核置
換ポリ−p−フェニレンビニレン及びその製造方法を提
供することである。
く問題点を解決するための手段〉 本発明者らは反応性のある置換基について鋭意検討した
結果、従来知られていないカルボキシル置換基を有する
高分子量のポリ−p−フェニレンビニレンを合成するこ
とに成功した。
すなわち、本発明は、一般式(1) A:水素またはアルカリ金属、 m:1または2、 で示される繰り返し単位を有するポリ−p−フェニレン
ビニレン置換体及び、一般式(2)Aおよびmは上記と
同じ、 x−二対イオン、 R,、R2:炭素数1〜20の炭化水素基、R3;炭素
数4〜20の三官能の炭化水素基。
で示される繰り返し単位を有する共役系高分子中間体を
、スルホニウム塩側鎖を脱離することを特徴とするポリ
−p−フェニレンビニレン置換体の製造方法を提供する
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の一般式(1)で示されるポリ−p−フェニレン
ビニレン置換体の合成方法に特に制限はないが、一般式
(2)の共役系高分子中間体をスルホニウム塩側鎖を脱
離処理する方法が良好な賦形性と導電性を与えるので好
ましい。置換基がアルカリ金属塩の場合、カルボキシル
基を水酸化アルカリ金属で中和して合成してもよい。置
換基数は1か2である。
一般式(2)の共役系高分子中間体を合成するには一般
式(3) Aおよびmは上記式(2)に同じ、 x−:対イオン R1、R,:炭素数1〜20の炭化水素基、R口炭素数
4〜20の三官能の炭化水素基、で示されるカルボキシ
ル基置換−p−キシリレンビススルホニウム塩であり、
Aは水素またはアルカリ金属、例えばリチウム、ナトリ
ウム、カリウム等があげられるが、特に水素またはナト
リウムが好ましい。R1、R2としては炭素数1〜10
の炭化水素基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、2−エチルヘキシル、フェニル
、シクロヘキシル、ベンジル基等があげられるが、炭素
数1〜6の炭化水素基、特にメチル、エチル基が好まし
い。R8としては炭素数4〜10の三官能の炭化水素基
、例えばテトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチ
レン基等があげられるが、特にテトラメチレン、ヘキサ
メチレン基が好ましい。
スルホニウム塩の対イオンX−は常法により任意のもの
を用いることができる。たとえば、ハロゲン、水酸基、
4弗化ホウ素、過塩素酸、カルボン酸、スルホン酸イオ
ン等を使用することができ、なかでも塩素、臭素、ヨウ
素などのハロゲンイオンが好ましい。
高分子中間体はカルボキシル基置換−p−キシリレンビ
ススルホニウム塩を水単独で、もしくは水に可溶な有機
溶媒例えばアルコール類との混合溶媒中で、アルカリを
用いて縮合重合して得ることができる。好ましくは水と
これに可溶なアルコールとの混合溶媒中で、さらにより
好ましくは、水溶媒中で重合するのが効果的である。
縮合重合に用いるアルカリ溶液は、水もしくはモノマー
と反応しない有機溶媒、例えばアルコール類と水の混合
溶媒中でpH11以上の強い塩基性溶媒であることが好
ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カ
ルシウム、第4級アンモニウム塩水酸化物、スルホニウ
ム塩水酸化物、強塩基性イオン交換樹脂(OH型)等を
用いることが出来るが、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムが好適に使用出来る。成形に富んだ高分子中間体を
得るためには分子量が充分大きいことが好ましく、少な
くとも高分子中間体の重合度が10以上、好ましくは2
0〜50000で、例えば分画分子量3500の透析膜
による透析処理で透析されない分子量を有するようなも
のが効果的に用いられる。
縮合重合反応は比較的低温、即ち少なくとも50℃以下
、特に25℃以下の温度で反応を実施することが好まし
い。反応時間は特に限定はしないが、通常1分〜200
時間の範囲である。
本発明の方法によれば、高分子中間体はスルホニウム塩
を側鎖に有する高分子量の高分子電解質(高分子スルホ
ニウム塩)として得ることができるが、このものは、熱
、光、紫外線、強い塩基性条件等に敏感であり、徐々に
脱スルホニウム塩化が起こる。この高分子中間体は比較
的低粘度の溶液を与えるので、成形加工の観点から好ま
しい。
本発明の特徴は高分子中間体、特にその溶液から任意の
形状の成形物を作ることが出来ることである。高分子成
形物を得るには任意の方法が用いられる。またその形態
に関しては例えばフィルム、繊維、塗布膜、その他任意
の成形物を選ぶことができる。特に有用な成形方法は高
分子スルホニウム塩水溶液を用いる方法である。これか
らのキャストによるフィルム化または溶液紡糸による繊
維化、基板への溶液塗布を行う方法である。このとき予
め透析処理、再沈処理などにより脱塩もしくは未反応物
を除いた高分子中間体溶液を用いることが好ましい。
高分子中間体の後処理によりカルボキシル基核置換−ポ
リ−p−フェニレンビニレンが製造できる。ここでいう
高分子中間体の後処理は熱、光、紫外線、強い塩基処理
などの条件を適用するこによりスルホニウム塩側鎖を脱
離させ、共役構造とすることをいうが、特に加熱処理が
好ましい。また、高分子中間体の処理は不活性雰囲気で
行うことが好ましい。
ここでいう不活性雰囲気とは処理中に高分子の変質を起
こさない雰囲気をいい、一般には窒素、アルゴン、ヘリ
ウムなどの不活性ガスを用いて行われるが、真空下ある
いは不活性媒体中でこれを行っても良い。
熱により高分子中間体の後処理を行う場合、余りの高熱
での熱処理は生成するカルボキシル基核置換−ポリ−p
−フェニレンビニレンの分解をもたらし、低温では生成
反応が遅く実際的でないので、通常処理温度はθ℃〜4
50℃、好ましくは100〜380℃が適する。また、
処理時間は処理温度のかねあいで適宜時間を選ぶことが
できるが、1分〜10時間の範囲が工業上実際的である
このようにして製造されるカルボキシル基核置換−ポリ
−p−フェニレンビニレンはカルボキシル−p−フェニ
レンビニレンを主要な構造単位に含む。本発明の製造方
法によれば、カルボキシル−p−フェニレンビニレンの
共役系の繰り返し単位のみを有するカルボキシル基核置
換−ポリ−p−フェニレンビニレンを作ることが可能で
ある他、共役系でないカルボキシル−p−フエニレンエ
チレン骨格を一部構成単位に含む重合体を作ることも可
能である。すなわち、不充分な脱離処理を行った後の高
分子には未だ不完全な脱離状態にあるカルボキシル−p
−フェニレンエチレン骨格を有する構成単位が存在する
ことが赤外吸収スペクトル等により観察される。この場
合には柔軟性に富んだカルボキシル基核置換−ポリ−p
−フェニレンビニレンが製造できる。なお、カルボキシ
ル−p−フェニレンビニレン単位に対するカルボキシル
−p−フェニレンエチレン単位の割合は使用目的に応じ
製造条件を任意に工夫することにより変えることができ
る。導電性高分子材料等の目的には前者lに対して後者
の割合が1以下が好ましく、より好ましくはl/20以
下である。
また高分子中間体の成形物を延伸配向させて熱処理する
ことも出来る。これらの延伸配向処理は高分子中間体の
処理を行う前、もしくは同時に行うことができる。配向
は成形方法を工夫することで、たとえば高い剪断力によ
る押し出しなどでもできるが、高分子中間体溶液からの
高分子中間体成形物を延伸加熱処理することにより高い
配向性を付与することができる。
本発明で得られるポリ−p−フェニレンビニレン置換体
を電子供与性あるいは電子受容性の分子、原子と反応(
ドーピング)させれば、導電性が発現する。
〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明によれば高分子量のカルボ
キシル基核置換−ポリ−p−フェニレンビニレンを得る
ことができ、また本発明により電気、電子材料への応用
が可能な種々の形状を有するカルボキシル基核置換−ポ
リ−p−フェニレンビニレン)が提供される。
〈実施例〉 以上本発明を実施例によってさらに詳細に説明するが本
発明はこれら実施例によって何ら限定されるものではな
い 実施例 1 3−カルボキシル−p−キシリレンビス(テトラメチレ
ンスルホニウムプロミド)9.7 gをイオン交換水1
50m lに溶解した液を0〜5℃に水冷した後、窒素
バブリングにより系内を窒素置換した。
この溶液に、同じように冷却、窒素置換を行った0、4
規定の水酸化ナトリウム水溶液100 m lを約30
分かけて滴下した。滴下後0〜10℃で引き続き30時
間重合を行った。次ぎに、重合液を、イオン交換水中、
透析膜を用いて水冷下、2日間透析処理して、精製され
たカルボキシル基核置換ポリ−p−フェニレンビニレン
中間体水溶液を得た。この水溶液からキャストし、窒素
気流中で乾燥し、微黄色の中間体フィルムを得た。キャ
ストフィルムの熱処理に伴う発生ガス分析を行ったとこ
ろ、スルホニウム塩側鎖が脱離して発生するテトラヒド
ロチオフェンに関連したシグナルのみしか検出されなか
った。次ぎに、キャストフィルムを350℃熱処理した
場合の赤外吸収スペクトルの変化を見た。350℃処理
では960cm””付近のトランスビニレンに帰属され
る吸収が明確に認められた。また、1760cm−’付
近にカルボキシル基、833cm−’付近に三置換ベン
ゼン環、それぞれに帰属した吸収が認められた。以上の
ことより、カルボキシル基置換−ポリ−p−フェニレン
ビニレンの構造を確認した。
参考例 1 実施例1で、350℃で熱処理して得たカルボキシル基
核置換−ポリ−p−フェニレンビニレンに電子受容体化
合物であるSO8を使用し、常法により室温で気相から
のドーピングを行ったところ、1.4X 10−”S/
cmの電導度を示した。なお電導度の測定は四端子法で
行った。
実施例 2 実施例1で得られた高分子中間体フィルムを窒素流通下
、350℃迄に加熱延伸処理を行い、1.5倍に延伸さ
れたカルボキシル基核置換−ポリ−p−フェニレンビニ
レン延伸フィルムを得た。このフィルムは、赤外二色性
を示し、配向化していることがわかった。
実施例 3 実施例1で得た高分子中間体フィルムを窒素雰囲気下で
、横型管状炉を用いて250℃、60分間で静置加熱処
理を行い、黄色の共役系でないカルボキシル−p−フユ
ニレンエチレン骨格を一部構成単位に含む重合体カルボ
キシル基核置換ポリ−p−フェニレンビニレンフィルム
を得た。この構造は、赤外吸収スペクトルから確認した
参考例 2 実施例3で得たカルボキシル基核置換−ボリルp−フェ
ニレンビニレンフィルムに電子受容体化合物であるI2
を使用し、常法により室温で気相からのドーピングを行
ったところ、3.3X 10−”S/amの電導度を示
した。なお電導度の測定は四端子法で行った。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ A:水素またはアルカリ金属 m:1または2 で示される繰り返し単位を有するポリ−p−フェニレン
    ビニレン置換体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ A:水素またはアルカリ金属、 m:1または2、 X^−:対イオン、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ R_2、R_3:炭素数1〜20の炭化水素基、R_4
    :炭素数4〜20の二官能の炭化水素基、で示される繰
    り返し単位を有する共役系高分子中間体のスルホニウム
    塩側鎖を脱離することを特徴とするポリ−p−フェニレ
    ンビニレン置換体の製造方法
JP1292560A 1989-11-09 1989-11-09 ポリ―p―フェニレンビニレン置換体からなるフィルムの製造方法 Expired - Lifetime JPH082946B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01234426A (ja) * 1988-03-12 1989-09-19 Yoshio Imai 単分子膜もしくは単分子累積膜およびその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01234426A (ja) * 1988-03-12 1989-09-19 Yoshio Imai 単分子膜もしくは単分子累積膜およびその製造方法

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