JPH029895Y2 - - Google Patents
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- JPH029895Y2 JPH029895Y2 JP16862084U JP16862084U JPH029895Y2 JP H029895 Y2 JPH029895 Y2 JP H029895Y2 JP 16862084 U JP16862084 U JP 16862084U JP 16862084 U JP16862084 U JP 16862084U JP H029895 Y2 JPH029895 Y2 JP H029895Y2
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- Japan
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- microwave
- plasma
- plasma processing
- processing chamber
- plasma generation
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- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
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Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の技術分野〕
本考案は被処理物に活性化されたガスを照射し
て種々の処理をおこなうのに用いるマイクロ波プ
ラズマ処理装置に関する。
て種々の処理をおこなうのに用いるマイクロ波プ
ラズマ処理装置に関する。
近来、真空放電によるプラズマを利用して生成
され活性化されたガスを被処理物に照射して各種
の処理を行なう試みがなされている。その装置の
例を第３図により説明する。被処理物１１を載置
しパツキン９及びフタ１０により気密を保持し内
部が真空度数Torr以下に減圧される反応器７が
あり、排気管７ｂを介して排気装置８が連結され
ている。反応器７にはガス輸送管７ａと排気管７
ｂとが被処理物１１をはさんで設けられており、
ガス輸送管７ａには流量調節弁１１を介して反応
ガス源１５が接続されている。またガス輸送管７
ａはマイクロ波空胴を形成する導波管５を貫通し
ており、マイクロ波発振器１から発生したマイク
ロ波電力が導入され、これによつて供給された反
応ガスが活性化されるのである。導波管の外側に
はシールド筒５ａが設けられている。整合器４及
び摺動短絡板６はマイクロ波電力を効率良く反応
ガスに吸収させるためのものである。パワーモニ
タ３はマイクロ波電力の吸収具合を見るためのも
ので指示計３ａに吸収度合が指示される。活性化
された反応ガスは排気装置８により吸引され被処
理物１１に当り表面処理が行なわれる。
され活性化されたガスを被処理物に照射して各種
の処理を行なう試みがなされている。その装置の
例を第３図により説明する。被処理物１１を載置
しパツキン９及びフタ１０により気密を保持し内
部が真空度数Torr以下に減圧される反応器７が
あり、排気管７ｂを介して排気装置８が連結され
ている。反応器７にはガス輸送管７ａと排気管７
ｂとが被処理物１１をはさんで設けられており、
ガス輸送管７ａには流量調節弁１１を介して反応
ガス源１５が接続されている。またガス輸送管７
ａはマイクロ波空胴を形成する導波管５を貫通し
ており、マイクロ波発振器１から発生したマイク
ロ波電力が導入され、これによつて供給された反
応ガスが活性化されるのである。導波管の外側に
はシールド筒５ａが設けられている。整合器４及
び摺動短絡板６はマイクロ波電力を効率良く反応
ガスに吸収させるためのものである。パワーモニ
タ３はマイクロ波電力の吸収具合を見るためのも
ので指示計３ａに吸収度合が指示される。活性化
された反応ガスは排気装置８により吸引され被処
理物１１に当り表面処理が行なわれる。
以上のような装置を使用してプラズマ処理する
場合、反応ガスが流れてくる面の処理は十分効果
がでるが、反対側は効果不十分となる。また小量
生産品であれば、被処理物１ケずつ保持してそれ
を回転させるなどすれば良いが、大量生産品に対
しては、有効な処理法がない。
場合、反応ガスが流れてくる面の処理は十分効果
がでるが、反対側は効果不十分となる。また小量
生産品であれば、被処理物１ケずつ保持してそれ
を回転させるなどすれば良いが、大量生産品に対
しては、有効な処理法がない。
〔考案の目的〕
本考案は、被処理物全面に反応ガスを当て、大
量生産品である被処理物全面にプラズマ処理効果
を出すようにしたマイクロ波プラズマ処理装置を
提供することを目的とする。
量生産品である被処理物全面にプラズマ処理効果
を出すようにしたマイクロ波プラズマ処理装置を
提供することを目的とする。
本考案はマイクロ波発振機と、この発振機に接
続されたマイクロ波プラズマ発生炉と、このマイ
クロ波プラズマ発生炉を貫通して設けられた誘電
体製プラズマ発生管と、このプラズマ発生管に接
続されたプラズマ処理室を有するマイクロ波プラ
ズマ処理装置においては、プラズマ処理室に被処
理物を揺動させる装置を設けたことを特徴とする
マイクロ波プラズマ処理装置にある。
続されたマイクロ波プラズマ発生炉と、このマイ
クロ波プラズマ発生炉を貫通して設けられた誘電
体製プラズマ発生管と、このプラズマ発生管に接
続されたプラズマ処理室を有するマイクロ波プラ
ズマ処理装置においては、プラズマ処理室に被処
理物を揺動させる装置を設けたことを特徴とする
マイクロ波プラズマ処理装置にある。
本考案の実施例を第１図、第２図により説明す
る。
る。
ボール状、円筒状などのような転動しやすい被
処理物４１を載置したトレイ４２が、プラズマ処
理室４０に固着されている断面Ｌ字状のガイドレ
ール４３上に置かれいる。このガイドレール４３
はＬ字状部が対となり互いに対向して内側に突出
片を有する。トレイ４２の図面上、左右には下方
に押上棒４４ａ，４４ｂがそれぞれ固定され、シ
ーソーバー４５の両端部に固着されている。シー
ソーバー４５は、その略中心部がプラズマ処理室
４０に配されたブラケツト（図示せず）などによ
り固定された支点ピン４６に揺動自在に固定され
ており、シーソーバー４５の一端部は上・下駆動
装置４９が、コネクタ・ロツド４７、気密シヤフ
ト４８を介して接続されシーソーバー４５の他端
部は遊端部となつている。気密シヤフト４８部
は、オイルシール、Ｏ−リングなどを用いて空気
混入を防止する構造をとる。なお、上・下駆動装
置４９は、図示しないエヤーシリンダ、油圧シリ
ンダ、雄・雌ネジ、ラツク・ピニオンなどを用い
て行う。
処理物４１を載置したトレイ４２が、プラズマ処
理室４０に固着されている断面Ｌ字状のガイドレ
ール４３上に置かれいる。このガイドレール４３
はＬ字状部が対となり互いに対向して内側に突出
片を有する。トレイ４２の図面上、左右には下方
に押上棒４４ａ，４４ｂがそれぞれ固定され、シ
ーソーバー４５の両端部に固着されている。シー
ソーバー４５は、その略中心部がプラズマ処理室
４０に配されたブラケツト（図示せず）などによ
り固定された支点ピン４６に揺動自在に固定され
ており、シーソーバー４５の一端部は上・下駆動
装置４９が、コネクタ・ロツド４７、気密シヤフ
ト４８を介して接続されシーソーバー４５の他端
部は遊端部となつている。気密シヤフト４８部
は、オイルシール、Ｏ−リングなどを用いて空気
混入を防止する構造をとる。なお、上・下駆動装
置４９は、図示しないエヤーシリンダ、油圧シリ
ンダ、雄・雌ネジ、ラツク・ピニオンなどを用い
て行う。
プラズマ処理室４０には、排気装置５０が接続
され、この排気装置５０は処理室４０内の排気お
よび反応ガスの輸送に用いられる。プラズマシヤ
ワー３９は、プラズマ化した反応ガスを被処理物
４１に当てるためのもので、プラズマ処理室４０
に貫通・保持されている。このプラズマシヤワー
３９にはプラズマ発生管３７が連設されており、
プラズマ発生管３７の他方は、ガス供給源（図示
せず）が接続されている。プラズマ発生管３７は
マイクロ波空胴を形成しているプラズマ発生炉３
６に貫通・保持されており、整合器３５、導波管
３４、パワーモニター３３、アイソレータ３２な
どを介してマイクロ波発振機３１が連設されてい
る。整合器３５、摺動短絡板３８はマイクロ波電
力を効率良く反応ガスに吸収させるもの、パワー
モニタ３３はマイクロ波電力の吸収具合を見るも
の、アイソレータ３２は異常な反射電力が発生し
た場合、マイクロ波発振機３１を安定に動作させ
るための保護器である。
され、この排気装置５０は処理室４０内の排気お
よび反応ガスの輸送に用いられる。プラズマシヤ
ワー３９は、プラズマ化した反応ガスを被処理物
４１に当てるためのもので、プラズマ処理室４０
に貫通・保持されている。このプラズマシヤワー
３９にはプラズマ発生管３７が連設されており、
プラズマ発生管３７の他方は、ガス供給源（図示
せず）が接続されている。プラズマ発生管３７は
マイクロ波空胴を形成しているプラズマ発生炉３
６に貫通・保持されており、整合器３５、導波管
３４、パワーモニター３３、アイソレータ３２な
どを介してマイクロ波発振機３１が連設されてい
る。整合器３５、摺動短絡板３８はマイクロ波電
力を効率良く反応ガスに吸収させるもの、パワー
モニタ３３はマイクロ波電力の吸収具合を見るも
の、アイソレータ３２は異常な反射電力が発生し
た場合、マイクロ波発振機３１を安定に動作させ
るための保護器である。
以下、本実施の作用について説明する。
板上を転動する複数の円柱状被処理物４１を収
容したトレイ４２をガイドレール４３上に載置し
た後、排気装置５０を動作させ、プラズマ処理室
４０内を排気する。その後、反応ガスを所定量供
給し、プラズマ処理圧力略0.3〜5Torrに調整し
た後、マイクロ波発振機３１を動作させ、マイク
ロ波電力をプラズマ発生炉３６に伝送する。しか
して反応ガスは活性化しプラズマ状態になり、プ
ラズマ処理室４０内へプラズマシヤワー３９を介
して供給される。この時、上・下駆動装置４９を
動作させ、第１図Ａに示すように被処理物４１を
トレイ４２の片側に寄せておく。所定時間経過し
た後、上・下駆動装置４９を反対に動作させ第１
図Ｂのようにトレイ４２を右下りの状態にし、被
処理物４１を転動させる。なお、トレイ４２の揺
動は本実施例では間欠動作の例について説明した
が、被処理物４１が転動するのに追従する時間で
連続的に揺動させてもよい。さらにトレイ４２の
形状は、穴あき、メツシユ状の材料を用い反応ガ
スが通過しやすい構造にしても良い。又、材料も
誘電体、金属製でも良く、金属製の場合、テフロ
ンコーテイングしてもよい。
容したトレイ４２をガイドレール４３上に載置し
た後、排気装置５０を動作させ、プラズマ処理室
４０内を排気する。その後、反応ガスを所定量供
給し、プラズマ処理圧力略0.3〜5Torrに調整し
た後、マイクロ波発振機３１を動作させ、マイク
ロ波電力をプラズマ発生炉３６に伝送する。しか
して反応ガスは活性化しプラズマ状態になり、プ
ラズマ処理室４０内へプラズマシヤワー３９を介
して供給される。この時、上・下駆動装置４９を
動作させ、第１図Ａに示すように被処理物４１を
トレイ４２の片側に寄せておく。所定時間経過し
た後、上・下駆動装置４９を反対に動作させ第１
図Ｂのようにトレイ４２を右下りの状態にし、被
処理物４１を転動させる。なお、トレイ４２の揺
動は本実施例では間欠動作の例について説明した
が、被処理物４１が転動するのに追従する時間で
連続的に揺動させてもよい。さらにトレイ４２の
形状は、穴あき、メツシユ状の材料を用い反応ガ
スが通過しやすい構造にしても良い。又、材料も
誘電体、金属製でも良く、金属製の場合、テフロ
ンコーテイングしてもよい。
本考案によるマイクロ波プラズマ処理装置を用
いれば、被処理物が転動するものであれば、全面
効果的にプラズマ処理することができる。さら
に、大量生産品を人手をわずらはさずに、しかも
複雑な機構を用いることなく簡単にプラズマ処理
をする装置を提供されたものである。
いれば、被処理物が転動するものであれば、全面
効果的にプラズマ処理することができる。さら
に、大量生産品を人手をわずらはさずに、しかも
複雑な機構を用いることなく簡単にプラズマ処理
をする装置を提供されたものである。
第１図は本考案のマイクロ波プラズマ処理装置
の一実施例を示す縦断面図、第２図は本考案の一
実施例の動作状態を示す断面図、第３図は従来の
マイクロ波プラズマ処理装置を示す断面図であ
る。 ３１……マイクロ波発振機、３６……プラズマ
発生炉、３７……プラズマ発生管、４０……プラ
ズマ処理室、４１……被処理物、４２……トレ
イ、４４〜４９……揺動装置。
の一実施例を示す縦断面図、第２図は本考案の一
実施例の動作状態を示す断面図、第３図は従来の
マイクロ波プラズマ処理装置を示す断面図であ
る。 ３１……マイクロ波発振機、３６……プラズマ
発生炉、３７……プラズマ発生管、４０……プラ
ズマ処理室、４１……被処理物、４２……トレ
イ、４４〜４９……揺動装置。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) マイクロ波発振機と、この発振機に接続され
たマイクロ波プラズマ発生炉と、このマイクロ
波プラズマ発生炉を貫通して設けられた誘電体
製プラズマ発生管と、このプラズマ発生管に接
続されたプラズマ処理室を有するマイクロ波プ
ラズマ処理装置において、プラズマ処理室に被
処理物を揺動させる装置を設けたことを特徴と
するマイクロ波プラズマ処理装置。 (2) 前記揺動装置は支点の左右にシーソーバーを
有することを特徴とする実用新案登録請求の範
囲第１項記載のマイクロ波プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16862084U JPH029895Y2 (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16862084U JPH029895Y2 (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6183449U JPS6183449U (ja) | 1986-06-02 |
| JPH029895Y2 true JPH029895Y2 (ja) | 1990-03-12 |
Family
ID=30726385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16862084U Expired JPH029895Y2 (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH029895Y2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9266892B2 (en) | 2012-12-19 | 2016-02-23 | Incyte Holdings Corporation | Fused pyrazoles as FGFR inhibitors |
| US9388185B2 (en) | 2012-08-10 | 2016-07-12 | Incyte Holdings Corporation | Substituted pyrrolo[2,3-b]pyrazines as FGFR inhibitors |
| US9533984B2 (en) | 2013-04-19 | 2017-01-03 | Incyte Holdings Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR inhibitors |
| US9580423B2 (en) | 2015-02-20 | 2017-02-28 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR4 inhibitors |
| US11566028B2 (en) | 2019-10-16 | 2023-01-31 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR inhibitors |
| US11591329B2 (en) | 2019-07-09 | 2023-02-28 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR inhibitors |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114450082A (zh) * | 2019-09-25 | 2022-05-06 | 芝浦机械株式会社 | 表面处理装置 |
| JP7430504B2 (ja) * | 2019-09-25 | 2024-02-13 | 芝浦機械株式会社 | 表面処理装置 |
-
1984
- 1984-11-08 JP JP16862084U patent/JPH029895Y2/ja not_active Expired
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9388185B2 (en) | 2012-08-10 | 2016-07-12 | Incyte Holdings Corporation | Substituted pyrrolo[2,3-b]pyrazines as FGFR inhibitors |
| US9266892B2 (en) | 2012-12-19 | 2016-02-23 | Incyte Holdings Corporation | Fused pyrazoles as FGFR inhibitors |
| US9533984B2 (en) | 2013-04-19 | 2017-01-03 | Incyte Holdings Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR inhibitors |
| US9580423B2 (en) | 2015-02-20 | 2017-02-28 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR4 inhibitors |
| US11591329B2 (en) | 2019-07-09 | 2023-02-28 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR inhibitors |
| US11566028B2 (en) | 2019-10-16 | 2023-01-31 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR inhibitors |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6183449U (ja) | 1986-06-02 |
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