JPH03150797A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH03150797A
JPH03150797A JP1287411A JP28741189A JPH03150797A JP H03150797 A JPH03150797 A JP H03150797A JP 1287411 A JP1287411 A JP 1287411A JP 28741189 A JP28741189 A JP 28741189A JP H03150797 A JPH03150797 A JP H03150797A
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word line
defective
defect
data line
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Toshio Sasaki
敏夫 佐々木
Katsuhiro Shimohigashi
下東 勝博
Osamu Sakai
修 酒井
Toshio Kanno
利夫 管野
Kazuo Saito
一男 斎藤
Takeshi Kajimoto
梶本 毅
Ryoichi Hori
堀 陵一
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Abstract

PURPOSE:To improve the working ratio and the reliability of a semiconductor memory device even with a defective bit that is produced during application of a memory system by providing a spare memory to relieve the defect of a main memory and a defect storage part to store the defect of the main memory. CONSTITUTION:A defect of a data line 12 is detected in the data line direction when a main memory 2 is scanned in the data line direction. In such a case, a data line defect detection signal 106c and a data line defect position signal 106d are written in binary numbers into the input/output bits of a defect storage part 14' against a defective address. Then a read line defect detection signal 106a and a word line defect position signal 106b are read out of the part 14' at a high speed and a multi-bit output system. Therefore an input/output switch circuit 100' switches an input/output signal terminal 104 of the memory 2 in response to the signal 10 and selects a spare ward line W1 of a spare memory 18 for relief of defects.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体メモリの欠陥救済に係り、特に極めて大
容量のメモリに好適な半導体メモリ装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to defect relief in semiconductor memories, and particularly to a semiconductor memory device suitable for extremely large capacity memories.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

先ず1本発明の基本機能のために従来構成の半導体メモ
リ装置について説明する。従来、半導体メモリ装置にお
いては、第2図のような欠陥救済方法が用いられている
First, a conventional semiconductor memory device will be explained in order to explain the basic functions of the present invention. Conventionally, a defect relief method as shown in FIG. 2 has been used in semiconductor memory devices.

この図は、特開平1−133298に記載されているも
ので−あり、周知のメモリをアドレス変換に使用し、ワ
ード線、ビット線不良単位で救済する方法が提案されて
いる0本提案はワード線もしくはデータ線単位にアドレ
ス変換回路が設けられており。
This figure is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-133298, in which a well-known memory is used for address conversion and a method is proposed for repairing defective word lines and bit lines. An address conversion circuit is provided for each line or data line.

それぞれに外部アドレスに対する主メモリの不良アドレ
スの有無と新しいアドレスが書き込まれている。そこで
外部アドレスがかかる不良アドレスに達した場合に、ア
ドレス変換回路から新しいアドレスが予備メモリに印加
され、かつ入出力信号端子が予備メモリ側に接続され、
正常なビットを読み書きする冗長構成及び方法である。
The presence or absence of a defective address in the main memory relative to the external address and the new address are written in each. Therefore, when the external address reaches such a defective address, a new address is applied from the address conversion circuit to the spare memory, and the input/output signal terminal is connected to the spare memory side.
This is a redundant configuration and method for reading and writing normal bits.

また、特公昭46−25767 、特公昭47−653
4に記載のように不良ビットのアドレスを連想メモリ装
置に記憶し、外部アドレスと不良ビットアドレスの記憶
内容の一致検出を行い、予備メモリに新しいアドレスを
出力し、正常なビットを読み出す冗長方法が発案されて
いる。
Also, Special Publication No. 46-25767, Special Publication No. 47-653
As described in Section 4, there is a redundancy method in which the address of a defective bit is stored in an associative memory device, a match is detected between the stored contents of the external address and the defective bit address, a new address is output to a spare memory, and the normal bit is read out. It has been proposed.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来技術の問題点は、予備メモリをアクセスする場
合にアドレス変換回路を介することである。このアドレ
ス変換動作時間と予備メモリのアクセス時間がメモリ装
置のアクセス時間となる。
The problem with the above-mentioned prior art is that an address conversion circuit is used when accessing the spare memory. This address conversion operation time and the access time of the spare memory become the access time of the memory device.

このため主メモリと予備メモリが同レベルのアクセス時
間を有する場合はメモリ装置全体として主メモリと同レ
ベルのアクセス時間を得るのは困難である。一方、その
解決手段として上記アドレス変換回路を高速化し、予備
メキリも高速化することが考えられる。しかし、このた
めには高度な回路技術、プロセス技術が要求され高価格
になるという問題がある。
Therefore, if the main memory and the spare memory have the same level of access time, it is difficult to obtain the same level of access time as the main memory for the memory device as a whole. On the other hand, as a solution to this problem, it is conceivable to increase the speed of the address conversion circuit and also increase the speed of the backup memory. However, this requires advanced circuit technology and process technology, resulting in a high price.

従って1本発明の基本的な目的は、不良ビットの救済方
法が単純であり、またこの救済を実現するためのハード
ウェアも単純であり、さらにアクセス時間が高速である
大容量の半導体メモリ装置を提供することである。
Therefore, the basic object of the present invention is to provide a large-capacity semiconductor memory device with a simple method for repairing defective bits, simple hardware for realizing this repair, and fast access time. It is to provide.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の一実施形態に従えば、上記目的は次のようにし
て解決される。
According to one embodiment of the present invention, the above object is solved as follows.

主メモリの不良アドレスを予備メモリに置き換える場合
、上記のように外部アドレスを変換し新しいアドレスで
予備メモリをアクセスするのではなく、主メモリ、予備
メモリおよび不良記憶部を外部アドレスで同時に活性化
し、主メモリをアクセスしている間に不良の入出力信号
端子を不良記憶部の情報により高速に切替え不良ビット
を救済する。これによりメモリ装置全体の高速アクセス
時間達成を実現するができる。
When replacing a defective address in main memory with spare memory, instead of converting the external address and accessing the spare memory with the new address as described above, activate the main memory, spare memory, and defective memory at the same time with the external address, While the main memory is being accessed, the defective input/output signal terminal is switched at high speed based on the information in the defective storage section, thereby relieving the defective bit. This makes it possible to achieve high-speed access time for the entire memory device.

〔作用〕[Effect]

外部アドレスが主メモリ、予備メモリ及び不良記憶部に
印加され、第1の不良記憶部の第2の出力から主メモリ
のワード線不良の有無と不良ワード線の位置を示すワー
ド線不良検出信号とが発生される。実際にワード線不良
位置信号が発生される場合、第1の予備メモリの複数の
予備メモリセルのひとつの予備メモリセルが外部のワー
ド線アドレスとデータ線アドレスとに応答し、さらに主
メモリの入出力信号端子がワード線不良検出信号とワー
ド線不良位置信号により第1の予備メモリの入出力信号
端子に切替えられ、その結果主メモリのワード線に関係
する欠陥が第1の予備メモリによって救済される。
An external address is applied to the main memory, a spare memory, and a defective memory section, and a word line defect detection signal indicating the presence or absence of a word line defect in the main memory and the location of the defective word line is output from the second output of the first defective memory section. is generated. When a word line defective location signal is actually generated, one of the plurality of spare memory cells of the first spare memory responds to the external word line address and data line address, and also responds to the input of the main memory. The output signal terminal is switched to the input/output signal terminal of the first spare memory by the word line defect detection signal and the word line defect position signal, and as a result, the defect related to the word line of the main memory is relieved by the first spare memory. Ru.

同様に第2の不良記憶部の第2の出力から主メモリのデ
ータ線不良の有無と不良データ線の位置を示すデータ線
不良検出信号が発生される。実際にデータ線不良位置信
号が発生される場合、第2の予備メモリの複数の予備メ
モリセルのひとつの予備メモリセルが外部のデータ線ア
ドレスとワード線アドレスとに応答し、さらに主メモリ
の人出力信号端子がデータ線不良検出信号とデータ線不
良位置信号により第2の予備メモリに切替えられ、その
結果主メモリのデータ線に関係する欠陥が第2の予備メ
モリによって救済される。
Similarly, a data line defect detection signal indicating the presence or absence of a data line defect in the main memory and the position of the defective data line is generated from the second output of the second defective memory section. When a data line defective position signal is actually generated, one of the plurality of spare memory cells of the second spare memory responds to the external data line address and the word line address, and also responds to the external data line address and word line address. The output signal terminal is switched to the second spare memory by the data line defect detection signal and the data line defect position signal, so that defects related to the data lines of the main memory are relieved by the second spare memory.

以上の動作は、外部アドレスで主メモリ、予備メモリ及
び不良記憶部に同時にアクセスして、すなわちデータを
予め入出力端子まで用意して、その入出力信号端子を不
良ビットに応じて切り替えている。この不良記憶部の容
量は主メモリもしくは予備メモリに比べて、3〜4桁小
さくて良く。
In the above operation, the main memory, spare memory, and defective storage section are simultaneously accessed using an external address, that is, data is prepared in advance up to the input/output terminal, and the input/output signal terminal is switched according to the defective bit. The capacity of this defective storage section may be three to four orders of magnitude smaller than that of the main memory or spare memory.

主メモリもしくは予備メモリより高速化できる。It can be faster than main memory or spare memory.

従って、メモリ装置のアクセス時間は、不良記憶部が高
速化できるため、装置全体のアクセス時間に比べ微々た
る入出力端子切替時間の遅延を除いて、主メモリもしく
は予備メモリのアクセス時間により決定される。このた
め、本提案の半導体メモリ装置は従来のアドレス変換回
路を用いた欠陥救済方法よりアクセス時間を高速化でき
る。
Therefore, the access time of a memory device is determined by the access time of the main memory or spare memory, excluding the delay in input/output terminal switching time, which is insignificant compared to the access time of the entire device, since the speed of the defective memory section can be increased. . Therefore, the semiconductor memory device of the present invention can speed up the access time compared to the conventional defect repair method using an address conversion circuit.

また、ワード線アドレスに応答してワード線不良検出信
号とワード線不良位置信号とを発生する第1の不良記憶
部は複数ビット出力形式の一般的な半導体メモリ、例え
ば不揮発性半導体メモリ(E PROM、 EEPRO
M、 7ユ一ズROM等)またはバッテリーバックアッ
プさ九た半導体メモリ(SRAM等)で構成される。
Further, the first defective memory section that generates a word line defect detection signal and a word line defective position signal in response to a word line address is a general semiconductor memory with a multi-bit output format, such as a non-volatile semiconductor memory (E PROM). , EEPRO
It is composed of a semiconductor memory (SRAM, etc.) with a battery backup.

同様にデータ線アドレスに応答してデータ線不良検出信
号とデータ線不良位置信号とを発生する第2の不良記憶
部は複数ビット出力形式の一般的な半導体メモ1ハ例え
ば不揮発性半導体メモリ(E P ROM 、 EEP
ROM、 7 !−ズROM等)またはバッテリーバッ
クアップされた半導体メモリ(SRAM等)で構成され
る。また上記半導体メモリを使用した連想メモリ装置を
使用しても良い。
Similarly, a second defect memory section that generates a data line defect detection signal and a data line defect position signal in response to a data line address is a general semiconductor memory with a multi-bit output format, such as a non-volatile semiconductor memory (E PROM, EEP
ROM, 7! ROM, etc.) or battery-backed semiconductor memory (SRAM, etc.). Furthermore, an associative memory device using the above semiconductor memory may be used.

以上により、主メモリの欠陥救済を高速にかつ非常に単
純な方法及びハードウェアで実現できる。
As described above, main memory defect relief can be realized at high speed and with a very simple method and hardware.

本発明の他の目的及び新規な特長は、以下に詳述する実
施例から明らかになろう。
Other objects and novel features of the present invention will become apparent from the examples detailed below.

【実施例〕【Example〕

以下1図面を参照にして本発明の実施例を詳細に説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to one drawing.

第1図は本発明の半導体メモリ装置の原理を示すための
ブロック図である。同図において40は情報を蓄積する
メモリブロックチップ、2は複数個のメモリブロックチ
ップ40の集合である複数ビット入出力構成の主メモリ
、18は予備メモリ、108は外部入出力信号端子(I
lo)、110は外部アドレス信号、112はメモリチ
ップ活性化、IFき込み等の外部制御信号、102は主
メモリ2の入出力信号端子(Ilo)、104は予備メ
モリ18の入出力信号端子(Ilo)、 6はメモリブ
ロックチップ40もしくは予備メモリ18のワード線ア
ドレス方向、4はメモリブロックチップ40もしくは予
備メモリ18のデータ線アドレス方向を示す。
FIG. 1 is a block diagram showing the principle of a semiconductor memory device according to the present invention. In the figure, 40 is a memory block chip that stores information, 2 is a main memory with a multi-bit input/output configuration which is a set of multiple memory block chips 40, 18 is a spare memory, and 108 is an external input/output signal terminal (I
110 is an external address signal, 112 is an external control signal such as memory chip activation and IF writing, 102 is an input/output signal terminal (Ilo) of the main memory 2, and 104 is an input/output signal terminal (Ilo) of the spare memory 18. 6 indicates the word line address direction of the memory block chip 40 or the spare memory 18, and 4 indicates the data line address direction of the memory block chip 40 or the spare memory 18.

また26a、26b、26cは不良ビットを示し、8,
10はワード線方向に上記不良ビットがある不良のワー
ド線を示し、それぞれをWl。
Further, 26a, 26b, 26c indicate defective bits, 8,
Reference numeral 10 indicates defective word lines in which the defective bits are present in the word line direction, and each is designated as Wl.

Wkとする。一方予備メモリ18のwlは主メモリ2の
不良ワード線Wl、wkは主メモリ2の不良ワード@W
kにそれぞれ対応し、主メモリ救済適用後に活性化され
る。
Let it be Wk. On the other hand, wl in the spare memory 18 is a defective word line Wl in the main memory 2, and wk is a defective word line @W in the main memory 2.
k, respectively, and are activated after main memory relief is applied.

8′は不良のワード線8と同時に選択される別のメモリ
ブロックチップ40の良品のワード線。
Reference numeral 8' indicates a good word line of another memory block chip 40 that is selected at the same time as the defective word line 8.

10’は不良のワード線10と同時に選択される別のメ
モリブロックチップ40の良品のワード線をそれぞれ示
す。
10' indicates a good word line of another memory block chip 40 that is selected at the same time as the defective word line 10.

さらに106aは複数ビット入出力構成の主メモリ2の
メモリブロックチップ40のいずれかにワード線不良が
あることを示すワード線不良検出信号、106bは上記
ワード線不良が存在するメモリブロックチップ40の入
出力信号端子102(Ilo)の位置を示すワード線不
良位置信号。
Furthermore, 106a is a word line defect detection signal indicating that there is a word line defect in one of the memory block chips 40 of the main memory 2 having a multi-bit input/output configuration, and 106b is an input signal of the memory block chip 40 in which the word line defect exists. A word line defective position signal indicating the position of the output signal terminal 102 (Ilo).

14は上記ワード線不良検出信号106aとワード線不
良位置信号106bを記憶する複数ビット入出力構成の
不良記憶部、またT W 1 ” T W nは不良記
憶部14の上記入出力信号106a、106bに対応す
るメモリアレイである。さらに100は主メモリ2が不
良の場合、不良記憶部14のワード線不良検出信号10
6a、ワード線不良位置信号106bをもとに主メモリ
2のメモリブロックチップ40の各入出力信号(Ilo
)102を予備メモリ18の入出力信号端子(Ilo)
104に切り替える入出力切替回路である。120はワ
ード線不良位置信号106bを入力として、ワード線不
良検出信号106aで活性化され、上記入出力信号端子
(Ilo)102と入出力信号端子(Ilo)104を
切り替える信号を発生するデコーダ回路である。
Reference numeral 14 denotes a defect memory section having a multi-bit input/output configuration for storing the word line defect detection signal 106a and word line defect position signal 106b, and T W 1 '' T W n indicates the input/output signals 106 a and 106 b of the defect memory section 14 . Furthermore, 100 is a word line defect detection signal 10 of the defective storage section 14 when the main memory 2 is defective.
6a, each input/output signal (Ilo
) 102 as the input/output signal terminal (Ilo) of the spare memory 18
This is an input/output switching circuit that switches to 104. 120 is a decoder circuit which receives the word line defective position signal 106b, is activated by the word line defective detection signal 106a, and generates a signal for switching between the input/output signal terminal (Ilo) 102 and the input/output signal terminal (Ilo) 104; be.

また入出力切替回路100のS W 1 ”” S W
 nは入出力信号端子(Ilo)102と入出力信号端
子(Ilo)104の切替スイッチであり、22at〜
22 a−、22bx〜22 b、は上記切替スイッチ
5W−t〜SWnのそれぞれの端子である。このスイッ
チは一般的に2人力1出力のマルチプレクサで構成され
る。この22a1〜22a、は主メモリ2の入出力信号
端子102に接続され、一方22b1〜22b、は予備
メモリ18の入出力信号端子104に共通に接続され、
上記デコーダ回路120により、主メモリ2の入出力信
号端子102と、予瑚メモリ18の入出力信号端子10
4の接続状態が制御される。
In addition, SW 1 "" SW of the input/output switching circuit 100
n is a changeover switch between the input/output signal terminal (Ilo) 102 and the input/output signal terminal (Ilo) 104;
22 a-, 22 bx to 22 b are respective terminals of the changeover switches 5W-t to SWn. This switch typically consists of a two-power, single-output multiplexer. These 22a1 to 22a are connected to the input/output signal terminal 102 of the main memory 2, while 22b1 to 22b are commonly connected to the input/output signal terminal 104 of the spare memory 18,
The decoder circuit 120 connects the input/output signal terminal 102 of the main memory 2 and the input/output signal terminal 10 of the preconditioning memory 18.
4 connection status is controlled.

次にこのブロック図の動作を説明する。同図において、
不良のラインは不良ビット26a、26b。
Next, the operation of this block diagram will be explained. In the same figure,
The defective line has defective bits 26a and 26b.

26cに対するそれぞれを8,10のワード線方向の不
良(同図wi、wk)とする。
26c are respectively 8 and 10 defects in the word line direction (wi, wk in the figure).

すなわち主メモリ2のブロックチップ40において、ワ
ード線(Wl)8に関係して少なくとも2つのメモリセ
ル26a、26bが不良ビットとなるので、これらのメ
モリセル26a、26bはワード線不良として定義され
、かつ予備メモリ18の予備ワード線(wl)に関係す
る2つの予備メモリセルによって救済される。また不良
ビットのメモリセル26cはワード線方向の不良もしく
はデータ線方向の不良として定義されるのではなく1本
来ビット性不良として定義される。しかし、この不良ビ
ットのメモリセル26cは便宜上ワード線方向の不良と
してみなされ、予備メモリ18の予備ワード線(w k
)に関係するひとつの予備メモリセルによって救済され
る。
That is, in the block chip 40 of the main memory 2, at least two memory cells 26a and 26b become defective bits in relation to the word line (Wl) 8, so these memory cells 26a and 26b are defined as word line defects. And it is relieved by two spare memory cells related to the spare word line (wl) of the spare memory 18. Furthermore, the memory cell 26c having a defective bit is not defined as a defect in the word line direction or a defect in the data line direction, but is defined as a defect in the bit nature. However, for convenience, this defective bit memory cell 26c is regarded as defective in the word line direction, and the spare word line (w k
) is saved by one spare memory cell related to the memory cell.

以上の救済動作における不良記憶部14のメモリ容量は
、例えばアドレス・マルチ入力形の4Mビット(4Mワ
ード×1ビット構成)DRAMを8チツプ使用した入出
力信号8ビツト構成の4Mバイト半導体メモリ装置では
、ワード線アドレスが2にビット、ワード線不良検出信
号106aが1ビツト、入出力信号8ビツトをデコード
するためのワード線不良位置信号106bが3ビツトと
なり、2KX4ビツトと小容量のメモリで構成できる。
The memory capacity of the defective storage unit 14 in the above repair operation is, for example, in a 4M byte semiconductor memory device with an 8-bit input/output signal configuration using 8 chips of address multi-input type 4M bit (4M word x 1 bit configuration) DRAM. , the word line address is 2 bits, the word line defect detection signal 106a is 1 bit, and the word line defect position signal 106b for decoding 8 bits of input/output signals is 3 bits, so it can be configured with a small memory capacity of 2K x 4 bits. .

本実施例では、主メモリ2のアドレス信号110及び制
御信号112による活性化と同時に予備メモリ18も活
性化され、また同時に不良記憶部14も活性化される。
In this embodiment, the spare memory 18 is also activated at the same time as the main memory 2 is activated by the address signal 110 and the control signal 112, and the defective storage section 14 is also activated at the same time.

このため小容量の不良記憶部14の出力、すなわちワー
ド線不良検出信号106a、ワード線不良位置信号10
6bが活性化する時間とこれらの信号をもとに切り替わ
る入出力切替回路100における主メモリ2の入出力信
号端子102と予備メモリ18の入出力信号端子104
の切替え時間の和がメモリ装置のアクセス時間となる。
Therefore, the output of the small-capacity defect storage section 14, that is, the word line defect detection signal 106a, the word line defect position signal 10
The input/output signal terminal 102 of the main memory 2 and the input/output signal terminal 104 of the spare memory 18 in the input/output switching circuit 100 are switched based on the activation time of 6b and these signals.
The sum of the switching times becomes the access time of the memory device.

後者の切り替え時間は全体のアクセス時間に比べ微々た
るものであり、また前者の不良切替回路の出力活性時間
は大容量の主メモリ2をアクセスする時間に比べ十分速
い、従って、主メモリ2.予備メモリ18.不良記憶部
14が並列同時動作となり、先に入出力信号(I 10
)端子が確定するため。
The switching time of the latter is insignificant compared to the overall access time, and the output activation time of the former defective switching circuit is sufficiently faster than the time of accessing the large capacity main memory 2. Therefore, the main memory 2. Spare memory 18. The defective storage unit 14 operates in parallel and simultaneously, and the input/output signal (I 10
) to confirm the terminal.

半導体メモリ装置全体のアクセス時間の低下はなく、装
置の高速動作が可能となる。この結果、半導体メモリ装
置のアクセス時間は付加した入出力切替回路100.不
良記憶部14.予備メモリ18による救済回路の遅延時
間に影響されること無く1本来の主メモリ2のアクセス
時間で決定される。
There is no reduction in the access time of the entire semiconductor memory device, and the device can operate at high speed. As a result, the access time of the semiconductor memory device is reduced by the added input/output switching circuit 100. Defective storage unit 14. It is determined by the original access time of the main memory 2 without being influenced by the delay time of the relief circuit by the spare memory 18.

また、本実施例では予備メモリ18が1個で主メモリ2
のメモリブロックチップ40の数、n個を置換する場合
、メモリブロックチップ40のそれぞれの不良アドレス
が複数のメモリブロックチップ40間で一致しない限り
、すなわちワード線不良が他のメモリブロックチップ4
0にない限り主メモリ2のメモリ総容量のl / nの
量を救済できる6例えば主メモリ2の入出力信号が8ビ
ツトの場合、その内の1ビツト分を予備メモリ18で置
換する。しかしながら不良記憶部14は全てのワード線
アドレスを記憶しているので予備メモリ18を増加する
ことによって、原理的には主メモリ2の全てが不良ビッ
トであっても、主メモリ2を100%救済することが可
能である。
Further, in this embodiment, there is only one spare memory 18 and two main memories.
When replacing n memory block chips 40, unless the defective addresses of each of the memory block chips 40 match among the plurality of memory block chips 40, that is, the word line defect is replaced by another memory block chip 4.
As long as it is not zero, l/n of the total memory capacity of the main memory 2 can be saved.6 For example, if the input/output signal of the main memory 2 is 8 bits, 1 bit of it is replaced with the spare memory 18. However, since the defective memory section 14 stores all word line addresses, by increasing the spare memory 18, in principle, even if all of the main memory 2 has defective bits, the main memory 2 can be saved 100%. It is possible to do so.

なお、このメモリ検査とこの検査結果に基づく不良ビッ
トの不良記憶部14への書き込みによる欠陥救済方法に
ついては、後に詳細に説゛明する。
Note that this memory inspection and a defect relief method by writing defective bits into the defective storage section 14 based on the inspection results will be explained in detail later.

第3図に第1図の本発明の半導体メモリ装置をもとに、
データ線不良も救済できるようにした第2の実施例を示
す。
Based on the semiconductor memory device of the present invention shown in FIG. 1, FIG.
A second embodiment will be shown in which data line defects can also be relieved.

図中2は複数個のメモリブロックチップ40の集合より
なる主メモリ、14′は不良記憶部。
In the figure, 2 is a main memory consisting of a set of a plurality of memory block chips 40, and 14' is a defective storage section.

18.20はそれぞれワード線不良及びデータ線不良救
済用の予備メモリ、108は外部入出力信号端子(Il
o)、110は外部アドレス信号。
18 and 20 are spare memories for relieving word line defects and data line defects, respectively, and 108 is an external input/output signal terminal (Il
o), 110 is an external address signal.

112はメモリチップ活性化、書き込み等の外部制御信
号、6はメモリブロックチップ40もしくは予備メモリ
18.20のワード線アドレス方向、4はメモリブロッ
クチップ40もしくは予備メモリ18.20のデータ線
アドレス方向を示す。
112 is an external control signal such as memory chip activation or writing, 6 is the word line address direction of the memory block chip 40 or the spare memory 18.20, and 4 is the data line address direction of the memory block chip 40 or the spare memory 18.20. show.

また26a、26b、26c、28a、28b。Also 26a, 26b, 26c, 28a, 28b.

28c、28dは不良ビットを示し、不良ビット26a
、26b、26cは第1図で述べたようにワード線不良
8,10となる。また12は上記不良ビット28a、2
8bがあるデータ線不良。
28c and 28d indicate defective bits, and defective bit 26a
, 26b and 26c become word line defects 8 and 10 as described in FIG. 12 is the defective bit 28a, 2
Defective data line with 8b.

13も上記不良ビット28c、28dがあるデータ線不
良を示す、一方、12’ 、13’は不良のデータ線と
同時に選択される別のメモリブロックチップ40の良品
のデータ線をそれぞれ示す。
13 also indicates a defective data line with the defective bits 28c and 28d, while 12' and 13' indicate good data lines of another memory block chip 40 that are selected at the same time as the defective data line.

さらに106aはワード線不良検出信号、106bはワ
ード線不良位置信号、106cはデータ線不良検出信号
、106dはデータ線不良位置信号である。またT W
 工〜T W n e T B 1〜TBllはメモリ
ブロックで構成される不良記憶部14.14’の上記信
号106a、106b、106c、106dの記憶用メ
モリアレイである。120,120’は入出力信号端子
(rlo)102と予備メモリ18.20の入出力信号
端子(Ilo)104゜114を切り替える信号を発生
するデコーダ回路である。
Further, 106a is a word line defect detection signal, 106b is a word line defect position signal, 106c is a data line defect detection signal, and 106d is a data line defect position signal. Also T W
1 to TB11 are memory arrays for storing the signals 106a, 106b, 106c, and 106d of the defective storage section 14.14' composed of memory blocks. 120, 120' are decoder circuits that generate signals for switching between the input/output signal terminal (rlo) 102 and the input/output signal terminal (Ilo) 104° 114 of the spare memory 18.20.

上記不良検出信号及び位置信号106 a −106d
が、上記デコーダ回路120,120’ を介して、ブ
ロックチップ40の入出力信号端子102と予備メモリ
18もしくは20の入出力信号端子104もしくは11
4の切替えを制御する。
The above defect detection signal and position signal 106a-106d
is connected to the input/output signal terminal 102 of the block chip 40 and the input/output signal terminal 104 or 11 of the spare memory 18 or 20 via the decoder circuits 120, 120'.
Controls the switching of 4.

また、50は上記デコーダ回路120,120’の出力
を受け、ワード線アドレスとデータ線アドレスが同一メ
モリブロックチップ40上で同時に不良した場合、例え
ばワード線不良を優先的に救済する不良アドレスの優先
判定回路である。
Further, 50 receives the outputs of the decoder circuits 120 and 120', and when a word line address and a data line address are defective at the same time on the same memory block chip 40, priority is given to a defective address for preferentially relieving a defective word line, for example. This is a judgment circuit.

さらに100′は上記信号106 a 〜L O6dの
切替指示により、主メモリ2のメモリブロックチップ4
0の入出力信号端子102と予備メモリ18.20の入
出力信号端子104もしくは114を外部入出力信号端
子108に切替え接続する入出力切替回路である。また
入出力切替回路100′の−8Ws’ 〜S W、’は
入出力信号端子(Ilo)102と入出力信号端子(I
lo)104,114の切替スイッチであり、一般的に
は3人力1出力のマルチプレクサで構成される。22a
x〜22a、。
Furthermore, 100' is the memory block chip 4 of the main memory 2 in accordance with the switching instruction of the signals 106a to LO6d.
This is an input/output switching circuit that switches and connects the input/output signal terminal 102 of 0 and the input/output signal terminal 104 or 114 of the spare memory 18.20 to the external input/output signal terminal 108. -8Ws' to S W,' of the input/output switching circuit 100' are the input/output signal terminal (Ilo) 102 and the input/output signal terminal (I
lo) 104, 114 changeover switch, and is generally composed of a three-man power, one-output multiplexer. 22a
x~22a,.

22b1〜22bn、22cl〜22c、lはそれぞれ
切替スイッチSW1’〜s wn’の端子である。
22b1 to 22bn, 22cl to 22c, and l are terminals of changeover switches SW1' to swn', respectively.

22as〜22a、は主メモリ2の入出力信号端子10
2のそれぞれに接続され、22b1〜22bnは予備メ
モリ18の入出力信号端子104に接続され、22cl
〜22cnは予備メモリ20の入出力信号端子114に
接続される。すなわち、入出力切替回路100′によっ
て不良記憶部14′の出力であるワード線不良位置信号
106b、データ線不良位置信号106dの情報で主メ
モリ2の不良ワード線もしくは不良データ線を有するメ
モリブロックチップ40の入出力信号端子102を決め
、ワード線不良検出信号IQ6a、データ線不良検出信
号106cで活性化され、予備メモリ18もしくは20
の入出力信号端子と切替え制御される。
22as to 22a are the input/output signal terminals 10 of the main memory 2
2, 22b1 to 22bn are connected to the input/output signal terminal 104 of the spare memory 18, and 22cl
~22cn is connected to the input/output signal terminal 114 of the spare memory 20. That is, the memory block chip having a defective word line or defective data line in the main memory 2 is determined by the input/output switching circuit 100' based on the information of the word line defective position signal 106b and the data line defective position signal 106d which are output from the defective memory section 14'. 40 input/output signal terminals 102 are determined, and activated by the word line defect detection signal IQ6a and the data line defect detection signal 106c, the spare memory 18 or 20 is activated.
Controlled by switching between input and output signal terminals.

本実施例は第1図に加えて、データ線不良救済用の予備
メモリ20を追加し、その制御のため不良記憶部14′
および入出力切替回路100’ を変更しである。
In addition to the embodiment shown in FIG. 1, a spare memory 20 for relieving data line defects is added, and a defect storage section 14' is used to control the data line.
and by changing the input/output switching circuit 100'.

さらに優先判定回路50により不良ワード線アドレス及
び不良データ線アドレスがひとつのメモリブロックチッ
プ40内の同一ビットでクロス不良した場合、ワード線
方向の不良救済を優先する様にしている。この優先判定
回路50は、上記クロス不良によってワード線とデータ
線用の両者の予備メモリを活性化するため、ワード線と
データ線用の予備メモリがひとつの入出力(Ilo)端
子で同時に活性化して、予備メモリ18.20の入出力
信号のアクセス時間差によってはデータ衝突が考えられ
るためである。これは、メモリデバイスに取って好まし
くないため1例えばワード線救済を優先しひとつの入出
力端子に接続する。このワード線救済の優先は、DRA
Mのようなアドレス・マルチ入力形式のメモリデバイス
に都合が良い、DRAMの場合はRAS (Row A
ddressSignal)アドレスと呼ばれるワード
線アドレスが先に入力され、後でCA S (Colo
+mn AddressSignal)アドレスのデー
タ線アドレスが入力される。このため、先に入力される
ワード線を優先処理することによって、後で入力される
データ線アドレスが入力され優先判定されるような回路
遅延時間を回避することができ、結果として救済回路系
の高速化が図れる。一方、アドレス・シングル入力形式
のメモリデバイス例えばSRAMでは。
Furthermore, when a defective word line address and a defective data line address cross each other in the same bit in one memory block chip 40, priority is given to repairing defects in the word line direction by the priority determination circuit 50. This priority determination circuit 50 activates the spare memories for both the word line and the data line due to the cross failure, so the spare memories for the word line and the data line are simultaneously activated at one input/output (Ilo) terminal. This is because data collision may occur depending on the access time difference between the input and output signals of the spare memories 18 and 20. Since this is not desirable for the memory device, priority is given to, for example, word line relief and connection to one input/output terminal. This word line relief priority is given to DRA
In the case of DRAM, RAS (Row A
The word line address called CA S (Colo
+mn AddressSignal) The data line address of the address is input. Therefore, by prioritizing the word line that is input first, it is possible to avoid the circuit delay time in which the data line address that is input later is input and prioritized, and as a result, the relief circuit system is Speed-up can be achieved. On the other hand, in memory devices of single address input format, such as SRAM.

同時にワード線アドレスとデータ線アドレスが入力され
るのが一般的であり、この場合はワード線/データ線の
不良モードによりワード線アドレスもしくはデータ線ア
ドレスのいずれでも優先処理しても良い。
Generally, a word line address and a data line address are input at the same time, and in this case, either the word line address or the data line address may be given priority processing depending on the defective mode of the word line/data line.

次にこの第3図のブロック図の動作を説明する。Next, the operation of the block diagram shown in FIG. 3 will be explained.

同図において、第1図で説明した様に8,10のワード
線方向の不良26a、26b、26cは予備メモリ18
の予備ワード線Wl、wkで置換される。一方、28a
、28b、28c、28dはデータ線方向の不良として
データ線予備メモリ20の予備データ線di、dkで置
換される。
In the same figure, as explained in FIG.
are replaced with spare word lines Wl and wk. On the other hand, 28a
, 28b, 28c, and 28d are defective in the data line direction and are replaced with spare data lines di and dk of the data line spare memory 20.

すなわち第1図のワード線不良で示した様に主メモリ2
のメモリブロックチップ40において、データ線12に
関係して少なくとも2つのメモリセル28a、28bが
不良ビットとなるので、これらのメモリセル28a、2
8bはデータ線不良として定義され、かつ予備メモリ2
0の予備データ線(dl)に関係する2つの予備メモリ
セルによって救済される。同様に28c、28dは予備
データ線(dk)で救済される。また欠陥ビットセル2
6cは第1図ではワード線不良として救済したがデータ
線方向の不良としてみなし救済することもできる。
In other words, as shown by the word line failure in Figure 1, the main memory 2
In the memory block chip 40, at least two memory cells 28a, 28b become defective bits in relation to the data line 12, so these memory cells 28a, 2
8b is defined as data line failure and spare memory 2
It is relieved by two spare memory cells related to the spare data line (dl) of 0. Similarly, 28c and 28d are relieved by the spare data line (dk). Also defective bit cell 2
6c is repaired as a word line defect in FIG. 1, but it can also be treated as a defect in the data line direction and repaired.

以上述べたように1本実施例では予備メモリが18.2
0と2チツプであるため、主メモリ2のメモリブロック
チップ40の全てのチップ間で、ワード線方向とデータ
線方向の不良ビットが救済できる。その際、それぞれの
不良アドレスはメモリブロックチップ40間で重なった
場合もしくはメモリブロックチップ40内でのクロス不
良した場合、の一方のいずれかを救済できる。
As mentioned above, in this embodiment, the spare memory is 18.2
Since there are 0 and 2 chips, defective bits in the word line direction and data line direction can be repaired between all the chips of the memory block chips 40 of the main memory 2. At this time, each defective address can be repaired either when the memory block chips 40 overlap or when there is a cross defect within the memory block chips 40.

従って、第1図と同様に本実施例では、主メモリ2のメ
モリブロックチップ40の数、n個をワード線不良、デ
ータ線不良の各々が救済できるため、上記したようにメ
モリブロックチップ40のワード線アドレスもしくはデ
ータ線アドレスのそれぞれの不良アドレスが複数のメモ
リブロックチップ40間で重ならない限り、各々1本ま
で救済できるので、主メモリ2のメモリ総容量の2/n
の容量を救済できる。さらには第1図と同様に予備メモ
リ18.20を増加することによって、主メモリ2の全
てが不良ビットであっても、100%の救済が可能であ
る。
Therefore, in this embodiment, as in FIG. 1, n memory block chips 40 of the main memory 2 can be repaired for word line defects and data line defects. As long as each defective word line address or data line address does not overlap between multiple memory block chips 40, up to one of each can be repaired, so 2/n of the total memory capacity of the main memory 2 can be repaired.
capacity can be saved. Furthermore, by increasing the spare memories 18 and 20 as in FIG. 1, even if all of the main memory 2 has defective bits, 100% relief is possible.

次に主メモリ2の良・不良の検査とこの検査結果に基づ
く不良記憶部14′へのワード線/データ線不良検出信
号及び不良位置信号106a〜106dの書き込みによ
る欠陥救済方法について、詳細に説明する。
Next, a detailed explanation will be given of a defect relief method by inspecting the main memory 2 to determine whether it is good or defective and writing word line/data line defect detection signals and defective position signals 106a to 106d to the defective memory section 14' based on the inspection results. do.

同図の不良記憶部14′は上述のアドレス・マルチ入力
形式の4Mビット(4Mワード×1ビット構成)DRA
Mを使用した入出力信号8ビット構成の4Mバイト半導
体メモリ装置の場合、ワード線アドレスもしくはデータ
線アドレスが2にビット、ワード線/データ線不良検出
信号106aが各1ビツト、入出力信号8ビツトをデコ
ードするためのワード線/データ線不良位置信号106
 bが各3ビツトとなり5合計2KX8ビットのメモリ
で構成される。
The defective memory section 14' in the figure is a 4M bit (4M word x 1 bit configuration) DRA with the above-mentioned address multi-input format.
In the case of a 4M byte semiconductor memory device with an 8-bit input/output signal configuration using M, the word line address or data line address is 2 bits, the word line/data line defect detection signal 106a is 1 bit each, and the input/output signal is 8 bits. word line/data line defective position signal 106 for decoding
Each b is 3 bits, and the memory is composed of 5 total 2K x 8 bits.

次に欠陥救済は以下のようにして実施される。Next, defect relief is carried out as follows.

すなわち主メモリ2のワード線方向のスキャンによって
、ワード線8(Wl)に関してワード線方向の不良が検
出された場合、この不良ワード線アドレスに対する不良
記憶部14′の入出力ビット(TW五〜TWn)にワー
ド線不良検出信号106a。
That is, when a defect in the word line direction is detected for the word line 8 (Wl) by scanning the main memory 2 in the word line direction, the input/output bits (TW5 to TWn ) is the word line defect detection signal 106a.

ワード線不良位置信号106bが2進数で書き込まれる
。また、主メモリ2のデータ線方向のスキャンによって
、データ線12に関してデータ線方向の不良が検出され
た場合、この不良のアドレスに対する不良記憶部14′
の入出力ビット(TBs〜TB、)にデータ線不良検出
信号106c、データ線不良位置信号106dが2!!
!数で書き込まれる。
The word line defective position signal 106b is written in binary. Furthermore, when a defect in the data line direction is detected regarding the data line 12 by scanning the main memory 2 in the data line direction, the defect storage section 14' for the address of this defect is detected.
The data line defect detection signal 106c and data line defect position signal 106d are 2 in the input/output bits (TBs to TB,) of ! !
! Written in numbers.

ここで第3図の主メモリ2の不良ワード線8(Wl)の
選択に対応する外部アドレスが供給されると、同時に不
良記憶部14′からワード線不良検出信号106a、ワ
ード線不良位置信号106bが複数ビット出力形式で高
速に読み出される。従って、上記ワード線不良検出信号
106a、ワード線不良位置信号106bに応答して入
出力切替回路100′は主メモリ2の入出力信号端子1
02の一つと予備メモリ18の入出力信号端子104を
切替え、予備メモリ18の予備ワード線w1を選択し、
欠陥救済が実行される。
Here, when an external address corresponding to the selection of the defective word line 8 (Wl) of the main memory 2 in FIG. is read out quickly in multi-bit output format. Therefore, in response to the word line defect detection signal 106a and the word line defect position signal 106b, the input/output switching circuit 100' switches the input/output signal terminal 1 of the main memory 2.
02 and the input/output signal terminal 104 of the spare memory 18, select the spare word line w1 of the spare memory 18,
Defect relief is performed.

また主メモリ2の不良データ線12(Di)の選択に対
応する外部アドレスが供給されると、同時に不良記憶部
14′からデータ線不良検出信号106c、データ線不
良位置信号106dが複数ビット出力形式で高速に読み
出される。従って。
Furthermore, when an external address corresponding to the selection of the defective data line 12 (Di) of the main memory 2 is supplied, a data line defect detection signal 106c and a data line defect position signal 106d are simultaneously output from the defect storage section 14' in a multi-bit format. is read out quickly. Therefore.

上記データ線不良検出信号106c、データ線不良位置
信号106.iに応答して入出力切替回路100′は主
メモリ2の入出力信号端子102と予備メモリ20の入
出力信号端子114を切替え。
The data line defect detection signal 106c, the data line defect position signal 106. In response to i, the input/output switching circuit 100' switches between the input/output signal terminal 102 of the main memory 2 and the input/output signal terminal 114 of the spare memory 20.

予備メモリ20の予備データ線d1を選択し、欠陥救済
が実行される。
The spare data line d1 of the spare memory 20 is selected and defect repair is performed.

従って、第3図においては通常、入出力切替回路100
′は主メモリ2に接続されるスイッチS Ws’ 〜S
 Wn’の端子22ax〜22a、を選択し、外部入出
力信号端子108と接続しているが。
Therefore, in FIG. 3, the input/output switching circuit 100
' is a switch S Ws' ~S connected to the main memory 2
The terminals 22ax to 22a of Wn' are selected and connected to the external input/output signal terminal 108.

主メモリ2の不良ビットが選択された場合は、ワード線
もしくはデータ線の不良検出信号106a。
When a defective bit in the main memory 2 is selected, a word line or data line defect detection signal 106a is generated.

106c及び不良位置信号106b、106dに応答す
るところのデコーダを介し、入出力切替回路100′に
おいて優先判定回路50に応じて、任意のスイッチSW
1′〜SWn′の端子22bt〜22bnもしくは22
01〜22 c nが選択され。
106c and a decoder that responds to defective position signals 106b and 106d.
1' to SWn' terminals 22bt to 22bn or 22
01-22cn was selected.

予備メモリ18.20の入出力信号端子104゜114
を選択する。
Spare memory 18.20 input/output signal terminals 104°114
Select.

すなわち、108は半導体メモリ装置全体の外部入出力
信号端子であり、この入出力信号端子108を介して主
メモリ2または予備メモリ18もしくは2oヘメモリセ
ルのデジタル情報の書き込みが実行される。一方、この
入出力信号端子108を介して主メモリ2または予備メ
モリ18゜20のメモリセルからデジタル情報の読み出
しが実行される。
That is, 108 is an external input/output signal terminal of the entire semiconductor memory device, and digital information of the memory cell is written into the main memory 2 or the spare memory 18 or 2o via this input/output signal terminal 108. On the other hand, reading of digital information from the memory cells of the main memory 2 or the spare memory 18.20 is executed via this input/output signal terminal 108.

次に上記動作を第4図に示す不良記憶部14′の状態図
をもとに第3図のワード線不良、データ線不良を説明す
る。同図中のT W l〜T W4. T B t〜T
 B aは不良記憶部14′の入出力信号工/○ビット
であり、ワード線不良検出信号106aはT W a 
、データ線不良検出信号106CはTB4゜ワード線不
良位置信号106bはT W t = T W a 。
Next, the above operation will be explained for the word line failure and data line failure shown in FIG. 3 based on the state diagram of the failure storage section 14' shown in FIG. T W 1 to T W4 in the same figure. T B t〜T
B a is the input/output signal/○ bit of the defective memory section 14', and the word line defect detection signal 106a is T W a
, the data line defect detection signal 106C is TB4°, and the word line defect position signal 106b is T W t = T W a .

データ線不良位置信号106dはTBL〜TBaにそれ
ぞれ書き込まれる。以下、本発明を具体例で説明する。
The data line defective position signal 106d is written to TBL to TBa, respectively. The present invention will be explained below using specific examples.

なお、不良アドレス値は16進数表示であり、カッコに
おける添え字として、例えば(111)u+で示す、ワ
ード線不良位置信号106b(T W 1〜T W a
 ) *データ線不良位置信号106d(T B 1−
 T B s)は不良の主メモリ2の入出力信号端子1
02の位置を2進数で示す、また本実施例の半導体メモ
リ装置は4Mワード×1ビットの4MDRAMを使用し
た4Mバイトの容量を想定しており、ワード線アドレス
及びデータ線アドレスは共に(7FF)rsとなる。さ
らに同図のX印はその値がドントケアであることを示し
、′″0″′“1”レベルのいずれでも良いことを示す
The defective address value is expressed in hexadecimal, and the word line defective position signal 106b (T W 1 to T W a
) *Data line defective position signal 106d (T B 1-
T B s) is the input/output signal terminal 1 of the defective main memory 2.
The location of 02 is indicated by a binary number.The semiconductor memory device of this embodiment is assumed to have a capacity of 4M bytes using 4M DRAM of 4M words x 1 bit, and both the word line address and data line address are (7FF). It becomes rs. Furthermore, the X mark in the figure indicates that the value is a don't care, and indicates that any of the ``0'' and ``1'' levels may be used.

まず同図の例(1)に示すように欠陥救済の無い通常動
作では、予備メモリは非選択状態であり、ワード線不良
検出信号106 a (TW4)−及びデータ線不良検
出信号106c(TBa)は両者共情報が“1″ルベル
となる。ワード線不良を救済する場合は、上記ワード線
不良検出信号106aが“OI+レベルとなり、予備メ
モリは選択状態となる。またデータ線不良を救済する場
合は、上記データ線不良検出信号106Cが# O11
レベルとなり、同様に予備メモリは選択状態となる。
First, as shown in example (1) in the figure, in normal operation without defect relief, the spare memory is in a non-selected state, and the word line defect detection signal 106a (TW4)- and the data line defect detection signal 106c (TBa) The information for both is “1” level. When relieving a word line defect, the word line defect detection signal 106a goes to the "OI+" level, and the spare memory becomes a selected state. Also, when relieving a data line defect, the data line defect detection signal 106C goes to #O11.
Similarly, the spare memory becomes the selected state.

例えばワード線不良の場合は同図の例(2)に示すよう
に、第3図における不良ワード線8(Wl)を主メモリ
2の入出力信号I10の0ビツト目のワード線アドレス
=(22A)IBとして。
For example, in the case of a defective word line, as shown in example (2) in the figure, the defective word line 8 (Wl) in FIG. ) as IB.

不良記憶部14′のアドレス(22A)1Bに8ビツト
データ” 1 x x x OO00”を書き込む、こ
の結果、外部アドレスのワード線アドレスが(22A)
11!に達した時、外部入出力端子108には入出力切
替回路100′においてワード線救済用の予備メモリ1
8の入出力信号端子104が接続される。すなわち入出
力8ビツトのそれぞれのスイッチ(SW工’〜SWa’
)の中でスイッチSWI’の端子22b1が外部入出力
端子108に接続され、予備メモリ18の予備ワード線
W1を選択し、その他のスイッチ(SWz’〜SWa’
)は主メモリ2の不良入出力信号I10の0ビツト目を
除く入出力端子102に接続され、予備メモリ18側の
正常なビットが読み書きされる。その際、他方の予備メ
モリ20もアドレスが入力され選択されるが、書き込み
信号等の制御信号を非活性状態に制御することで、予備
メモリ20へ誤書き込みすることはない、また読み出し
では予備メモリ20の入出力端子114が未接続なので
読み出し間違いもない。
Write 8-bit data "1 x x x OO00" to address (22A) 1B of defective memory section 14'. As a result, the word line address of the external address becomes (22A).
11! When the input/output switching circuit 100' reaches the external input/output terminal 108, the spare memory 1 for word line relief is connected to the external input/output terminal 108.
Eight input/output signal terminals 104 are connected. In other words, each of the input/output 8-bit switches (SW' to SWa'
), the terminal 22b1 of the switch SWI' is connected to the external input/output terminal 108, selects the spare word line W1 of the spare memory 18, and selects the spare word line W1 of the spare memory 18, and the other switches (SWz' to SWa'
) are connected to the input/output terminals 102 excluding the 0th bit of the defective input/output signal I10 of the main memory 2, and the normal bits on the spare memory 18 side are read and written. At this time, the address of the other spare memory 20 is also input and selected, but by controlling control signals such as write signals to the inactive state, there is no possibility of erroneous writing to the spare memory 20. Also, when reading from the spare memory Since the 20 input/output terminals 114 are not connected, there are no reading errors.

一方、主メモリ2のメモリブロックチップ40の入出力
端子102側では、主メモリ2の不良入出力信号I10
のOビット目に接続されるスイッチSWiの端子22a
tが外部入出力端子108に接続されないので、入出力
信号I10のOビットの不良アドレスに書き込まれた情
報は、外部入出力信号端子108に読み出されることは
ない、従って、書き込み動作において主メモリ2の不良
メモリブロックチップ40は書き込み活性化状態であっ
ても問題ない。
On the other hand, on the input/output terminal 102 side of the memory block chip 40 of the main memory 2, the defective input/output signal I10 of the main memory 2
Terminal 22a of switch SWi connected to the Oth bit of
Since t is not connected to the external input/output terminal 108, the information written to the defective address of the O bit of the input/output signal I10 will not be read out to the external input/output signal terminal 108. Therefore, in the write operation, the information written to the defective address of the O bit of the input/output signal I10 will not be There is no problem even if the defective memory block chip 40 is in the write activation state.

データ線不良の場合は、図中の例(3)に示すように、
第3図における不良データ線(Dl)を主メモリ2の入
出力信号I10の1ビツト目のデータ線アドレス=(1
12)xsとした場合、不良記憶部14′アドレスの(
112)16に8ビツトデータ”0OOIIXXX”を
書き込む、この結果、外部アドレスのデータ線アドレス
が(112)1゜に達した時、入出力切替部100′に
おいてデータ線救済用の予備メモリ20の入出力信号端
子114が主メモリ2の入出力信号1ビツト目の入出力
信号端子と切替え接続される。すなわちスイッチs w
11’の端子22C7が外部入出力端子108に接続さ
れ、予備メモリ20の予備データ線d1を選択し、欠陥
救済が実行され、正常なビットが読み書きされる。
If the data line is defective, as shown in example (3) in the figure,
The defective data line (Dl) in FIG.
12) In the case of xs, the (
112) Write 8-bit data "0OOIIXXX" to 16. As a result, when the data line address of the external address reaches (112)1°, the input/output switching unit 100' writes the input of the spare memory 20 for data line relief. The output signal terminal 114 is switched and connected to the input/output signal terminal of the first bit of the input/output signal of the main memory 2. That is, switch s w
Terminal 22C7 of 11' is connected to external input/output terminal 108, selects spare data line d1 of spare memory 20, performs defect relief, and reads and writes normal bits.

またワード線とデータ線が同一アドレスで不良する場合
は、上記ワード線不良検出信号106a。
If the word line and data line are defective at the same address, the word line defect detection signal 106a is sent.

データ線不良検出信号106cが共に情報11011と
なる2本不良では、1チツプ上の同一アドレスが不良の
場合と異なるチップ間で不良する場合が考えられる。ま
ず前者の不良を説明する1例えば図中の例(4)に示す
ように、第3図における主メモリ2の入出力信号I10
の7ビツト目の不良データ線アドレス=(2ff)1o
と同信号I10の7ビツトの不良ワード線アドレス=(
2f flssとした場合、不良記憶部14′アドレス
の(2ff)1゜に8ビツトデータ“01110111
”を書き込む、この結果、外部アドレスのワード線アド
レスが(2ff)xiに達した時、入出力切替部100
′のスイッチSWν において外部入出力端子10Bは
予備メモリ18の入出力信号端子104に接続される、
すなわち外部入出力端子108は主メモリ2の入出力信
号I10の7ビツト目の入出力信号端子102に接続す
るスイッチSWa’の2288から22b8へと切替え
られる。一方、外部アドレスのデータ線アドレスが(2
ff)reに達した時は、入出力切替部100’のスイ
ッチSWa’において外部入出力端子108は予備メモ
リ20の入出力信号端子114に接続される。すなわち
外部入出力端子108は主メモリ2の入出力信号I10
の7ビツト目の入出力信号端子102に接続するスイッ
チSWaの2288から2208へと切替えられる。さ
らに、1チツプ上でワード線不良とビット線不良が同一
アドレス(2ff)1aに達した場合、ワード線を優先
的に処理するため、外部入出力端子108はスイッチS
Wa’の22b6に接続される。従って、予備メモリ1
8の予備ワード線上のメモリセルのみ置換され、予備メ
モリ20の予備データ線上の(111)zeのメモリセ
ルは使用されない。
In the case of two defective lines in which the data line defect detection signals 106c are both information 11011, it is conceivable that the same address on one chip is defective or that the defect occurs between different chips. First, let us explain the former defect.1 For example, as shown in example (4) in the figure, the input/output signal I10 of the main memory 2 in FIG.
7th bit defective data line address = (2ff) 1o
7-bit defective word line address of the same signal I10 = (
In the case of 2f flss, 8-bit data “01110111” is placed at (2ff)1° of the defective storage unit 14′ address.
As a result, when the word line address of the external address reaches (2ff)xi, the input/output switching unit 100
The external input/output terminal 10B is connected to the input/output signal terminal 104 of the spare memory 18 at the switch SWν of '.
That is, the external input/output terminal 108 is switched from 2288 to 22b8 of the switch SWa' connected to the input/output signal terminal 102 of the 7th bit of the input/output signal I10 of the main memory 2. On the other hand, the data line address of the external address is (2
When ff)re is reached, the external input/output terminal 108 is connected to the input/output signal terminal 114 of the spare memory 20 at the switch SWa' of the input/output switching section 100'. That is, the external input/output terminal 108 receives the input/output signal I10 of the main memory 2.
The switch SWa connected to the input/output signal terminal 102 of the 7th bit is switched from 2288 to 2208. Furthermore, when a word line defect and a bit line defect reach the same address (2ff) 1a on one chip, in order to process the word line preferentially, the external input/output terminal 108 is connected to the switch S.
It is connected to 22b6 of Wa'. Therefore, spare memory 1
Only the memory cells on the spare word line 8 are replaced, and the memory cells (111)ze on the spare data line of the spare memory 20 are not used.

次に異なるメモリブロックチップ40におけるワード線
とデータ線が不良した場合を説明する。
Next, a case where word lines and data lines in different memory block chips 40 are defective will be described.

図中の例(5)において、主メモリ2の入出力信号■/
○の2ビツトのワード線アドレス= (123)18と
入出力信号I10の5ビツトのデータ線アドレス=(1
23)zaが不良の場合、不良記憶部14′のアドレス
(123)soに8ビツトデータ“01010010”
を書き込む。この結果、外部アドレスのワード線アドレ
スが(123)ioに達した時、入出力切替回路100
′において予備メモリ18の入出力信号端子104が主
メモリ2の入出力信号2ビツト目の入出力信号端子10
2と切替えられ、外部入出力端子108と接続される。
In example (5) in the figure, the input/output signal of main memory 2 is
2-bit word line address of ○ = (123)18 and 5-bit data line address of input/output signal I10 = (1
23) If za is defective, 8-bit data “01010010” is stored at address (123)so of defective storage section 14'.
Write. As a result, when the word line address of the external address reaches (123)io, the input/output switching circuit 100
', the input/output signal terminal 104 of the spare memory 18 is connected to the input/output signal terminal 10 of the second bit of the input/output signal of the main memory 2.
2 and is connected to the external input/output terminal 108.

また外部アドレスのデータ線アドレスが(123)1e
に達した時、入出力切替回路100′において予備メモ
リ20の入出力信号端子114が主メモリ2の入出力信
号5ビツト目の入出力信号端子102と切替えられ、外
部入出力端子10gと接続される0以上の動作によって
、正常なビットが読み書きされる。
Also, the data line address of the external address is (123)1e
When the input/output switching circuit 100' switches the input/output signal terminal 114 of the spare memory 20 to the input/output signal terminal 102 of the 5th bit of the input/output signal of the main memory 2, and connects it to the external input/output terminal 10g. A normal bit is read or written by zero or more operations.

なお、第4図に示す不良記憶部14′に使用するメモリ
は、8ビツト構成として、ワード線不良検出信号106
a、ワード線不良位置信号106b。
Note that the memory used in the defect storage section 14' shown in FIG. 4 has an 8-bit configuration, and the word line defect detection signal 106
a, word line defective position signal 106b;

及びデータ線不良検出信号106c、データ線不良位置
信号106d等が外部アドレス信号に応じて同一時間に
出力される。このため、各々の信号106a〜106d
はメモリ装置の活性期間、ラッチして用いても良い、D
RAMを使用したメモリ装置では一般的にアドレス・マ
ルチ入力形式であり、同メモリチップはRA S (R
ow AddressSignal)制御信号でワード
線アドレスを内部でラッチし、CA S (Colom
n Address Signal)制御信号でデータ
線アドレスを内部でラッチし、メモリセルを選択する。
A data line defect detection signal 106c, a data line defect position signal 106d, etc. are output at the same time according to an external address signal. Therefore, each signal 106a to 106d
D may be latched and used during the active period of the memory device.
Memory devices using RAM generally use an address multi-input format, and the memory chip is RA S (R
The word line address is internally latched using the CA S (ColomAddressSignal) control signal.
The data line address is internally latched using the (Address Signal) control signal and a memory cell is selected.

従って、不良記憶部14′は8ビツト構成のメモリを使
用して、かかるメモリを2分割して4ビット単位として
、それぞれを上記信号106a、106bもしくは10
6 c 、 106dとし、上記RAS制御信号もしく
はCAS制御信号のタイミングのもとにそれぞれをラッ
チして使用することも考えられる。
Therefore, the defective storage section 14' uses a memory with an 8-bit configuration, and divides the memory into two into 4-bit units, each of which corresponds to the signal 106a, 106b or 10.
6c and 106d, and latching and using each of them based on the timing of the RAS control signal or CAS control signal is also considered.

第5図に本発明の他の実施例による半導体メモリ装置の
ブロック図を示す、同図は、不良記憶部14′へのデー
タ書き込み時にのみ活性化させるバッファ回路300を
付加した点のみ第1図もしくは第3図と異なり、他は同
様である。このバッファ回路300の入力信号線302
は外部人出”力信号(Ilo)108と接続され、バッ
ファ回路300の出力信号線304にはワード線/デー
タ線の不良検出信号106a、106c及び不良切替信
号106b、106dが接続される。このバッファ回路
300を用いることで不良記憶部14’への上舵信号1
06a〜106dの書き込みが容易となる。
FIG. 5 shows a block diagram of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention, which differs from the one shown in FIG. Or, unlike FIG. 3, the other things are the same. Input signal line 302 of this buffer circuit 300
is connected to the external output signal (Ilo) 108, and the word line/data line defect detection signals 106a, 106c and defect switching signals 106b, 106d are connected to the output signal line 304 of the buffer circuit 300. By using the buffer circuit 300, the upper rudder signal 1 to the defective storage section 14' is
Writing of 06a to 106d becomes easy.

すなわち、主メモリ2の検査結果に基づいて、外部入出
力信号端子108に上記信号106a〜106dをセッ
トし、不良アドレスに対応した不良記憶部14′のアド
レスに書き込む、これにより不良ビット救済のオンライ
ン書き込みも容易となり、メモリ検査時間、救済処理時
間を節約できる。また他の効果として、出力信号線30
4を外部から制御することによって、主メモリ2及び予
備メモリ18.20の入出力信号端子104゜114の
各々が独立して選択できるため、その各各のメモリの特
性を検査できる。
That is, based on the test results of the main memory 2, the above-mentioned signals 106a to 106d are set to the external input/output signal terminal 108, and written to the address of the defective memory section 14' corresponding to the defective address, thereby allowing online defective bit relief. Writing becomes easier, and memory inspection time and repair processing time can be saved. In addition, as another effect, the output signal line 30
By controlling the main memory 2 and the spare memory 18, 20 from the outside, each of the input/output signal terminals 104 and 114 can be independently selected, so that the characteristics of each memory can be inspected.

なお、バッファ回路300は例えばトライステート形の
バッファで構成され、上記不良記憶部14′への書き込
み動作以外では外部入力信号で非活性化されており、半
導体メモリ装置の通常の読み出し/書き込み動作に影響
を与えることが無いよう制御される。また不良記憶部1
4′へ書き込まれたデータの読み出しは、バッファ回路
300を双方向形バッファの使用で可能であるが、その
場合も通常の読み出し/書き込み動作に影響無いよう制
御される。さらに不良記憶部14′の書き込まれたデー
タの別の読み出し方法としては入出力切替回路100′
のスイッチS W 1 ” S W 、に接続端子22
 as〜22 an、 22bx〜22bn、 22c
x〜22ca等とは別の接続端子を設は不良記憶部14
′の入出力信号106a〜106dを接続する。この別
の接続端子を外部より制御することで。
Note that the buffer circuit 300 is composed of, for example, a tri-state buffer, and is inactivated by an external input signal except for write operations to the defective storage section 14', and is inactivated during normal read/write operations of the semiconductor memory device. It is controlled so that it does not have any influence. Also, the defective memory section 1
Reading of the data written to the buffer circuit 4' is possible by using a bidirectional buffer in the buffer circuit 300, but even in that case, the control is controlled so as not to affect normal read/write operations. Furthermore, as another method for reading data written in the defective storage section 14', the input/output switching circuit 100'
Switch S W 1 ” S W , connected to terminal 22
as~22an, 22bx~22bn, 22c
A separate connection terminal from the
' input/output signals 106a to 106d are connected. By controlling this other connection terminal externally.

読み出しが可能となる。Reading becomes possible.

第6図に本発明の他の実施例による半導体メモリ装置の
ブロック図を示す6図中の70は制御回路、72.74
は制御信号で予備メモリ18゜20の書き込み制御信号
(WE)等の制御を行なう1本実施例は制御回路70を
付加した点のみ第3図と異なり、他は同様である。この
制御回路はメモリ装置がDRAMで構成される場合、メ
モリデバイスの制御信号RAS、CAS、WEを入力と
して、メモリ装置の活性期間に入出力データの保持し、
書き込み信号WE倍信号保持する等で、予備メモリに誤
書き込み、読み出し間違いが無いように制御する。また
外部アドレスがRASもしくはCAS信号と同時に変化
した場合に、不良記憶部14′の出力106 a 〜l
 O6dをRASもしくはCAS信号でラッチするため
、LO6a〜106dが出力される不良記憶部14′の
アクセス時間までRASもしくはCAS信号を遅延させ
る。
FIG. 6 shows a block diagram of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention. In FIG. 6, 70 is a control circuit; 72.74
The present embodiment differs from FIG. 3 only in that a control circuit 70 is added, and is otherwise the same as the one shown in FIG. When the memory device is configured with a DRAM, this control circuit receives the control signals RAS, CAS, and WE of the memory device and holds input/output data during the active period of the memory device.
Control is performed so that there is no erroneous writing or reading error in the spare memory by, for example, holding the write signal WE times the signal. In addition, when the external address changes simultaneously with the RAS or CAS signal, the outputs 106 a to l of the defective memory section 14'
In order to latch O6d with the RAS or CAS signal, the RAS or CAS signal is delayed until the access time of the defective storage section 14' where LO6a to LO106d are output.

第7図に不良記憶部14′の具体的な実施例を示す、同
図の14′は不揮発性メモリブロックで構成され、外部
アドレスに対する入出力信号I10を複数ビットで出力
する。
FIG. 7 shows a specific embodiment of the defective memory section 14'. 14' in the figure is composed of a nonvolatile memory block, and outputs an input/output signal I10 for an external address in a plurality of bits.

30.34は主メモリ2のメモリブロックチップ40の
不良アドレスの有無を示すワード線不良検出信号106
a及びデータ線不良検出信号106cのデータ部であり
、32.36は上記不良が存在する主メモリ2の入出力
信号端子の位Cを指示するワード線不良位置信号106
b及びデータ線不良位置信号106dのデータ部である
30.34 is a word line defect detection signal 106 indicating the presence or absence of a defective address in the memory block chip 40 of the main memory 2.
a and the data part of the data line defect detection signal 106c, and 32.36 is the word line defect position signal 106 indicating the position C of the input/output signal terminal of the main memory 2 where the defect exists.
b and the data portion of the data line defective position signal 106d.

同図において、主メモリ2がnビット構成すなわちn個
のメモリブロックチップ4oで構成される場合は、ワー
ド線不良検出信号106aもしくはデータ線不良検出信
号106cのデータ部30゜34は各々少なくとも1ビ
ツトで構成される。またワード線不良位置信号106b
もしくはデータ線不良位置信号106dのデータ部32
.36は、各々少なくともl o gin  ビットで
構成される。
In the figure, when the main memory 2 has an n-bit configuration, that is, it is composed of n memory block chips 4o, the data portions 30 and 34 of the word line defect detection signal 106a or the data line defect detection signal 106c each have at least 1 bit. Consists of. In addition, the word line defective position signal 106b
Or the data part 32 of the data line defective position signal 106d
.. 36 are each comprised of at least login bits.

例えば主メモリ2が入出力信号8ビツト構成(n千8)
の場合、上記不良位置信号106b、106dのデータ
部32.36のビット数は、各々少なくとも3ビツトで
構成される。
For example, main memory 2 has an 8-bit input/output signal configuration (n, 8).
In this case, the number of bits of the data portions 32 and 36 of the defective position signals 106b and 106d each consists of at least 3 bits.

なお、上記ワード線不良位置信号106b及びデータ線
不良位置信号106clのデータ部32゜36のビット
数を各々8ビツトとして、予備メモリを8個用意した場
合は主メモリ2のメモリブロックチップ数8個を同時に
すべて置換できることは言うまでもない。
Note that if the number of bits of the data portions 32 and 36 of the word line defective position signal 106b and the data line defective position signal 106cl is 8 bits each, and 8 spare memories are prepared, the number of memory block chips in the main memory 2 is 8. It goes without saying that all can be replaced at the same time.

第8図に第1図の不良記憶部14の他の実施例を示す、
同図の14は連想メモリ装置によって構成した実施例で
ある。
FIG. 8 shows another embodiment of the defective storage section 14 shown in FIG.
Reference numeral 14 in the figure is an embodiment constructed using an associative memory device.

同図において60は連想メモリセル部であり、不良のワ
ード線アドレスを記憶する。また62はワード線不良検
出信号106aのデータ部、64はワード線不良位置信
号106bのデータ部である。以下、簡単に動作を説明
する。
In the figure, 60 is an associative memory cell section which stores a defective word line address. Further, 62 is a data portion of the word line defect detection signal 106a, and 64 is a data portion of the word line defect position signal 106b. The operation will be briefly explained below.

不良アドレスは、連想メモリセル部60に書き込まれた
不良ワード線アドレスが、外部ワード線アドレスと比較
され、一致検出される0次いで一致検出された不良ワー
ド線のワードの内容、すなわちワード線不良検出信号1
06a、ワード線不良位置信号106bのデータ部が出
力され、第1図の入出力切替回路100で不良アドレス
が置換される。
The defective address is determined by comparing the defective word line address written in the associative memory cell unit 60 with the external word line address and detecting a match. signal 1
06a, the data part of the word line defective position signal 106b is output, and the defective address is replaced by the input/output switching circuit 100 of FIG.

一般に連想メモリセル部は1セル当たり8〜10トラン
ジスタ必要であるため1通常メモリセルに比べ2倍以上
とメモリセル占有面積を大きくする0反面、連想メモリ
のワード方向である、すなわち救済可能な本数は救済回
路設計時に任意に設定できるため、メモリ装置として救
済本数が少ない場合は、不良記憶部14をコンパクトに
できる利点がある。このため連想メモリ装置を使用した
本実施例は比較的少数ビットの救済を目的とする小規模
なメモリ装置に好適である。
In general, the associative memory cell section requires 8 to 10 transistors per cell, which increases the area occupied by the memory cell, which is more than twice that of a normal memory cell.However, on the other hand, the number of transistors that can be repaired is limited in the word direction of the associative memory. can be arbitrarily set at the time of designing the repair circuit, so when the number of memory devices to be repaired is small, there is an advantage that the defective storage section 14 can be made compact. Therefore, this embodiment using an associative memory device is suitable for a small-scale memory device whose purpose is to rescue a relatively small number of bits.

なお、上記実施例ではワード線不良の救済を目的として
構成したが、データ線不良の救済も可能である。それは
データ線不良検出信号106c。
Note that although the above embodiment is configured for the purpose of relieving defective word lines, it is also possible to relieve defective data lines. This is the data line defect detection signal 106c.

データ線不良位置信号106dのデータ部を上記ワード
線不良検出信号106a、ワード線不良位置信号106
bのデータ部にそれぞれ追加し、連想メモリセル部をデ
ータ線アドレスに対しても一致検索できるよう拡張する
ことで達成できる。
The data part of the data line defective position signal 106d is converted into the word line defective detection signal 106a and the word line defective position signal 106.
This can be achieved by adding each to the data section of b and expanding the associative memory cell section so that it can also perform a match search for data line addresses.

第9図に本発明を比較的小型のメモリ装置であるメモリ
モジュールに適用した実施例を示す、同図は基板の表側
に主メモリ2を実装し、裏側に主メモリ2と同一構成の
予備メモリを2個、不良記憶部14′に不揮発性メモリ
(例えばEPROM)を1個、さらに入出力切替部1o
O′をチップ化した救済チップを1個、実装した例であ
る。この救済チップは上記不良記憶部14’ (EFR
OM)の内蔵、さらに予備メモリ18.20を内臓する
場合も考えられ、その場合は集積化したことによる基板
上の配線数低減と高速化が期待できる。
FIG. 9 shows an embodiment in which the present invention is applied to a memory module, which is a relatively small memory device. The figure shows a main memory 2 mounted on the front side of the board, and a spare memory having the same configuration as the main memory 2 on the back side. 1 nonvolatile memory (for example, EPROM) in the defective storage section 14', and an input/output switching section 1o.
This is an example in which one relief chip, which is O' chipped, is mounted. This relief chip is the defective memory section 14' (EFR
It is also conceivable that a spare memory (18, 20) may be built in. In that case, it is expected that the number of wirings on the board will be reduced and the speed will be increased due to integration.

以上のように主メモリ2以外の救済に使用するデバイス
は、メモリモジュールの主メモリ実装面裏側のスペース
へ実装するか、または表側の空きエリアに実装して、救
済なしの通常のメモリモジュールと同レベルの形状が実
現できる。
As mentioned above, devices used for relief other than main memory 2 can be mounted in the space behind the main memory mounting surface of the memory module, or in the empty area on the front side, in the same way as normal memory modules without relief. A level shape can be achieved.

以上2本発明の目的は主メモリの不良アドレスを予備メ
モリに置き換える場合、外部アドレスを変換し新しいア
ドレスで予備メモリをアクセスするのではなく、主メモ
リと予備メモリを外部アドレスで同時に活性化し、不良
の入出力信号端子を高速に切替えることにより不良ビッ
トを救済することである。これによりメモリ装置全体の
高速アクセス時間達成と高歩留まりを実現することであ
る。従って、不良記憶部の不良検出信号、不良位置信号
の構成、主メモリ及び予備メモリの入出力信号ビット数
、またSRAM、DRAM等のメモリを限定するもので
はない、また、その他本発明の精神を逸脱すること無く
種々の変形が可能である。
The above two objects of the present invention are that when replacing a defective address in main memory with spare memory, instead of converting the external address and accessing the spare memory with the new address, the main memory and spare memory are simultaneously activated with the external address, The purpose is to repair defective bits by switching the input/output signal terminals of the circuit at high speed. This aims to achieve high-speed access time and high yield for the entire memory device. Therefore, the structure of the defect detection signal and defect position signal of the defective memory section, the number of input/output signal bits of the main memory and spare memory, and memories such as SRAM and DRAM are not limited, and the spirit of the present invention is not limited. Various modifications are possible without deviation.

さらに第5図に示したバッファ回路はワード線不良とデ
ータ線不良の両者の救済を目的とした半導体メモリ装置
に使用する以外に、そのワード線不良もしくはデータ線
不良の一方のみの救済を目的とした半導体メモリ装置に
使用できることは言うまでもない、また連想メモリ装置
を用いた救済方法も第5図のバッファ回路の様なデータ
書き込み機能が必要なことはもちろんである。
Furthermore, the buffer circuit shown in FIG. 5 is not only used in semiconductor memory devices for the purpose of relieving both word line defects and data line defects, but also for the purpose of relieving only either word line defects or data line defects. Needless to say, the present invention can be used in a semiconductor memory device that uses an associative memory device, and it goes without saying that a relief method using an associative memory device also requires a data writing function like the buffer circuit shown in FIG.

〔発明採効果〕[Invention adoption effect]

本発明によれば、メモリシステムの使用中に発生する不
良ビットについても、修正可能であるため装置の稼動率
及び信頼度が向上する。また一部分不良のメモリは、良
品に比べ安価であるから、装置価格を低価格に設定でき
る。さらに9本発明の半導体メモリ装置は予備メモリに
一部分不良のメモリも使用できるので、全て低価格なメ
モリで構成できる。
According to the present invention, defective bits that occur during use of the memory system can also be corrected, thereby improving the operating rate and reliability of the device. Furthermore, since a partially defective memory is cheaper than a good memory, the device price can be set at a lower price. Furthermore, since the semiconductor memory device of the present invention can use partially defective memory as a spare memory, it can be constructed entirely of low-cost memories.

一方1本発明の半導体メモリ装置は主メモリの不良位置
を示す不良記憶部に複数ビット出力形式の一般的な不揮
発性メモリで構成することができ。
On the other hand, the semiconductor memory device of the present invention can be configured with a general non-volatile memory that outputs multiple bits in the defective storage section indicating the defective location of the main memory.

欠陥ビットの救済方法が単純である。またこの救済を実
現するためのハードウェアも、主メモリ。
The method for repairing defective bits is simple. The hardware to achieve this relief is also main memory.

予備メモリ及び不良記憶部を同時に活性化して。Activate the spare memory and defective memory at the same time.

不良記憶部のデータで入出力端子を切替る単純な構成で
あり、かつ不良記憶部は小容量のメモリであるため、高
速アクセス時間を実現できる半導体メモリ装置を提供す
ることができる。さらに本発明の半導体メモリ装置は装
置稼働中においても。
Since the semiconductor memory device has a simple configuration in which the input/output terminals are switched depending on the data in the defective memory section, and the defective memory section is a small-capacity memory, it is possible to provide a semiconductor memory device that can realize high-speed access time. Furthermore, the semiconductor memory device of the present invention can be used even while the device is in operation.

メモリ装置を停止させること無く、外部より不良記憶部
へソフトウェア的に書き込み可能(EFROM書き込み
時間数μs程度)なため、装置の信頼性向上に役立つ。
Since it is possible to write to the defective storage section from outside using software without stopping the memory device (EFROM writing time is about several μs), it is useful for improving the reliability of the device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の半導体メモリ装置の原理を示すための
ブロック図であり、第2図は従来の技術による半導体メ
モリ装置を説明するためのブロック図であり、第3図は
本発明の第2の実施例を説明するためのブロック図であ
り、第4図は第3図に示す不良記憶部を説明するための
状態図であり、第5図、第6図はそれぞれ本発明の他の
実施例の半導体メモリ装置を説明するためのブロック図
であり、第7図は第3図の不良記憶部を不揮発性メモリ
ブロックによって構成した実施例を説明するためのブロ
ック図であり、第8図は第1図の不良記憶部を不揮発性
メモリブロックによる連想メモリ装置によって構成した
実施例を説明するためのブロック図であり、第9図は本
発明の半導体メモリ装置をメモリモジュールに適用した
実施例である。 2・・・主メモリ、4・・・データ線アドレス方向、6
・・・ワード線アドレス方向、8.10・・・ワード線
不良。 8’ 、10’ ・・・ワード線不良と同時に選択され
る良品のワード線、12・・・データ線不良、12′・
・・データ線不良と同時に選択される良品のデータ線。 14.14’・・・不良記憶部、18.20・・・予備
メモリ、  22 ax〜22 a−、22bt〜22
 bn。 22 as〜22 cn−切替スイッチS W t ”
’ S W nの端子、26a、26b、26c、28
a、28b。 28c、28d・・・不良ビット、30・・・ワード線
不良検出信号のデータ部、32・・・ワード線不良位置
信号のデータ部、34・・・データ線不良検出信号のデ
ータ部、36・・・データ線不良位置信号のデータ部、
40・・・主メモリのメモリブロックチップ。 50・・・優先判定回路、60・・・連想メモリセル部
。 62・・・ワード線不良検出信号のデータ部、64・・
・ワード線不良位置信号のデータ部、70・・・制御回
路、72・・・予備メモリ18の制御信号、74・・・
予備メモリ20の制御信号、100,100’・・・入
出力切替回路、102・・・主メモリの入出力信号端子
、104,114・・・予備メモリの入出力信号端子、
106a・・・ワード線不良検出信号、106b・・・
ワード線不良位置信号、106c・・・データ線不良検
出信号、106d・・・データ線不良位置信号、108
・・・外部入出力信号、110・・・外部アドレス信号
、112・・・外部制御信号、120,120’・・・
デコーダ回路、300・・・バッファ回路、302・・
・バッファ回路の入力信号線、304・・・バッファ回
路の出力信号線、Wl、Wk・・・メモリブロックチッ
プの不良ワード線、Di、Dk・・・メモリブロックチ
ップの不良データ線、wl、wk・・・予備ワード線、
di、dk・・・予備データ線、SWI〜SV□s w
t’〜s w、1’・・・入出力端子切替のスイッチ第 ! 凹 猶 2 図 [ワード子和馳じ鮎用予備斥すコ [テニタ咄濱1’fl憑1争1す] ネ 凹 第 記 隼 6 図 第 凹 第 ? 国 第 圀
FIG. 1 is a block diagram for explaining the principle of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram for explaining a conventional semiconductor memory device, and FIG. 3 is a block diagram for explaining the principle of a semiconductor memory device according to the present invention. 2 is a block diagram for explaining the second embodiment, FIG. 4 is a state diagram for explaining the defective storage section shown in FIG. 3, and FIGS. FIG. 7 is a block diagram for explaining the semiconductor memory device of the embodiment, and FIG. 7 is a block diagram for explaining the embodiment in which the defective storage section of FIG. 3 is configured by a nonvolatile memory block; FIG. 9 is a block diagram for explaining an embodiment in which the defective storage section in FIG. 1 is configured by an associative memory device using nonvolatile memory blocks, and FIG. 9 is an embodiment in which the semiconductor memory device of the present invention is applied to a memory module. It is. 2... Main memory, 4... Data line address direction, 6
... Word line address direction, 8.10... Word line defective. 8', 10'...Good word line selected at the same time as word line defect, 12...Data line defect, 12'...
...A good data line is selected at the same time as a defective data line. 14.14'... Defective storage unit, 18.20... Spare memory, 22 ax~22 a-, 22bt~22
bn. 22 as~22 cn-changeover switch SW t”
'S W n terminals, 26a, 26b, 26c, 28
a, 28b. 28c, 28d...Failure bit, 30...Data portion of word line defect detection signal, 32...Data portion of word line defect position signal, 34...Data portion of data line defect detection signal, 36.・Data part of data line defective position signal,
40...Memory block chip of main memory. 50...Priority determination circuit, 60...Associative memory cell section. 62...Data part of word line defect detection signal, 64...
- Data portion of word line defective position signal, 70... Control circuit, 72... Control signal for spare memory 18, 74...
Control signal for the spare memory 20, 100, 100'... input/output switching circuit, 102... input/output signal terminal of the main memory, 104, 114... input/output signal terminal of the spare memory,
106a...Word line defect detection signal, 106b...
Word line defective position signal, 106c... Data line defective detection signal, 106d... Data line defective position signal, 108
...External input/output signal, 110...External address signal, 112...External control signal, 120, 120'...
Decoder circuit, 300... Buffer circuit, 302...
- Input signal line of buffer circuit, 304... Output signal line of buffer circuit, Wl, Wk... Defective word line of memory block chip, Di, Dk... Defective data line of memory block chip, wl, wk ...Spare word line,
di, dk...Spare data line, SWI~SV□s w
t'~s w, 1'... Switch number for switching input/output terminals! Concave position 2 Diagram [Ward child Japanese and Ayu use reserve rejection [Tenita Sakuhama 1'fl possession 1 dispute 1su] Ne concave No. 6 Diagram No. Concave number? national territory

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、半導体メモリ装置であつて: (1)アドレス信号に応答して複数のメモリセルから所
定のメモリセルが選択されるメモリの集合である主メモ
リと、 (2)上記アドレス信号が供給されることにより上記主
メモリの不良を救済するための予備メモリと、 (3)上記アドレス信号が供給されるとともに上記主メ
モリの不良を記憶する不良記憶部と、(4)上記不良記
憶部の情報をもとに主メモリの上記入出力信号端子を上
記第2の予備メモリの入出力信号端子に切替える入出力
切替回路とを具備してなることを特徴とする半導体メモ
リ装置。 2、請求項1記載の半導体メモリ装置であつて、上記主
メモリと上記予備メモリと上記不良記憶部とは上記アド
レス信号によつて並行に動作せしめられることを特徴と
する半導体メモリ装置。 3、請求項1または2記載の半導体メモリ装置であつて
、上記不良記憶部には上記主メモリの不良有無を示す不
良検出信号と上記主メモリの不良位置を示す不良位置信
号とが書き込まれることを特徴とする半導体メモリ装置
。 4、請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体メモリ装
置であつて、上記不良記憶部よりの上記不良検出信号と
上記不良位置信号とによつて上記入出力切替回路の切替
え動作が制御されることを特徴とする半導体メモリ装置
。 5、半導体メモリ装置であつて: (1)複数のメモリセルを有し、ワード線アドレス信号
とデータ線アドレス信号とに応答して該複数のメモリセ
ルから所定のメモリセルが選択されるメモリの集合であ
る複数ビット入出力形式の主メモリと、 (2)上記ワード線アドレス信号と上記データ線アドレ
ス信号とが供給されることにより上記主メモリのワード
線不良を救済するための第1の予備メモリと、 (3)上記ワード線アドレス信号と上記データ線アドレ
ス信号とが供給されることにより上記主メモリのデータ
線不良を救済するための第2の予備メモリと、 (4)上記ワード線アドレス信号と上記データ線アドレ
ス信号とが供給されるとともに上記主メモリのワード線
不良を記憶する第1の不良記憶部と、 (5)上記ワード線アドレス信号と上記データ線アドレ
ス信号とが供給されるとともに上記主メモリのデータ線
不良を記憶する第2の不良記憶部と、 (6)上記第1と第2の不良記憶部の少なくともいずれ
かからの情報をもとに主メモリの入出力信号端子を上記
第1と第2の予備メモリのいずれかの入出力信号端子に
切替える入出力切替回路とを具備してなることを特徴と
する半導体メモリ装置。 6、請求項5記載の半導体メモリ装置であつて、上記主
メモリ、上記第1と第2の予備メモリ、上記第1と第2
の不良記憶部は上記ワード線アドレス信号と上記データ
線アドレス信号によつて並行に動作せしめられることを
特徴とする半導体メモリ装置。 7、請求項5または6記載の半導体メモリ装置であつて
、上記ワード線アドレス信号によつて決定される上記第
1の不良記憶部の複数のアドレスに、上記第1の予備メ
モリの予備ワード線を選択するための上記予備メモリの
入出力信号端子選択用のワード線不良有無を示すワード
線不良検出信号及びその不良主メモリの入出力信号端子
の位置を示すワード線不良位置信号が書き込まれ、上記
データ線アドレス信号によつて決定される上記第2の不
良記憶部の複数のアドレスに、上記第2の予備メモリの
予備データ線を選択するための上記予備メモリの入出力
信号端子選択用のデータ線不良有無を示すデータ線不良
検出信号及びその不良主メモリの入出力信号端子の位置
を示すデータ線不良位置信号が書き込まれることを特徴
とする半導体メモリ装置。 8、請求項7記載の半導体メモリ装置であつて、上記第
1の不良記憶部の出力より上記ワード線不良検出信号及
びワード線不良位置信号が発生される場合に、上記第1
の予備メモリの入出力信号端子を選択し、上記第1の予
備メモリの複数の予備メモリセルから少なくともひとつ
の予備メモリセルが上記ワード線アドレス信号と上記デ
ータ線アドレス信号とに応答して選択され、その結果上
記主メモリのワード線に関する不良が救済され、 上記第2の不良記憶部の出力より上記データ線不良検出
信号及びデータ線不良位置信号が発生される場合に上記
第2の予備メモリの入出力信号端子を選択し、上記第2
の予備メモリの複数の予備メモリセルから少なくともひ
とつの予備メモリセルが上記ワード線アドレス信号と上
記データ線アドレス信号とに応答して選択され、その結
果上記主メモリのデータ線に関する不良が救済されるこ
とを特徴とする半導体メモリ装置。 9、請求項5記載の半導体メモリ装置であつて、主メモ
リのワード線アドレスとデータ線アドレスが同一アドレ
スでかつ同一ビットで救済する場合、ワード線アドレス
を優先的に救済するように構成されていることを特徴と
する半導体メモリ装置。 10、請求項5乃至9にいずれかひとつに記載の半導体
メモリ装置であつて、 上記第1と第2の不良記憶部は複数ビット出力形式の半
導体メモリブロックによつて構成されていることを特徴
とする半導体メモリ装置。 11、請求項5乃至9にいずれかひとつに記載の半導体
メモリ装置であつて、 上記ワード線不良の救済か、データ線不良の救済か、い
ずれか一方の救済を行うように構成されていることを特
徴とする半導体メモリ装置。 12、請求項5乃至9にいずれかひとつに記載の半導体
メモリ装置であつて、 上記第1と第2の不良記憶部が、不良アドレスの一致検
出を行う連想メモリセル部、ワード線不良検出信号及び
ワード線不良位置信号、データ線不良検出信号及びデー
タ線不良位置信号、とから少なくともなる連想メモリ装
置によつて構成されていることを特徴とする半導体メモ
リ装置。 13、請求項8記載の半導体メモリ装置を用いた欠陥救
済方法であつて、 上記ワード線アドレス信号によつて決定される第1の不
良記憶部の複数のアドレスに、上記第1の予備メモリの
入出力信号端子を選択するためのワード線不良検出信号
及びワード線不良位置信号を書き込み、上記データ線ア
ドレス信号によつて決定される上記第2のデータ線不良
の不良記憶部の複数のアドレスに、上記第2の予備メモ
リの入出力信号端子を選択するためのデータ線不良検出
信号及びデータ線不良位置信号を書き込む第1のステッ
プと、 上記ワード線不良の第1の不良記憶部の出力より上記ワ
ード線不良検出信号及びワード線不良位置信号が発生さ
れる場合に、上記第1の予備メモリの複数の予備メモリ
セルから少なくともひとつの予備メモリセルが上記ワー
ド線アドレス信号と上記データ線アドレス信号とに応答
して選択され、その結果上記主メモリのワード線に関す
る不良を救済し、 上記データ線不良の第2の不良記憶部の出力より上記デ
ータ線不良検出信号及びデータ線不良位置信号が発生さ
れる場合に上記第2の予備メモリの複数の予備メモリセ
ルから少なくともひとつの予備メモリセルが上記データ
線アドレス信号と上記ワード線アドレス信号とに応答し
て選択され、その結果上記主メモリのデータ線に関する
不良を救済する第2のステップとを含むことを特徴とす
る欠陥救済方法。 4、請求項13記載の欠陥救済方法であつて、ワード線
アドレスとデータ線アドレスが同一アドレスでかつ同一
ビットで救済する場合、ワード線アドレスを優先的に救
済することを特徴とする欠陥救済方法。 15、請求項13記載の欠陥救済方法であつて、第1と
第2の不良記憶部は複数ビット出力形式の半導体メモリ
ブロックによつて構成されていることを特徴とする欠陥
救済方法。 16、請求項13記載の欠陥救済方法であつて、上記ワ
ード線不良の救済か、データ線不良の救済か、いずれか
一方の救済を行うように構成されていることを特徴とす
る欠陥救済方法。 17、請求項13記載の欠陥救済方法であつて、第1と
第2の不良記憶部は、不良アドレスの一致検出を行う連
想メモリセル部、ワード線不良検出信号及びワード線不
良位置信号、データ線不良検出信号及びデータ線不良位
置信号、とから少なくともなる連想メモリ装置によつて
構成されていることを特徴とする欠陥救済方法。 18、上記第1と第2の不良記憶部が電気で書き込み、
電気で消去できるEEPROM形メモリセルか、または
電気で書き込み、紫外線で消去する EPROM形メモリセルか、フェーズROM形メモリセ
ルか、電池でバックアップされた SRAM形メモリセルか、のいずれかで構成されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の半導体メ
モリ装置。 19、上記第1と第2の不良記憶部の入出力信号端子に
書き込みできるバッファ回路を設けたことを特徴とする
特許請求の範囲第5項記載の半導体メモリ装置。 20、上記第1と第2の予備メモリの書き込み制御信号
をコントロールするため、制御回路を設けたことを特徴
とする特許請求の範囲第5項記載の半導体メモリ装置。 21、請求項5記載の半導体メモリ装置において、該主
メモリの構成用メモリと、該第1と第2の予備メモリが
同一構成のメモリであることを特徴とする半導体メモリ
装置。 22、請求項5の半導体メモリ装置において、該主メモ
リと、該第1と第2の予備メモリと、該第1と第2の不
良記憶部と、該入出力切替回路と、を少なくとも同一半
導体基体上に設けたことを特徴とする半導体メモリ装置
[Claims] 1. A semiconductor memory device comprising: (1) a main memory that is a set of memories in which a predetermined memory cell is selected from a plurality of memory cells in response to an address signal; (2) the above-mentioned memory cell; a spare memory for relieving a defect in the main memory by being supplied with an address signal; (3) a defective memory section to which the address signal is supplied and storing a defect in the main memory; A semiconductor memory device comprising: an input/output switching circuit that switches the input/output signal terminal of the main memory to the input/output signal terminal of the second spare memory based on information of the defective storage section. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the main memory, the spare memory, and the defective storage section are operated in parallel by the address signal. 3. The semiconductor memory device according to claim 1 or 2, wherein a defect detection signal indicating whether or not the main memory is defective and a defective position signal indicating a defective location of the main memory are written in the defective storage section. A semiconductor memory device characterized by: 4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the switching operation of the input/output switching circuit is controlled by the defect detection signal and the defect location signal from the defect storage section. A semiconductor memory device characterized by: 5. A semiconductor memory device: (1) A memory having a plurality of memory cells, in which a predetermined memory cell is selected from the plurality of memory cells in response to a word line address signal and a data line address signal. (2) a first spare memory for relieving a word line defect in the main memory by being supplied with the word line address signal and the data line address signal; (3) a second spare memory for relieving data line defects in the main memory by being supplied with the word line address signal and the data line address signal; (4) the word line address; a first defect storage section to which the signal and the data line address signal are supplied and which stores word line defects of the main memory; (5) to which the word line address signal and the data line address signal are supplied; and (6) input/output signal terminals of the main memory based on information from at least one of the first and second defective storage sections. A semiconductor memory device comprising: an input/output switching circuit for switching the input/output signal terminal to either the input/output signal terminal of the first or second spare memory. 6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the main memory, the first and second spare memories, and the first and second
A semiconductor memory device characterized in that the defective memory section of is operated in parallel by the word line address signal and the data line address signal. 7. The semiconductor memory device according to claim 5 or 6, wherein a spare word line of the first spare memory is connected to a plurality of addresses of the first defective storage section determined by the word line address signal. A word line defect detection signal indicating the presence or absence of a defective word line for selecting an input/output signal terminal of the spare memory for selecting a defective main memory, and a word line defect position signal indicating the position of the input/output signal terminal of the defective main memory are written; A plurality of addresses of the second defective memory section determined by the data line address signal are used to select input/output signal terminals of the spare memory for selecting a spare data line of the second spare memory. A semiconductor memory device characterized in that a data line defect detection signal indicating the presence or absence of a data line defect and a data line defect position signal indicating the position of an input/output signal terminal of the defective main memory are written. 8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein when the word line defect detection signal and the word line defect position signal are generated from the output of the first defect storage section, the first
selects an input/output signal terminal of a spare memory of the first spare memory, and selects at least one spare memory cell from the plurality of spare memory cells of the first spare memory in response to the word line address signal and the data line address signal. As a result, when the defect related to the word line of the main memory is relieved and the data line defect detection signal and the data line defect position signal are generated from the output of the second defect storage section, Select the input/output signal terminal and
At least one spare memory cell is selected from a plurality of spare memory cells of the spare memory in response to the word line address signal and the data line address signal, and as a result, a defect related to the data line of the main memory is relieved. A semiconductor memory device characterized by: 9. In the semiconductor memory device according to claim 5, when the word line address and the data line address of the main memory are the same address and the same bit is to be relieved, the word line address is preferentially rescued. A semiconductor memory device characterized by: 10. The semiconductor memory device according to any one of claims 5 to 9, characterized in that the first and second defective storage sections are constituted by semiconductor memory blocks of multi-bit output format. semiconductor memory device. 11. The semiconductor memory device according to any one of claims 5 to 9, wherein the semiconductor memory device is configured to repair either the word line defect or the data line defect. A semiconductor memory device characterized by: 12. The semiconductor memory device according to any one of claims 5 to 9, wherein the first and second defective memory sections include an associative memory cell section for detecting coincidence of defective addresses, and a word line defect detection signal. A semiconductor memory device comprising an associative memory device comprising at least a word line defective position signal, a data line defective detection signal, and a data line defective position signal. 13. A defect relief method using a semiconductor memory device according to claim 8, wherein a plurality of addresses of the first defective memory section determined by the word line address signal are set in the first spare memory. Write a word line defect detection signal and a word line defect position signal for selecting an input/output signal terminal, and write a word line defect detection signal and a word line defect position signal to a plurality of addresses of the defect storage section of the second data line defect determined by the data line address signal. , a first step of writing a data line defect detection signal and a data line defect position signal for selecting the input/output signal terminal of the second spare memory, and from the output of the first defect storage section of the word line defect. When the word line defect detection signal and the word line defect location signal are generated, at least one spare memory cell from the plurality of spare memory cells of the first spare memory is connected to the word line address signal and the data line address signal. As a result, the defect related to the word line of the main memory is relieved, and the data line defect detection signal and the data line defect location signal are generated from the output of the second defect storage section of the data line defect. In the case where the data in the main memory is selected, at least one spare memory cell is selected from the plurality of spare memory cells of the second spare memory in response to the data line address signal and the word line address signal. and a second step of relieving a defect related to a line. 4. The defect relief method according to claim 13, characterized in that when the word line address and the data line address are the same address and the same bit is to be relieved, the word line address is preferentially relieved. . 15. The defect relief method according to claim 13, wherein the first and second defective memory sections are constituted by semiconductor memory blocks of multi-bit output format. 16. The defect relief method according to claim 13, characterized in that the defect relief method is configured to relieve either the word line defect or the data line defect. . 17. The defect relief method according to claim 13, wherein the first and second defective memory sections include an associative memory cell section for detecting coincidence of defective addresses, a word line defect detection signal, a word line defect position signal, and data. 1. A defect relief method comprising an associative memory device comprising at least a line defect detection signal and a data line defect position signal. 18. The first and second defective memory sections are electrically written,
It consists of either EEPROM type memory cells that can be electrically erased, EPROM type memory cells that can be written to electrically and erased using ultraviolet light, phase ROM type memory cells, or SRAM type memory cells that are backed up by batteries. 6. A semiconductor memory device according to claim 5, characterized in that: 19. The semiconductor memory device according to claim 5, further comprising a buffer circuit capable of writing to input/output signal terminals of the first and second defective storage sections. 20. The semiconductor memory device according to claim 5, further comprising a control circuit for controlling write control signals for the first and second spare memories. 21. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the configuration memory of the main memory and the first and second spare memories have the same configuration. 22. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the main memory, the first and second spare memories, the first and second defective storage sections, and the input/output switching circuit are made of at least the same semiconductor. A semiconductor memory device characterized in that it is provided on a base.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008181634A (en) * 2006-12-26 2008-08-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device
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