JPH01271166A - 磁性流体を用いた研磨装置 - Google Patents

磁性流体を用いた研磨装置

Info

Publication number
JPH01271166A
JPH01271166A JP63095648A JP9564888A JPH01271166A JP H01271166 A JPH01271166 A JP H01271166A JP 63095648 A JP63095648 A JP 63095648A JP 9564888 A JP9564888 A JP 9564888A JP H01271166 A JPH01271166 A JP H01271166A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
float
magnetic fluid
magnetic
magnetic field
polished
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63095648A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasushi Kato
康司 加藤
Tokuji Umehara
徳次 梅原
Shigeru Adachi
茂 足立
Shin Sato
伸 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JGC Corp
Original Assignee
JGC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JGC Corp filed Critical JGC Corp
Priority to JP63095648A priority Critical patent/JPH01271166A/ja
Publication of JPH01271166A publication Critical patent/JPH01271166A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、磁性流体を用いた研磨装置に関し、さらに詳
しくは砥粒を含有する磁性流体を磁場の作用下で使用し
、ボールベアリング等に使用される球体を研磨して真球
度の高い球体を効率良く製造するための装置に関するも
のである。
[従来の技術] 従来、砥粒を含有する磁性流体からなる研磨用液を磁場
の作用下で使用してボールベアリング等に使用される球
体を研磨する方法および装置が特開昭62−17316
6号公報に開示されている、同公報に記載された研磨方
法および装置は、砥粒を含有する磁性流体中に浸漬した
球体を、磁性流体の外部の一方の側より働く外部磁場の
作用により排出力を与えて、その対向側に位置させた駆
動用治具(駆動ラップ)の面に押し付け、それによって
該駆動用治具の運動を球体に伝達して砥粒を含有する磁
性流体中で運動させ、該球体の運動を案内面によって制
御することを特徴とするものである。
またこの際、球体の外部磁場側に位置するように浮力板
(浮子)を挿入すると、この浮力板にも外部磁場の作用
による排出力が与えられ、球体をより強く駆動用治具の
駆動面に押し付けるので研磨効率が著しく向上すること
が開示されている。
前記研磨装置では、球体の運動を制御するために駆動ラ
ップの下面にV型溝や仕切板を設け、球体の運動の案内
面としての機能を持たせて研磨効率および真球度の向上
を図っている。また別の方法として、駆動ラップの下端
を倒置三角錐状にして球体が倒置三角錐の斜面、円筒状
容器(ガイドリング)および浮力板との間に押し付けら
れた状態で運動させて研磨して真球度の向上を図ってい
る。
また、磁性流体に作用させる外部磁場としては、単一磁
石または極性を揃えて配置した磁石群であってもよいが
、むしろ隣り合う磁石の極が互いに異なるように組み合
わせた磁石群を用いて、砥粒と浮子の浮力を増すととも
に水平方向にも磁気排出力を作用させ、被研磨物の運動
方向に抗するように砥粒を保持することが好ましいとし
ている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述従来例によっても依然として研磨効
率や真球度において満足できるものは得られていない。
本発明の目的は、このような従来技術の課題に鑑み、球
体の真球度および研磨効率をさらに向上させた研磨装置
を提供することにある。
[課題を解決するための手段および作用]本発明者等は
、上記目的を達成するために鋭意検討をした結果、磁場
形成手段を、交互に極性を変えて所定値以下の間隔で配
置した複数の磁極を備えたものとすることにより、また
は該磁極を駆動ラップの回転軸の中心に同心円状に交互
に極性を変えて配置した径あるいは大きさが異なる複数
の円形状あるいは多角形状の磁極とすることにより、上
記目的を達成し得る本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、ガイドリングと、砥粒を含む磁性流
体に浸漬された浮子と、回転可能な駆動ラップと、該磁
性流体に磁場を形成して該磁性流体と共に該浮子に浮揚
力を与える磁場形成手段とを備え、球状の被研磨物を該
駆動ラップ、浮揚力を受けた浮子およびガイドリング内
壁面により該磁性流体中で保持しつつ、該駆動ラップを
回転させることにより、研磨する研磨装置において、該
磁場形成手段は、交互に極性を変えて10mm以下の間
隔で配置した複数の磁極を具備し、あるいは、該駆動ラ
ップの回転軸について同心円状に交互に極性を変えて配
置した径または大きさが異なる複数の円形状または多角
形状の磁極を具備することを特徴とする、磁性流体を用
いた研磨装置にある。
以下、本発明の磁性流体を用いた研磨装置を図面に基づ
いて説明する。
第1図は本発明の研磨装置の一例を示す断面図である。
図中1は駆動ラップ、2は駆動ラップ下端部の球状の被
研磨物との接触面、3は球状の被研磨物(被研磨球体)
、4はガイドリング、5は浮子、6は磁石、7は砥粒な
含む磁性流体をそれぞれ示す。
第1図に示される研磨装置では、砥粒を含む磁性流体7
中に浮子5を浸漬し、該磁性流体7に磁石6等により外
部磁場を作用させて浮子5に浮力を与え、その浮力によ
って浮子5を上昇させ、被研磨球体3を浮子5上端部の
接触面、駆動ラップ1下端部の接触面2およびガイドリ
ング4の内壁面で保持する。そして、駆動ラップ1を駆
動させ、水平方向に回転させることによって、被研磨球
体3にその回転による運動が伝達され、砥粒を含有する
磁性流体7中で運動するようになる。この被研磨球体3
と砥粒を含有する磁性流体7との間に相対運動が生じる
ことによって、被研磨球体3が保持されている面、特に
駆動ラップ1下端部のテーパー状の接触面2において研
磨が効率良く行なわれる。
第1図の研磨装置に示される駆動ラップ1は、垂直軸を
中心として水平回転が可能であり、下端部に接触面2を
有している。また、この駆動ラップ1は被研磨球体3の
研磨によって摩耗するので、その度に駆動ラップ1を下
降させる必要から、上下動も可能としている。この接触
面2は浮子5とガイドリング4の内壁面との間の軌道上
に被研磨球体3を保持し、安定かつスムーズに回転研磨
するために重要な役割を果しており、球体の真球度の向
上に寄与する。ここで接触面2の鉛直方向に対して外周
方向の傾斜角Eが20〜80度である時に球体の真球度
の向上が得られる。接触面2の傾斜角Eが80度を超え
た場合は被研磨球体3をガイドリング4の内壁面に押し
付ける力が弱くなり、また20度未満の場合は被研磨球
体3に効果的に接触面2から加工圧がかからないため、
それぞれ被研磨球体3の運動が不安定となり真球度が向
上せず、好ましくない。
また駆動ラップ1の他の形状として第2図に示されるよ
うな円筒状のものでもよく、この場合も接触面の傾斜角
Eは20〜80度の範囲が好ましい。
駆動ラップ1の材質としては、荒削りの場合には特に制
限はなく 5115304等のステンレス鋼、真鍮、ア
ルミニウム等の金属等が例示され、また仕上げの場合に
は鋳鉄、セラミックス、樹脂等の脆性材料からなるもの
が好ましい。
第1図の研磨装置に設けられているガイドリング4の内
壁面は、ガイドリングの振動を抑制するためにゴムある
いは樹脂等でライニングされていることが好ましい。
次に研磨装置の磁性流体中に浸漬されている浮子5は、
磁石6等の外部磁場の作用により浮力が与えられて、浮
子5は浮上して被研磨球体3を駆動ラップ1下端部の接
触面2等に強く押し付ける作用をする。この浮子5は、
前記駆動ラップ1の接触面2およびガイドリング4の内
壁面と共に、回転する被研磨球体3を研磨中一定に保持
して真球度の向上に寄与する。被研磨球体3と接する部
分の浮子5の形状としては、1点で接触する平面状また
はテーパー状のほか、2点または円周部分で接触するよ
うに、その断面が7字、またはR伏皿状の凹部を設けて
もよい。
浮子5の材質としては、金属、プラスチック、セラミッ
クス、ゴム等の種々の材料を適宜選択して使用できる。
浮子5に働く浮力は、下方より働く外部磁場の強さ、浮
子5の大きさ、磁石6等から浮子5までの距離等により
決定され、これらを変化させることによって所要の加工
圧を任意に制御することができる。
浮子5の比重は砥粒を含有する磁性流体7の比重よりも
軽いことは絶対的な条件ではなく一下方より働く外部磁
場の作用により浮力を生じるものであればよい。
磁性流体7としては、水または油を媒体としてフェライ
ト、マグネタイト等を分散させたものを用いる。
磁性流体7中に含有される砥粒は、公知の研磨用砥粒を
適宜選択して使用することができる0例えばALOs 
 (コランダム)、5iC(炭化ケイ素:カーボランダ
ム)、ダイヤモンド等であり、あるいは磁性を付加した
砥粒でもよい。
本発明の特徴部分である、交互に極性を変えて10mm
以下の間隔で配置した複数の磁極を具備する磁石6とし
ては、例えば、第3図に示すように、磁石を10mm以
下の所定ピッチで極性を変えながら直線的に一列に並べ
た短冊状の磁石群を用いることができる。磁石6をこの
ように構成することにより、磁石6が形成する磁場の勾
配が大きくなり、浮子5の下方への変位に対し、強力な
上方向への復元力が浮子5に働くことになる。また、浮
子5と磁石6間の距離を適当に設定することにより、加
工圧力も高めることができる。したがって、研磨に際し
ては、浮子5が安定し、被研磨球体3の適正な保持が維
持され、これにより、被研磨球体3は、真球度が高くか
つ製品間の真球度のばらつきがない球体に効率良く研磨
される。
一方、同心円状の磁石6としては、第4図に示すような
、上から見た形状が多角形状で大きさの異なるNおよび
S極を交互に配置したものや、第5図に示すような、径
の異なる円形状のNおよびS極を同心円状に配置したも
のなどが使用できる。製作上は第4図の多角形状のもの
が作り易い。いずれにおいても、隣接磁極間の間隔は磁
場勾配を大きくするために10mm以下が好ましい。こ
のように、磁極を同心円状とすることにより、磁場のば
らつきが少なくなるため、浮子5に、より平均した浮揚
力が作用し、浮子5の回転に伴う不安定さは解消される
。したがって、この場合も真球度の向上、真球度のばら
つきの減少および研磨効率の向上が図られる。
短冊状および同心円状いずれの場合でも磁極あるいは磁
場発生手段として永久磁石や電磁石等を用いることがで
きる。
本発明に適用される被研磨球体3としては、Si0%S
i、N4等のセラミックスまたは金属等からなるものが
用いられ、研磨された球体はボールベアリング等の用途
に供せられる。
また、本発明においては被研磨球体について述べたが、
被研磨球体のみならず、平板や円筒等の研磨も可能であ
る。
[実施例] 以下、本発明を実施例等に基づいて説明する。
施例1〜4および比較仮11〜2 第1図に示す断面形状を有する研磨装置を用いて試験を
行なった。駆動ラップの材質はステンレス(SUS30
4)、駆動ラップ下端のラップ角度(傾斜角度)Eは6
0′″、モしてガイドリングの内径は37mmであり、
ガイドリング内壁の被研磨球体と接触する部分にはウレ
タンゴムの内張を設けである。磁性流体としてはタイホ
ー工業製のW−40を用い、研磨砥粒としてはGC#6
000を用いている。また、加工荷重は400gとなる
ように調整しである。浮子としては、厚さ2mmのアク
リル族のものを用いている。磁石としては、サマリウム
コバルト(Sm−Co)製永久磁石を配列したものであ
って、磁極の配列間隔がそれぞれ第1表の磁極間隔の欄
に示す値の短冊状のものを用いている。
この装置を用いて直径りが7.2mm、真球度が2.0
pmの窒化ケイ素(Si、N4)素球11個を、浮子上
に配置し、ガイドリングの内壁、および駆動ラップ下端
のテーバ面すなわち接触面が素球に接触するようにして
保持し、駆動ラップを9000 r、p、m、で40分
回転させて研磨した。
この結果研磨された球の真球度を第1表に示す。
第1表 この表に示すように、磁極間隔が10mmを超える比較
例1および2の場合に比べ、磁極間隔が10mm以下の
実施例1〜4の場合は真球度が顕著に向上していること
がわかる。
次に、第1表に示す各磁極間隔の場合について、磁石か
ら浮子までの距離りを変えながら加工圧力pを測定した
この結果を第6図のグラフに示す。
さらに、このグラフを用い、第1表の各磁極間隔の場合
を示す各曲線についてそれぞれ曲線上のh=0.3およ
び2.3mmにおける点を結んだ直線の傾@(tanθ
)をh=0.3〜2.3mmにおけるそれぞれの平均加
工圧力勾配として求めた。
この結果を巌7図のグラフに示す。このh=0.3〜2
.3mmの範囲は浮子の下面が研磨中に移動する可能性
のある範囲に対応する。
同図のグラフは、磁極間隔が小さいほど、平均加工圧力
勾配すなわち磁場勾配が大きくなることを示している。
このことは、hの値を適切に選択すれば、磁極間隔が小
さい場合はど、浮子のわずかな変位に対しても復元力が
強く働き、浮子が安定することを示している。
実施例5 実施例2と同様の研磨装置および条件で、ただし磁石と
しては磁極間の間隔が4mmの第4図に示す形のものを
用いて、実施例1と同様に研磨を行なった。
このようにして研磨された球体の真球度を測定したとこ
ろ真球度は0.3μmであった。
同じ磁極間隔である実施例2の場合に比べ、さらに真球
度が向上している。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、磁場形成手段を、
交互に極性を変えて所定値以下の間隔で配置した複数の
磁極を備えたものとすることにより、または該磁極を、
駆動ラップの回転軸について同心円状に交互に極性を変
えて配置した径あるいは大きさが異なる複数の円形状あ
るいは多角形状の磁極とすることにより、浮子の復元力
や浮揚力が向上し、さらには磁場のばらつきが減少して
より平均した浮揚力が浮子に作用し、したがって浮子の
回転に伴う不安定さが解消され被研磨物の保持および案
内が適正に安定維持されるため、研磨された被研磨物の
真球度、真球度の均一性および研磨効率の向上が図られ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の研磨装置の一例を示す断面図、 第2図は、本発明に用いられる駆動ラップの一例を示す
断面図、 第3図は、本発明の研磨装置に用いられる短冊状磁石の
一例を示す模式図、 第4図および第5図は、本発明の研磨装置に用いられる
同心円状磁石を例示する平面図、第6図は、第1表に示
す各磁極間隔の場合について、磁石から浮子までの距離
りを変えながら加工圧力pを測定した結果を示すグラフ
、そして第7図は、第6図の各曲線から各曲線について
平均加工圧力勾配を求めた結果を示すグラフである。 1:駆動ラップ、2:駆動面、 3:被研磨球体、4ニガイドリング、 5:浮子、6:磁石、 7:砥粒を含む磁性流体。 第3図 第 4 因 115図 0.3   1     22.3   3     
4     5h(mm) 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ガイドリングと、砥粒を含む磁性流体に浸漬された
    浮子と、回転可能な駆動ラップと、該磁性流体に磁場を
    形成して該磁性流体と共に該浮子に浮揚力を与える磁場
    形成手段とを備え、球状の被研磨物を該駆動ラップ、浮
    揚力を受けた浮子およびガイドリング内壁面により該磁
    性流体中で保持しつつ、該駆動ラップを回転させること
    により、研磨する研磨装置において、該磁場形成手段は
    、交互に極性を変えて10mm以下の間隔で配置した複
    数の磁極を具備することを特徴とする、磁性流体を用い
    た研磨装置。 2、ガイドリングと、砥粒を含む磁性流体に浸漬された
    浮子と、回転可能な駆動ラップと、該磁性流体に磁場を
    形成して該磁性流体と共に該浮子に浮揚力を与える磁場
    形成手段とを備え、球状の被研磨物を該駆動ラップ、浮
    揚力を受けた浮子およびガイドリング内壁面により該磁
    性流体中で保持しつつ、該駆動ラップを回転させること
    により、研磨する研磨装置において、該磁場形成手段は
    、該駆動ラップの回転軸について同心円状に交互に極性
    を変えて配置した径あるいは大きさが異なる複数の円形
    状あるいは多角形状の磁極を具備することを特徴とする
    、磁性流体を用いた研磨装置。
JP63095648A 1988-04-20 1988-04-20 磁性流体を用いた研磨装置 Pending JPH01271166A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63095648A JPH01271166A (ja) 1988-04-20 1988-04-20 磁性流体を用いた研磨装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63095648A JPH01271166A (ja) 1988-04-20 1988-04-20 磁性流体を用いた研磨装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01271166A true JPH01271166A (ja) 1989-10-30

Family

ID=14143325

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63095648A Pending JPH01271166A (ja) 1988-04-20 1988-04-20 磁性流体を用いた研磨装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01271166A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4821466A (en) Method for grinding using a magnetic fluid and an apparatus thereof
JPS6138863A (ja) 研磨装置
Umehara et al. Magnetic fluid grinding–a new technique for finishing advanced ceramics
KR950004923B1 (ko) 미소연마방법 및 미소연마공구
CN108544305A (zh) 一种集群磁流变辅助v型槽高效高精度抛光陶瓷球的装置
US5957753A (en) Magnetic float polishing of magnetic materials
JPH01271166A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JPH0541394B2 (ja)
JPH029567A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JPH01271161A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JPH01271163A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JPH01271164A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JPH01271162A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JPH01271168A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JPH01271167A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JPH0541395B2 (ja)
JPH01271165A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JP2584945B2 (ja) セラミックスの真球研磨装置と真球研磨方法
JPH03117558A (ja) セラミック球加工方法およびその装置
JPH0241866A (ja) 磁性流体を用いた研磨装置
JPS63221965A (ja) 管材の研磨方法および装置
Umehara et al. Internal polishing of tube with magnetic fluid grinding Part 1, fundamental polishing properties with taper-type tools
JP3027673B2 (ja) 移動磁場による表面処理方法
JPH0310643Y2 (ja)
Umehara et al. Microsurface finishing of borosilicate glass with magnetic fluid grinding