JPH0313113A - Magnetostatic wave device - Google Patents

Magnetostatic wave device

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JPH0313113A
JPH0313113A JP14890889A JP14890889A JPH0313113A JP H0313113 A JPH0313113 A JP H0313113A JP 14890889 A JP14890889 A JP 14890889A JP 14890889 A JP14890889 A JP 14890889A JP H0313113 A JPH0313113 A JP H0313113A
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理 伊形
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Abstract

PURPOSE:To enlarge the range of a frequency, which can be tuned, by widening the width of an input/output electrode gradually toward a tip in a lengthwise direction. CONSTITUTION:An input electrode 1 and an output electrode 2 are provided to be arranged closely to the surface of a magnetic film 4. The input and output electrode 1 and 2 are connected to the respective tips of microstrip lines 10 and 20 and formed so that the width can be widened gradually toward the tip of each electrode part. Because the electrode itself is equipped with various frequency characteristic corresponding to the width of the electrode and a magnetic wave device composed of the electrode is also equipped with a low value over the wide frequency range for inserting loss at the time of resonating the magnetostatic wave device whose tunable frequency range extended to the high frequency band is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 静磁波デバイスの素子構造に関し、 静磁波デバイス、とくに静磁波フィルタの同調可能な周
波数範囲を広げることを目的とし、磁性膜と、前記磁性
膜面と近接して配置された入力電極および出力電極と、
外部磁界印加手段とを少なくとも備えた静磁波デバイス
において、前記入力電極および出力電極は2本のマイク
ロストリップラインのそれぞれの先端に連なり、がっ、
各電極部分の先端に近づくにしたがって、その幅が広く
なるように形成して静磁波デバイスを構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] Regarding the element structure of a magnetostatic wave device, for the purpose of widening the tunable frequency range of a magnetostatic wave device, especially a magnetostatic wave filter, a magnetic film and a magnetic film surface that are close to each other are used. an input electrode and an output electrode arranged so as to
In a magnetostatic wave device comprising at least an external magnetic field applying means, the input electrode and the output electrode are connected to respective tips of two microstrip lines, and
A magnetostatic wave device is constructed by forming the width of each electrode portion to become wider as it approaches the tip.

〔産業上の利用分野] 本発明は静磁波デバイス、たとえば、マイクロ波帯のフ
ィルタ、共振器、遅延線などに用いる素子構成、とくに
電極形状に関する。
[Industrial Field of Application] The present invention relates to element configurations used in magnetostatic wave devices, such as microwave band filters, resonators, delay lines, etc., and particularly to electrode shapes.

近年、データ伝送の大容量化、高速化にともなって、G
H2帯のフィルタ、共振器、遅延線などの開発が進んで
いる。
In recent years, with the increase in the capacity and speed of data transmission, G
Development of H2 band filters, resonators, delay lines, etc. is progressing.

磁性体の磁気共鳴を応用した静磁波デバイスはGHz帯
で良好な特性を有し、また、外部印加磁界を変化させる
ことにより、広い範囲で周波数。
Magnetostatic wave devices that apply the magnetic resonance of magnetic materials have good characteristics in the GHz band, and can be controlled over a wide range of frequencies by changing the externally applied magnetic field.

遅延時間などが変わるという特徴がある。このような特
徴は高周波数帯での電子回路の設計上有用であり、かつ
、新たな応用が開かれてきており、ますますその特“性
の向上が求められている。
It has the characteristic that the delay time etc. change. These characteristics are useful in the design of electronic circuits in high frequency bands, and new applications are opening up, and there is a growing demand for improved characteristics.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

イツトリウム・鉄・ガーネット(YIG)の球の磁気共
鳴特性を利用し、外部印加磁界を変えることにより、共
振周波数を大幅に変えられる静磁波デバイス、いわゆる
YIGフィルタが知られていた。しかし、このデバイス
はYIG球の加工やデバイスの組立、調整などが難しく
、高価であるなどの難点があった。
A so-called YIG filter, which is a magnetostatic wave device that uses the magnetic resonance characteristics of yttrium-iron-garnet (YIG) spheres and can significantly change the resonant frequency by changing the externally applied magnetic field, has been known. However, this device had drawbacks such as being difficult to process the YIG ball, assembling and adjusting the device, and being expensive.

これに対し、最近になってよりコンパクトで製造し易く
、かつ、信鯨性の高い薄膜構成の固体素子である静磁波
デバイスが多く提案されるようになった。
In contrast, recently, many magnetostatic wave devices, which are solid-state elements with a thin film structure that are more compact, easier to manufacture, and highly reliable, have been proposed.

第6図はそのようなもの一代表的な例を示したもので、
従来の静磁波デバイスの分解斜視図である。
Figure 6 shows a typical example of such a thing.
FIG. 2 is an exploded perspective view of a conventional magnetostatic wave device.

図中、40は磁性膜用基板で、たとえば、ガドリニウム
・ガリウム・ガーネット(GGG) 、4は磁性膜で、
たとえば、前記GGG基板40の上に液相エピタキシャ
ル(LPE)法で形成された磁気的損失の小さいYIG
膜である。6は黄銅ブロックで、デバイスのベースを構
成するとともにグラウンドとして用いる。5はアルミナ
セラミック基板、10’、20’ はマイクロストリッ
プラインで入出力電極への給電線を形成している6 1’、2’ は入力電極および出力電極で、それぞれマ
イクロストリップライン10’、20’ の先端に連な
り、ある所定の距離を離して平行に配置されており、そ
れぞれの電極巾は図示したごとく一定である。
In the figure, 40 is a substrate for a magnetic film, for example, gadolinium gallium garnet (GGG), 4 is a magnetic film,
For example, YIG with low magnetic loss is formed on the GGG substrate 40 by liquid phase epitaxial (LPE) method.
It is a membrane. 6 is a brass block that constitutes the base of the device and is used as a ground. 5 is an alumina ceramic substrate, 10' and 20' are microstrip lines forming power supply lines to the input and output electrodes. 6 1' and 2' are input electrodes and output electrodes, which are microstrip lines 10' and 20, respectively. ' are arranged in parallel at a certain distance apart, and the width of each electrode is constant as shown in the figure.

3はガラススペーサで、このガラススペーサ3を挟んで
磁性膜4と入出力電極1’、2’が重ねられて素子が形
成される。なお、ガラススペーサ3は必ずしも必要では
なく、場合によっては磁性膜4に入出力電極1゛、2°
を密着させて構成してもよい。
3 is a glass spacer, and a magnetic film 4 and input/output electrodes 1' and 2' are stacked with this glass spacer 3 in between to form an element. Note that the glass spacer 3 is not always necessary, and in some cases, the input/output electrodes 1゛, 2° may be connected to the magnetic film 4.
It may also be configured by bringing them into close contact with each other.

また、図中の矢印H0Cは外部直流印加磁界を示し、こ
−には図示してない永久磁石あるいは電磁石により、必
要に応じ可変磁界を印加できるように構成されている。
Further, an arrow H0C in the figure indicates an external DC applied magnetic field, which is constructed so that a variable magnetic field can be applied as required by a permanent magnet or an electromagnet (not shown).

なお、)Iocは磁性膜4と平行で、かつ、静磁波の進
行方向と直角に印加する。いわゆる、MSSW (Ma
gnetic 5tatic 5urface Wav
e)モード(表面波モード)の場合について示したもの
である。
Note that ) Ioc is applied parallel to the magnetic film 4 and perpendicular to the traveling direction of the magnetostatic wave. The so-called MSSW (Ma
gnetic 5tatic 5urface Wav
e) mode (surface wave mode).

第5図は静磁波フィルタの周波数特性を示す図で、たと
えば、第6図の構成のものに外部印加磁界H1,cを、
0.93〜2.61 kOeの範囲で変化させた時の共
振特性を示したものである。共振周波数はHo。により
可変であり、約2.8MFlz10eの割合いで変化す
る。
FIG. 5 is a diagram showing the frequency characteristics of a magnetostatic wave filter. For example, when an externally applied magnetic field H1,c is applied to the configuration shown in FIG.
This figure shows the resonance characteristics when changing in the range of 0.93 to 2.61 kOe. The resonance frequency is Ho. It is variable, and changes at a rate of about 2.8 MFlz10e.

挿入損失は5dB以下の周波数領域のものも得られるが
、全周波数範囲で一定ではなく、H工Cの小さい領域、
すなわち低周波数領域と、I(DCの大きい領域、すな
わち高周波数領域とで挿入損失が大きくなる1頃向があ
る。
Insertion loss can be obtained in the frequency range of 5 dB or less, but it is not constant over the entire frequency range, and
That is, there is a direction in which the insertion loss becomes large in the low frequency region and in the region where I(DC is large, that is, the high frequency region).

なお、測定はマイクロストリップライン10゛ を入力
端とし、20゛ を出力端としてネットワークアナライ
ザーを使用する通常法に従って行なったものである。
The measurements were carried out in accordance with the usual method using a network analyzer with the microstrip line 10' as the input end and the 20' microstrip line as the output end.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

第4図は従来例の共振時挿入損失の周波数特性図で、縦
軸は挿入損失、横軸は周波数である。
FIG. 4 is a frequency characteristic diagram of insertion loss during resonance in a conventional example, where the vertical axis represents insertion loss and the horizontal axis represents frequency.

図中、■は入出力電極1°、2°の長さが4mm巾が0
.36mmの場合、■は同じく長さが4 mm。
In the figure, ■ indicates an input/output electrode with a length of 1° and 2° of 4 mm and a width of 0.
.. In the case of 36mm, ■ also has a length of 4mm.

巾が2mmの場合、■は同じく長さが4 mm、巾が3
mmの場合である。)Incを0 、93kOeから4
kOeまで変えて共振特性を測定し、それぞれその中心
周波数における挿入損失をプロットしたものである。
If the width is 2mm, ■ also has a length of 4mm and a width of 3mm.
This is the case of mm. ) Inc 0, 93kOe to 4
The resonance characteristics were measured by changing up to kOe, and the insertion loss at each center frequency was plotted.

すなわち、上記従来例では、入出力電極巾が小さいほど
、挿入損失の小さい領域が低周波側にあり、入出力電極
巾が大きくなると、挿入損失の小さい領域が高周波側に
ずれる傾向があるが、10〜11GHzでどの場合も挿
入損失が急激に増大する。
That is, in the above conventional example, the smaller the input/output electrode width, the lower the region of insertion loss is on the low frequency side, and the larger the input/output electrode width, the lower the region of insertion loss tends to shift toward the higher frequency side. In all cases, the insertion loss increases rapidly between 10 and 11 GHz.

しかも、入出力電極巾が大きくなると、低域側での挿入
損失の立ち上がりも高周波側にずれてくるので、結局、
入出力電極巾が大きくなると挿入損失の小さい領域が狭
くなるなどの問題があり、その解決が必要であった。
Moreover, as the input/output electrode width increases, the rise of insertion loss on the low frequency side also shifts toward the high frequency side, so in the end,
As the width of the input/output electrodes increases, there is a problem in that the region with low insertion loss becomes narrower, and a solution to this problem is needed.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記の課題は、磁性膜4と、前記磁性膜4面と近接して
配置された人力電極lおよび出力電極2と、外部磁界印
加手段とを少なくとも備えた静磁波デバイスにおいて、
前記入力電極lおよび出力電極2はマイクロストリップ
ライン10および20のそれぞれの先端に連なり、かつ
、各電極部分の先端に近づくにしたがって、その幅が広
(なるように形成した静磁波デバイスによって解決する
ことができる。
The above problem is solved in a magnetostatic wave device that includes at least a magnetic film 4, a manual electrode l and an output electrode 2 arranged close to the surface of the magnetic film 4, and external magnetic field applying means.
The input electrode 1 and the output electrode 2 are connected to the respective tips of the microstrip lines 10 and 20, and the width becomes wider as it approaches the tip of each electrode portion. be able to.

〔作用〕[Effect]

本発明の静磁波デバイスは、入出力電極の巾を長さ方向
で先端に行くほど広くしであるので、電極自身が電極巾
に相当する種々の周波数特性を持ち、したがって、それ
によって構成された静磁波デバイスも広い周波数特性を
有するのである。
In the magnetostatic wave device of the present invention, the width of the input/output electrode is made wider toward the tip in the length direction, so that the electrode itself has various frequency characteristics corresponding to the electrode width. Magnetostatic wave devices also have wide frequency characteristics.

〔実施例] 第1図は本発明の実施例装置の斜視図である。〔Example] FIG. 1 is a perspective view of an apparatus according to an embodiment of the present invention.

図中、40は磁性膜用基板で、たとえば、厚さ0.5m
mの(111)面を有する鏡面仕上げをしたGGG単結
晶板、4は磁性膜で、たとえば、前記GGG基板40の
上に液相エピタキシャル(LPE)法で形成された磁気
的損失の小さい厚さ20μmのYIG膜である。5は厚
さ5 mm、大きさ1010X20の黄銅ブロックで、
デバイスのベースを構成するとともにグラウンドとして
用いる。5は厚さ0.4 mm、大きさ1010X20
のアルミナセラミック基板、10および20は巾0.3
6mm、厚さ8μmのAuからなる50Ωのマイクロス
トリップラインで入出力電極への給電線を形成しており
、それを作るには、たとえば、アルミナセラミック基板
5の上に50Ωmの厚さにAuを蒸着し、マイクロスト
リップラインパターンになるようにホトエツチングした
たのち、Auめっきを行なって所定の厚さに形成してい
る。
In the figure, 40 is a magnetic film substrate, for example, 0.5 m thick.
A mirror-finished GGG single crystal plate having a (111) plane of m, 4 is a magnetic film, for example, formed on the GGG substrate 40 by a liquid phase epitaxial (LPE) method and having a thickness with small magnetic loss. It is a 20 μm YIG film. 5 is a brass block with a thickness of 5 mm and a size of 1010 x 20.
It forms the base of the device and is used as a ground. 5 has a thickness of 0.4 mm and a size of 1010 x 20
Alumina ceramic substrates, 10 and 20 have a width of 0.3
A 50Ω microstrip line made of Au with a thickness of 6mm and 8μm forms the feeder line to the input/output electrodes, and in order to make it, for example, Au is coated with a thickness of 50Ωm on the alumina ceramic substrate 5. After vapor deposition and photoetching to form a microstrip line pattern, Au plating is performed to form a predetermined thickness.

1および2は入力電極および出力電極で、それぞれマイ
クロストリップライン10および20の先端に連なり、
対向する電極の長辺を6m、mの距離を離して平行に配
置しており、電極部分の長さは4mm、マイクロストリ
ップラインとの接続部の巾は0.36mm、最も巾の広
い先端部の巾は3mmで、斜辺部は直線で形成したもの
である。電極材料はマイクロストリップラインと同じく
Auで、厚さ8μm、全く同一のプロセスで、マイクロ
ストリップライン10および20と同時形成になるもの
である。
1 and 2 are input electrodes and output electrodes, which are connected to the tips of microstrip lines 10 and 20, respectively;
The long sides of the opposing electrodes are arranged in parallel with a distance of 6 m apart, the length of the electrode part is 4 mm, the width of the connection part with the microstrip line is 0.36 mm, and the widest tip part The width is 3 mm, and the oblique side is a straight line. The electrode material is Au, which is the same as the microstrip line, and has a thickness of 8 μm, and is formed at the same time as the microstrip lines 10 and 20 by the same process.

3はガラススペーサで、フィルタ特性における高域側の
スプリアスを抑制するために使用したもので、この実施
例の場合は厚さ200μmのガラス板を用い、ガラスス
ペーサ3を挟んで磁性膜4と入出力電極1.2を重ねて
素子を形成する。
3 is a glass spacer, which is used to suppress spurious on the high frequency side of the filter characteristics; in this example, a glass plate with a thickness of 200 μm is used, and it is inserted into the magnetic film 4 with the glass spacer 3 in between. The output electrodes 1.2 are stacked to form a device.

なお、ガラススペーサ3は必ずしも必要ではなく、場合
によっては磁性膜4に入出力電極1,2を密着させて構
成してもよい。
Note that the glass spacer 3 is not necessarily required, and the input/output electrodes 1 and 2 may be configured in close contact with the magnetic film 4 depending on the case.

また、図中の矢印HIlICは外部直流印加磁界を示し
、ニーには図示してない永久磁石あるいは電磁石により
、必要に応じ可変磁界を印加できるように構成しである
Further, the arrow HIlIC in the figure indicates an external DC applied magnetic field, and the knee is configured so that a variable magnetic field can be applied as necessary by a permanent magnet or an electromagnet (not shown).

なお、HDCは磁性膜4と平行で、かつ、静磁波の進行
方向と直角に印加する。いわゆる、MSSWモード(表
面波モード)の場合について示した。
Note that HDC is applied parallel to the magnetic film 4 and perpendicular to the direction of propagation of the magnetostatic wave. The case of the so-called MSSW mode (surface wave mode) is shown.

第2図は本発明の入出力電極パターンの実施例を示す図
で、同図(イ)の実施例(その1)は前記第1図の実施
例装置に使用した電極形状をわかり易く図示したもので
、斜辺部は直線で構成されている。一方、同図(ロ)の
実施例(その2)は電極配置は実施例(その1)と同じ
であるが、斜辺部を曲線、たとえば、指数関数的に変化
させた例である。勿論、曲線の形は指数関数的とは限ら
ず他の曲線であってもよく、要は電極先端に行くほど巾
が広くなり共振周波数における挿入損失の周波数特性が
広くなるようなものであればよい。
FIG. 2 is a diagram showing an example of the input/output electrode pattern of the present invention, and the example (part 1) in FIG. The hypotenuse is made up of straight lines. On the other hand, in the embodiment (part 2) shown in FIG. 12(b), the electrode arrangement is the same as that in the embodiment (part 1), but the oblique side is curved, for example, changed exponentially. Of course, the shape of the curve is not limited to exponential, and may be any other curve, as long as it becomes wider toward the tip of the electrode and the frequency characteristics of insertion loss at the resonant frequency become wider. good.

また、以上の実施例では、いずれも入出力電極の先端の
巾の広い方を対角線配置にしであるが、は!′同一線上
にあるような対称配置にしても、同様な効果が得られる
Also, in all of the above embodiments, the wider end of the input/output electrode is arranged diagonally, but ha! 'Similar effects can be obtained by symmetrical arrangement such that they are on the same line.

第3図は本発明の実施例”Jlの共振時挿入損失の周波
数特性図で、前記第1図で詳しく説明した実施例装置の
測定結果である。デバイスモードはMS舖モードとし、
外部印加磁界HDeを0.93kOeから5kOeまで
変えて共振特性を測定し、それぞれその中心周波数にお
ける挿入損失をプロットしたものである。
FIG. 3 is a frequency characteristic diagram of the insertion loss at resonance of the embodiment "Jl" of the present invention, which is the measurement result of the embodiment device explained in detail in FIG. 1. The device mode is MS mode,
The resonance characteristics were measured while changing the externally applied magnetic field HDe from 0.93 kOe to 5 kOe, and the insertion loss at each center frequency was plotted.

なお、測定はマイクロストリップライン10を入力端と
し、20を出力端としてネットワークアナライザーを使
用する通常法に従って行なった。
The measurement was carried out according to the usual method using a network analyzer with the microstrip line 10 as the input end and the microstrip line 20 as the output end.

図かられかるように、7〜13GHzまでの広い周波数
範囲にわたって挿入損失が7dB以下と、第4図に示し
た従来例に比較して、大幅に改善されており、とくに、
高周波帯域へ同調可能範囲が広がった静磁波デバイスが
得られた。
As can be seen from the figure, the insertion loss is 7 dB or less over a wide frequency range from 7 to 13 GHz, which is a significant improvement compared to the conventional example shown in Figure 4.
A magnetostatic wave device with extended tuning range to high frequency bands was obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたように、本発明によれば入出力電極の巾を長
さ方向で先端に行゛くほど広くしてあり、電極自身が電
極巾に相当する種々の周波数特性を持ち、したがって、
それによって構成された静磁波デバイスも共振時の挿入
損失が、広い周波数範囲にわたって低い値を持っている
ので、GHz帯における静磁波デバイスの性能および品
質の向上に寄与するところが極めて大きい。
As described above, according to the present invention, the width of the input/output electrode is made wider toward the tip in the length direction, and the electrode itself has various frequency characteristics corresponding to the electrode width.
Since the magnetostatic wave device constructed thereby also has a low insertion loss during resonance over a wide frequency range, it greatly contributes to improving the performance and quality of the magnetostatic wave device in the GHz band.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の実施例装置の斜視図、第2図は本発明
の入出力電極パターンの実施例を示す図、 第3図は本発明の実施例装置の共振時挿入損失の周波数
特性図、 第4図は従来例の共振時挿入損失の周波数特性図、 第5図は静磁波フィルタの周波数特性を示す図、第6図
は従来の静磁波デバイスの分解斜視図である。 図において、 1は人力電極、 2は出力電極、 3はガラススペーサ、 4は磁性膜、 5はアルミナ基板、 6は黄銅ブロック、 10.20はマイクロストリップライン、40は磁性膜
用基板である。 ミ5ノ 本発明の実施例装置の斜視図 第10 本発明の入出力電極パターンの実康伊12示1図第 2
図 62− 會7!、、旨イ0 Σ
Fig. 1 is a perspective view of an embodiment of the device of the present invention, Fig. 2 is a diagram showing an embodiment of the input/output electrode pattern of the present invention, and Fig. 3 is the frequency characteristic of insertion loss at resonance of the embodiment of the device of the present invention. 4 is a frequency characteristic diagram of insertion loss at resonance in a conventional example, FIG. 5 is a diagram showing frequency characteristics of a magnetostatic wave filter, and FIG. 6 is an exploded perspective view of a conventional magnetostatic wave device. In the figure, 1 is a manual electrode, 2 is an output electrode, 3 is a glass spacer, 4 is a magnetic film, 5 is an alumina substrate, 6 is a brass block, 10.20 is a microstrip line, and 40 is a magnetic film substrate. 5. Perspective view of an embodiment of the device of the present invention.10.
Figure 62- Meeting 7! ,, Umii0 Σ

Claims (1)

【特許請求の範囲】  磁性膜(4)と、前記磁性膜(4)面と近接して配置
された入力電極(1)および出力電極(2)と、外部磁
界印加手段とを少なくとも備えた静磁波デバイスにおい
て、 前記入力電極(1)および出力電極(2)はマイクロス
トリップライン(10)および(20)のそれぞれの先
端に連なり、かつ、各電極部分の先端に近づくにしたが
って、その幅が広くなるように形成したことを特徴とす
る静磁波デバイス。
[Scope of Claims] A static device comprising at least a magnetic film (4), an input electrode (1) and an output electrode (2) disposed close to the surface of the magnetic film (4), and external magnetic field applying means. In the magnetic wave device, the input electrode (1) and the output electrode (2) are connected to the respective tips of the microstrip lines (10) and (20), and the width thereof increases as it approaches the tip of each electrode portion. A magnetostatic wave device characterized by being formed to have the following characteristics.
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