JPH0675022A - Semiconductor integrated circuit device and testing method therefor - Google Patents
Semiconductor integrated circuit device and testing method thereforInfo
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- JPH0675022A JPH0675022A JP4231033A JP23103392A JPH0675022A JP H0675022 A JPH0675022 A JP H0675022A JP 4231033 A JP4231033 A JP 4231033A JP 23103392 A JP23103392 A JP 23103392A JP H0675022 A JPH0675022 A JP H0675022A
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Abstract
Description
【0001】〔目 次〕産業上の利用分野 従来の技術(図9) 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段(図1,2) 作用 実施例 (1)第1の実施例の説明(図3〜7) (2)第2の実施例の説明(図8) 発明の効果[Table of Contents] Industrial Application Field of the Prior Art (FIG. 9) Problem to be Solved by the Invention Means for Solving the Problem (FIGS. 1 and 2) Action Example (1) First Example (FIGS. 3 to 7) (2) Description of the second embodiment (FIG. 8)
【0002】[0002]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置及
びその試験方法に関するものであり、更に詳しく言え
ば、ゲートアレイやスタンダードセル等のチップに内蔵
された半導体記憶回路を試験する回路及びその試験方法
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and a test method thereof, and more specifically, a circuit for testing a semiconductor memory circuit built in a chip such as a gate array or a standard cell, and a circuit therefor. It relates to the test method.
【0003】近年、半導体装置の高集積,高密度化に伴
いゲートアレイやスタンダードセル等のチップにRAM
(随時書込み/読出し可能なメモリ)を内蔵した大規模
な半導体集積回路(以下LSIという)装置が開発され
る傾向にある。また、LSI装置の高機能化,高性能化
の要求に伴い、RAMのアクセスタイムも益々高速化さ
れる傾向にある。In recent years, as semiconductor devices have been highly integrated and highly densified, RAMs have been mounted on chips such as gate arrays and standard cells.
A large-scale semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as LSI) device having a built-in (writable / readable memory at any time) tends to be developed. Further, with the demand for higher performance and higher performance of LSI devices, the access time of RAM tends to be further increased.
【0004】これによれば、大規模LSI装置の試験を
するLSIテスタの負担軽減のために、該LSI装置内
部にその試験を補助する試験用回路が設けられ、例え
ば、試験用クロック入力端子に試験クロック信号が入力
されてから、出力側周辺回路に接続された試験用出力端
子に試験出力データが出力される間の時間差を測定する
ことによりRAMの動作試験が行われる。According to this, in order to reduce the load on the LSI tester for testing a large-scale LSI device, a test circuit for assisting the test is provided inside the LSI device. For example, a test clock input terminal is provided at the test clock input terminal. The operation test of the RAM is performed by measuring the time difference between the input of the test clock signal and the output of the test output data to the test output terminal connected to the output side peripheral circuit.
【0005】このため、入力側周辺回路,出力側周辺回
路に至る試験入力配線や試験クロック配線による試験デ
ータ,試験クロック信号及び試験出力データの遅延時間
がRAMの真のアクセスタイムに介入することとなる。
このことで、半導体集積回路装置の高機能化,高性能化
に伴い、益々高速化されるのアクセスタイムに対して、
真の評価をしようとする場合に、これらの遅延時間を無
視することができない。Therefore, the delay time of the test data, the test clock signal and the test output data by the test input wiring and the test clock wiring leading to the input side peripheral circuit and the output side peripheral circuit intervenes in the true access time of the RAM. Become.
As a result, as the semiconductor integrated circuit device becomes higher in function and higher in performance, the access time is getting faster and faster.
These delays cannot be ignored when trying to make a true evaluation.
【0006】特に、内蔵RAMのアクセスタイムが1
〔ns〕を切る半導体集積回路装置では、試験データや
試験クロック信号を外部から供給し、その試験出力デー
タに基づいて測定する方法では、真のアクセスタイムを
正確に測定することが困難となる。In particular, the access time of the built-in RAM is 1
In a semiconductor integrated circuit device that cuts [ns], it is difficult to accurately measure the true access time by a method of supplying test data or a test clock signal from the outside and measuring based on the test output data.
【0007】そこで、概略,被試験対象のアクセスタイ
ムを示すパルス幅の試験クロック信号を供給し、該パル
ス幅に基づいて固有のパルスを発生する試験用回路を構
成し、周辺回路の影響によらず、真のアクセスタイムを
正確に測定することができる回路と方法が望まれてい
る。In view of this, a test circuit for supplying a test clock signal having a pulse width indicating the access time of the object to be tested and generating a unique pulse based on the pulse width is constructed. What is needed is a circuit and method that can accurately measure the true access time.
【0008】[0008]
【従来の技術】図9は、従来例に係る説明図である。図
9は、従来例に係るRAM内蔵ゲートアレイの試験方法
の説明図を示している。例えば、被試験対象13の一例
となるRAM内蔵ゲートアレイは、図9において、複数
のRAM(随時書込み/読出し可能なメモリ)1,ゲー
トアレイ2,入力側周辺回路3,出力側周辺回路4及び
その他各種入出力端子から成る。2. Description of the Related Art FIG. 9 is an explanatory diagram according to a conventional example. FIG. 9 shows an explanatory diagram of a method of testing a RAM built-in gate array according to a conventional example. For example, a RAM-incorporated gate array, which is an example of the device under test 13, includes a plurality of RAMs (memory capable of writing / reading at any time) 1, a gate array 2, an input-side peripheral circuit 3, an output-side peripheral circuit 4, and a plurality of RAMs in FIG. Other various input / output terminals.
【0009】なお、入力側周辺回路3,出力側周辺回路
4はチップ全体の機能試験のみでは、RAM1の全メモ
リセルの試験を行うことが困難となるため、当該RAM
内蔵ゲートアレイ13を試験をするLSIテスタを補助
するべく試験補助機能を備えている。The input side peripheral circuit 3 and the output side peripheral circuit 4 are difficult to test all the memory cells of the RAM 1 only by the functional test of the entire chip.
A test assisting function is provided to assist an LSI tester that tests the built-in gate array 13.
【0010】例えば、RAM1のアクセスタイムを測定
する場合、図9において、まず、入力側周辺回路3や出
力側周辺回路4にテストモード信号T/Aを供給し、そ
れを,例えば、「H」レベルにして、RAM1をテスト
モードにする。これにより、入力側周辺回路3や出力側
周辺回路4がゲートアレイ2から切り離され、試験クロ
ック信号TCKや試験データTINが供給され、一般の単体
RAMと同様に、その出力側周辺回路4から試験出力デ
ータTOUT が得られる。For example, in the case of measuring the access time of the RAM 1, in FIG. 9, first, the test mode signal T / A is supplied to the input side peripheral circuit 3 and the output side peripheral circuit 4, and the test mode signal T / A is, for example, "H". The level is set and the RAM 1 is set to the test mode. As a result, the input side peripheral circuit 3 and the output side peripheral circuit 4 are separated from the gate array 2, the test clock signal TCK and the test data TIN are supplied, and the test is performed from the output side peripheral circuit 4 similarly to a general single RAM. Output data TOUT is obtained.
【0011】なお、通常の使用時には、入力側周辺回路
3や出力側周辺回路4にテストモード信号T/A=
「L」レベルを供給して、RAM1を通常モードにす
る。これにより、入力側周辺回路3や出力側周辺回路4
がゲートアレイ2に接続され、各種入力データが入力さ
れると、ゲートアレイ2により処理された出力データが
出力される。これにより、RAM1を周辺のゲートアレ
イ2と切り離して単独で、そのRAMのアクセスタイム
等の測定することができる。During normal use, the test mode signal T / A = appears on the input side peripheral circuit 3 and the output side peripheral circuit 4.
The "L" level is supplied to put the RAM1 into the normal mode. As a result, the input side peripheral circuit 3 and the output side peripheral circuit 4 are
Is connected to the gate array 2, and when various input data are input, output data processed by the gate array 2 is output. As a result, the RAM 1 can be separated from the peripheral gate array 2 and the access time of the RAM can be measured independently.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来例のR
AM内蔵ゲートアレイ13の試験方法によれば、図9
(a)に示すように、試験用クロック入力端子に試験ク
ロック信号TCKが入力されてから、出力側周辺回路4に
接続された試験用出力端子に試験出力データTOUTが出
力される間の時間差TAA2を測定することにより行われ
る(図9(b)参照)。By the way, the conventional R
According to the method of testing the AM-incorporated gate array 13, FIG.
As shown in (a), a time difference TAA2 between the input of the test clock signal TCK to the test clock input terminal and the output of the test output data TOUT to the test output terminal connected to the output side peripheral circuit 4. Is measured (see FIG. 9B).
【0013】すなわち、図9(b)において、時刻t0
で入力側周辺回路3に試験クロック信号TCKが入力さ
れ、遅延時間T1 を経た時刻t1において、該クロック
信号TCKがRAM1の入力レジスタに到達し、その真の
アクセスタイムTAA1後の時刻t2にて試験出力データ
TOUT が出力され、その試験出力データTOUT が遅延時
間T2後の時刻t3で出力側周辺回路4に現れる。That is, in FIG. 9B, time t0
Then, the test clock signal TCK is input to the input side peripheral circuit 3 and the clock signal TCK reaches the input register of the RAM1 at the time t1 after the delay time T1 and the test is performed at the time t2 after the true access time TAA1. The output data TOUT is output, and the test output data TOUT appears in the output side peripheral circuit 4 at time t3 after the delay time T2.
【0014】このため、入力側周辺回路3,出力側周辺
回路4に至る試験入力配線や試験クロック配線による試
験データDIN,試験クロック信号TCK及び試験出力デー
タTOUT の遅延時間T1,T2がRAM1の真のアクセ
スタイムTAA1に介入することとなる。このことで、半
導体集積回路装置の高機能化,高性能化に伴い、益々高
速化されるRAM1のアクセスタイムに対して、真の評
価をしようとする場合に、これらの遅延時間T1,T2
を無視することができない。Therefore, the delay times T1 and T2 of the test data DIN, the test clock signal TCK and the test output data TOUT by the test input wiring and the test clock wiring leading to the input side peripheral circuit 3 and the output side peripheral circuit 4 are true of the RAM1. Access time TAA1 of As a result, the delay times T1 and T2 can be reduced when the true evaluation is to be performed on the access time of the RAM 1 which is further increased in speed as the function and performance of the semiconductor integrated circuit device are improved.
Cannot be ignored.
【0015】特に、内蔵RAMのアクセスタイムTAA1
が1〔ns〕を切る半導体集積回路装置では、試験デー
タDINや試験クロック信号TCKを外部から供給し、その
試験出力データTOUT に基づいて測定する方法によって
は、真のアクセスタイムTAA1を正確に測定することが
困難となる。In particular, the access time TAA1 of the built-in RAM
In the semiconductor integrated circuit device whose power consumption is less than 1 [ns], the true access time TAA1 is accurately measured depending on the method of supplying the test data DIN and the test clock signal TCK from the outside and measuring based on the test output data TOUT. Will be difficult to do.
【0016】また、入力ラッチ−出力ラッチ間で、試験
クロック信号TCKの立ち上がり, 立ち下がりを捉えて真
のアクセスタイムTAA1を測定しようとすれば、その出
力ラッチの感度,動作速度が測定精度に反映し、敢えて
高精度の測定装置を開発しようとすると、その開発期間
の長期化,その大型化が余儀なく無くされ、さらに、汎
用性に欠けるという問題がある。If it is attempted to measure the true access time TAA1 by capturing the rising and falling of the test clock signal TCK between the input latch and the output latch, the sensitivity and operating speed of the output latch are reflected in the measurement accuracy. However, if a high-precision measuring device is dared to be developed, there is a problem that the development period is extended and the size is increased, and the versatility is lacking.
【0017】本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創
作されたものであり、概略,被試験対象のアクセスタイ
ムを示すパルス幅の試験クロック信号を供給し、該パル
ス幅に基づいて固有のパルスを発生する試験用回路を構
成し、周辺回路の影響によらず、真のアクセスタイムを
正確に測定することが可能となる半導体集積回路装置及
びその試験方法の提供を目的とする。The present invention was created in view of the problems of the conventional example, and supplies a test clock signal having a pulse width indicating the access time of an object to be tested, and is unique based on the pulse width. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device that constitutes a test circuit that generates a pulse and that can accurately measure a true access time regardless of the influence of peripheral circuits, and a test method thereof.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】図1(a),(b)は、
本発明に係る半導体集積回路装置の原理図であり、図2
(a),(b)は、本発明に係る半導体集積回路装置の
試験方法の原理図をそれぞれ示している。[Means for Solving the Problems] FIGS. 1 (a) and 1 (b) are
2 is a principle diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, and FIG.
(A), (b) has respectively shown the principle figure of the test method of the semiconductor integrated circuit device which concerns on this invention.
【0019】本発明の第1の半導体集積回路装置は、図
1(a)に示すように、記憶回路素子Mを含む内部集積
回路11の試験を補助する試験用回路12が組み込まれ
た半導体集積回路装置において、前記試験用回路12が
記憶回路素子Mの読出しデータDOUT 及び動作クロック
信号CKの論理出力値と、前記論理出力値及び記憶回路
素子Mの出力期待値DRとに基づいて制御タイミング信
号SFを発生することを特徴とする。As shown in FIG. 1A, the first semiconductor integrated circuit device of the present invention is a semiconductor integrated circuit in which a test circuit 12 for assisting the test of the internal integrated circuit 11 including the memory circuit element M is incorporated. In the circuit device, the test circuit 12 causes the control timing signal based on the logical output value of the read data DOUT of the memory circuit element M and the operation clock signal CK, and the logical output value and the expected output value DR of the memory circuit element M. It is characterized by generating SF.
【0020】なお、本発明の第1の半導体集積回路装置
において、前記試験用回路12が図1(b)に示すよう
に、記憶回路素子Mの読出しデータDOUT と動作クロッ
ク信号CKとに基づいて3値出力信号SBを出力する信
号出力回路12Aと、前記3値出力信号SBと記憶回路素
子Mの出力期待値DRとに基づいて制御タイミング信号
SFを発生する信号発生回路12Bから成ることを特徴と
する。In the first semiconductor integrated circuit device of the present invention, the test circuit 12 is based on the read data DOUT of the memory circuit element M and the operation clock signal CK as shown in FIG. 1B. A signal output circuit 12A for outputting a ternary output signal SB, and a signal generation circuit 12B for generating a control timing signal SF based on the ternary output signal SB and an expected output value DR of the storage circuit element M are characterized. And
【0021】さらに、本発明の第2の半導体集積回路装
置は第1の半導体集積回路装置において、図1(b)に
示すように、前記信号発生回路12Aの後段に、制御タイ
ミング信号SFのパルス幅を拡幅する信号拡幅回路12C
が接続されることを特徴とする。Further, in the second semiconductor integrated circuit device of the present invention, in the first semiconductor integrated circuit device, as shown in FIG. 1B, a pulse of the control timing signal SF is provided at the subsequent stage of the signal generating circuit 12A. Signal widening circuit 12C to widen the width
Are connected.
【0022】また、本発明の半導体集積回路装置の第1
の試験方法は、少なくとも、図2(a)に示すように、
被試験対象13となる記憶回路素子Mを含む内部集積回
路11を試験する方法において、図2(b)の処理フロ
ーチャートに示すように、まず、ステップP1で前記被
試験対象13に試験クロック信号TCK及び試験データT
INの供給処理をし、次いで、ステップP2で前記被試験
対象13から帰還する制御タイミング信号SFの監視処
理をし、その後、ステップP3で前記制御タイミング信
号SFに基づいて記憶回路素子MのアクセスタイムTA
Aを測定することを特徴とする。The first aspect of the semiconductor integrated circuit device of the present invention
The test method of at least, as shown in FIG.
In the method of testing the internal integrated circuit 11 including the memory circuit element M to be the test target 13, as shown in the processing flowchart of FIG. 2B, first, at step P1, the test clock signal TCK is sent to the test target 13 as described above. And test data T
IN is supplied, and then in step P2, the control timing signal SF returned from the device under test 13 is monitored. Then, in step P3, the access time of the memory circuit element M is determined based on the control timing signal SF. TA
It is characterized in that A is measured.
【0023】なお、本発明の半導体集積回路装置の第1
の試験方法において、前記制御タイミング信号SFは、
記憶回路素子Mの試験出力データTOUT 及び試験クロッ
ク信号TCKの論理出力値と、前記論理出力値及び記憶回
路素子Mの出力期待値DRとに基づいて発生されること
を特徴とする。The first semiconductor integrated circuit device of the present invention
In the test method of, the control timing signal SF is
It is generated based on the logical output value of the test output data TOUT of the memory circuit element M and the test clock signal TCK, and the logical output value and the expected output value DR of the memory circuit element M.
【0024】さらに、本発明の半導体集積回路装置の第
1の試験方法において、図2(b)の処理フローチャー
トのステップP3Aで前記記憶回路素子Mのアクセスタイ
ムTAAの測定の際に、被試験対象13から帰還する制
御タイミング信号SFに基づいて試験クロック信号TCK
のパルス幅制御をすることを特徴とする。Further, in the first test method of the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the object to be tested is measured when the access time TAA of the memory circuit element M is measured in step P3A of the processing flowchart of FIG. 2 (b). 13 based on the control timing signal SF fed back from the test clock signal TCK
It is characterized in that the pulse width is controlled.
【0025】また、本発明の半導体集積回路装置の第2
の試験方法は第1の試験方法において、前記記憶回路素
子MのアクセスタイムTAAの測定の際に、前記記憶回
路素子Mに内部クロック信号CLKを供給し、前記内部ク
ロック信号CLKのパルス幅を制御タイミング信号SFに
基づいて制御をし、前記内部クロック信号CLKのパルス
幅を測定することを特徴とし、上記目的を達成する。The second aspect of the semiconductor integrated circuit device of the present invention
In the first test method, when the access time TAA of the memory circuit element M is measured, an internal clock signal CLK is supplied to the memory circuit element M to control the pulse width of the internal clock signal CLK. The above object is achieved by performing control based on the timing signal SF and measuring the pulse width of the internal clock signal CLK.
【0026】[0026]
【作 用】本発明の第1の半導体集積回路装置によれ
ば、図1(a)に示すように、試験用回路12が設けら
れ、記憶回路素子Mの読出しデータDOUT 及び動作クロ
ック信号CKの論理出力値と、該論理出力値及び記憶回
路素子Mの出力期待値DRとに基づいて該試験用回路1
2から制御タイミング信号SFが発生される。[Operation] According to the first semiconductor integrated circuit device of the present invention, as shown in FIG. 1A, the test circuit 12 is provided, and the read data DOUT of the memory circuit element M and the operation clock signal CK are The test circuit 1 based on the logical output value and the expected output value DR of the logical output value and the memory circuit element M.
2, the control timing signal SF is generated.
【0027】このため、概略,被試験対象13のアクセ
スタイムTAAを示すパルス幅の試験クロック信号TCK
や内部クロック信号CLK等の動作クロックCKを精度良
く発生させ、さらに、当該試験用回路12と入力ラッチ
回路とを組み合わせ、該制御タイミング信号SFを検出
することにより、記憶回路素子Mの周辺回路によらず、
その記憶回路素子Mの絶対値の小さなアクセスタイムT
AAを精度良く測定することが可能となる。Therefore, in general, the test clock signal TCK having a pulse width indicating the access time TAA of the object 13 to be tested.
Or an internal clock signal CLK or the like, an operation clock CK is generated with high precision, the test circuit 12 and an input latch circuit are combined with each other, and the control timing signal SF is detected. No matter what,
The access time T of the memory circuit element M having a small absolute value
It becomes possible to measure AA with high accuracy.
【0028】すなわち、図1(b)において、試験用回
路12の信号出力回路12Aにより、記憶回路素子Mの読
出しデータDOUT と動作クロック信号CKとに基づいて
3値出力信号SBが出力されると、その3値出力信号S
Bと記憶回路素子Mの出力期待値DRとに基づいて制御
タイミング信号SFが信号発生回路12Bから発生され
る。That is, in FIG. 1B, when the signal output circuit 12A of the test circuit 12 outputs the ternary output signal SB based on the read data DOUT of the memory circuit element M and the operation clock signal CK. , Its three-value output signal S
The control timing signal SF is generated from the signal generating circuit 12B based on B and the expected output value DR of the memory circuit element M.
【0029】例えば、信号発生回路12Bは動作クロック
信号CKのパルス幅がアクセスタイムTAAより大きい
場合に制御タイミング信号SFを発生する。これによ
り、該クロック信号CKのパルス幅がほぼ記憶回路素子
MのアクセスタイムTAAを表すことになり、この制御
タイミング信号SFの発生境界点を外部又は内部で検出
することにより、従来例のような記憶回路素子Mの周辺
回路に至る試験入力配線や試験クロック配線による試験
データTIN,試験クロック信号TCK及び試験出力データ
TOUT の遅延時間T1,T2が記憶回路素子Mの真のア
クセスタイムTAAに直接介入しなくなる。For example, the signal generation circuit 12B generates the control timing signal SF when the pulse width of the operation clock signal CK is larger than the access time TAA. As a result, the pulse width of the clock signal CK almost represents the access time TAA of the memory circuit element M, and by detecting the generation boundary point of the control timing signal SF externally or internally, as in the conventional example. The delay times T1 and T2 of the test data TIN, the test clock signal TCK, and the test output data TOUT by the test input wiring and the test clock wiring reaching the peripheral circuit of the memory circuit element M directly intervene in the true access time TAA of the memory circuit element M. Will not do.
【0030】このことで、半導体集積回路装置の高機能
化,高性能化に伴い、益々高速化される記憶回路素子M
のアクセスタイムTAAに対して、従来例のような遅延
時間T1,T2の影響に左右されなくなり、その真の評
価をすることが可能となる。As a result, the speed of the memory circuit element M is further increased as the function and performance of the semiconductor integrated circuit device are improved.
The access time TAA is not affected by the influence of the delay times T1 and T2 as in the conventional example, and the true evaluation can be performed.
【0031】特に、内蔵記憶回路素子Mのアクセスタイ
ムTAAが1〔ns〕を切る半導体集積回路装置におい
ても、従来例のような試験データDINや試験クロック信
号TCKを外部から供給し、その試験出力データTOUT に
基づいて測定する方法に比べて、真のアクセスタイムT
AAを正確に測定することが可能となる。In particular, even in a semiconductor integrated circuit device in which the access time TAA of the built-in memory circuit element M is less than 1 [ns], the test data DIN and the test clock signal TCK as in the conventional example are supplied from the outside and the test output thereof is output. Compared to the method of measuring based on the data TOUT, the true access time T
It becomes possible to measure AA accurately.
【0032】さらに、本発明の第2の半導体集積回路装
置によれば、図1(b)に示すように、信号発生回路12
Bの後段に、制御タイミング信号SFのパルス幅を拡幅
する信号拡幅回路12Cが接続される。Furthermore, according to the second semiconductor integrated circuit device of the present invention, as shown in FIG.
A signal widening circuit 12C for widening the pulse width of the control timing signal SF is connected to the subsequent stage of B.
【0033】このため、パルス幅の短い制御タイミング
信号SFを検出する能力のない測定装置であっても、そ
のタイミング信号SFが信号拡幅回路12Cにより拡幅さ
れることにより、入力ラッチ−出力ラッチ間で、試験ク
ロック信号TCKの立ち上がり, 立ち下がりを捉えて真の
アクセスタイムTAAを測定する方法に比べて、その出
力ラッチの感度,動作速度等の測定精度に依存されるこ
となく、低精度の測定装置により、該アクセスタイムT
AAを測定することが可能となる。Therefore, even in a measuring device which is not capable of detecting the control timing signal SF having a short pulse width, the timing signal SF is widened by the signal widening circuit 12C, so that the input latch and the output latch are connected. Compared with the method of measuring the true access time TAA by catching the rising and falling of the test clock signal TCK, the measuring device of low accuracy is not dependent on the measuring accuracy of the output latch sensitivity and operating speed. Therefore, the access time T
It becomes possible to measure AA.
【0034】これにより、RAM内蔵半導体集積回路装
置の試験装置の汎用性を図ることが可能となる。また、
本発明の半導体集積回路装置の第1の試験方法によれ
ば、図2(b)の処理フローチャートに示すように、ス
テップP1で被試験対象13に試験クロック信号TCK及
び試験データTINが供給処理されると、ステップP2で
被試験対象13から帰還する制御タイミング信号SFが
監視処理され、その後、ステップP3で制御タイミング
信号SFに基づいて記憶回路素子MのアクセスタイムT
AAが測定される。As a result, the versatility of the test device for the semiconductor integrated circuit device with built-in RAM can be achieved. Also,
According to the first test method of the semiconductor integrated circuit device of the present invention, as shown in the processing flowchart of FIG. 2B, the test clock signal TCK and the test data TIN are supplied to the device under test 13 in step P1. Then, in step P2, the control timing signal SF returned from the device under test 13 is monitored, and then in step P3, the access time T of the memory circuit element M is based on the control timing signal SF.
AA is measured.
【0035】例えば、ステップP2で試験クロック信号
TCKのパルス幅がアクセスタイムTAAより大きい場合
に、記憶回路素子Mの試験出力データTOUT 及び試験ク
ロック信号TCKの論理出力値と、該論理出力値及び記憶
回路素子Mの出力期待値DRとに基づいて発生された制
御タイミング信号SFが検出される。この際に、ステッ
プP3Aで被試験対象13から帰還する制御タイミング信
号SFに基づいて試験クロック信号TCKのパルス幅が制
御される。For example, when the pulse width of the test clock signal TCK is larger than the access time TAA in step P2, the test output data TOUT of the memory circuit element M and the logic output value of the test clock signal TCK, the logic output value and the storage The control timing signal SF generated based on the expected output value DR of the circuit element M is detected. At this time, the pulse width of the test clock signal TCK is controlled based on the control timing signal SF returned from the device under test 13 in step P3A.
【0036】このため、試験クロック信号TCKの立ち下
がりに同期して試験データTINを入力ラッチし、その立
ち上がりに同期して読出しデータDOUT を出力する記憶
回路素子MのアクセスタイムTAAにつき、制御タイミ
ング信号SFに基づいて信号出力回路12Aの3値出力信
号SBを適正に校正することにより、それを精度良く測
定することが可能となる。Therefore, the control timing signal for the access time TAA of the memory circuit element M which inputs and latches the test data TIN in synchronization with the trailing edge of the test clock signal TCK and outputs the read data DOUT in synchronization with its leading edge. By properly calibrating the ternary output signal SB of the signal output circuit 12A based on SF, it becomes possible to measure it accurately.
【0037】これにより、概略,被試験対象13のアク
セスタイムTAAを示すパルス幅の試験クロック信号T
CKを供給し、該パルス幅に基づいて制御タイミング信号
SFを発生する試験用回路12を構成することにより、
該試験クロック信号TCKのパルス幅を観測することで、
その周辺回路の影響によらず、真のアクセスタイムTA
Aを正確に測定することが可能となる。As a result, the test clock signal T having a pulse width that roughly indicates the access time TAA of the device under test 13 is obtained.
By supplying the CK and configuring the test circuit 12 that generates the control timing signal SF based on the pulse width,
By observing the pulse width of the test clock signal TCK,
True access time TA regardless of the influence of its peripheral circuits
It becomes possible to measure A accurately.
【0038】また、本発明の半導体集積回路装置の第2
の試験方法によれば、記憶回路素子Mのアクセスタイム
TAAの測定の際に、ステップP3Aで記憶回路素子Mに
内部クロック信号CLKが供給され、該内部クロック信号
CLKのパルス幅が制御タイミング信号SFに基づいて制
御され、これに基づいて内部クロック信号CLKのパルス
幅が測定される。The second aspect of the semiconductor integrated circuit device of the present invention
According to this test method, when measuring the access time TAA of the memory circuit element M, the internal clock signal CLK is supplied to the memory circuit element M in step P3A, and the pulse width of the internal clock signal CLK is the control timing signal SF. The pulse width of the internal clock signal CLK is measured based on this control.
【0039】このため、概略,被試験対象13のアクセ
スタイムTAAを示すパルス幅の内部クロック信号CLK
を供給し、該パルス幅に基づいて制御タイミング信号S
Fを発生する試験用回路12を構成することにより、該
内部クロック信号CLKのパルス幅を観測することで、そ
の周辺回路の影響によらず、真のアクセスタイムTAA
を正確に測定することが可能となる。Therefore, roughly, the internal clock signal CLK having a pulse width indicating the access time TAA of the device under test 13 is obtained.
And a control timing signal S based on the pulse width.
By observing the pulse width of the internal clock signal CLK by configuring the test circuit 12 that generates F, the true access time TAA can be obtained regardless of the influence of the peripheral circuits.
Can be accurately measured.
【0040】これにより、第1の試験方法と同様に、R
AM内蔵ゲートアレイ等の記憶回路素子Mのアクセスタ
イムTAAについて、その詳細評価を精度の低い測定系
においても実施することができ、記憶回路素子M評価に
おいて重要なパラメータであるアクセスタイムTAAの
実力を精度良く認識することが可能となる。Thus, as in the first test method, R
The detailed evaluation of the access time TAA of the memory circuit element M such as the gate array with built-in AM can be performed in a measurement system with low accuracy, and the ability of the access time TAA, which is an important parameter in the evaluation of the memory circuit element M, can be improved. It is possible to recognize with high accuracy.
【0041】[0041]
【実施例】次に、図を参照しながら本発明の実施例につ
いて説明をする。図3〜8は、本発明の実施例に係る半
導体集積回路装置及びその試験方法を説明する図であ
る。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. 3 to 8 are views for explaining a semiconductor integrated circuit device and a test method thereof according to an embodiment of the present invention.
【0042】(1)第1の実施例の説明 図3は、本発明の第1の実施例に係るRAM内蔵ゲート
アレイの全体構成図であり、図4はそのパスフラグ検出
回路の構成図であり、図5はその動作説明図をそれぞれ
示している。(1) Description of the First Embodiment FIG. 3 is an overall block diagram of a RAM built-in gate array according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a block diagram of its pass flag detection circuit. , FIG. 5 is a diagram for explaining the operation.
【0043】例えば、被試験対象13の一例となるRA
M内蔵ゲートアレイ23は図3において、ゲートアレイ
21,パスフラグ検出回路22,RAM21A,入力側周
辺回路21B,出力側周辺回路21D及び各種入出力端子等
から成る。For example, RA which is an example of the test object 13
3, the M built-in gate array 23 includes a gate array 21, a path flag detection circuit 22, a RAM 21A, an input side peripheral circuit 21B, an output side peripheral circuit 21D, various input / output terminals and the like.
【0044】すなわち、ゲートアレイ21は内部集積回
路11の一実施例であり、論理積,論理和等の論理ゲー
ト回路から成り、通常入力バッファ,通常出力バッファ
やRAM21Aの通常入力ポートや通常出力ポートに接続
される。That is, the gate array 21 is one embodiment of the internal integrated circuit 11, and is composed of a logical gate circuit such as a logical product and a logical sum, and is a normal input buffer, a normal output buffer, and a normal input port and a normal output port of the RAM 21A. Connected to.
【0045】パスフラグ検出回路22は試験用回路12
の一実施例であり、ゲートアレイ21に接続されたRA
M21Aの試験を補助するものである。例えば、パスフラ
グ検出回路22はRAM21Aの読出しデータDOUT の一
例となる試験出力データTIN及び動作クロック信号CK
の一例となる試験クロック信号TCKの論理出力値と、該
論理出力値及びRAM21Aの出力期待値DRの一例とな
る比較データとに基づいて制御タイミング信号SFの一
例となるパスフラグを発生する。なお、パスフラグ検出
回路22の内部構成については、図4において詳述す
る。The pass flag detection circuit 22 is the test circuit 12
Which is one example of the RA connected to the gate array 21.
It assists the M21A test. For example, the pass flag detection circuit 22 uses the test output data TIN and the operation clock signal CK as an example of the read data DOUT of the RAM 21A.
A path flag, which is an example of the control timing signal SF, is generated based on the logic output value of the test clock signal TCK, which is an example, and the comparison data, which is an example of the logic output value and the expected output value DR of the RAM 21A. The internal configuration of the pass flag detection circuit 22 will be described in detail with reference to FIG.
【0046】また、RAM21Aは記憶回路素子Mの一例
であり、ゲートアレイ21で各種論理処理されるデータ
やその結果データを一時記憶するものである。入力側周
辺回路21BはテストモードT/Aに基づいてゲートアレ
イ21とRAM21Aとを切り離し、試験データTINや試
験クロック信号TCKをRAM21Aに供給するものであ
る。なお、入力側周辺回路21B内に設けられた入力ラッ
チ回路21Cは試験クロック信号TCKに基づいて試験デー
タTINをラッチするものである。Further, the RAM 21A is an example of the memory circuit element M, and temporarily stores data which is variously logically processed by the gate array 21 and its result data. The input side peripheral circuit 21B disconnects the gate array 21 and the RAM 21A based on the test mode T / A and supplies the test data TIN and the test clock signal TCK to the RAM 21A. The input latch circuit 21C provided in the input side peripheral circuit 21B latches the test data TIN based on the test clock signal TCK.
【0047】さらに、出力側周辺回路21Dはテストモー
ドT/Aに基づいてゲートアレイ21とRAM21Aとを
切り離し、RAM21Aから読み出された試験出力データ
TOUT を外部に出力するものである。なお、テストモー
ドT/Aが非試験モード(通常使用時)に設定される
と、ゲートアレイ21に入力される通常入力データdin
に基づいて通常出力データdout を出力することができ
る。Further, the output side peripheral circuit 21D disconnects the gate array 21 from the RAM 21A based on the test mode T / A and outputs the test output data TOUT read from the RAM 21A to the outside. When the test mode T / A is set to the non-test mode (during normal use), the normal input data din input to the gate array 21 is input.
The normal output data dout can be output based on
【0048】図4は、本発明の第1の実施例に係るパス
フラグ検出回路の構成図である。例えば、RAM21Aの
試験を補助するパスフラグ検出回路22は図4におい
て、入力回路22A,3値出力回路22B及びパルス検出回
路22Cから成る。FIG. 4 is a block diagram of a path flag detection circuit according to the first embodiment of the present invention. For example, the path flag detection circuit 22 for assisting the test of the RAM 21A is composed of an input circuit 22A, a ternary output circuit 22B and a pulse detection circuit 22C in FIG.
【0049】すなわち、入力回路22A,3値出力回路22
Bは信号出力回路12Aの一実施例を構成し、RAM21A
の読出しデータDOUT と試験クロック信号TCKとに基づ
いて3値出力信号SBを出力するものである。例えば、
入力回路22Aはnpn型のバイポーラトランジスタ(以
下第1,第2のトランジスタという)Q1,Q2,抵抗
素子R1,R2から成り、8ビットの相補性の読出しデ
ータA,Aバー(反転記号の上線を省略する。)に係る
電流値を検出し、その電圧降下を3値出力回路22Bに出
力する。That is, the input circuit 22A and the three-value output circuit 22
B constitutes an embodiment of the signal output circuit 12A, and includes a RAM 21A
The ternary output signal SB is output based on the read data DOUT and the test clock signal TCK. For example,
The input circuit 22A is composed of npn-type bipolar transistors (hereinafter referred to as first and second transistors) Q1 and Q2 and resistance elements R1 and R2. The current value according to the above description is detected and the voltage drop is output to the ternary output circuit 22B.
【0050】3値出力回路22Bはnpn型のバイポーラ
トランジスタ(以下第3〜第9のトランジスタという)
Q3〜Q9,抵抗素子R3〜R5から成る。例えば、第
3〜第6のトランジスタQ3〜Q6,抵抗素子R3から
成る2組の差動対トランジスタ回路と、第8,第9のト
ランジスタQ8,Q9,抵抗素子R4,R5から成る第
1の定電流源Io1とにより、8ビットの読出しデータD
OUT と、丸C点に供給された試験クロック信号TCKとに
基づいて丸X点に3値出力信号SBが発生され、第7の
トランジスタQ7,抵抗素子R6から成る出力回路から
パルス検出回路22Cにそれが出力される(丸B点参
照)。The three-value output circuit 22B is an npn-type bipolar transistor (hereinafter referred to as third to ninth transistors).
It is composed of Q3 to Q9 and resistance elements R3 to R5. For example, two sets of differential pair transistor circuits composed of third to sixth transistors Q3 to Q6 and resistance element R3, and a first constant circuit composed of eighth and ninth transistors Q8 and Q9 and resistance elements R4 and R5. 8-bit read data D by the current source Io1
Based on OUT and the test clock signal TCK supplied to the circle C point, the ternary output signal SB is generated at the circle X point, and the pulse detector circuit 22C is output from the output circuit including the seventh transistor Q7 and the resistance element R6. It is output (see circle B).
【0051】また、3値出力レベルは,例えば、3値出
力回路の第3〜第9のトランジスタQ3〜Q9や抵抗素
子R3〜R5を調整して、表1のように設定する。The ternary output level is set as shown in Table 1 by adjusting, for example, the third to ninth transistors Q3 to Q9 and the resistance elements R3 to R5 of the ternary output circuit.
【0052】[0052]
【表1】 [Table 1]
【0053】なお、本発明の実施例では、丸X点に発生
された3値出力信号SBのみでは、RAM21Aの読出デ
ータDOUT の「0不良」(「0」を読み出そうとすると
それが不良になる論理)と「1不良」(「1」を読み出
そうとするとそれが不良になる論理)とを分離して検出
することができないが、丸Y点の出力を取り出すことに
より、その読出データDOUT の「0不良」と「1不良」
とを分離して検出することができる。また、3値出力信
号SBは第7のトランジスタQ7,抵抗素子R6から成
る出力回路からパルス検出回路22Cに出力される(丸B
点参照)。In the embodiment of the present invention, only the ternary output signal SB generated at the round X point is "0 defective"("0") in the read data DOUT of the RAM 21A. Can not be detected separately from the "1 failure" and the "1 failure" (the logic that causes a failure when "1" is read), but by reading out the output of the circle Y point, "0 failure" and "1 failure" of data DOUT
And can be detected separately. The ternary output signal SB is output from the output circuit including the seventh transistor Q7 and the resistance element R6 to the pulse detection circuit 22C (circle B).
See point).
【0054】さらに、パルス検出回路22Cは信号発生回
路12Bの一実施例であり、3値出力信号SBとRAM21
Aの比較データDRとに基づいてパスフラグSFを発生
するものである。例えば、パルス検出回路22Cはnpn
型のバイポーラトランジスタ(以下第10〜第17のトラン
ジスタという)Q10〜Q17,抵抗素子R6〜R9及びダ
イオードDから成る。Further, the pulse detection circuit 22C is an embodiment of the signal generation circuit 12B, and is a ternary output signal SB and RAM 21.
The pass flag SF is generated based on the comparison data DR of A. For example, the pulse detection circuit 22C is npn
Type bipolar transistors (hereinafter referred to as tenth to seventeenth transistors) Q10 to Q17, resistance elements R6 to R9, and a diode D.
【0055】例えば、第10〜第13のトランジスタQ10〜
Q13,抵抗素子R7から成る差動対トランジスタ回路
と、第14,第15のトランジスタQ14, Q15,抵抗素子R
8から成る第2の定電流源Io2とにより、丸B点に入力
された3値出力信号SBと、丸D点に供給されたRAM
21Aの比較データDRとに基づいてパスフラグSFが発
生され、第17のトランジスタQ17,抵抗素子R9から成
る出力回路から外部にそれが出力される(丸F点参
照)。また、本発明の実施例では試験クロック信号TCK
のパルス幅がアクセスタイムTAAより大きい場合にパ
スフラグSFが発生し、それが極短いパルス幅となる。For example, tenth to thirteenth transistors Q10 to
A differential pair transistor circuit composed of Q13 and a resistance element R7, and fourteenth and fifteenth transistors Q14, Q15 and a resistance element R
By the second constant current source Io2 composed of 8, the ternary output signal SB input to the circle B point and the RAM supplied to the circle D point
The pass flag SF is generated based on the comparison data DR of 21A, and the pass flag SF is output to the outside from the output circuit including the seventeenth transistor Q17 and the resistance element R9 (see a circle F point). In the embodiment of the present invention, the test clock signal TCK
When the pulse width of is larger than the access time TAA, the pass flag SF is generated, and it has an extremely short pulse width.
【0056】このようにして、本発明の実施例に係るR
AM内蔵ゲートアレイによれば、図3,4に示すよう
に、パスフラグ検出回路22が設けられ、RAM21Aの
試験データTOUT 及び試験クロック信号TCKの論理出力
値と、該論理出力値及びRAM21Aの比較データDRと
に基づいて該パスフラグ検出回路22からパスフラグS
Fが発生される。Thus, R according to the embodiment of the present invention
According to the AM built-in gate array, as shown in FIGS. 3 and 4, the pass flag detection circuit 22 is provided, and the logical output value of the test data TOUT and the test clock signal TCK of the RAM 21A and the logical output value and the comparison data of the RAM 21A. The pass flag S from the pass flag detection circuit 22 based on DR
F is generated.
【0057】このため、概略,RAM内蔵ゲートアレイ
13のRAM21AのアクセスタイムTAAを示すパルス
幅の試験クロック信号TCKを精度良く発生させ、さら
に、当該パスフラグ検出回路22と入力ラッチ回路21C
とを組み合わせ、該パスフラグSFを検出することによ
り、RAM21Aの周辺回路によらず、そのRAM21Aの
絶対値の小さなアクセスタイムTAAを精度良く測定す
ることが可能となる。Therefore, roughly, the test clock signal TCK having a pulse width indicating the access time TAA of the RAM 21A of the RAM built-in gate array 13 is accurately generated, and the pass flag detection circuit 22 and the input latch circuit 21C are further generated.
By combining with and detecting the pass flag SF, the access time TAA having a small absolute value in the RAM 21A can be accurately measured regardless of the peripheral circuit of the RAM 21A.
【0058】すなわち、図5において、パスフラグ検出
回路22の3値出力回路22Bにより、8ビットのRAM
21Aの読出しデータDOUT と試験クロック信号TCKとに
基づいて3値出力信号SBが出力されると、その3値出
力信号SBとRAM21Aの比較データDRとに基づいて
パスフラグSFがパルス検出回路22Bから発生される。That is, in FIG. 5, the 3-value output circuit 22B of the path flag detection circuit 22 causes the 8-bit RAM to operate.
When the ternary output signal SB is output based on the read data DOUT of 21A and the test clock signal TCK, a pass flag SF is generated from the pulse detection circuit 22B based on the ternary output signal SB and the comparison data DR of the RAM 21A. To be done.
【0059】例えば、試験クロック信号TCKのパルス幅
がアクセスタイムTAAより大きい場合に、3値出力回
路22BからパスフラグSFが発生されることにより、該
クロック信号TCKのパルス幅がほぼRAM21Aのアクセ
スタイムTAAを表すことになり、このパスフラグSF
の発生境界点を外部又は内部で検出することにより、従
来例のようなRAM21Aの周辺回路に至る試験入力配線
や試験クロック配線による試験データDIN,試験クロッ
ク信号TCK及び試験出力データTOUT の遅延時間T1,
T2がRAM21Aの真のアクセスタイムTAAに直接介
入しなくなる。For example, when the pulse width of the test clock signal TCK is larger than the access time TAA, the pass flag SF is generated from the ternary output circuit 22B so that the pulse width of the clock signal TCK is almost the access time TAA of the RAM 21A. And the pass flag SF
By detecting the generation boundary point of the test signal externally or internally, the delay time T1 of the test data DIN, the test clock signal TCK and the test output data TOUT by the test input wiring and the test clock wiring reaching the peripheral circuit of the RAM 21A as in the conventional example. ,
T2 will not directly intervene in the true access time TAA of RAM 21A.
【0060】このことで、半導体集積回路装置の高機能
化,高性能化に伴い、益々高速化されるRAM21Aのア
クセスタイムTAAに対して、従来例のような遅延時間
T1,T2の影響に左右されなくなり、その真の評価を
することが可能となる。As a result, the influence of the delay times T1 and T2 as in the conventional example is affected by the access time TAA of the RAM 21A, which is becoming faster due to the higher functionality and higher performance of the semiconductor integrated circuit device. It will not be done and it will be possible to make a true evaluation of it.
【0061】特に、内蔵RAM21AのアクセスタイムT
AAが1〔ns〕を切る半導体集積回路装置において
も、従来例のような試験データDINや試験クロック信号
TCKを外部から供給し、その試験出力データTOUT に基
づいて測定する方法に比べて、真のアクセスタイムTA
Aを正確に測定することが可能となる。In particular, the access time T of the internal RAM 21A
Even in a semiconductor integrated circuit device in which AA is less than 1 [ns], it is more true than the method in which the test data DIN and the test clock signal TCK are externally supplied and the measurement is performed based on the test output data TOUT as in the conventional example. Access time TA
It becomes possible to measure A accurately.
【0062】次に、本発明の実施例に係る半導体集積回
路装置の試験方法について、当該RAM内蔵ゲートアレ
イ23のパスフラグ検出回路の動作を補足しながら説明
をする。Next, a method of testing the semiconductor integrated circuit device according to the embodiment of the present invention will be described while supplementing the operation of the path flag detection circuit of the RAM built-in gate array 23.
【0063】図6は、本発明の各実施例に係るRAM内
蔵ゲートアレイの試験フローチャートであり、図8はそ
の試験フローチャートの補足説明図をそれぞれ示してい
る。例えば、図3に示すような、RAM内蔵ゲートアレ
イ(以下被試験ゲートアレイという)23のRAM21A
のアクセスタイムTAAを測定する場合、図6におい
て、まず、ステップP1で被試験ゲートアレイ23とL
SIテスタ24とを接続する。この際に、図7に示すよ
うに、被試験ゲートアレイ23の試験入力端子T1,試
験クロック入力端子T2,テストモード端子T3及び比
較データ入力端子T4がLSIテスタ24の試験信号出
力部out1〜out4に接続され、また、被試験ゲートア
レイ23のパスフラグ検出端子T5や試験出力端子T6
がLSIテスタ24の試験信号入力部in1,in2に接続
される。FIG. 6 is a test flowchart for the RAM built-in gate array according to each embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a supplementary explanatory view of the test flowchart. For example, as shown in FIG. 3, the RAM 21A of the RAM built-in gate array (hereinafter referred to as the gate array under test) 23.
In order to measure the access time TAA of the gate array 23 in FIG.
Connect with SI tester 24. At this time, as shown in FIG. 7, the test input terminal T1, the test clock input terminal T2, the test mode terminal T3, and the comparison data input terminal T4 of the gate array under test 23 are the test signal output parts out1 to out4 of the LSI tester 24. And the pass flag detection terminal T5 and the test output terminal T6 of the gate array 23 under test.
Are connected to the test signal input units in1 and in2 of the LSI tester 24.
【0064】次に、ステップP2で被試験ゲートアレイ
23にテストモード信号T/A,試験クロック信号TC
K,試験データTINを供給し、該モード信号T/Aを選
択する。この際に、LSIテスタ24の試験信号出力部
out1〜out4から被試験ゲートアレイ23の入力側周
辺回路21Aやパスフラグ検出回路22に各信号T/A,
TCK,TINが出力される。例えば、テストモード信号T
/Aを「H」レベルにして、RAM21Aをテストモード
にする。これにより、RAM21Aがゲートアレイ21か
ら切り離される。Next, at step P2, the gate array 23 to be tested is supplied with the test mode signal T / A and the test clock signal TC.
K and test data TIN are supplied and the mode signal T / A is selected. At this time, each of the signals T / A, from the test signal output parts out1 to out4 of the LSI tester 24 to the input side peripheral circuit 21A of the gate array under test 23 and the path flag detection circuit 22.
TCK and TIN are output. For example, the test mode signal T
/ A is set to "H" level to put the RAM 21A in the test mode. As a result, the RAM 21A is separated from the gate array 21.
【0065】次いで、ステップP3でパスフラグ検出回
路22から帰還するパスフラグSFの監視処理を開始す
る。この際に、パスフラグ検出回路22ではRAM21A
の試験出力データTOUT 及び試験クロック信号TCKの論
理出力値と、論理出力値及びRAM21Aの比較データD
Rとに基づいてパスフラグSFが発生される。Then, in step P3, the monitoring process of the path flag SF returned from the path flag detection circuit 22 is started. At this time, the pass flag detection circuit 22 uses the RAM 21A.
Test output data TOUT and the test clock signal TCK logic output value and the logic output value and the comparison data D of the RAM 21A.
The pass flag SF is generated based on R and.
【0066】その後、ステップP4で試験クロック信号
TCKのパルス幅を可変する。この際に、LSIテスタ2
4の試験クロック信号TCKのパルス幅が自動調整され
る。次に、ステップP5でパスフラグSFの検出有無に
係わり、その境界点を確認する。この際に、パスフラグ
SFが検出されている場合(YES)には、ステップP4
に戻って、例えば、試験クロック信号TCKのパルス幅を
縮小する。また、パスフラグSFが検出されなくなる境
界点に達っした場合(NO)には、ステップP6に移行
する。Then, in step P4, the pulse width of the test clock signal TCK is varied. At this time, the LSI tester 2
The pulse width of the test clock signal TCK of 4 is automatically adjusted. Next, in step P5, the boundary point is confirmed depending on whether or not the pass flag SF is detected. At this time, if the pass flag SF is detected (YES), step P4
Then, for example, the pulse width of the test clock signal TCK is reduced. When the pass flag SF reaches the boundary point where it is no longer detected (NO), the process proceeds to step P6.
【0067】ここで、パスフラグSFが検出されなくな
る境界点に達っした場合(NO)には、試験クロック信
号TCKのパルス幅の縮小処理を停止して、ステップP6
でRAM21AのアクセスタイムTAAを測定する。ここ
で、真のアクセスタイムTAAとはRAM21Aに試験ク
ロック信号TCKが入力されてから、通常出力ポートに読
出しデータ(試験出力データDOUT )が出力されるまで
の時間をいうものとする。If the pass flag SF reaches the boundary point where it is no longer detected (NO), the process of reducing the pulse width of the test clock signal TCK is stopped and step P6 is performed.
Then, the access time TAA of the RAM 21A is measured. Here, the true access time TAA means the time from when the test clock signal TCK is input to the RAM 21A until the read data (test output data DOUT) is output to the normal output port.
【0068】これにより、パスフラグSFが検出されな
くなった境界点に達っした試験クロック信号TCKのパル
ス幅を測定することにより、試験クロック信号TCKの立
ち下がりに同期して試験データTINを入力ラッチし、そ
の立ち上がりに同期して読出しデータDOUT を出力する
RAM21AのアクセスタイムTAAを測定することがで
きる。Thus, by measuring the pulse width of the test clock signal TCK reaching the boundary point where the pass flag SF is no longer detected, the test data TIN is input and latched in synchronization with the trailing edge of the test clock signal TCK. , It is possible to measure the access time TAA of the RAM 21A which outputs the read data DOUT in synchronization with its rising.
【0069】このようにして、本発明の各実施例に係る
RAM内蔵ゲートアレイの試験方法によれば、図6の処
理フローチャートに示すように、ステップP2でRAM
内蔵ゲートアレイ23に試験クロック信号TCK及び試験
データTINが供給処理されると、ステップP3でパスフ
ラグ検出回路22から帰還するパスフラグSFが監視処
理され、その後、ステップP6でパスフラグSFに基づ
いてRAM21AのアクセスタイムTAAが測定される。As described above, according to the method of testing a gate array with built-in RAM according to each of the embodiments of the present invention, the RAM is processed in step P2 as shown in the processing flowchart of FIG.
When the test clock signal TCK and the test data TIN are supplied to the built-in gate array 23, the pass flag SF returned from the pass flag detection circuit 22 is monitored in step P3, and then the RAM 21A is accessed based on the pass flag SF in step P6. The time TAA is measured.
【0070】例えば、ステップP3で試験クロック信号
TCKのパルス幅がアクセスタイムTAAより大きい場合
に、RAM21Aの試験出力データTOUT 及び試験クロッ
ク信号TCKの論理出力値と、該論理出力値及びRAM21
Aの比較データDRとに基づいて発生されたパスフラグ
SFが検出される。この際に、ステップP4でRAM内
蔵ゲートアレイ23から帰還するパスフラグSFに基づ
いて試験クロック信号TCKのパルス幅が縮小制御され
る。For example, when the pulse width of the test clock signal TCK is larger than the access time TAA in step P3, the test output data TOUT of the RAM 21A and the logic output value of the test clock signal TCK, and the logic output value and the RAM 21.
The path flag SF generated based on the comparison data DR of A is detected. At this time, in step P4, the pulse width of the test clock signal TCK is controlled to be reduced based on the pass flag SF returned from the RAM built-in gate array 23.
【0071】このため、試験クロック信号TCKの立ち下
がりに同期して試験データTINを入力ラッチし、その立
ち上がりに同期して読出しデータDOUT を出力するRA
M21AのアクセスタイムTAAにつき、パスフラグSF
に基づいて3値出力回路22Bの3値出力信号SBを適正
に校正することにより、それを精度良く測定することが
可能となる。For this reason, the RA which inputs and latches the test data TIN in synchronization with the falling of the test clock signal TCK and outputs the read data DOUT in synchronization with the rising thereof.
Pass flag SF for M21A access time TAA
By properly calibrating the ternary output signal SB of the ternary output circuit 22B based on the above, it becomes possible to measure it accurately.
【0072】これにより、概略,RAM内蔵ゲートアレ
イ23のアクセスタイムTAAを示すパルス幅の試験ク
ロック信号TCKを供給し、該パルス幅に基づいてパスフ
ラグSFを発生するパスフラグ検出回路22を構成する
ことにより、該試験クロック信号TCKのパルス幅を観測
することで、その周辺回路の影響によらず、真のアクセ
スタイムTAAを正確に測定することが可能となる。In this way, the pass flag detection circuit 22 which supplies the test clock signal TCK having a pulse width indicating the access time TAA of the RAM built-in gate array 23 and generates the pass flag SF based on the pulse width is constructed. By observing the pulse width of the test clock signal TCK, the true access time TAA can be accurately measured regardless of the influence of the peripheral circuits.
【0073】(2)第2の実施例の説明 図8(a)は、本発明の第2の実施例に係るRAM内蔵
ゲートアレイのパスフラグ検出回路の構成図であり、図
8(a)はそのパスフラグ検出回路の動作説明図をそれ
ぞれ示している。(2) Description of Second Embodiment FIG. 8A is a block diagram of a path flag detection circuit of a RAM built-in gate array according to a second embodiment of the present invention. FIG. The respective operation explanatory diagrams of the pass flag detection circuit are shown.
【0074】なお、第1の実施例と異なるのは第2の実
施例ではパルス検出回路22Aの後段に、パルス幅拡張回
路22Dが接続され、RAM21AのアクセスタイムTAA
については、その内部クロック信号CLKのパルス幅が測
定される。The difference from the first embodiment is that in the second embodiment, a pulse width expansion circuit 22D is connected after the pulse detection circuit 22A, and the access time TAA of the RAM 21A is changed.
For, the pulse width of the internal clock signal CLK is measured.
【0075】すなわち、パルス幅拡張回路22Dは信号拡
幅回路12Cの一例であり、パスフラグSFのパルス幅を
拡幅するものである。例えば、パルス幅拡張回路22Dは
図8(a)において、第1〜第3のディレイゲートDL1
〜DL3と4入力論理和回路ORから成り、パスフラグS
Fを拡幅してパルス幅の長いパスフラグSFwを出力す
る。That is, the pulse width expansion circuit 22D is an example of the signal widening circuit 12C, and widens the pulse width of the pass flag SF. For example, the pulse width expansion circuit 22D shown in FIG. 8A has the first to third delay gates DL1.
~ DL3 and a 4-input OR circuit OR, and a pass flag S
F is widened and the pass flag SFw having a long pulse width is output.
【0076】また、入力回路22A,3値出力回路22Bは
RAM21Aから出力された読出しデータDOUT と、精度
良くコントロールされた内部クロック信号CLKに基づい
て3値出力信号SBを出力する。なお、パルス検出回路
22Cは第1の実施例と同様に、3値出力信号SBと比較
データDRに基づいてパスフラグSFを発生する。The input circuit 22A and the ternary output circuit 22B output the ternary output signal SB based on the read data DOUT output from the RAM 21A and the internal clock signal CLK controlled accurately. In addition, pulse detection circuit
22C generates a pass flag SF based on the ternary output signal SB and the comparison data DR, as in the first embodiment.
【0077】このようにして、本発明の第2の実施例の
RAM内蔵ゲートアレイのパスフラグ検出回路によれ
ば、図8(a)に示すように、パルス検出回路22Cの後
段に、パスフラグSFのパルス幅を拡幅するパルス幅拡
張回路22Dが接続され、RAM21Aに内部クロック信号
CLKが供給され、該内部クロック信号CLKのパルス幅が
パスフラグSFに基づいて制御される。In this way, according to the pass flag detection circuit of the RAM built-in gate array of the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 8A, the pass flag SF of the pass flag SF is provided after the pulse detection circuit 22C. A pulse width expansion circuit 22D for expanding the pulse width is connected, the internal clock signal CLK is supplied to the RAM 21A, and the pulse width of the internal clock signal CLK is controlled based on the pass flag SF.
【0078】例えば、概略,RAM内蔵ゲートアレイ2
3のアクセスタイムTAAを示すパルス幅の内部クロッ
ク信号CLKが供給され、これに基づいてパスフラグSF
を発生するパスフラグ検出回路22を構成し、そのパル
ス幅が拡幅されたパスフラグSFに基づいて該内部クロ
ック信号CLKのパルス幅を観測することで、その周辺回
路の影響によらず、真のアクセスタイムTAAを正確に
測定することが可能となる。For example, roughly, the gate array 2 with built-in RAM
The internal clock signal CLK having a pulse width indicating the access time TAA of 3 is supplied, and based on this, the pass flag SF
By observing the pulse width of the internal clock signal CLK based on the path flag SF whose pulse width has been widened, the true access time can be obtained regardless of the influence of the peripheral circuits. It becomes possible to measure TAA accurately.
【0079】このことからパルス幅の短いパスフラグS
Fを検出する能力のないLSIテスタであっても、その
パスフラグSFがパルス幅拡張回路22Dにより拡幅され
ることにより、従来例のように入力ラッチ−出力ラッチ
間で、試験クロック信号TCKの立ち上がり, 立ち下がり
を捉えて真のアクセスタイムTAAを測定する方法に比
べて、その出力ラッチの感度,動作速度等の測定精度に
依存されることなく、低精度のLSIテスタにより、該
アクセスタイムTAAを正確に測定することが可能とな
る。Therefore, the pass flag S having a short pulse width is
Even if the LSI tester does not have the ability to detect F, its pass flag SF is widened by the pulse width expansion circuit 22D, so that the test clock signal TCK rises between the input latch and the output latch as in the conventional example. Compared to the method of measuring the true access time TAA by catching the falling edge, the access time TAA can be accurately measured by a low-precision LSI tester without depending on the measurement accuracy of the output latch sensitivity and operation speed. It becomes possible to measure.
【0080】これにより、第1の実施例と同様に、RA
M内蔵ゲートアレイ等のRAM21AのアクセスタイムT
AAについて、その詳細評価を精度の低い測定系におい
ても実施することができ、RAM21A評価において重要
なパラメータであるアクセスタイムTAAの実力を精度
良く認識することが可能となる。また、RAM内蔵半導
体集積回路装置の試験装置の汎用性を図ることが可能と
なる。Thus, as in the first embodiment, RA
Access time T of RAM 21A such as M built-in gate array
The detailed evaluation of AA can be performed in a measurement system with low accuracy, and the ability of the access time TAA, which is an important parameter in RAM21A evaluation, can be accurately recognized. Further, it is possible to improve the versatility of the test device for the semiconductor integrated circuit device with a built-in RAM.
【0081】[0081]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路装置によれば記憶回路素子の読出しデータ及び動
作クロック信号の論理出力値と、該論理出力値及び記憶
回路素子の出力期待値とに基づいて該試験用回路から制
御タイミング信号が発生される。As described above, according to the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the read data of the memory circuit element and the logical output value of the operation clock signal, and the logical output value and the expected output value of the memory circuit element. Based on the above, a control timing signal is generated from the test circuit.
【0082】このため、概略,被試験対象のアクセスタ
イムを示すパルス幅の試験クロック信号や内部クロック
信号等の動作クロックを精度良く発生させ、さらに、当
該試験用回路と入力ラッチ回路とを組み合わせ、該制御
タイミング信号を検出することにより、記憶回路素子の
周辺回路によらず、その記憶回路素子の絶対値の小さな
アクセスタイムを精度良く測定することが可能となる。Therefore, roughly, an operation clock such as a test clock signal or an internal clock signal having a pulse width indicating the access time of the test object is accurately generated, and further, the test circuit and the input latch circuit are combined, By detecting the control timing signal, it is possible to accurately measure the access time having a small absolute value of the memory circuit element, regardless of the peripheral circuit of the memory circuit element.
【0083】さらに、本発明の他の半導体集積回路装置
によれば、信号発生回路の後段に、制御タイミング信号
のパルス幅を拡幅する信号拡幅回路が接続される。この
ため、パルス幅の短い制御タイミング信号が信号拡幅回
路により拡幅されることにより、従来例のような測定方
法に比べて、その出力ラッチの感度,動作速度等の測定
精度に依存されることなく、低精度の測定装置により、
該アクセスタイムを測定することが可能となる。Further, according to another semiconductor integrated circuit device of the present invention, a signal widening circuit for widening the pulse width of the control timing signal is connected to the subsequent stage of the signal generating circuit. For this reason, the control timing signal having a short pulse width is widened by the signal widening circuit, so that the measurement accuracy of the output latch sensitivity, operating speed, etc. does not depend on the measurement accuracy of the conventional method. , With a low-precision measuring device,
It is possible to measure the access time.
【0084】また、本発明の半導体集積回路装置の試験
方法によれば、被試験対象に試験クロック信号及び試験
データが供給処理されると、被試験対象から帰還する制
御タイミング信号が監視処理され、その後、制御タイミ
ング信号に基づいて記憶回路素子のアクセスタイムが測
定される。According to the semiconductor integrated circuit device testing method of the present invention, when the test clock signal and the test data are supplied to the test object, the control timing signal returned from the test object is monitored and processed. Then, the access time of the memory circuit element is measured based on the control timing signal.
【0085】このため、試験クロック信号や内部クロッ
ク信号の立ち下がりに同期して試験データを入力ラッチ
し、その立ち上がりに同期して読出しデータを出力する
記憶回路素子のアクセスタイムにつき、制御タイミング
信号に基づいて動作クロック信号のパルス幅を観測する
ことで、その周辺回路の影響によらず、真のアクセスタ
イムを正確に測定することが可能となる。Therefore, the access timing of the memory circuit element that inputs and latches the test data in synchronization with the falling edge of the test clock signal or the internal clock signal and outputs the read data in synchronization with the rising edge thereof is used as the control timing signal. By observing the pulse width of the operation clock signal based on this, the true access time can be accurately measured regardless of the influence of the peripheral circuits.
【0086】また、その詳細評価を精度の低い測定系に
おいても実施することができ、記憶回路素子の評価にお
いて重要なパラメータであるアクセスタイムの実力を精
度良く認識することが可能となる。特に、内蔵記憶回路
素子のアクセスタイムが1〔ns〕を切る半導体集積回
路装置においても、従来例の測定方法に比べて、真のア
クセスタイムを正確に測定することが可能となる。Further, the detailed evaluation can be carried out even in a measurement system having low accuracy, and the ability of access time, which is an important parameter in the evaluation of the memory circuit element, can be accurately recognized. In particular, even in the semiconductor integrated circuit device in which the access time of the built-in memory circuit element is less than 1 [ns], the true access time can be measured more accurately than the conventional measuring method.
【0087】これにより、半導体記憶回路を内蔵したゲ
ートアレイやスタンダードセル等の性能評価の信頼性の
向上を図ることが可能となり、高信頼度の半導体集積回
路装置の提供,及び試験装置の汎用性に寄与するところ
が大きい。As a result, it becomes possible to improve the reliability of the performance evaluation of the gate array, the standard cell, etc. having the built-in semiconductor memory circuit, the provision of a highly reliable semiconductor integrated circuit device, and the versatility of the test device. It greatly contributes to.
【図1】本発明に係る半導体集積回路装置の原理図であ
る。FIG. 1 is a principle diagram of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
【図2】本発明に係る半導体集積回路装置の試験方法の
原理図である。FIG. 2 is a principle diagram of a method for testing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
【図3】本発明の第1の実施例に係るRAM内蔵ゲート
アレイの全体構成図である。FIG. 3 is an overall configuration diagram of a RAM built-in gate array according to a first embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第1の実施例に係るパスフラグ検出回
路の構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a path flag detection circuit according to the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の第1の実施例に係るパスフラグ検出回
路の動作説明図である。FIG. 5 is an operation explanatory diagram of the path flag detection circuit according to the first embodiment of the present invention.
【図6】本発明の各実施例に係るRAM内蔵ゲートアレ
イの試験フローチャートである。FIG. 6 is a test flowchart of a RAM-embedded gate array according to each embodiment of the present invention.
【図7】本発明の各実施例に係る試験フローチャートの
補足説明図である。FIG. 7 is a supplementary explanatory diagram of a test flowchart according to each embodiment of the present invention.
【図8】本発明の第2の実施例に係るパスフラグ検出回
路の構成図である。FIG. 8 is a configuration diagram of a path flag detection circuit according to a second embodiment of the present invention.
【図9】従来例に係るRAM内蔵ゲートアレイの試験方
法の説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of a method for testing a RAM-embedded gate array according to a conventional example.
11…内部集積回路、 12…パスフラグ検出回路、 12A…信号出力回路、 12B…信号発生回路、 12C…信号拡幅回路、 M…記憶回路素子、 TCK…試験クロック信号、 CLK…内部クロック信号、 CK…動作クロック信号、 TIN…試験データ、 TOUT …試験出力データ、 DOUT …読出しデータ、 T/A…テストモード信号、 TAA…真のアクセスタイム、 SB…3値出力信号、 DR…出力期待値(比較データ)、 SF…制御タイミング信号(パスフラグ)。 11 ... Internal integrated circuit, 12 ... Pass flag detection circuit, 12A ... Signal output circuit, 12B ... Signal generation circuit, 12C ... Signal widening circuit, M ... Memory circuit element, TCK ... Test clock signal, CLK ... Internal clock signal, CK ... Operation clock signal, TIN ... Test data, TOUT ... Test output data, DOUT ... Read data, T / A ... Test mode signal, TAA ... True access time, SB ... Tri-level output signal, DR ... Expected output value (comparative data) ), SF ... Control timing signal (path flag).
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/82 27/04 T 8427−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 21/82 27/04 T 8427-4M
Claims (7)
(11)の試験を補助する試験用回路(12)が組み込
まれた半導体集積回路装置において、前記試験用回路
(12)が記憶回路素子(M)の読出しデータ(DOUT
)及び動作クロック信号(CK)の論理出力値と、前
記論理出力値及び記憶回路素子(M)の出力期待値(D
R)とに基づいて制御タイミング信号(SF)を発生す
ることを特徴とする半導体集積回路装置。1. A semiconductor integrated circuit device incorporating a test circuit (12) for assisting a test of an internal integrated circuit (11) including a memory circuit element (M), wherein the test circuit (12) is a memory circuit. Read data of element (M) (DOUT
) And the logical output value of the operation clock signal (CK) and the expected output value (D) of the logical output value and the memory circuit element (M).
R) is used to generate a control timing signal (SF).
いて、前記試験用回路(12)が記憶回路素子(M)の
読出しデータ(DOUT )と動作クロック信号(CK)と
に基づいて3値出力信号(SB)を出力する信号出力回
路(12A)と、前記3値出力信号(SB)と記憶回路素
子(M)の出力期待値(DR)とに基づいて制御タイミ
ング信号(SF)を発生する信号発生回路(12B)から
成ることを特徴とする半導体集積回路装置。2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the test circuit (12) outputs a ternary value based on read data (DOUT) of the memory circuit element (M) and an operation clock signal (CK). A signal output circuit (12A) that outputs a signal (SB), a control timing signal (SF) is generated based on the ternary output signal (SB) and the expected output value (DR) of the memory circuit element (M). A semiconductor integrated circuit device comprising a signal generating circuit (12B).
いて、前記信号発生回路(12A)の後段に、制御タイミ
ング信号(SF)のパルス幅を拡幅する信号拡幅回路
(12C)が接続されることを特徴とする半導体集積回路
装置。3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2, wherein a signal widening circuit (12C) for widening the pulse width of the control timing signal (SF) is connected after the signal generating circuit (12A). A semiconductor integrated circuit device.
記憶回路素子(M)を含む内部集積回路(11)を試験
する方法において、前記被試験対象(13)に試験クロ
ック信号(TCK)及び試験データ(TIN)の供給処理を
し、前記被試験対象(13)から帰還する制御タイミン
グ信号(SF)の監視処理をし、前記制御タイミング信
号(SF)に基づいて記憶回路素子(M)のアクセスタ
イム(TAA)を測定することを特徴とする半導体集積
回路装置の試験方法。4. A method for testing an internal integrated circuit (11) including at least a memory circuit element (M) to be tested (13), wherein a test clock signal (TCK) and a test clock signal (TCK) are applied to the tested (13). The test data (TIN) is supplied, the control timing signal (SF) returned from the device under test (13) is monitored, and the storage circuit element (M) is monitored based on the control timing signal (SF). A method for testing a semiconductor integrated circuit device, which comprises measuring an access time (TAA).
験方法において、前記制御タイミング信号(SF)は、
記憶回路素子(M)の試験出力データ(TOUT)と試験
クロック信号(TCK)との論理出力値と、前記論理出力
値と記憶回路素子(M)の出力期待値(DR)とに基づ
いて発生されることを特徴とする半導体集積回路装置の
試験方法。5. The method for testing a semiconductor integrated circuit device according to claim 4, wherein the control timing signal (SF) is
Generated based on the logical output value of the test output data (TOUT) of the memory circuit element (M) and the test clock signal (TCK), and the logical output value and the expected output value (DR) of the memory circuit element (M). A method for testing a semiconductor integrated circuit device, comprising:
験方法において、前記記憶回路素子(M)のアクセスタ
イム(TAA)の測定の際に、被試験対象(13)から
帰還する制御タイミング信号(SF)に基づいて試験ク
ロック信号(TCK)のパルス幅制御をすることを特徴と
する半導体集積回路装置の試験方法。6. The method for testing a semiconductor integrated circuit device according to claim 4, wherein a control timing signal fed back from the device under test (13) at the time of measuring the access time (TAA) of the memory circuit element (M). A test method for a semiconductor integrated circuit device, comprising controlling a pulse width of a test clock signal (TCK) based on (SF).
験方法において、前記記憶回路素子(M)のアクセスタ
イム(TAA)の測定の際に、前記記憶回路素子(M)
に内部クロック信号(CLK)を供給し、前記内部クロッ
ク信号(CLK)のパルス幅を制御タイミング信号(S
F)に基づいて制御をし、前記内部クロック信号(CL
K)のパルス幅を測定することを特徴とする半導体集積
回路装置の試験方法。7. The method of testing a semiconductor integrated circuit device according to claim 4, wherein the memory circuit element (M) is used when measuring an access time (TAA) of the memory circuit element (M).
To the control timing signal (S) by supplying the internal clock signal (CLK) to the pulse width of the internal clock signal (CLK).
F) to control the internal clock signal (CL
A method for testing a semiconductor integrated circuit device, which comprises measuring the pulse width of K).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4231033A JPH0675022A (en) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | Semiconductor integrated circuit device and testing method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4231033A JPH0675022A (en) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | Semiconductor integrated circuit device and testing method therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0675022A true JPH0675022A (en) | 1994-03-18 |
Family
ID=16917222
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4231033A Pending JPH0675022A (en) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | Semiconductor integrated circuit device and testing method therefor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0675022A (en) |
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