JPH03120554U - - Google Patents

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JPH03120554U
JPH03120554U JP2855590U JP2855590U JPH03120554U JP H03120554 U JPH03120554 U JP H03120554U JP 2855590 U JP2855590 U JP 2855590U JP 2855590 U JP2855590 U JP 2855590U JP H03120554 U JPH03120554 U JP H03120554U
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JP2855590U
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本考案の実施例にかかり、
第1図は本考案の第1実施例にかかるターゲツト
の構造を示す側断面図、第2図はその第2実施例
にかかるターゲツトの構造を示す側断面図である
。また、第3図及び第4図のそれぞれは、従来例
にかかるターゲツトの構造を示す側断面図である
。 図における符号1はターゲツト板、2は冷却板
、5は段部、5aはろう付け面である。なお、図
中の同一符号は、互いに同一もしくは相当する部
品、部分を示している。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ターゲツト板1と、その裏面をろう付け接合に
    よつて支持する冷却板2とを備えたスパツタリン
    グ用ターゲツトであつて、 前記冷却板2の表面に段部5を設け、該段部5
    には前記ターゲツト板1の外形寸法と略同一もし
    くはターゲツト板1の外形寸法よりも小さめの外
    形寸法とされたろう付け面5aを突出形成したこ
    とを特徴とするスパツタリング用ターゲツト。
JP2855590U 1990-03-19 1990-03-19 Pending JPH03120554U (ja)

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JP2855590U JPH03120554U (ja) 1990-03-19 1990-03-19

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JPH03120554U true JPH03120554U (ja) 1991-12-11

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JP2855590U Pending JPH03120554U (ja) 1990-03-19 1990-03-19

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002173766A (ja) * 2000-12-01 2002-06-21 Toshiba Corp スパッタリングターゲットおよびそれを具備するスパッタリング装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002173766A (ja) * 2000-12-01 2002-06-21 Toshiba Corp スパッタリングターゲットおよびそれを具備するスパッタリング装置
JP4495853B2 (ja) * 2000-12-01 2010-07-07 株式会社東芝 スパッタリングターゲットおよびそれを具備するスパッタリング装置

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