JPH03109763A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH03109763A
JPH03109763A JP1248329A JP24832989A JPH03109763A JP H03109763 A JPH03109763 A JP H03109763A JP 1248329 A JP1248329 A JP 1248329A JP 24832989 A JP24832989 A JP 24832989A JP H03109763 A JPH03109763 A JP H03109763A
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semiconductor integrated
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Tsuguyasu Hatsuda
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Abstract

PURPOSE:To enable leak current of a power supply to be evaluated easily with a few additions of hardware by providing a means for setting a signal line to be precharged at a ground potential or a power supply potential. CONSTITUTION:The title item has discharge circuits 101-103 and a signal is set to a ground potential when a test signal is valid and a precharge signal is invalid, or it is set to a power supply potential when the test signal is valid or the precharge signal is valid. Thus, the precharged signal line cannot be set to be in a high-impedance state at any timing, thus preventing pass-through current from occurring on a receiving side while being still. Since this setting is possible by the use of one p-type MNOS transistor or one n-type MOS transistor for each signal line, no test vector needs to be generated for setting a large- scale inner state, thus enabling a power supply leak current which is caused by the production process to be evaluated easily.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は電源リーク電流の評価を容易にした相補型MO
8(CMO3)半導体集積回路装置に関するものであも 従来の技術 従来 半導体集積回路装置の高速動作が必要な部分にお
いて、プリチャージを使用したダイナミック回路が用い
られていも 例え(瓜 内部バ入オンチップメモリ、加
算器の桁上げ伝搬回路などである。第3図にダイナミッ
ク回路を用いた従来の半導体集積回路装置のブロック図
を示す。外部からのクロック入力300に従って、クロ
ック発生回路で内部クロックP H1(301)とP 
H2(302)が生成されも303はオンチップメモリ
、304はデータ処理を行なう第1のモジューノL/、
305は外部または内部の別モジュールからのデータを
オンチップメモリ303または第1のモジュール304
に出力する第2のモジュールである。第1のモジュール
304で処理されるデータ(よ 第1のバス306によ
って供給されも この第1のバス306はP H2(3
02)が高電位の期間にプリチャージ回路307でプリ
チャージされる。また 第1の演算モジュール304ま
たは第2のモジュール305からオンチップメモリ30
3に書き込まれるデータは第2のバス308を使って転
送されも第2のバス308はP H1(301)が高電
位の期間にプリチャージ回路309でプリチャージされ
7)。310はオンチップメモリ303の中のメモリセ
フk  311と312はそれぞれデータのビット線B
とデータの論理反転用のビット線Bで、プリチャージ回
路313でプリチャージされモ314はワード線WD、
  315はセンスアンプであa データ読み出しの場
合に(よ 読み出しイネーブル信号RE31代  ラッ
チ回路317のイネーブル信号LE318が有効となり
、データがラッチ回路317に保持される。この出力デ
ータはトライステートバッファ319で制御されも ま
たデータ書き込みの場合には 書き込みイネーブル信号
WE320が有効となりメモリセルデータが書き込まれ
る。このデータにt、第2のバス308からPH2同期
とPH1同期のラッチ回路321と322を介して転送
されていも オンチップメモリ303% 第1のモジュ
ール304.第2のモジュール305の出力(よ 所定
のタイミングで第1のバス30a、第2のバス308に
出力されも また プリチャージ回路307.309.
313はp型MOSトランジスタで構成されている。第
4図により、第3図に示した従来のダイナミック回路を
用いた半導体集積回路の動作タイミングを説明すも ク
ロック入力300の電位に従って(400)、内部クロ
ックPHIとPH2が生成される(401.402)−
。ビット線B511SB312はPH1が高電位の期間
にプリチャージされ(403a)、データ読み出しの場
合にはワード線W D 314と読み出しイネーブル信
号RE316が有効となり、(404’)、ビット線の
電位が確定する(403bまたは403c)。読み出さ
れたデータはラッチ回路317に保持される(405)
。第1のバス306はPH2が高電位の期間にプリチャ
ージされ(406a)、オンチップメモリ303の出力
または第2のモジュール305の出力に従って電位が確
定する(406bまたは406c)。また第2のバス3
08はPH1が高電位の期間にプリチャージされ(40
7a)、第1のモジュール304の出力または第2のモ
ジュール305の出力に従って電位が確定する(407
bまたは407c)。
[Detailed Description of the Invention] Industrial Application Field The present invention provides a complementary MOSFET that facilitates the evaluation of power supply leakage current.
8 (CMO3) Regarding semiconductor integrated circuit devices, conventional technology Even if a dynamic circuit using precharge is used in the parts of a semiconductor integrated circuit device that require high-speed operation, for example These include memories, adder carry propagation circuits, etc. Fig. 3 shows a block diagram of a conventional semiconductor integrated circuit device using a dynamic circuit.According to an external clock input 300, a clock generation circuit generates an internal clock P H1. (301) and P
H2 (302) is generated, 303 is an on-chip memory, 304 is a first module L/ that performs data processing,
305 stores data from another module externally or internally into the on-chip memory 303 or the first module 304.
This is the second module that outputs to. The data to be processed in the first module 304 (as supplied by a first bus 306) is
02) is precharged by the precharge circuit 307 during a high potential period. Also, from the first arithmetic module 304 or the second module 305 to the on-chip memory 30
The data to be written in 3 is transferred using the second bus 308, and the second bus 308 is precharged by a precharge circuit 309 while PH1 (301) is at a high potential 7). 310 is a memory safe k in the on-chip memory 303. 311 and 312 are data bit lines B, respectively.
A bit line B for logical inversion of data is precharged by a precharge circuit 313, and a word line WD is precharged by a precharge circuit 313.
Reference numeral 315 denotes a sense amplifier a. In the case of data reading (read enable signal RE31), the enable signal LE318 of the latch circuit 317 becomes valid, and the data is held in the latch circuit 317. This output data is controlled by the tri-state buffer 319. However, in the case of data writing, the write enable signal WE320 becomes valid and memory cell data is written.This data is transferred from the second bus 308 via the PH2 synchronous and PH1 synchronous latch circuits 321 and 322. The on-chip memory 303% is the output of the first module 304 and the second module 305 (which is output to the first bus 30a and the second bus 308 at a predetermined timing) and the precharge circuit 307, 309.
313 is composed of a p-type MOS transistor. The operation timing of the semiconductor integrated circuit using the conventional dynamic circuit shown in FIG. 3 will be explained with reference to FIG. 4.In accordance with the potential of the clock input 300 (400), internal clocks PHI and PH2 are generated (401. 402)-
. The bit line B511SB312 is precharged while PH1 is at a high potential (403a), and in the case of data reading, the word line WD 314 and the read enable signal RE316 are enabled (404'), and the potential of the bit line is determined. (403b or 403c). The read data is held in the latch circuit 317 (405)
. The first bus 306 is precharged while PH2 is at a high potential (406a), and the potential is determined according to the output of the on-chip memory 303 or the output of the second module 305 (406b or 406c). Also the second bus 3
08 is precharged during the period when PH1 is at high potential (40
7a), the potential is determined according to the output of the first module 304 or the output of the second module 305 (407
b or 407c).

第2のバス308のデータはラッチ321.322に保
持される(408)。データ書き込みの場合にはワード
線WD314と書き込みイネーブル信号W E 320
が有効となり(409)、ビット線の電位が確定する(
403bまたは403c)。
The data on the second bus 308 is held in latches 321, 322 (408). In the case of data writing, word line WD314 and write enable signal W E 320
becomes valid (409), and the potential of the bit line is determined (
403b or 403c).

発明が解決しようとする課題 CMO5型の半導体集積回路で(よ スイッチング動作
以外のときは電流を流さないたべ 定常的な大きな電源
リーク電流は発生しな1+〜 もし電源リーク電流が大
きい場合に(友 不良の可能性が高1、%  すなわ板
 電源リーク電流を評価することにより、CMO5半導
体集積回路装置のトランジスタのでき具合、製造プロセ
スの条件変動の有胤配線のショートやゲート酸化膜異常
等の故障の存在を知ることができも 従って電源リーク
電流の測定41  半導体集積回路装置の評価や不良解
析の上で重要な意義を有する。ところ力丈 従来技術で
示したようなダイナミック回路を使用する半導体集積回
路装置では静止時に大きな貫通電流が流れる場合があり
、電源リーク電流が正確に測れないという問題があa 
第3図の例で(よ クロック入力300が低電位でかつ
第2のバス308にデータが出力されない場合、内部ク
ロックP H1(301)が低電位となって第2のバス
308のプリチャージが切れ高インピーダンス状態とな
も そのたべ バスに接続されたゲートのゲート容量お
よび配線容量に蓄積された電荷は時間の経過と共にリー
クによって放電し バスの電位が中間電位になることか
ら受は側のゲートで大きな貫通電流が発生すも またク
ロック入力が低電位でかつデータの書き込みかない場合
にζよ ビット線B 311、B 312はブリラヤー
ジが切れるため高電位の高インピーダンスζになa ビ
ット線も第2のバス308と同様に放電すために中間電
位になり、受は側のゲートで貫通q流が発生する。これ
らの貫通電流はクロック入ブを高電位に設定することに
より回避できも し力しこの場合にはP H2(302
)が低電位になるたべ第1のバス306において第2の
バス308で発生し大現象七同様の現象が起こり、大き
な貫通電流が炎生じてしまう。上記のようへ 半導体集
積回路装置の回路規模が大きくかつ機能が複雑になるき
、回路構成上いずれかの箇所で貫通電流が発生してしま
t、X、この電流が混入してしまうことがら製造プロセ
スが要因となる電源リーク電流の正確な演・定ができな
いという問題点かあっ九 またこの貫通電流は放電現象
に起因しているために測定値が安定するまでに数秒から
数十秒の長時間を要しさらに測定周囲温度や光の照射に
よって安定するまでの時間が大きく変わるた八 測定条
件の統一が困難であるという問題点があっ九 信号線の
高インピーダンス状態はテストベクタによる内部状態の
設定である程度回避できる力丈 回路規模が大きくなっ
たり、信号の人力部から該当する信号線までの論理段数
が深い場合に(上 テストベクタの作成が困難になり、
内部状態の設定は不可能になってく翫 本発明は上記課
題に鑑みてなされたものであり、少ないハードウェアの
追加により、電源リーク電流の評価が容易に行なえる半
導体集積回路装置を提供することを目的とすも 課題を解決するための手段 本発明は上記課題を解決するた八 プリチャージされる
複数の信号線を接地電位または電源電位に設定する手段
を備え テスト信号が有効でかつプリチャージ信号が無
効である場合に前記複数の信号線を接地電位に設定する
か、 または前記テスト信号が有効または前記プリチャ
ージ信号が有効である場合に前記複数の信号線を電源電
位に設定する半導体集積回路装置であも 作用 プリチャージされる信号線は接地電位または電源電位に
設定する手段に接続されていも これによって信号線C
i  テスト信号が有効でかつプリチャージ信号が無効
である場合に接地電位に設定される力\ またはテスト
信号が有効かまたはプリチャージ信号が有効である場合
に電源電位に設定される。従“って、プリチャージされ
る信号線はどのようなタイミングにおいても高インピー
ダンス状態にならないた八 静止時に受は側のゲートで
貫通電流が発生することがな(〜 この設定は各信号線
あたりp型MO3)ランジスタまたはn型MOSトラン
ジスタ1個で可能なた取 大きなハードウェアを追加す
ることなく、また大規模な内部状態設定用のテストベク
タを生成する必要もないことか収 製造プロセスが要因
となる電源リーク電流を容易に評価することができも 実施例 以下本発明の実施例を図面を用いて説明すも(実施例1
) 第1図は 本発明の一実施例である半導体集積回路装置
のブロック図である。な叙 第3図の構成要素と同一の
もの1上 第3図と同一の番号で示しである。第1図に
おいて、101はP H2(302)が低電圧でかつテ
スト信号T S T 104が有効である場合に第1の
バス306を接地電位に設定する放電同区102はPH
1が低電位でかつテスト信号T S T 104が有効
である場合に第2のバス308を接地電位に設定する放
電回路である。103はPH1が低電位でかつテスト信
号T S T 104が有効である場合にビット線B5
11とB 312を接地電位に設定する放電回路であム
 テスト信号T S T 104は低電位に設定された
ときに有効であり、ワード線W D 314. 読み出
しイネーブルRE31a、  書き込みイネーブルWE
320は無効にされも ま瓢 オンチップメモリ30a
、第1のモジュール304.第2のモジュールjo5の
トライステート出力の制御信号もすべて無効にされ デ
−タは出力されなt、)。な抵 放電回路101.10
2゜103の放電用のトランジスタはn型MOSトラン
ジスタで構成されていも 第1図の実施例では 電源リ
ーク電流の評価時にテスト信号T S T 104が低
電位に設定される。クロック人力300の設定によりプ
リチャージが切れた信号線(友 テスト信号TST10
4が有効でかつプリチャージ信号が無効であることか収
 放電回路101.10&  103によって接地電位
に設定される。また プリチャージ中の信号線は高電位
に設定される。従って、どのようなタイミングにおいて
も信号線が高インピーダンス状態にならないた八 受は
側のゲートで貫通電流が発生することがな(t この設
定(上 放電イネーブル信号生成用のプリチャージ信号
の反転とテスト信号の論理積を生成するAND回路(第
1図ではNDR回路で実現)と、各信号線あたり1個の
n型MOSトランジスタとを付加1.、AND回路の出
力でn型MO3)ランジスタを制御するだけでできる。
Problems to be Solved by the Invention In a CMO5 type semiconductor integrated circuit (i.e., no current flows except during switching operations), no steady large power supply leakage current occurs.1+~ If the power supply leakage current is large, There is a high probability of failure of 1%. In other words, by evaluating the power supply leakage current, it is possible to check the quality of the transistors in the CMO5 semiconductor integrated circuit device, as well as possible wiring shorts and gate oxide film abnormalities due to variations in manufacturing process conditions. It is possible to know the existence of a failure, and therefore it has important significance in the evaluation and failure analysis of semiconductor integrated circuit devices.Measurement of power supply leakage current has an important meaning in the evaluation and failure analysis of semiconductor integrated circuit devices. In integrated circuit devices, a large through-current may flow when the device is stationary, and there is a problem that power supply leakage current cannot be measured accurately.
In the example of FIG. 3, when the clock input 300 is at a low potential and no data is output to the second bus 308, the internal clock P H1 (301) is at a low potential and the second bus 308 is precharged. The charge accumulated in the gate capacitance and wiring capacitance of the gate connected to the bus is discharged by leakage over time, and the potential of the bus becomes an intermediate potential. However, when the clock input is at a low potential and there is no data writing, the bit lines B 311 and B 312 become high potential and high impedance ζ because the bit lines B 311 and B 312 are disconnected, so they become high impedance ζ. Similar to the bus 308, the voltage becomes intermediate for discharging, and a through current occurs at the gate on the side of the receiver.These through currents can be avoided by setting the clock input bus to a high potential. In this case, P H2 (302
) occurs in the first bus 306 and the second bus 308, and a phenomenon similar to that in Major Phenomenon 7 occurs, resulting in a large through current. As mentioned above, as the circuit scale of a semiconductor integrated circuit device becomes large and its functions become complex, a through current may occur at some point in the circuit configuration, and this current may enter the manufacturing process. The problem is that it is not possible to accurately estimate the power supply leakage current caused by the process.Also, since this through current is caused by a discharge phenomenon, it takes several seconds to several tens of seconds for the measured value to stabilize. Furthermore, the time required for stabilization varies greatly depending on the measurement ambient temperature and light irradiation.There is also the problem that it is difficult to unify the measurement conditions. This can be avoided to some extent by changing the settings.If the circuit scale becomes large or the number of logic stages from the signal input section to the corresponding signal line is deep (above), it becomes difficult to create test vectors.
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device in which power supply leakage current can be easily evaluated by adding a small amount of hardware. In order to solve the above-mentioned problems, the present invention includes means for setting a plurality of signal lines to be precharged to a ground potential or a power supply potential. A semiconductor integrated circuit that sets the plurality of signal lines to a ground potential when the signal is invalid, or sets the plurality of signal lines to a power supply potential when the test signal is valid or the precharge signal is valid. Even if the signal line to be precharged in a circuit device is connected to a means for setting it to ground potential or power supply potential, the signal line C
i Force set to ground potential when the test signal is valid and the precharge signal is invalid; or set to power supply potential when the test signal is valid or the precharge signal is valid. Therefore, the signal line to be precharged will not enter a high impedance state at any timing, and a through current will not occur at the gate on the receiving side when it is stationary (~ This setting is made for each signal line. This can be achieved with a single p-type MO3) transistor or n-type MOS transistor.There is no need to add large hardware or to generate test vectors for large-scale internal state settings.The manufacturing process is a factor. Embodiments of the present invention will be described below using drawings (Example 1).
) FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor integrated circuit device which is an embodiment of the present invention. Components that are the same as those in Figure 3 are indicated by the same numbers as in Figure 3 above. In FIG. 1, 101 is a discharge section 102 that sets the first bus 306 to ground potential when P H2 (302) is a low voltage and the test signal T S T 104 is valid.
1 is a discharge circuit that sets the second bus 308 to the ground potential when the test signal T S T 104 is at a low potential and the test signal T S T 104 is valid. 103 is the bit line B5 when PH1 is at a low potential and the test signal T S T 104 is valid.
11 and B 312 to ground potential. The test signal T S T 104 is valid when set to a low potential, and the word line W D 314 . Read enable RE31a, write enable WE
320 may be disabled. On-chip memory 30a
, first module 304. All control signals for the tri-state output of the second module jo5 are also disabled and no data is output. Resistance discharge circuit 101.10
Although the discharging transistor 2° 103 is composed of an n-type MOS transistor, in the embodiment shown in FIG. 1, the test signal T S T 104 is set to a low potential when evaluating the power supply leakage current. The signal line whose precharge was cut off due to the setting of clock power 300 (friend test signal TST10
4 is valid and the precharge signal is invalid, it is set to the ground potential by the collection and discharge circuits 101, 10 and 103. Also, the signal line during precharging is set to a high potential. Therefore, the signal line will not enter a high impedance state at any timing, and no through current will occur at the gate on the side of the receiver. Add an AND circuit (realized by an NDR circuit in Figure 1) that generates a logical product of test signals, and one n-type MOS transistor for each signal line. All you have to do is control it.

従って、簡単なハードウェアの追加だけて内部設定用の
テストベクタを生成する必要もなく、製造プロセスが要
因となる電源リーク電流を容易に評価することができる
Therefore, there is no need to generate test vectors for internal settings by simply adding hardware, and power supply leakage current caused by the manufacturing process can be easily evaluated.

(実施例2) 第2図(上 本発明の第2の実施例である半導体集積回
路装置のブロック図である。第2図において、201は
PH2が高電位またはテスト信号TST104が有効で
ある場合に第1のバス306をプリチャージするプリチ
ャージ同区202はPH1が高電位またはテスト信号T
 S T 104が有効である場合に第2のバス308
をプリチャージするプリチャージ回肱203はPH1が
高電位またはテスト信号T S T 104が有効であ
る場合にビット線B511.  B512をプリチャー
ジするプリチャージ回路である。第2の実施例において
、テスト信号T S T 104が有効な場合、ワード
線W D 314.  読み出しイネーブルRE316
゜書き込みイネーブルW E 320は無効にされる。
(Embodiment 2) Figure 2 (above) is a block diagram of a semiconductor integrated circuit device which is a second embodiment of the present invention. In Figure 2, 201 indicates a case where PH2 is at a high potential or the test signal TST104 is valid. The precharge section 202 precharges the first bus 306 when PH1 is at a high potential or when the test signal T
Second bus 308 if S T 104 is enabled
The precharge circuit 203 precharges the bit line B511. when PH1 is at a high potential or the test signal TST 104 is valid. This is a precharge circuit that precharges B512. In a second embodiment, when test signal T S T 104 is valid, word line W D 314 . Read enable RE316
゜Write enable W E 320 is disabled.

またオンチップメモリ303.第1のモジュール304
.第2のモジュール305のトライステート出力の制御
信号もすべて無効にされ データは出力されな(tまた
プリチャージ回路201. 202. 203のプリチ
ャージ用のトランジスタはp型MOSトランジスタで構
成されている。第2図の実施例で1よ 電源り−少電流
の評価時にテスト信号T S T 104が低電位に設
定される。このためクロック入力300の設定によって
プリチャージの切れた信号線はテスト信号TS T 1
04が有効であることから引き続きプリチャージされ 
高電位に設定される。従って、どのようなタイミングに
おいても信号線が高インピーダンス状態にならないた八
 受は側のゲートで貫通電流が発生することがなり〜 
この設定(上 通常動作時のプリチャージ信号とテスト
信号の論理和を生成するOR回路を付加し その出力で
プリチャージ回路のp型MOSトランジスタを制御する
だけで実現できる。従って、簡単な]1−ドウエアの追
加だけで、内部設定用のテストベクタを生成する必要モ
なく、製造プロセスが要因となる電源り一り電流を容易
に評価することができる。
Also, on-chip memory 303. first module 304
.. All the control signals for the tri-state output of the second module 305 are also invalidated, and no data is output (also, the precharge transistors of the precharge circuits 201, 202, and 203 are composed of p-type MOS transistors. In the embodiment shown in FIG. 2, the test signal T S T 104 is set to a low potential when the power is turned on and a small current is evaluated. Therefore, the signal line whose precharge is cut off due to the setting of the clock input 300 is set to the test signal T S T 1
Since 04 is valid, it will continue to be precharged.
Set to high potential. Therefore, if the signal line does not enter a high impedance state at any timing, a through current will occur at the gate on the side of the receiver.
This setting (above) can be achieved by simply adding an OR circuit that generates the logical sum of the precharge signal and the test signal during normal operation, and controlling the p-type MOS transistor of the precharge circuit with its output. Therefore, it is simple] 1 - By simply adding software, there is no need to generate test vectors for internal settings, and it is possible to easily evaluate the power supply current, which is caused by the manufacturing process.

発明の効果 本発明によれば プリチャージされる信号線を接地電位
へまたは電源電位に設定する手段を若干のハードウェア
の追加で実現することにより、(1)ダイナミックな動
作を行う回路でも信号線の高インピーダンス状態を回避
できるた八 容易かつ正確に電源リーク電流が測定でき
も(2)内部設定用のテストベクタが不要なたべ大規模
な同区 論理段数の深い回路でも容易かつ正確に電源リ
ーク電流が測定できる。
Effects of the Invention According to the present invention, by realizing means for setting the precharged signal line to the ground potential or the power supply potential by adding some hardware, (1) the signal line can be easily used even in a circuit that performs dynamic operation. (2) There is no need for test vectors for internal settings, and it is possible to easily and accurately measure power supply leakage current even in large-scale circuits with deep logic stages. Current can be measured.

(3)内部設定用のテストベクタを生成する必要がない
た敢 テストベクタ生成の時間を削減できも (4)電源リーク電流の測定が容易になるたへ評価の効
率化と不良解析の容易化が図れる等の効果があり、大規
模な半導体集積回路装置の評価に極めて有用であも
(3) It is not necessary to generate test vectors for internal settings, which reduces the time required to generate test vectors. (4) It is easier to measure power supply leakage current, which makes evaluation more efficient and failure analysis easier. It is extremely useful for evaluating large-scale semiconductor integrated circuit devices.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例における半導体集積回路
装置の構成巨 第2図は本発明の第2の実施例における
半導体集積回路装置の構成は 第3図は従来のダイナミ
ック回路を用いた半導体集積回路装置の構成医 第4図
は従来のダイナミック回路を用いた半導体集積回路装置
のタイミング図であも 101.102. 103・・・・放電同区104・・
・・テスト信号 201.202..20東 307.
30大 313・・・・プリチャージ回i  301・
・・・内部クロックPH1,302・・・・内部クロッ
クPH2,303・・・・オンチップメモリ、304・
・・・第1のモジュー)I4 305・・・・第2のモ
ジュール、306・・・・第1のバフ5308・・・・
第2のバ入310・・・・メモリセル、 311.31
2・・・・ビット亀316・・・・センスアンス
FIG. 1 shows the configuration of a semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 shows the configuration of a semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment of the present invention. FIG. 3 shows the configuration using a conventional dynamic circuit. Figure 4 is a timing diagram of a semiconductor integrated circuit device using a conventional dynamic circuit. 103...discharge area 104...
...Test signal 201.202. .. 20 East 307.
30 large 313...Precharge times i 301.
...Internal clock PH1, 302...Internal clock PH2, 303...On-chip memory, 304...
...1st module) I4 305...2nd module, 306...1st buff 5308...
Second input 310...memory cell, 311.31
2... Bit Turtle 316... Sense Ans

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)プリチャージ信号によってプリチャージされる複
数の信号線を有する回路において、前記複数の信号線を
接地電位または電源電位に設定する手段を備え、テスト
信号が有効でかつ前記プリチャージ信号が無効である場
合に前記複数の信号線を接地電位に設定するか、または
前記テスト信号が有効または前記プリチャージ信号が有
効である場合に前記複数の信号線を電源電位に設定する
ことを特徴とする半導体集積回路装置。
(1) A circuit having a plurality of signal lines precharged by a precharge signal, comprising means for setting the plurality of signal lines to a ground potential or a power supply potential, and the test signal is valid and the precharge signal is invalid. The plurality of signal lines are set to a ground potential when the test signal is valid, or the plurality of signal lines are set to a power supply potential when the test signal is valid or the precharge signal is valid. Semiconductor integrated circuit device.
(2)プリチャージされる複数の信号線を接地電位に設
定する手段がn型MOSトランジスタで構成され、プリ
チャージ信号の反転とテスト信号との論理積を生成する
AND回路の出力により、前記n型MOSトランジスタ
を制御することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の半導体集積回路装置。
(2) The means for setting the plurality of signal lines to be precharged to the ground potential is composed of an n-type MOS transistor, and the n 2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit device controls a type MOS transistor.
(3)プリチャージされる複数の信号線を電源電位に設
定する手段がp型MOSトランジスタで構成され、プリ
チャージ信号とテスト信号との論理和を生成するOR回
路の出力により、前記p型MOSトランジスタを制御す
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体
集積回路装置
(3) The means for setting the plurality of signal lines to be precharged to the power supply potential is composed of p-type MOS transistors, and the p-type MOS A semiconductor integrated circuit device according to claim 1, which controls a transistor.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008059725A (en) * 2006-09-01 2008-03-13 Fujitsu Ltd Semiconductor device

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