JPH03142917A - マーク位置検出チェック方法 - Google Patents

マーク位置検出チェック方法

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JPH03142917A
JPH03142917A JP1282440A JP28244089A JPH03142917A JP H03142917 A JPH03142917 A JP H03142917A JP 1282440 A JP1282440 A JP 1282440A JP 28244089 A JP28244089 A JP 28244089A JP H03142917 A JPH03142917 A JP H03142917A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mark
scanning
electron beam
screen
displayed
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Pending
Application number
JP1282440A
Other languages
English (en)
Inventor
Ichiro Kawamura
一郎 河村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Filing date
Publication date
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  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はマーク位置検出が正しく行えたかどうかチェッ
クするマーク位置検出チェック方法に関する。
(従来の技術) 電子ビームを使って材料上にパターンを描く等、荷電粒
子線を使って被加工材料に加工を行う場合、荷電粒子線
の加工位置は波加工材料上に設けられたマーク位置を基
準にして設定されているので、加工前には必ずマーク位
置検出を行う必要がある。
第4図はマーク位置検出を行う一例として示した走査電
子ビーム装置の概略図であり、1は電子銃、2は集束レ
ンズ、3はX方向走査用偏向器、4は材料、5はステー
ジ、6は制御装置、7はX方向走査信号発生器、8はD
A変換器、9はアンプ、10は2次電子検出器、11は
アンプ、12、はブラウン管、工3は微分回路、14は
カウンタ、15はマーク位置演算回路、16はクロック
信号発生器である。先ず制御装置6の命令によりX方向
走査信号発生器7から、DA変換器8、アンプ9を介し
てX方向走査用偏向器3に、電子銃1から射出された電
子ビームで材料4上に形成されたマーク上をX方向に走
査する様な信号(第5図参照)が供給される。該信号の
供給により電子ビームによって走査された材料4から発
生した2次電子は2次電子検出器10に検出され、アン
プ11を介して微分回路13に供給される。第6図(a
)は検出された2次電子信号波形で、該波形中、点Aは
電子ビームがマークの一方のエツジを走査し始めた時点
、点Bは他方のエツジを走査し始めた時点を示す。又、
第6図(b)は該検出信号波形を微分した信号の波形で
ある。又、カウンタ14は、前記DA変換器8によって
アナログ信号に変換されたステップ状X方向走査信号の
各ステップに同期してカウント動作するもので、前記制
御装置6の命令により、電子ビームの走査開始と同時に
カウントを開始する。又該カウント14は、前記微分回
路13から予め定められた所定以上のレベルの信号が送
られて来た時に、それまでのカウント値をマーク位置演
算回路15に送る。従って、電子ビームがマークの一方
のエツジを走査し始めた時のカウント値と、他方のエツ
ジを走査し始めた時のカウント値をマーク位置演算回路
15に供給する。該各カウント値は、第6図(b)に示
す走査開始位置Sからマークの各エツジまでの距離X、
 、X、に対応しており、該マーク位置演算回路15は
値XI、X2に基づき、マークのX方向位置X0を求め
る計算を行う。尚該値X、は式(1)により求められる
Xo =X+ + (X2−Xl)/2−・−−−−−
式(1)尚、説明の便宜上、Y方向走査用偏向系を第4
図では省略したが、電子ビームでマーク上をY方向に走
査し上記の様な操作を行うことにより、マークのY方向
位置Yoが求められる。
さて、該マーク位置(Xo 、 Yo )を求める際に
何らかの誤動作(例えばマーク位置検出システムを動か
す為のパラメータが間違っていた)の為、該検出された
マーク位置が正しくない場合がある。
その為、該マーク位置検出が正しいものか否かチェック
する必要がある。
そこで先ず、前記求めたマーク中心位置(Xo。
Yo)を中心にX方向(及びY方向に一定幅材料4上を
電子ビームで走査する。この時、ブラウン管12の水平
方向偏向器Hには、前記X方向走査信号に同期したX方
向走査信号を供給し、垂直方向偏向器Vには材料4から
放出された2次電子に基づく信号が供給されている。
その結果ブラウン管12の画面上には、第7図に示すよ
うなマークの垂直断面の外形波形が表示される。該波形
は、最初に検出したマーク位置を中心にX方向(及びY
方向)に一定幅材料上を電子ビームを走査する事により
得られたものなので、該マーク位置検出が誤動作なく行
われれば画面の中心に表示されるはずである。そこで、
オペレーターは肉眼にて該マーク波形が画面の中心にあ
るか否かをチェックする。
(発明が解決しようとする課題) しかし前記したマーク位置検出チェック方法によれば、
画面に表示されたマーク波形が肉眼で見て、中心から大
きくずれて表示されている場合は容易に検証できるが、
該画面の中心位置から微妙にずれている場合はチェック
しにくい。
本発明はこの様な問題を解決する事を目的としたマーク
位置検出チェック方法に関する。
(課題を解決する為の手段) その為に本発明のマーク位置検出チェック方法は、荷電
粒子ビームで材料上に形成されたマーク上を走査し、該
走査により該マークの両エツジ部から発生した荷電粒子
信号に基づいて該両エツジ部の中心位置を求め、該中心
位置を中心にして両側に一定幅で前記マーク上を前記荷
電粒子ビームで往復走査し、該走査により該マークから
発生した荷電粒子信号を表示装置の水平方向偏向器若し
くは垂直方向偏向器に供給すると共に、前記往走査及び
復走査のいずれにも同期して、該表示装置画面上を電子
ビームで一方向のみ走査するようにし、該表示装置画面
上にマークの波形像を表示するようにした事を特徴とし
たものである。
(実施例) 第1図は本発明の一マーク位置検出チェック方法を行う
例を示した走査電子ビーム装置の概略図である。第1図
において第4図で用いられた番号と同一番号を付したも
のは同一の構成要素である。
図中17は前記第5図に示した様な波形の信号を発生す
る一方向走査信号発生器、18は第2図に示すような波
形の信号を発生する往復走査信号発生器である。
先ず前記した様に、制御装置6の指令により、X方向走
査信号発生器7からX方向走査用偏向器3に第5図に示
すごときX方向走査信号を供給することにより、電子ビ
ームでマーク上をX方向に走査して、マークのX方向の
位置X。を求め、次に同様にY方向走査信号発生器(図
示せず)からY方向走査用偏向器(図示せず)にY方向
走査信号を供給することにより、電子ビームでマーク上
をY方向に走査してマークのY方向の位置Y0を求める
。モして該求めたマーク位置(X o%Yo)を中心に
、電子ビームで材料4上を一定幅往復走査させる。即ち
、Xoを中心にX。+p、x、−Pの間で増減する往復
走査信号(第2図参照)をX方向走査信号発生器18か
らDA変換器8、アンプ9を介してX方向往復走査用偏
向器3に供給する。前記往復走査信号発生器18の発生
する往復走査信号(第2図参照)に同期した前記第4図
に示す如き一方向走査信号(第4図参照)をブラウン管
12の水平方向偏向器Hに供給し、電子ビームで該ブラ
ウン管画面上を一方向に走査する。
前記電子ビームの材料上での往復走査により該材料4か
らは2次電子が発生するが、該2次電子に基づく信号は
前記ブラウン管12に供給される。
そして、ブラウン管12の画面上には、電子ビームの材
料上の往復走査の内、往の走査に基づくマークの波形が
表示され、続いて復の走査に基づくマークの波形が表示
される。該材料上での往復走査及び画面上での一方向走
査は高速に行われているので、ブラウン管12の画面上
には残像効果により、往の走査によるマーク波形と復の
走査によるマーク波形が重なって表示される。この時、
一番最近の過程で検出したマーク位置(XO,Y。)が
正しいものであれば、該2つのマーク波形はずれること
なく重なり(第3図(a)) 、正しくなければ該2つ
のマーク波形はずれる(第3図(b))。この様な重な
り及びずれは、肉眼にて容易に確かめられる。
尚、往、復各走査によるマーク位置A、Bを求め、これ
らと走査範囲Cとからマーク波形のずれA−(C−B)
を求め、このずれが許容範囲りより小さければ(−D≦
A−(C−B)≦D)、正しいマーク位置が検出された
と自動的に判断する様にしてもよい。
(発明の効果) 本発明は荷電粒子ビームで材料上に形成されたマーク上
を走査し、該走査により該マークの両エツジ部から発生
した荷電粒子信号に基づいてマークの中心位置を求め、
該中心位置を中心にして両側に一定幅で前記マーク上を
前記荷電粒子ビームで往復走査し、該走査により該マー
クから発生した荷電粒子信号を表示装置の水平方向偏向
器若しくは垂直方向偏向器に供給すると共に、前記往走
査及び復走査のいずれにも同期して、該表示装置画面上
を電子ビームで一方向のみ走査するようにし、該表示装
置画面上にマークの波形像を表示するようにしたので、
微妙な波形の重なりのずれも目で見る事により簡単にチ
ェックでき正しいマーク位置検出の検証が行える。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示した走査電子ビーム装置
の概略図、第2図は本発明で電子ビームを往復走査させ
る往復走査信号を表した図、第3図はブラウン管に表示
される本発明のマーク検出形の例を表した図、第4図は
従来のマーク位置検出検証方法を説明する為に使用した
電子ビーム描画装置の概略図、第5図は電子ビームの一
方向走査信号を表した図、第6図(a)は2次電子の時
間に対する変化量を表した図で第6図(b)は該変化量
を微分した図、第7図はブラウン管に表示されるマーク
の垂直断面の外形波形の像を表した図である。 1・・・・・・電子銃 2・・・・・・集束レンズ 3・・・・・・X方向走査用偏向器 4・・・・・・材料 5・・・・・・ステージ 6・・・・・・制御装置 7・・・・・・X方向走査信号発生器 8・・・・・・DA変換器 9・・・・・・アンプ 0・・・・・・2次電子検出器 1・・・・・・アンプ 2・・・・・・ブラウン管 3・・・・・・微分回路 4・・・・・・カウンタ 5・・・・・・マーク位置演算回路 6・・・・・・クロック信号発生器 7・・・・・・一方向走査信号発生器 8・・・・・・往復走査信号発生器

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)荷電粒子ビームで材料上に形成されたマーク上を
    走査し、該走査により該マークの両エッジ部から発生し
    た荷電粒子信号に基づいて該両エッジ部の中心位置を求
    め、該中心位置を中心にして両側に一定幅で前記マーク
    上を前記荷電粒子ビームで往復走査し、該走査により該
    マークから発生した荷電粒子信号を表示装置の水平方向
    偏向器若しくは垂直方向偏向器に供給すると共に、前記
    往走査及び復走査のいずれにも同期して、該表示装置画
    面上を電子ビームで一方向のみ走査するようにし、該表
    示装置画面上にマークの波形像を表示するようにしたマ
    ーク位置検出チェック方法。
  2. (2)前記往復走査により前記表示装置上に表示される
    マークの各波形像のずれが許容範囲に有るか否かチェッ
    クする様にした請求項1に記載のマーク位置検出チェッ
    ク方法。
JP1282440A 1989-10-30 1989-10-30 マーク位置検出チェック方法 Pending JPH03142917A (ja)

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