JPH03140805A - 広域走査トンネル顕微鏡 - Google Patents
広域走査トンネル顕微鏡Info
- Publication number
- JPH03140805A JPH03140805A JP27704189A JP27704189A JPH03140805A JP H03140805 A JPH03140805 A JP H03140805A JP 27704189 A JP27704189 A JP 27704189A JP 27704189 A JP27704189 A JP 27704189A JP H03140805 A JPH03140805 A JP H03140805A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- probe
- probes
- scanning
- sample
- wide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 114
- 238000004574 scanning tunneling microscopy Methods 0.000 description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 241000256247 Spodoptera exigua Species 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 210000000936 intestine Anatomy 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は走査トンネル顕微鏡に関する。
[従来の技術]
走査トンネル顕微鏡(STM)は、導電性の試料表面に
先端の鋭い金属探針をIOA程度の距離にまで近接させ
、探針と試料との間に電圧を印加したときに生じるトン
ネル電流が、探針先端と試料表面との距離に指数函数的
に依存することを利用して試料表面の状態を測定する装
置である。STMでは、探針を試料表面上でその面内の
2方向に走査し、その際、各走査点で生じるトンネル電
流の変化から試料表面の凹凸像等を原子的分解能で得る
ことができる。
先端の鋭い金属探針をIOA程度の距離にまで近接させ
、探針と試料との間に電圧を印加したときに生じるトン
ネル電流が、探針先端と試料表面との距離に指数函数的
に依存することを利用して試料表面の状態を測定する装
置である。STMでは、探針を試料表面上でその面内の
2方向に走査し、その際、各走査点で生じるトンネル電
流の変化から試料表面の凹凸像等を原子的分解能で得る
ことができる。
従来のSTMの測定部(37Mユニット)を第8図を参
照して説明する。従来の37Mユニットは試料ホルダー
81.探針82.探針走査機構83および探針82を試
料84に近接させる探針近接機構85からなっている。
照して説明する。従来の37Mユニットは試料ホルダー
81.探針82.探針走査機構83および探針82を試
料84に近接させる探針近接機構85からなっている。
探針走査機構83としては、角柱型ピエゾ素子を3本組
み合わせたトライボッドや1円筒形ピエゾ素子を利用し
たチューブスキャナー等が使用され、探針近接機構85
としては、マイクロメータヘッド、ステッピングモータ
、インチワーム等を利用したものが良く使われている。
み合わせたトライボッドや1円筒形ピエゾ素子を利用し
たチューブスキャナー等が使用され、探針近接機構85
としては、マイクロメータヘッド、ステッピングモータ
、インチワーム等を利用したものが良く使われている。
第8図では探針走査機構83としてチューブスキャナー
を、探針近接機構85としてインチワームを使った例を
示した。
を、探針近接機構85としてインチワームを使った例を
示した。
この87Mユニットを使用しての測定の手順は。
まず探針82と試料84との間に所定の電圧を印加し1
インチワーム85を利用して、探針82と試料84とを
徐々に接近させ、所望のトンネル電流が流れたところで
停止する。次に、探針82をチューブスキャナー83に
より試料84の面内方向に走査させ、トンネル電流が一
定になるように探針82と試料84の距離を制御すべく
チューブスキャナー83にかけるフィードバック電圧の
値を、またはフィードバックをかけずにトンネル電流の
値そのものを、走査に対応させて画像表示すれば、試料
84表面の凹凸像等が得られる。このようなSTMの倍
率は108倍にも達する。
インチワーム85を利用して、探針82と試料84とを
徐々に接近させ、所望のトンネル電流が流れたところで
停止する。次に、探針82をチューブスキャナー83に
より試料84の面内方向に走査させ、トンネル電流が一
定になるように探針82と試料84の距離を制御すべく
チューブスキャナー83にかけるフィードバック電圧の
値を、またはフィードバックをかけずにトンネル電流の
値そのものを、走査に対応させて画像表示すれば、試料
84表面の凹凸像等が得られる。このようなSTMの倍
率は108倍にも達する。
ところで、上記探針走査横83を用いた87Mユニット
では、その走査領域が比較的大きく取れるチューブスキ
ャナでも2μ1lX2μIl〜10μm×10μ■程度
と狭い。従って、STMで、試料表面の特定の場所を観
察する場合、その場所を探すことが非常に困難であった
。また、STMで低倍率、例えば100倍での観察を行
うと、その走査範囲が限界から1 mm X 1 mm
程度の像しか得られず、走査電子顕微鏡のように数十倍
の低倍率から105倍の高倍率まで連続的に観察するこ
とは実際は出来なかった。
では、その走査領域が比較的大きく取れるチューブスキ
ャナでも2μ1lX2μIl〜10μm×10μ■程度
と狭い。従って、STMで、試料表面の特定の場所を観
察する場合、その場所を探すことが非常に困難であった
。また、STMで低倍率、例えば100倍での観察を行
うと、その走査範囲が限界から1 mm X 1 mm
程度の像しか得られず、走査電子顕微鏡のように数十倍
の低倍率から105倍の高倍率まで連続的に観察するこ
とは実際は出来なかった。
そこで、従来は、STMと走査電子顕微鏡、又は光学顕
微鏡を組み合わせて、低倍率から高倍率の観測を可能に
したり、試料ホルダーもしくは。
微鏡を組み合わせて、低倍率から高倍率の観測を可能に
したり、試料ホルダーもしくは。
探針に別に2次元方向への移動機構を設けて、広範囲に
渡る観測を可能にしている。
渡る観測を可能にしている。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、従来のSTMと走査電子顕微鏡。
又は光学顕微鏡を組み合わせたものでは、STMが観察
している領域と、走査電子顕微鏡又は光学顕微鏡が観察
している領域とを高精度で一致させることは困難である
という問題点がある。
している領域と、走査電子顕微鏡又は光学顕微鏡が観察
している領域とを高精度で一致させることは困難である
という問題点がある。
また、試料ホルダー、もしくは探針に移動機構を設ける
と87Mユニットが大型化し、その結果、分解能が低下
するという問題点がある。また、この構成では、狭い頻
回を順次観察していかなければならず、広範囲を観察す
るのには時間がかかるという問題点がある。
と87Mユニットが大型化し、その結果、分解能が低下
するという問題点がある。また、この構成では、狭い頻
回を順次観察していかなければならず、広範囲を観察す
るのには時間がかかるという問題点がある。
本発明は、87Mユニットを大型化すること無く、観察
領域が広く、低倍率から高倍率まで変化させての観察が
できるSTMを提供することを目的とする。
領域が広く、低倍率から高倍率まで変化させての観察が
できるSTMを提供することを目的とする。
[実施例]
以下に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図に本発明の一実施例の87Mユニットに使用され
る探針モジュールの部分概略図を示す。
る探針モジュールの部分概略図を示す。
第1図に示すようにこの87Mユニットは、複数の探針
11と、複数の探針11のそれぞれをZ軸方向に微動さ
せることができるピエゾ素子12とが探針走査機構であ
るスキャナー13上に設けられている。
11と、複数の探針11のそれぞれをZ軸方向に微動さ
せることができるピエゾ素子12とが探針走査機構であ
るスキャナー13上に設けられている。
探針11同士の間隔P 、P は 、第2図に示y
すように各探針の走査領域がわずかに重なり合うように
する。即ちスキャナー13のX方向への可動距離をa
、X方向への可動距離をa としてy a>P、a>P となるようにする。このx
x y yようにして
nXm個の探針11を設けた場合、全ての探針11で観
察できる範囲は。
する。即ちスキャナー13のX方向への可動距離をa
、X方向への可動距離をa としてy a>P、a>P となるようにする。このx
x y yようにして
nXm個の探針11を設けた場合、全ての探針11で観
察できる範囲は。
((n−1)P +a l X ((m−1)P
+aylx x
yとなる。即ち、探針が1本の場合に比べ
約n”m倍の面積が観察できる。
+aylx x
yとなる。即ち、探針が1本の場合に比べ
約n”m倍の面積が観察できる。
以下、探針が4本の場合について第3図乃至第7図を参
照して具体的に説明する。
照して具体的に説明する。
この場合の87Mユニットは、第3図に示すように、従
来と同じ大きさのチューブスキャナー31(外形9.0
mm、内径8.0mm、長さ15++n+)と。
来と同じ大きさのチューブスキャナー31(外形9.0
mm、内径8.0mm、長さ15++n+)と。
チューブスキャナー31の先端に取り付けられ。
探針11を有する探針モジュー・ル32.探針近傍機構
としてインチワーム33.及び試料ホルダー34、を有
している。 上記チューブスキャナー31はPZT (
ジルコン酸チタン酸塩)の焼結体で、x−y平面内での
可動距離は±150Vの電圧を印加した場合でX方向、
X方向共に8.5μmであり、2方向の変位量は最大2
μlである。
としてインチワーム33.及び試料ホルダー34、を有
している。 上記チューブスキャナー31はPZT (
ジルコン酸チタン酸塩)の焼結体で、x−y平面内での
可動距離は±150Vの電圧を印加した場合でX方向、
X方向共に8.5μmであり、2方向の変位量は最大2
μlである。
4本の探針35は、3.2μmの間隔をおいて2X2の
形に配置されている。従って、このSTMユニットでは
チューブスキャナー31の可動範囲とこの探針11の間
隔とを合せて6.7μs X 8.7μmの領域が観
察可能となる。
形に配置されている。従って、このSTMユニットでは
チューブスキャナー31の可動範囲とこの探針11の間
隔とを合せて6.7μs X 8.7μmの領域が観
察可能となる。
探針モジュール32の拡大図を第4図(a)及び(b)
に示す。この探針モジュール32は、アルミ基板(6+
am86m+*X 1++n) 41上にSiO2薄膜
(厚さ 0.5μm)42. P Z T薄膜(10μ
m厚)43.アルミ薄膜(0,8μ−厚)44,5L0
2薄膜(0,5μ■厚)45.及びアルミ薄膜(0,3
μ■厚)46を積層した後、エツチングによって探針微
動手段であるピエゾ素子12を形成している。なお、ア
ルミ薄膜46は探針にトンネル電流を流すための電極で
あり、アルミ薄膜46はピエゾ素子を変化させるための
電圧印加用電極である。このピエゾ素子12は0.6n
s/Vで変位し。
に示す。この探針モジュール32は、アルミ基板(6+
am86m+*X 1++n) 41上にSiO2薄膜
(厚さ 0.5μm)42. P Z T薄膜(10μ
m厚)43.アルミ薄膜(0,8μ−厚)44,5L0
2薄膜(0,5μ■厚)45.及びアルミ薄膜(0,3
μ■厚)46を積層した後、エツチングによって探針微
動手段であるピエゾ素子12を形成している。なお、ア
ルミ薄膜46は探針にトンネル電流を流すための電極で
あり、アルミ薄膜46はピエゾ素子を変化させるための
電圧印加用電極である。このピエゾ素子12は0.6n
s/Vで変位し。
±10vの電圧によって最大12mmの変位が可能であ
る。
る。
ピエゾ素子12上に設けられた探針11は、走査電子顕
微鏡を利用し、 E B D (Electron B
eamDeposltion)法により作製した。詳述
すれば、3X 10−5torrの真空中で30 Ke
Vの電子線(エミッション電流100μA)を集束させ
て、ピエゾ素子12の先端の中心に5分間照射すること
により長さ2μ■、直径100 mmの探針11を得る
ことができる。これを4回繰り返して4本の探針11を
形成した。
微鏡を利用し、 E B D (Electron B
eamDeposltion)法により作製した。詳述
すれば、3X 10−5torrの真空中で30 Ke
Vの電子線(エミッション電流100μA)を集束させ
て、ピエゾ素子12の先端の中心に5分間照射すること
により長さ2μ■、直径100 mmの探針11を得る
ことができる。これを4回繰り返して4本の探針11を
形成した。
各ピエゾ素子にそれぞれ電圧を印加するために。
アルミ薄膜を蒸着し、パターニングを施して、配線用ア
ルミ薄膜47を形成した。
ルミ薄膜47を形成した。
基板41の探針が設けられた面と反対側の面には、第5
図に示すようにチューブピエゾ(長さ3龍、外形2鰭、
内径1+am)51が3本取り付けられており、探針モ
ジュール32と試料表面との平行度を制御できるように
しである。
図に示すようにチューブピエゾ(長さ3龍、外形2鰭、
内径1+am)51が3本取り付けられており、探針モ
ジュール32と試料表面との平行度を制御できるように
しである。
各ピエゾ素子12の電極44.46間には第6図に示す
ように増幅器61とサーボ回路62とが接続されている
。この増幅器61とサーボ回路62は探針11に流れる
トンネル電流1tn*を検出し。
ように増幅器61とサーボ回路62とが接続されている
。この増幅器61とサーボ回路62は探針11に流れる
トンネル電流1tn*を検出し。
トンネル電流1tnmが一定になるように、電圧Vzr
+g+を調整して探針11と試料との距離を調整するよ
うになっている。
+g+を調整して探針11と試料との距離を調整するよ
うになっている。
以下、この広域走査トンネル顕微鏡の使用法について説
明する。
明する。
まず、探針11の全てにそれぞれ、約50mVのトンネ
ル電流用のトンネル電圧を印加する。次に。
ル電流用のトンネル電圧を印加する。次に。
各探針11に流れる電流をモニターしながらインチワー
ム33を用いて探針モジュール32を試料に接近させる
。いずれかの探針11に流れるトンネル電流が所定値1
例えば1nAになったところでインチワーム32を停止
させる。
ム33を用いて探針モジュール32を試料に接近させる
。いずれかの探針11に流れるトンネル電流が所定値1
例えば1nAになったところでインチワーム32を停止
させる。
できるだけ全ての探針11に流れるトンネル電流が等し
く、即ち、1nAになるように、平行度調節用の3本の
ピエゾ素子51を調節する。
く、即ち、1nAになるように、平行度調節用の3本の
ピエゾ素子51を調節する。
調節後、全ての探針11それぞれにフィードバックをか
けてそれぞれの探針11に流れるトンネル電流が一定の
値を保つようにする。
けてそれぞれの探針11に流れるトンネル電流が一定の
値を保つようにする。
次にチューブスキャナー31を操作してxy平面を走査
する。これによって、全ての探針11を同時に同方向へ
走査することができる。
する。これによって、全ての探針11を同時に同方向へ
走査することができる。
走査しながら、第7図に示すようにトンネル電流値1t
rvと、トンネル電流を一定に保つためのフィードバッ
ク電圧Vznmを副CPU71に入力し。
rvと、トンネル電流を一定に保つためのフィードバッ
ク電圧Vznmを副CPU71に入力し。
その電流、電圧の変化から試料の凹凸を示す凹凸信号を
得る。それぞれの副CPU71で得た凹凸信号は、主C
PU72に入力され+XYスキャニング信号と合せて画
像信号に変換された上で合成されて9画面73に表示さ
れる。これで例えば。
得る。それぞれの副CPU71で得た凹凸信号は、主C
PU72に入力され+XYスキャニング信号と合せて画
像信号に変換された上で合成されて9画面73に表示さ
れる。これで例えば。
インチワームが3.5μm×3.5μ腸の領域を走査す
るならば、4本の探針で8.7μlX 8.7μ−の領
域のSTM画像が得られる。
るならば、4本の探針で8.7μlX 8.7μ−の領
域のSTM画像が得られる。
このように本実施例のSTMユニットを用いれば、従来
と同じ大きさで、探針が1本の場合に比べ約4倍の範囲
を走査できる。これによってその最低倍率を約1/4に
することができる。即ち。
と同じ大きさで、探針が1本の場合に比べ約4倍の範囲
を走査できる。これによってその最低倍率を約1/4に
することができる。即ち。
探針の数を増すことによって更に広範囲にわたって走査
することができ、その最低倍率も下げることができる。
することができ、その最低倍率も下げることができる。
なお、複数の探針のうちいずれか1本からの信号を画像
表示すれば従来と全く同じ最高倍率の造が得られる。
表示すれば従来と全く同じ最高倍率の造が得られる。
[発明の効果]
本発明によれば、複数の探針とこれら探針を独立してZ
軸方向に微動させることが可能な探針微動手段と、これ
ら複数の探針を探針微動手段と共にxy平面内で同時に
同方向へ走査させる探針走査機構を有することで87M
ユニットを大型化すること無く、観察領域が広く、低倍
率から高倍率まで変化させて観察することができる。
軸方向に微動させることが可能な探針微動手段と、これ
ら複数の探針を探針微動手段と共にxy平面内で同時に
同方向へ走査させる探針走査機構を有することで87M
ユニットを大型化すること無く、観察領域が広く、低倍
率から高倍率まで変化させて観察することができる。
第1図(a)及び(b)は本発明の一実施例の探針モジ
ュールの部分概略図で(a)は平面図。 (b)はAA’線断面図、第2図は隣接する探針の走査
範囲を説明するための図、第3図は本発明の87Mユニ
ットの概略図、第4図(a)及び(b)は4本の探針を
有する探針モジュールを示し、(a)は平面図、(b)
はBB’線断面図。 第5図は基板を支持するチューブピエゾを説明するため
の図で(a)は側面図、(b)はCC′線断面図、第6
図は探針をZ方向に微動させる回路を示す回路図、第7
図は画像表示を行うデータ処理システムのブロック図、
第8図は従来の87Mユニットの側面図である。 11・・・探針、12・・・ピエゾ素子、13・・・ス
キャナー、31・・・チューブスキャナー、32・・・
探針モジュール、3・・・インチワーム、33・・・試
料台。 41・・・基板、42.45・・・SiO2薄膜、43
・・・PZT薄膜、44.46・・・アルミ薄膜、51
・・・チューブピエゾ、61・・・増幅器、62・・・
サーボ回路。 71・・・副CPU、72・・・主CPU、73・・・
画面。 81・・・試料台、82・・・探針、83・・・チュー
ブスキャナー、84・・・試料、85・・・インチワー
ム。 1 2 U(す 第8図 30
ュールの部分概略図で(a)は平面図。 (b)はAA’線断面図、第2図は隣接する探針の走査
範囲を説明するための図、第3図は本発明の87Mユニ
ットの概略図、第4図(a)及び(b)は4本の探針を
有する探針モジュールを示し、(a)は平面図、(b)
はBB’線断面図。 第5図は基板を支持するチューブピエゾを説明するため
の図で(a)は側面図、(b)はCC′線断面図、第6
図は探針をZ方向に微動させる回路を示す回路図、第7
図は画像表示を行うデータ処理システムのブロック図、
第8図は従来の87Mユニットの側面図である。 11・・・探針、12・・・ピエゾ素子、13・・・ス
キャナー、31・・・チューブスキャナー、32・・・
探針モジュール、3・・・インチワーム、33・・・試
料台。 41・・・基板、42.45・・・SiO2薄膜、43
・・・PZT薄膜、44.46・・・アルミ薄膜、51
・・・チューブピエゾ、61・・・増幅器、62・・・
サーボ回路。 71・・・副CPU、72・・・主CPU、73・・・
画面。 81・・・試料台、82・・・探針、83・・・チュー
ブスキャナー、84・・・試料、85・・・インチワー
ム。 1 2 U(す 第8図 30
Claims (1)
- 1、複数の探針と、該複数の探針のそれぞれを独立して
Z軸方向に微動させることが可能な複数の探針微動手段
と、これら複数の探針を探針微動手段と共にxy平面内
で同時に同一方向へ走査させる探針走査機構とを有する
ことを特徴とする広域走査トンネル顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27704189A JPH03140805A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 広域走査トンネル顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27704189A JPH03140805A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 広域走査トンネル顕微鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03140805A true JPH03140805A (ja) | 1991-06-14 |
Family
ID=17577959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27704189A Pending JPH03140805A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 広域走査トンネル顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03140805A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02176405A (ja) * | 1987-09-24 | 1990-07-09 | Canon Inc | 微小プローグ及びその製造方法 |
JPH02243908A (ja) * | 1988-11-09 | 1990-09-28 | Canon Inc | プローブユニット,該プローブの駆動方法及び該プローブユニットを備えた走査型トンネル電流検知装置 |
-
1989
- 1989-10-26 JP JP27704189A patent/JPH03140805A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02176405A (ja) * | 1987-09-24 | 1990-07-09 | Canon Inc | 微小プローグ及びその製造方法 |
JPH02243908A (ja) * | 1988-11-09 | 1990-09-28 | Canon Inc | プローブユニット,該プローブの駆動方法及び該プローブユニットを備えた走査型トンネル電流検知装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4914293A (en) | Microscope apparatus | |
DE69309318T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Beobachten einer Fläche | |
JP2574942B2 (ja) | 電気的探針 | |
JPH0212381B2 (ja) | ||
JPH03140805A (ja) | 広域走査トンネル顕微鏡 | |
KR920005446B1 (ko) | 현미경 장치 | |
JPH03122514A (ja) | 表面観察装置 | |
JPH02271204A (ja) | 試料移動テーブル | |
JP2691460B2 (ja) | トンネル電流検出装置 | |
JP3892184B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
JPH07134133A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
JPH02243907A (ja) | 圧電素子駆動型探針およびその駆動方法 | |
JPH0293304A (ja) | 顕微鏡装置 | |
JPH02262001A (ja) | 圧電素子駆動型探針装置およびその駆動方法 | |
JP2624008B2 (ja) | 走査型トンネル顕微鏡 | |
JPH0225702A (ja) | 走査型トンネルマイクロスコープ並びに走査型トンネルスペクトロスコープ | |
JP4448508B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
JPH0625642B2 (ja) | 走査型トンネル顕微鏡装置 | |
JPH0783651A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
JPH06281445A (ja) | スキャナーシステム | |
TWI582429B (zh) | 原子力顯微鏡掃描方法 | |
JP2962612B2 (ja) | 走査顕微鏡 | |
JPH0458102A (ja) | 光学式顕微鏡付走査型トンネル顕微鏡とその探針の位置合わせ方法 | |
JPH05946B2 (ja) | ||
JPH0771913A (ja) | 微動装置及び走査型プローブ顕微鏡 |