JPH03102244A - 被検試料ホールダ - Google Patents

被検試料ホールダ

Info

Publication number
JPH03102244A
JPH03102244A JP2241651A JP24165190A JPH03102244A JP H03102244 A JPH03102244 A JP H03102244A JP 2241651 A JP2241651 A JP 2241651A JP 24165190 A JP24165190 A JP 24165190A JP H03102244 A JPH03102244 A JP H03102244A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
screw
test sample
moving table
size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2241651A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeo Murakoshi
村越 武雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2241651A priority Critical patent/JPH03102244A/ja
Publication of JPH03102244A publication Critical patent/JPH03102244A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はビームスプリツタの透過率及び反射率特性を測
定するときの被検試料ホールダに係り、特に小形のビー
ムスプリッターの測定に好適な被検試料ホールダに関す
る。
〔従来の技術〕
従来の被検試料ホールダでは、試料の中心部に光を入射
させるために、試料の大きさに応じ横方向と高さ方向の
両方の位置調整をしたり、あるいは別ホールダと交換し
たり、などの方法がとられていた, 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、上記従来技術では、2方向の調整機構を
有するため、構造が複雑となり,また、試料のセット操
作に特間が掛るなど操作面からの配慮がなされていなか
った。
本発明の目的は,試料の大きさに応じ一方向での操作の
みで試料の測定位置を正確b二セットできるようにして
,操作の単純化を図った被検試料ホールダを提供するこ
とにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために,本発明は,被検試料に光を
入射させて該被検試料の反射率と透過率を測定する場合
に用いられ,前記被検試料を保持して移動させる被検試
料ホールダにおいて,前記被検試料に入射する光と所定
角度を有する直線上に沿って、前記被検試料を往復移動
させる手段を設けたことを特徴としている。
〔作用〕
第3図に示すように試料取付台を一定な角度・=t・・
−・71になる傾面上を試料の大きさ(3よ2 り矢視P方向に目盛に合せ移動させることによって第1
図,第2図に示す試料の中心付近に光束を照射させるこ
とができる。
すなわち、第l図〜第2図に示すように1辺がa acm(7)ICI}(7)I’LL−4:3’f;′
[”“6 4.− 41〜”1,CIIでP1より試料
の中心Oに向けて光を照射することが必要。照射した光
は試料のO点での反射光O P 2と、透過光op,を
得る。
試料の大きさがl辺acmからl辺a’cm変つたとき
試料の測定点を中心Oとするためには、高さ1 方向をー(a−a’)移動させるとともに、Q点を2 Q・点すなわちff(,  ,,,移動させる必要が2 る. これを,一方向の操作で可能にするには、第3図に示す
ように角度・=,・・一・4乙なる傾面上を2 2 て移動させることによって一方向の操作で2方向の位置
を合せることができる. 〔実施例〕 以下、本発明の一実施例を第4図〜第6図により説明す
る.3は試料1をのせてねじ8の回転によりベース4上
を斜面に沿って移動する移動台でスライドベースエ9が
ねじ20によって取付けられている。スライドベースl
9はスライド案内18上をねじ8の回転によってスライ
ドする。ねじ8を反時計方向に廻すとばね14により押
し軸16が移動台3t!:押し下げる.ねじ8を時計方
向lこ廻すと移動台3を押し上げる。移動台3に1:l
:、サンプル取付基準面7が取付けられている。10は
サンプル押えガイドでガイド板11と一体となっており
、試料の大きさによりねじ13を回転させて押える力を
U!!4節できる。小さな試料のとき【まねじ13を時
計方向に廻し,また大きな試料のときは反時計方向に廻
すことにより最適圧力に調節できる。l2はガイド軸で
ねじ13のおねじの働きをし、移動台に固定されている
。5は目盛6の指針でサンプルの大きさを示す。3は各
辺が3mmのビームスプリツタ、5は各辺が5m+aの
ビームスブリッターのホールダ位置を示し、指針をこの
目盛に合せることによって測定しようとするサンプルの
中心に光を照射できる,15は押し軸16とばね14の
ガイドでベース4に取付けられている。
9はねじ板8のめねじでベース4に取付けられている.
17は第8図の本体ベースに取付けられたガイド付ベー
スで、本体ベース35に付いてレ)るガイドビンに合せ
てセットすれば、試料ホールダユニットが光軸上に確実
にセットできるようになっている。
第7図は本被検試料ホールダを使用してビームスプリツ
タの透過率又は反射査を測定する光学系を示す.21は
光源、22は分光器、23は偏光子、25はハーフミラ
ー、26はスリット、24,28.33は平面ミラー 
27.30は凹面鏡、32は回転ミラー、34は積分球
、35は透過率及び反射率測定ユニット、29は試料を
示す。
このような構成になっているので、ねじ8の操作により
ビームスプリンタの大きさに応じて最適な位置での測定
ができる。また、再現性の良い測定ができるなどの効果
がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、構造が簡素化で
きるとともに、一方向の操作によって高さ方向と横方向
の両面の調節が可能となり、操作の単純化を図ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は被検試料平面と測定光束との関係を示す図、第
2図は第1図の側面図、第3図は本発明の原理を示す説
明図、第4図は本発明の被検試料ホールダの平面図、第
5図は第4図の一部を断面で示した側面図、第6図は第
5図のスライド部の部分断面図、第7図は本発明の被検
試料ホールダを使用したビームスプリッタ特性測定装置
の光学系統図、第8図はビームスブリッタ透過率及び反
射率を測定するための測定ユニットを示した説明図であ
る。 1・・・試料(1)、2・・・試料(2)、3・・・移
動ベース、4・・・ベース、5・・・指針、6・・・目
盛,8・・・ねじ、9・・・めねじ板,11・・・ガイ
ド板、12・・・ガイド軸、13・・・ねじ、14・・
・ばね,15・・・ガイド、l6・・・押し軸、17・
・・ガイド付ベース、18・・・スライド案内、19・
・・スライドベース。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、被検試料に光を入射させて該被検試料の反射率と透
    過率を測定する場合に用いられ、前記被検試料を保持し
    て移動させる被検試料ホールダにおいて、 前記被検試料に入射する光と所定角度を有する直線上に
    沿って、前記被検試料を往復移動させる手段を設けたこ
    とを特徴とする被検試料ホールダ。 2、特許請求の範囲第1項に記載の被検試料ホールダに
    おいて、 前記所定角度は、tan^−^1{√(2)/2}であ
    ることを特徴とする被検試料ホールダ。
JP2241651A 1990-09-12 1990-09-12 被検試料ホールダ Pending JPH03102244A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2241651A JPH03102244A (ja) 1990-09-12 1990-09-12 被検試料ホールダ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2241651A JPH03102244A (ja) 1990-09-12 1990-09-12 被検試料ホールダ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03102244A true JPH03102244A (ja) 1991-04-26

Family

ID=17077488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2241651A Pending JPH03102244A (ja) 1990-09-12 1990-09-12 被検試料ホールダ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03102244A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150140162A (ko) * 2014-06-05 2015-12-15 주식회사 디팜스 심 카드 접속용 단자
CN111829967A (zh) * 2019-04-19 2020-10-27 株式会社堀场先进技术 光学分析装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150140162A (ko) * 2014-06-05 2015-12-15 주식회사 디팜스 심 카드 접속용 단자
CN111829967A (zh) * 2019-04-19 2020-10-27 株式会社堀场先进技术 光学分析装置
JP2020176940A (ja) * 2019-04-19 2020-10-29 株式会社 堀場アドバンスドテクノ 光学分析装置
US11561171B2 (en) 2019-04-19 2023-01-24 Horiba Advanced Techno, Co., Ltd. Optical analyzer
CN111829967B (zh) * 2019-04-19 2024-03-12 株式会社堀场先进技术 光学分析装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6621578B1 (en) Elliposometer, sample positioning mechanism, and polarization angular adjusting mechanism, used in the elliposometer
US4364122A (en) X-Ray diffraction method and apparatus
US5278413A (en) Infrared microscopic spectrometer
US5986753A (en) Wafer holding and orienting fixture for optical profilometry
JPS6332338A (ja) 光学特性測定装置
US2880644A (en) Alignement interferometer
US5886786A (en) Subject positioning device for optical interferometer
CN110530821B (zh) 一种光学材料折射率的测量装置及其测量方法
JPH03102244A (ja) 被検試料ホールダ
JPS62112034A (ja) 粒子解析装置
US2640392A (en) Apparatus for measuring the focal length of lenses
US2747284A (en) Double image micrometer
JP3597302B2 (ja) 偏心測定装置
CN212989163U (zh) 一种测量透明平板介质折射率的装置
US4496242A (en) Apparatus for positioning a contact lens under a radiuscope
US4538913A (en) Flatness testing apparatus and method
US2709944A (en) Apparatus for accurately locating a reflecting object and for measuring its dimensions
US2783675A (en) Optical angle measuring device
US4063805A (en) Ophthalmic measuring instrument
JPH04127004A (ja) エリプソメータ及びその使用方法
JPH0783828A (ja) 角度可変絶対反射率測定装置
CN115046934B (zh) 纳米半导体技术节点的多过程、多模式实时在线测量系统
JPH04268433A (ja) 非球面レンズ偏心測定装置
JPH0522213B2 (ja)
JPH0743674Y2 (ja) rθステージ