JPH03117558A - セラミック球加工方法およびその装置 - Google Patents

セラミック球加工方法およびその装置

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JPH03117558A
JPH03117558A JP1253223A JP25322389A JPH03117558A JP H03117558 A JPH03117558 A JP H03117558A JP 1253223 A JP1253223 A JP 1253223A JP 25322389 A JP25322389 A JP 25322389A JP H03117558 A JPH03117558 A JP H03117558A
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JP
Japan
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abrasive grains
suspension
free abrasive
ceramic balls
ceramic
Prior art date
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Pending
Application number
JP1253223A
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English (en)
Inventor
Yasuo Suzuki
鈴木 靖男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH03117558A publication Critical patent/JPH03117558A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、セラミック球をラップ加工するセラミック
球加工方法およびその装置に関する。
(従来の技術) ボールベアリングなどで知られる球体は、各種機械装置
の構成要素として広く使用されている。
特にセラミックスからなる球体は、その耐蝕、耐熱、耐
摩耗性を生かした特殊用途への適用が注目されている。
一般にボールベアリングなどでは、セラミック製ボール
、金属製ボールを問わず、真球度のよい所定直径の球体
が要求されるため、その球体の加工については、それに
適応した加工方法および加工装置が必要である。
第2図にその加工装置の一例を示す。この加工装置は、
鋼製円板状の下ラップ板(1)と、同じく鋼製円板状の
上ラップ板(2)とを有する。下ラップ板(1)には、
断面V字状の環状溝(3)が形成されている。上ラップ
板(2)は、この下ラップ板(1)と同軸に配置されて
接離自在に対向する。
加工は、この上下ラップ板(1) 、 (2)間に球体
保持板(4)を配置して、下ラップ板(1)の環状溝(
3)中に配置した球体(W)をこの保持板(4)で保持
し、かつ上ラップ板(2)を介して球体(ν)を所定の
圧力で押圧しながら上下ラップ板(1)、(2)を回転
させるとともに、適宜ラップ剤を供給しながらおこなわ
れる。
(発明が解決しようとする課題) 上記のように、従来球体の加工は、上下一対のラップ板
を有する加工装置によりおこなわれている。しかしこの
ような加工装置では、1度に加工できる球体(W)の数
量に限度があり、多数の球体を加工するためには、下ラ
ップ板の環状溝の直径を大きくしうる大形ラップ板を設
置するか、さもなければ加工装置を多数配置する必要が
あり、設備投資や設置スペースが増大するという問題が
ある。
この発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、
簡単な構成の装置により、1度に多数のセラミック球を
容易に加工できるようにすることを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) セラミック球加工方法において、高分子溶液に遊離砥粒
を分散してなる懸濁液にセラミック球を入れ、その懸濁
液を撹拌することによりセラミック球を加工するように
した。
また、その加工装置を高分子溶液に遊離砥粒を分散して
なる懸濁液とセラミック球とを収容する加工槽と、この
加工槽中の懸濁液を撹拌する軟質部材からなる撹拌翼お
よびこの撹拌翼を駆動する駆動部からなる撹拌装置とか
ら構成した。
(作 用) 上記のように、高分子溶液と遊離砥粒とからなる懸濁液
にセラミック球を入れ、その懸濁液を撹拌すると、遊離
砥粒およびセラミック球を安定に分散かつ接触させるこ
とができ、−度に多数のセラミック球を加工することが
できる。
また、懸濁液の撹拌に軟質部材からなる撹拌翼を用いる
と、遊離砥粒との接触による撹拌翼の摩耗を軽減でき、
長期間使用に耐える加工装置とすることができる。
(実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
図面に示すように、加工装置は、高分子溶液に遊離砥粒
を分散してなる懸濁液(10)およびセラミック球(V
)を収容する加工槽(11)と、この加工槽(11)中
の懸濁液(10)を撹拌するウレタンゴムなどの軟質部
材からなる撹拌翼(12)およびこの撹拌翼(12)を
回転駆動する駆動部(13)からなる撹拌装置(14)
とから構成されている。
加工方法は、高分子溶液として、たとえば水性エマルジ
ョン液を使用し、また遊離砥粒として、グリーンカーボ
ン(GC) 、ホワイトアランダム(WA) 、ダイヤ
モンド砥粒を使用し、その高分子溶液と遊離砥粒とをl
0=8程度の容積比で混合分散した懸濁液(10)を加
工槽(11)に収容する。そして、この懸濁液(10)
中にセラミック球(V)を入れ、撹拌翼(12)を回転
駆動することによりおこなわれる。
すなわち、撹拌g (12)を回転すると、金属球体に
くらべて比重の軽いセラミック球<V>は、遊離砥粒と
ともに懸濁液(10)中に簡単に分散浮遊し、特に表面
の凸部が遊離砥粒と盛んに衝突して研磨され、次第に真
球に近づく。
この場合、最初比較的粒径の大きい遊離砥粒を含有する
懸濁液(lO)を使用し、加工の進行にともなって、逐
次粒径の小さい遊離砥粒を含有する懸濁液(lO)に切
換えて研磨すると、セラミック球(V)に対する砥粒の
接触数および接触位置の変化により、セラミック球(V
)を真球に近づけ、かつその表面を滑らかにすることが
でき、−度に多数のセラミック球(V)を加工すること
ができる。
なお、加工装置については、特に撹拌W (3)を軟質
部材で構成することにより、砥粒との接触による摩耗を
軽減でき、長期間使用に耐える加工装置とすることがで
きる。
[発明の効果] 高分子溶液と遊離砥粒とからなる懸濁液にセラミック球
を入れ、その懸濁液を撹拌することによりセラミック球
を加工すると、遊離砥粒およびセラミック球を安定に分
散させて、遊離砥粒を有効にセラミック球に接触させる
ことができ、−度に多数のセラミック球を加工すること
ができる。
また、懸濁液の撹拌に軟質部材からなる撹拌翼を用いる
と、iI!離砥粒との接触による撹拌翼の摩耗を軽減で
き、長期間使用に耐える加工装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例に係るセラミック球加工装置
の構成を示す図、第2図は従来の加工装置の構成を示す
図である。 IO・・・懸濁液     11・・・加工槽12・・
・撹拌翼     13・・・駆動部14・・・撹拌装

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)高分子溶液に遊離砥粒を分散してなる懸濁液にセ
    ラミック球を入れ、上記懸濁液を撹拌することによりセ
    ラミック球を加工することを特徴とするセラミック球加
    工方法。
  2. (2)高分子溶液に遊離砥粒を分散してなる懸濁液とセ
    ラミック球とを収容する加工槽と、この加工槽中の懸濁
    液を撹拌する軟質部材からなる撹拌翼およびこの撹拌翼
    を駆動する駆動部とからなる撹拌装置を具備することを
    特徴とするセラミック球加工装置。
JP1253223A 1989-09-28 1989-09-28 セラミック球加工方法およびその装置 Pending JPH03117558A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7273409B2 (en) * 2004-08-26 2007-09-25 Mikronite Technologies Group, Inc. Process for forming spherical components
CN107891314A (zh) * 2017-10-25 2018-04-10 湖北亿佳欧电子陶瓷股份有限公司 一种陶瓷棒的研磨方法
CN108237464A (zh) * 2016-12-27 2018-07-03 上海崇明机床厂 一种卧式钢球研磨机

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