JPH03115816A - 放射計の軌道上校正装置 - Google Patents
放射計の軌道上校正装置Info
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- JPH03115816A JPH03115816A JP1254345A JP25434589A JPH03115816A JP H03115816 A JPH03115816 A JP H03115816A JP 1254345 A JP1254345 A JP 1254345A JP 25434589 A JP25434589 A JP 25434589A JP H03115816 A JPH03115816 A JP H03115816A
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- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 21
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
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- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 11
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野〕
本発明は宇宙飛行体搭載用放射計の軌道上校正装置に関
し、特に透過率可変器を使用して１個の校正光源により
放射計感度のりニアリティ及びＯ点校正即ち多点校正を
行うことができる放射計の軌道上校正装置に関する。
し、特に透過率可変器を使用して１個の校正光源により
放射計感度のりニアリティ及びＯ点校正即ち多点校正を
行うことができる放射計の軌道上校正装置に関する。
衛星等の宇宙飛行体からのリモートセンシングに用いら
れる放射計は、宇宙環境における不測の事態によって性
能劣化等が生しるため、感度の軌道上校正が画像データ
利用上重要な意味を持っている。ここで、入力が出力に
対し直線関係となる線形センタの放射計においては、出
力Ｖと入力Ｐとの間に次式に示す関係が成り立つ。
れる放射計は、宇宙環境における不測の事態によって性
能劣化等が生しるため、感度の軌道上校正が画像データ
利用上重要な意味を持っている。ここで、入力が出力に
対し直線関係となる線形センタの放射計においては、出
力Ｖと入力Ｐとの間に次式に示す関係が成り立つ。
ＶζａＰ十す
これは第３図に示す関係であり、放射計の校正とは、感
度ａとゼロ点すの決定を行うことである。
度ａとゼロ点すの決定を行うことである。
このために、入力Ｐの２レベル以上での校正即ち多点校
正が必要となる。
正が必要となる。
従来、上述のような放射計の軌道上校正装置では、２レ
ベル以上の校正光量を発生させるため、ＬＡＮＤＳＡＴ
搭載ＴＭ（Ｔｈｅｍａｔｔｃ Ｍａｐｐｅｒ）のように
校正光源としてランプを多数個設ける構成が採用されて
いた。第４図はそのような放射計の軌運上校正装置の構
成を示す。同図において、１は図示しない被撮像体から
の撮像光であり、通常の動作時にはその撮像光１が望遠
鏡２等の光学的手段によって固体撮像素子（例えばＣＣ
Ｄ）３に導かれてそこに結像を生し、この固体撮像素子
３の出力によって地表の放射エネルギのイメージング等
を行うものである。また、軌道上校正時には、光量の異
なる複数個のランプ４−１．４−２．４３を制御部１１
”が適宜切り換えてその１つのランプの光をハーフミラ
−１２−１，１ｉ２゜光ガイド（リレー光学系）５およ
び校正光導入ミラー６から構成される光学的校正手段を
通じて望遠鏡２に導き、撮像光１に代えて校正光源の光
を固体ＪＲ像素子３に入射させる。そして、その際に固
体撮像素子３から得られる出力に基づき制御部１１°が
放射系の軌道上校正を行うものである。
ベル以上の校正光量を発生させるため、ＬＡＮＤＳＡＴ
搭載ＴＭ（Ｔｈｅｍａｔｔｃ Ｍａｐｐｅｒ）のように
校正光源としてランプを多数個設ける構成が採用されて
いた。第４図はそのような放射計の軌運上校正装置の構
成を示す。同図において、１は図示しない被撮像体から
の撮像光であり、通常の動作時にはその撮像光１が望遠
鏡２等の光学的手段によって固体撮像素子（例えばＣＣ
Ｄ）３に導かれてそこに結像を生し、この固体撮像素子
３の出力によって地表の放射エネルギのイメージング等
を行うものである。また、軌道上校正時には、光量の異
なる複数個のランプ４−１．４−２．４３を制御部１１
”が適宜切り換えてその１つのランプの光をハーフミラ
−１２−１，１ｉ２゜光ガイド（リレー光学系）５およ
び校正光導入ミラー６から構成される光学的校正手段を
通じて望遠鏡２に導き、撮像光１に代えて校正光源の光
を固体ＪＲ像素子３に入射させる。そして、その際に固
体撮像素子３から得られる出力に基づき制御部１１°が
放射系の軌道上校正を行うものである。
なお、光ガイド５には、波長選択ハーフミラ−１０とこ
の波長選択ハーフミラ−１０によって選択された校正光
の成る波長の光の一部を受光する校正光モニタ素子（例
えばホトダイオード）９とが設けられ、この校正光モニ
タ素子９の出力を監視することにより、校正光のレベル
変化がモニタできるようになっている。
の波長選択ハーフミラ−１０によって選択された校正光
の成る波長の光の一部を受光する校正光モニタ素子（例
えばホトダイオード）９とが設けられ、この校正光モニ
タ素子９の出力を監視することにより、校正光のレベル
変化がモニタできるようになっている。
上述した従来の放射計の軌道上校正装置によっても多点
校正は可能であるが、複数の校正光源を設けそれらの光
を幾つかのハーフミラ−（或いはハーフプリズムでも良
い）によって適宜選択することにより２レベル以上の校
正光量を得ているので、全体の重＠、を力、サイズが大
きくなり、また多数個のランプ間の劣化の相違から精度
解析が難しく校正精度の悪化を招いていた。
校正は可能であるが、複数の校正光源を設けそれらの光
を幾つかのハーフミラ−（或いはハーフプリズムでも良
い）によって適宜選択することにより２レベル以上の校
正光量を得ているので、全体の重＠、を力、サイズが大
きくなり、また多数個のランプ間の劣化の相違から精度
解析が難しく校正精度の悪化を招いていた。
なお、宇宙飛行体搭載用ではなく地上設置体の成る種の
装置では、第５図に示すように、回転軸２２によって回
転可能な回転板２１にそれぞれ減衰率の異なる複数個の
ＮＤフィルタ２３−１．２３−２，２３３を取り付け、
１個のランプ２０の出射光量をそれらＮＤフィルタの選
択によって可変にする光源光量可変装置が採用されてい
る。
装置では、第５図に示すように、回転軸２２によって回
転可能な回転板２１にそれぞれ減衰率の異なる複数個の
ＮＤフィルタ２３−１．２３−２，２３３を取り付け、
１個のランプ２０の出射光量をそれらＮＤフィルタの選
択によって可変にする光源光量可変装置が採用されてい
る。
このような光源光量可変装置を使用すれば１個のランプ
で済む利点があるが、サイズが大きいと共に機械的な動
きを伴うので寿命上に問題があって精度が劣化し易く、
さらに光学系へのコンタミネーション等の問題を招くの
で、宇宙飛行体搭載放射計に適用するのは好ましくない
。
で済む利点があるが、サイズが大きいと共に機械的な動
きを伴うので寿命上に問題があって精度が劣化し易く、
さらに光学系へのコンタミネーション等の問題を招くの
で、宇宙飛行体搭載放射計に適用するのは好ましくない
。
以上のようなことから、重量、電力、サイズ。
寿命等の制約が大きい宇宙飛行体搭載放射計では、校正
精度を犠牲にして、１つの校正光量レベルを使用した１
点校正のみを行う場合もあり、宇宙飛行体搭載放射計に
適した軌道上校正装置が切望されているのが現状である
。
精度を犠牲にして、１つの校正光量レベルを使用した１
点校正のみを行う場合もあり、宇宙飛行体搭載放射計に
適した軌道上校正装置が切望されているのが現状である
。
本発明はこのような要望に応えて為されたものであり、
宇宙飛行体搭載放射計に好適な軌道上校正装置を提供す
ることを目的としている。
宇宙飛行体搭載放射計に好適な軌道上校正装置を提供す
ることを目的としている。
本発明は、固体１８像素子から構成される光電変換手段
と前記固体撮像素子に被盪像体からの入射光を導く光学
的手段とを含む宇宙飛行体搭載用の放射計に設けられ、
校正光源力・らの光を前記光学的手段を通じて前記固体
撮像素子に入力しその際に得られる前記固体撮像素子の
出力に基づいて前記放射針の感度の軌道上校正を行う軌
道上校正装置において、制御信号に応じて光の透過率が
変化する透過率可変器を、前記校正光源と前記光学的手
段との間の光路上に設けた構成を有している。
と前記固体撮像素子に被盪像体からの入射光を導く光学
的手段とを含む宇宙飛行体搭載用の放射計に設けられ、
校正光源力・らの光を前記光学的手段を通じて前記固体
撮像素子に入力しその際に得られる前記固体撮像素子の
出力に基づいて前記放射針の感度の軌道上校正を行う軌
道上校正装置において、制御信号に応じて光の透過率が
変化する透過率可変器を、前記校正光源と前記光学的手
段との間の光路上に設けた構成を有している。
本発明の放射計の軌道上校正装置においては、校正光源
と光学的手段との間の光路上に設けられた透過率可変器
の透過率が制御信号に応じて変化し、１個の校正光源か
ら２レベル以上の校正光量を選択的に生成せしめて光学
的手段に導き、多点校正を可能ならしめる。
と光学的手段との間の光路上に設けられた透過率可変器
の透過率が制御信号に応じて変化し、１個の校正光源か
ら２レベル以上の校正光量を選択的に生成せしめて光学
的手段に導き、多点校正を可能ならしめる。
次に、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。
明する。
第１図を参照すると、本発明の一実施例は、撮像光１を
望遠鏡２により固体撮像素子（例えばＣＣＤ）３に導い
てそこに結像させ、地表の放射エネルギのイメージング
等を行う放射計において、校正光源としてランプ４を設
けると共に、このうンブ４の光を望遠鏡２に校正光７と
して導く光ガイド（リレー光学系）５および校正光導入
ミラー６から構成される光学的校正手段の光路上の適所
（本実施例ではランプ４の前方）に、制御部１１からの
制ｉｎ信号に応じて光の透過率が変化する透過率可変器
８を設けている。
望遠鏡２により固体撮像素子（例えばＣＣＤ）３に導い
てそこに結像させ、地表の放射エネルギのイメージング
等を行う放射計において、校正光源としてランプ４を設
けると共に、このうンブ４の光を望遠鏡２に校正光７と
して導く光ガイド（リレー光学系）５および校正光導入
ミラー６から構成される光学的校正手段の光路上の適所
（本実施例ではランプ４の前方）に、制御部１１からの
制ｉｎ信号に応じて光の透過率が変化する透過率可変器
８を設けている。
透過率可変器８は、例えば第２図に示すような制御電圧
月光透過率特性を有するアモルファス半導体素子で構成
することができ、この場合には制御部ＩＩからの制御信
号（制御電圧）によって光透過率を安定な２レベルに可
変することができ、よって１個のランプ４で２レベルの
安定な光量の校正光を得ることができる。３レベル以上
の校正光を必要とする場合には、上記のような透過率可
変器８を多数個使用すれば良い。なお、透過率可変器８
としては、他に、制御電圧により偏光特性の変わる素子
（例えばＰＬＺＴ）を組み合わせて実現することも可能
である。
月光透過率特性を有するアモルファス半導体素子で構成
することができ、この場合には制御部ＩＩからの制御信
号（制御電圧）によって光透過率を安定な２レベルに可
変することができ、よって１個のランプ４で２レベルの
安定な光量の校正光を得ることができる。３レベル以上
の校正光を必要とする場合には、上記のような透過率可
変器８を多数個使用すれば良い。なお、透過率可変器８
としては、他に、制御電圧により偏光特性の変わる素子
（例えばＰＬＺＴ）を組み合わせて実現することも可能
である。
軌道上校正時、制御部１１が制御信号によって透過率可
変器８の透過率を所望の値に切り換えると、ランプ４の
光は透過率可変器８によって所定量だけ減衰して光ガイ
ド（リレー光学系）５に入射し、この光ガイド５により
校正光７として出射する。この校正光７は、望遠鏡２の
前部に設けられた校正光導入ミラー６により望遠鏡２へ
導かれ、固体撮像素子３に入射せしめられる。制御部１
１は従来と同様にして固体撮像素子３から得られる出力
に基づき放射系の軌道上校正を行うものである。なお、
第４図と同様に光ガイド５には波長選択ハーフミラ−１
０と校正光モニタ素子（例えばホトダイオード）９とが
設けられ、この校正光モニタ素子９の出力を監視するこ
とにより、校正光のレベル変化がモニタできるようにな
っている。
変器８の透過率を所望の値に切り換えると、ランプ４の
光は透過率可変器８によって所定量だけ減衰して光ガイ
ド（リレー光学系）５に入射し、この光ガイド５により
校正光７として出射する。この校正光７は、望遠鏡２の
前部に設けられた校正光導入ミラー６により望遠鏡２へ
導かれ、固体撮像素子３に入射せしめられる。制御部１
１は従来と同様にして固体撮像素子３から得られる出力
に基づき放射系の軌道上校正を行うものである。なお、
第４図と同様に光ガイド５には波長選択ハーフミラ−１
０と校正光モニタ素子（例えばホトダイオード）９とが
設けられ、この校正光モニタ素子９の出力を監視するこ
とにより、校正光のレベル変化がモニタできるようにな
っている。
以上の実施例は、校正光源としてランプを使用したが、
ＬＥＤや太陽光等の光源を校正光源とすることもできる
。また、光ガイド５の代わりに光ファイバを使用したり
、単数あるいは複数個の固体撮像素子を使用したり、望
遠鏡２の前部に走査鏡を有し機械走査式によって走査を
行ったりする各種の放射針に本発明は適用可能なもので
ある。
ＬＥＤや太陽光等の光源を校正光源とすることもできる
。また、光ガイド５の代わりに光ファイバを使用したり
、単数あるいは複数個の固体撮像素子を使用したり、望
遠鏡２の前部に走査鏡を有し機械走査式によって走査を
行ったりする各種の放射針に本発明は適用可能なもので
ある。
以上説明したように、本発明は、制御信号に応じて光の
透過率が変化する透過率可変器を使用して１個の校正光
源から複数レベルの校正光量を得°ζ多点校正を可能な
らしめているので、第４図の如く複数個のランプとハー
フミラ−等を使用した装置に比べて重量５サイズ、電力
が共に小さくなり、また多数個のランプ使用によって必
然的に生じるランプ間の劣化の相違等による問題点も解
消されるや更に、第５図の回転板のように光学系へのコ
ンタミネーション等の問題もなく、寿命や精度も低下さ
せずに、２レベル以上の校正光量による多点校正によっ
て放射計データ利用者が満足する校正精度を得ることが
可能となる。
透過率が変化する透過率可変器を使用して１個の校正光
源から複数レベルの校正光量を得°ζ多点校正を可能な
らしめているので、第４図の如く複数個のランプとハー
フミラ−等を使用した装置に比べて重量５サイズ、電力
が共に小さくなり、また多数個のランプ使用によって必
然的に生じるランプ間の劣化の相違等による問題点も解
消されるや更に、第５図の回転板のように光学系へのコ
ンタミネーション等の問題もなく、寿命や精度も低下さ
せずに、２レベル以上の校正光量による多点校正によっ
て放射計データ利用者が満足する校正精度を得ることが
可能となる。
第１図は本発明の一実施例の構成図、
第２図は透過率可変器８として使用するアモルファス半
導体素子の制′４′Ｂ電圧対光透過率特性の一例を示す
図、 第３図は放射計の入力対出力特性図、 第４図は従来の放射計の軌道上校正装置の構成図および
、 第５図は地上設置装置で使用される回転板形式の光源光
量可変装置の構成図である。 図において、 １・・・撮像光 ２・・・望遠鏡 ３・・・固体撮像素子 ４・・・ランプ ５・・・光ガイド ６・・・校正光導入ミラー ７・・・校正光 ８・・・透過率可変器 ９・・・校正光モニタ素子 １０・・・波長選択ハーフミラ− １１・・・制御部
導体素子の制′４′Ｂ電圧対光透過率特性の一例を示す
図、 第３図は放射計の入力対出力特性図、 第４図は従来の放射計の軌道上校正装置の構成図および
、 第５図は地上設置装置で使用される回転板形式の光源光
量可変装置の構成図である。 図において、 １・・・撮像光 ２・・・望遠鏡 ３・・・固体撮像素子 ４・・・ランプ ５・・・光ガイド ６・・・校正光導入ミラー ７・・・校正光 ８・・・透過率可変器 ９・・・校正光モニタ素子 １０・・・波長選択ハーフミラ− １１・・・制御部
Claims (1)
- 固体撮像素子から構成される光電変換手段と前記固体撮
像素子に被撮像体からの入射光を導く光学的手段とを含
む宇宙飛行体搭載用の放射計に設けられ、校正光源から
の光を前記光学的手段を通じて前記固体撮像素子に入力
しその際に得られる前記固体撮像素子の出力に基づいて
前記放射計の感度の軌道上校正を行う軌道上校正装置に
おいて、制御信号に応じて光の透過率が変化する透過率
可変器を、前記校正光源と前記光学的手段との間の光路
上に設けてなることを特徴とする放射計の軌道上校正装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1254345A JPH076835B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 放射計の軌道上校正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1254345A JPH076835B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 放射計の軌道上校正装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03115816A true JPH03115816A (ja) | 1991-05-16 |
| JPH076835B2 JPH076835B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=17263705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1254345A Expired - Lifetime JPH076835B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 放射計の軌道上校正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076835B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5302823A (en) * | 1992-08-31 | 1994-04-12 | Itt Corporation | Satellite solar band calibration source target apparatus |
| JP2006133147A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Kowa Co | 光測定方法及び装置 |
| EP1901045A2 (de) | 2006-09-13 | 2008-03-19 | Jena-Optronik GmbH | Vorrichtung zur mehrstufigen Dämpfung einfallender Strahlungsenergie |
| JP4728499B2 (ja) * | 2001-04-06 | 2011-07-20 | 株式会社ワコール | 上半身衣類 |
-
1989
- 1989-09-29 JP JP1254345A patent/JPH076835B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5302823A (en) * | 1992-08-31 | 1994-04-12 | Itt Corporation | Satellite solar band calibration source target apparatus |
| JP4728499B2 (ja) * | 2001-04-06 | 2011-07-20 | 株式会社ワコール | 上半身衣類 |
| JP2006133147A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Kowa Co | 光測定方法及び装置 |
| EP1901045A2 (de) | 2006-09-13 | 2008-03-19 | Jena-Optronik GmbH | Vorrichtung zur mehrstufigen Dämpfung einfallender Strahlungsenergie |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH076835B2 (ja) | 1995-01-30 |
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