JPH0292111A - Analog switching circuit and display using same - Google Patents

Analog switching circuit and display using same

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JPH0292111A
JPH0292111A JP63245446A JP24544688A JPH0292111A JP H0292111 A JPH0292111 A JP H0292111A JP 63245446 A JP63245446 A JP 63245446A JP 24544688 A JP24544688 A JP 24544688A JP H0292111 A JPH0292111 A JP H0292111A
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Japan
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analog switch
voltage
switch circuit
high voltage
signal
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JP63245446A
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Japanese (ja)
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Isamu Oda
勇 織田
Akihiko Konoue
鴻上 明彦
Shigeo Mikoshiba
茂生 御子柴
Takeaki Okabe
岡部 健明
Mitsuzo Sakamoto
光造 坂本
Masayasu Eto
江渡 正容
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To drive the driving element of an output step for a high voltage signal with a low voltage by providing a resistance between a source and a gate and making a driving signal impressed to the gate into a high voltage signal to level-shift a low voltage input signal. CONSTITUTION:An N channel element Q2 of an electric field effect transistor is used as a driving element, a load is connected to a source side, a high voltage pulse signal is impressed from a drain side, and then, in order to conduct and interrupt the high voltage pulse signal to a source side in accordance with the low voltage signal, a low voltage signal superimposed to a high voltage is generated, a current source is controlled by using this and the current flows at a resistance 6 connected between the gate and source of an electric field effect transistor Q2. Thus, by generating the potential difference between the gate and source, the electric field effect transistor Q2 is controlled. Thus, an analog switching circuit, in which the driving element of an output step can be drived for the high voltage signal by a low voltage, can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高電圧の連続または間欠信号を導通もしくは
遮断するためのアナログスイッチ回路およびこれを用い
た表示装置に関し、特に低電圧信号により高電圧パルス
信号を制御するに好適なアナログスイッチ回路およびこ
れを用いた表示装置に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to an analog switch circuit for conducting or cutting off continuous or intermittent high-voltage signals, and a display device using the same, and particularly to The present invention relates to an analog switch circuit suitable for controlling voltage pulse signals and a display device using the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、半導体素子により、連続する信号を導通または遮
断する回路については、例えば、立用著rFETの使い
方j(CQ出出版198作頁に記載されている如く、一
般に、高速で導通。
Conventionally, circuits that conduct or interrupt continuous signals using semiconductor devices generally conduct at high speed, as described in Ryuyo's How to Use rFETs (CQ Publishing, p. 198).

遮断する半導体素子として、接合形電界効果トランジス
タやMO8形電界効果トランジスタが使われている。
Junction type field effect transistors and MO8 type field effect transistors are used as semiconductor elements for blocking.

この場合、Pチャンネル形では、信号源をソース側から
注入し、負荷をトレイン側に接続して導通する期間だけ
ゲート電圧をソースより高めるようにゲート電圧を印加
していた。すなわち、ゲートに印加する期間だけ、ドレ
イン・ソース間の抵抗が減少し、トランジスタは導通状
態となり、ソースに印加した信号がドレイン側に導通す
る作用を利用していた。
In this case, in the P-channel type, a signal source is injected from the source side, a load is connected to the train side, and a gate voltage is applied such that the gate voltage is higher than the source only during the conduction period. That is, the resistance between the drain and the source decreases during the period when the signal is applied to the gate, and the transistor becomes conductive, making use of the effect that the signal applied to the source conducts to the drain side.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来技術は、一般には20〜30V程度の電圧まで
を導通,遮断するように構成されており、これ以上の高
電圧信号を導通,遮断する点については配慮がなされて
おらず、例えば、これを、プラズマデイスプレィのパネ
ル表示用に用いた場合には,200〜300■の高電圧
が印加され、ゲート・ソース間が絶縁破壊するという問
題があった。
The above-mentioned conventional technology is generally configured to conduct or cut off voltages up to about 20 to 30V, and no consideration is given to conducting or cutting off higher voltage signals. When used for displaying a plasma display panel, a high voltage of 200 to 300 μm is applied, resulting in dielectric breakdown between the gate and source.

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、従来の技術における上記問題を解消し、
高電圧信号に対して、出力段の駆動素子を低電圧により
駆動することが可能な、アナログスイッチ回路およびこ
れを用いた表示装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to solve the above problems in the conventional technology,
An object of the present invention is to provide an analog switch circuit that can drive an output stage drive element with a low voltage in response to a high voltage signal, and a display device using the same.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の上記目的は、電圧制御素子としての電界効果ト
ランジスタ、電流制御素子としてのトランジスタ等の3
端子制御素子を駆動素子として用い、そのゲートまたは
ベースの電圧を、高電圧上に重畳された低電圧信号で制
御する如く構成したことを特徴とするアナログスイッチ
回路およびこれを用いた表示装置によって達成される。
The above object of the present invention is to provide a field effect transistor as a voltage control element, a transistor as a current control element, etc.
Achieved by an analog switch circuit characterized in that a terminal control element is used as a drive element, and the gate or base voltage is controlled by a low voltage signal superimposed on a high voltage, and a display device using the same. be done.

〔作用〕[Effect]

駆動素子として電界効果トランジスタのNチャンネル素
子を用い、ソース側に負荷を接続してドレイン側から高
電圧パルス信号を印加する場合を例にとれば、上記高電
圧パルス信号を、低圧の信号に従ってソース側へ導通,
遮断するには、高電圧に重畳された低圧信号を作り、こ
れを用いて電流源を制御して、上記電界効果トランジス
タのゲート、ソース間に接続された抵抗に電流を流し、
これにより、ゲート、ソース間に電位差を生じさせるこ
とで、上記電界効果トランジスタを制御することができ
る。
For example, if an N-channel field effect transistor element is used as a driving element, a load is connected to the source side, and a high voltage pulse signal is applied from the drain side, the high voltage pulse signal is applied to the source according to the low voltage signal. conduction to the side,
To cut it off, create a low voltage signal superimposed on the high voltage, use this to control the current source, and cause current to flow through the resistor connected between the gate and source of the field effect transistor.
Thereby, the field effect transistor can be controlled by creating a potential difference between the gate and the source.

この動作は、トランジスタについても同様である。また
、Pチャンネル素子を用いた場合も、同様に動作させる
ことができる。
This operation is similar for transistors as well. Further, even when a P-channel element is used, the same operation can be performed.

本発明に係るアナログスイッチ回路は、これを画像信号
に従って発生する高電圧信号を表示素子に印加する表示
装置の表示制御回路に好適に利用することができる。ま
た、この際、公知の電力回収回路と組合せて用いると更
に大きな効果を得ることができる。
The analog switch circuit according to the present invention can be suitably used in a display control circuit of a display device that applies a high voltage signal generated in accordance with an image signal to a display element. Further, in this case, even greater effects can be obtained if used in combination with a known power recovery circuit.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示すアナログスイッチ回路
の回路構成図、第2図はその動作タイミングを示すタイ
ミングチャートである。
FIG. 1 is a circuit configuration diagram of an analog switch circuit showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a timing chart showing its operation timing.

第1図において、Qlは前述の電流回路用バイポーラト
ランジスタとしてのPNPN上形ンジスタ(以下、単に
「トランジスタ」という)、また、Q2は高電圧信号を
導通もしくは遮断する駆動素子としてのNチャンネルM
O8FET(以下、単にrFETJという)を示してお
り、CQは容量性負荷を示している。
In FIG. 1, Ql is a PNPN transistor (hereinafter simply referred to as a "transistor") as the above-mentioned bipolar transistor for the current circuit, and Q2 is an N-channel M as a drive element that conducts or cuts off a high voltage signal.
It shows an O8FET (hereinafter simply referred to as rFETJ), and CQ shows a capacitive load.

なお、1は低圧入力信号vAの入力端子、2はホトカッ
プラ、4はトランジスタQ1の蓄積効果を除去するため
のスピードアップ回路、7は高電圧パルスVDが印加さ
れる入力端子、8はFETQ2に本来寄生するボディド
レインダイオード、9はグランドを示している。■、4
.vFおよびVLは電源、3,5,6.26は抵抗を示
している。
Note that 1 is an input terminal for a low voltage input signal vA, 2 is a photocoupler, 4 is a speed-up circuit for removing the accumulation effect of transistor Q1, 7 is an input terminal to which a high voltage pulse VD is applied, and 8 is an input terminal originally for FET Q2. Parasitic body-drain diode 9 indicates ground. ■, 4
.. vF and VL are power supplies, and 3, 5, and 6.26 are resistances.

本実施例に示す基本回路は、FETQ2がアナログスイ
ッチの役目をし、低圧入力信号vAに従ってFET Q
2のゲート電圧■。により高電圧パルス■。を導通、遮
断し、導通時、ドレインD側からソースS側へ印加して
、容量性負荷CQに給電する機能を有するものである。
In the basic circuit shown in this embodiment, FET Q2 serves as an analog switch, and FET Q2 is switched according to the low voltage input signal vA.
2 gate voltage■. ■ Due to high voltage pulse. It has the function of conducting and interrupting conduction, and when conductive, applies power from the drain D side to the source S side to supply power to the capacitive load CQ.

以下、第2図のタイムチャートに従って、動作を説明す
る。
The operation will be explained below according to the time chart shown in FIG.

まず、パルス状に変化する低圧入力信号vAのT1区間
について説明する。入力端子1に低圧入力信号vAのT
1区間を印加する。この入力信号をホトカップラ2を介
して、高電圧上に重畳する。
First, the T1 section of the low voltage input signal vA that changes in a pulse-like manner will be described. T of low voltage input signal vA at input terminal 1
Apply one section. This input signal is superimposed on a high voltage via a photocoupler 2.

上記ホトカップラ2の動作は、入力端子1に印加した電
圧で、電源VLを制限抵抗26を介して端子22に印加
し、発光素子を介して端子21からグランド9に流す。
The photocoupler 2 operates by applying a power supply VL to the terminal 22 via the limiting resistor 26 at the voltage applied to the input terminal 1, and causing the voltage to flow from the terminal 21 to the ground 9 via the light emitting element.

これにより発光した光が、受光素子に入射する。この受
光素子を高電圧で駆動するために、端子23に高圧電源
VHのプラス側を接続し、端子24に電源VFのマイナ
ス側を接続する。これにより、受光素子はグランド9か
ら浮いた状態で動作することになる。
The light emitted thereby enters the light receiving element. In order to drive this light receiving element with a high voltage, the positive side of a high voltage power source VH is connected to the terminal 23, and the negative side of the power source VF is connected to the terminal 24. As a result, the light receiving element operates in a state floating from the ground 9.

上記受光素子は、光が入射すると、出力段のディジタル
ゲートを動作させる。すなわち、低圧入力信号■9に従
って、ホトカップラ2の出力端子25には、高圧電源V
)l上で電源vFから制限抵抗3を通して電流が流れ、
これにより、第2図に示す電圧VHFが現われる。
When the light receiving element is incident with light, it operates a digital gate at an output stage. That is, according to the low voltage input signal ■9, the output terminal 25 of the photocoupler 2 is connected to the high voltage power supply V.
) A current flows from the power source vF through the limiting resistor 3 on
As a result, the voltage VHF shown in FIG. 2 appears.

この出力電圧VHFを、トランジスタQ1のベースBに
印加する。ここで、トランジスタQ1のスイッチング速
度を上げるため、ベースB側にスピードアップ回路4を
挿入する。本スピードアップ回路4は、抵抗とコンデン
サを並列接続した構成である。
This output voltage VHF is applied to the base B of transistor Q1. Here, in order to increase the switching speed of the transistor Q1, a speed-up circuit 4 is inserted on the base B side. This speed-up circuit 4 has a configuration in which a resistor and a capacitor are connected in parallel.

上記トランジスタQ1は、エミッタ接地形で動作するた
め、ベースBに前述のホトカップラ2の出力電圧V)I
Fの″L′″レベル(V+1−VF)がかかり、オンす
る。エミッタEの電圧は、上記ベース電圧より、シリコ
ン素子であれば約0.7V上昇する。
Since the transistor Q1 operates with a grounded emitter, the output voltage V)I of the photocoupler 2 is applied to the base B.
The "L" level (V+1-VF) of F is applied and turns on. The voltage of the emitter E increases by about 0.7 V from the base voltage in the case of a silicon element.

このエミッタ電圧と高圧電源■。の差分が抵抗5にかか
り、電流10が流れる。
■ This emitter voltage and high voltage power supply. The difference is applied to the resistor 5, and a current 10 flows.

ここで、第2図に示す高電圧パルスvDOTL区間の動
作について説明する。
Here, the operation in the high voltage pulse vDOTL section shown in FIG. 2 will be explained.

トランジスタQ1のコレクタCから電流 ■。が流出し
、FET Q2のゲート入力容量C1に対し充電しなが
ら、抵抗6を通って FET Q2のソースSから前述
のボディドレインダイオード8を介して、高電圧パルス
の“L”レベル(VDL)へ流れ込む。ここで、ボディ
ドレインダイオード8はNチャンネルの場合、ソースS
側がアノードに、ドレインD側がカソードとなる。FE
T Q2がオンする条件は、下記の式(1)のV。の値
がFETQ2の閾値(VT)l)以上となることである
Current from collector C of transistor Q1 ■. flows out, and while charging the gate input capacitance C1 of FET Q2, it passes through resistor 6 from the source S of FET Q2 to the aforementioned body drain diode 8 to the “L” level (VDL) of the high voltage pulse. Flow into. Here, when the body drain diode 8 is an N channel, the source S
The side becomes the anode, and the drain D side becomes the cathode. FE
The condition for turning on TQ2 is V in the following equation (1). The value of is equal to or higher than the threshold value (VT)l) of FETQ2.

第3図に、FET Q2のゲート入力容量C3を充電す
る等価回路を示す。このときのゲート電圧Vaは、下記
の式により決まる。
FIG. 3 shows an equivalent circuit for charging the gate input capacitance C3 of FET Q2. The gate voltage Va at this time is determined by the following formula.

V c = I o R(1−e −勅” ” (1)
ここで、τ=C,R,Rは第1図の抵抗6の値、エ。は
電流を示している。
V c = I o R (1-e - “” (1)
Here, τ=C, R, R are the values of the resistor 6 in FIG. indicates the current.

上記τはFET C2の立上がりの時定数を示している
。抵抗6が例えば30にΩ、C1が例えば100PFで
あるとすると、τは3μsecとなる。
The above τ indicates the time constant of the rising edge of FET C2. Assuming that the resistor 6 is, for example, 30Ω and C1 is, for example, 100PF, τ is 3 μsec.

式(1)から判るように、電流10と時定数τとは、独
立に決めることができる。FET C2を高速に動作さ
せるには、立上がりの時定数τをできるだけ小さくする
必要がある。
As can be seen from equation (1), the current 10 and the time constant τ can be determined independently. In order to operate FET C2 at high speed, it is necessary to make the rising time constant τ as small as possible.

具体的しこは、ゲート入力容量Cユが素子の構造で決ま
るため、抵抗6を小さくしなければならない。しかし、
抵抗6を小さくすると FET C2のゲートG、ソー
スS間の電圧が閾値(vT、4)以下となり、十分導通
しなくなる。そこで電流工。を】 増し、ゲートGとソースS間の電圧を上記閾値以上にす
る。但し、この電圧をあまり高くするとゲートGとソー
スS間の電圧が耐圧(Vaemax)以上となり破損す
るので、これを防止するため、ツェナーダイオードZD
を、ゲートGとソースS間に抵抗6と並列に接続する。
Specifically, since the gate input capacitance C is determined by the structure of the element, the resistor 6 must be made small. but,
When the resistor 6 is made smaller, the voltage between the gate G and source S of the FET C2 becomes less than the threshold value (vT, 4), and it is no longer sufficiently conductive. Electrician there. ] Increase the voltage between the gate G and source S to exceed the above threshold value. However, if this voltage is made too high, the voltage between the gate G and the source S will exceed the withstand voltage (Vaemax) and cause damage, so to prevent this, the Zener diode ZD
is connected in parallel with the resistor 6 between the gate G and the source S.

これにより、ゲートGを高速に駆動することができ、ド
レインD、ソースS間の抵抗6を小さくし、アナログス
イッチ素子であるFET C2は、導通状態となる。
As a result, the gate G can be driven at high speed, the resistance 6 between the drain D and the source S is reduced, and the FET C2, which is an analog switch element, becomes conductive.

次に、第2図に示す高電圧パルスvnのTH区間の動作
について説明する。
Next, the operation in the TH section of the high voltage pulse vn shown in FIG. 2 will be explained.

FET C2は導通状態にある。ドレインDの端子7に
印加した高電圧パルス状のトレイン電圧VDの“H”レ
ベル(vDH)は、ドレインDからソースSに加わり、
前記容量性負荷Cρを充電する。
FET C2 is conducting. The “H” level (vDH) of the high voltage pulsed train voltage VD applied to the terminal 7 of the drain D is applied from the drain D to the source S,
The capacitive load Cρ is charged.

同時に、FET C2のゲート電圧Vcを、高電圧Va
Hまで持上げる。ソースSでの電圧は、第2図のv6波
形の“H”レベル(VS)I)まで上がる。これによっ
ても、容量性負荷C1+が充電される。
At the same time, the gate voltage Vc of FET C2 is changed to the high voltage Va
Raise it to H. The voltage at the source S rises to the "H" level (VS) I) of the v6 waveform in FIG. This also charges the capacitive load C1+.

FET C2は、上述の容量性負荷CQに蓄積した電荷
が放電されるまでの間、導通状態を保持する。容量性負
荷COに蓄積した電荷が放電すると、トランジスタQ1
では、コレクタCと端子10の電圧が同じになり、オフ
する。FET C2の ドレインDに印加される高電圧
パルスV。は、TL、T。
FET C2 maintains a conductive state until the charge accumulated in the capacitive load CQ described above is discharged. When the charge accumulated in the capacitive load CO is discharged, the transistor Q1
Now, the voltages at collector C and terminal 10 become the same, and the circuit is turned off. High voltage pulse V applied to the drain D of FET C2. TL, T.

を繰り返すため、トランジスタQ1も、それに応=15 じてオン、オフする。In order to repeat this, the transistor Q1 is also Turns on and off.

次に、第2図の低圧入力信号■いのT2区間について説
明する。
Next, the T2 section of the low voltage input signal 1 in FIG. 2 will be explained.

低圧入力信号vAのIf HIIレベル(■L)を、第
1図の入力端子1に印加することにより、ホトカップラ
2の出力端子25に高電圧VHがかかる。トランジスタ
Q1とFET C2は、遮断状態となる。
By applying the If HII level (■L) of the low voltage input signal vA to the input terminal 1 in FIG. 1, a high voltage VH is applied to the output terminal 25 of the photocoupler 2. Transistor Q1 and FET C2 are turned off.

上記容量性負荷Coとゲート入力容量C1に蓄積した電
荷は、前記ボディドレインティオード8を通り、トレイ
ンD側の高電圧パルス状のドレイン電圧vnのLL L
 I+レベル(■DL)へ向かってTし区間に放電する
。これにより、ソースSの出力電圧v6は、第2図のV
s波形となる。ソースS側の容量性負荷に蓄積していた
電荷が徐々に放電すると、パルスの尖頭値が第2図のP
L、P2のように低くなり、v6ルベルとなる。
The charges accumulated in the capacitive load Co and the gate input capacitance C1 pass through the body-drain diode 8, and the high voltage pulsed drain voltage vn on the train D side is LL L.
It turns T towards I+ level (■DL) and discharges in the section. As a result, the output voltage v6 of the source S is V6 in FIG.
It becomes an s waveform. When the charge accumulated in the capacitive load on the source S side is gradually discharged, the peak value of the pulse becomes P in Figure 2.
It becomes low like L, P2, and becomes v6 level.

上記実施例によれば、200〜300vの高電圧が印加
される場合に、従来は、より複雑な構成を必要としてい
たアナログスイッチを、出力段の駆動素子を低電圧によ
り駆動することが可能な、簡単な構成のものとすること
ができる。
According to the above embodiment, when a high voltage of 200 to 300 V is applied, it is possible to drive an analog switch, which conventionally required a more complicated configuration, by driving the drive element of the output stage with a low voltage. , can have a simple configuration.

次に、前述の電流回路用バイポーラトランジスタとして
、NPN形トランジスタ(以下、単に「トランジスタ」
という)Qllを、また、アナログスイッチ素子にPチ
ャンネルFET(以下、単にrFET」という)C21
を、それぞれ使用した場合について、第4図、第5図を
用いて説明する。
Next, as the above-mentioned bipolar transistor for the current circuit, we will use an NPN transistor (hereinafter simply referred to as a "transistor").
) Qll, and a P-channel FET (hereinafter simply referred to as rFET) C21 as an analog switch element.
The cases in which these are used will be explained with reference to FIGS. 4 and 5.

具体的には、第4図の入力端子400に低圧入力信号V
Bを、FETC21のソースS入力端子403に高電圧
パルス状のソース電圧7日を、それぞれ印加した場合に
おける FETC21の導通区間T11と遮断区間T2
1について説明する。
Specifically, a low voltage input signal V is input to the input terminal 400 in FIG.
Conduction section T11 and cutoff section T2 of FETC 21 when a high voltage pulse-like source voltage is applied to the source S input terminal 403 of FETC 21 for 7 days, respectively.
1 will be explained.

第5図の入力信号VBにおいて、Tl1区間では。In the input signal VB of FIG. 5, in the Tl1 interval.

Vφなるグランド電圧がトランジスタQllに加わり、
オンする。このとき、トランジスタQllのエミッタE
側には、動作するためのバイアス電圧v−5を加えてお
く。トランジスタQllのエミッタE側に、■φよりV
BEだけ低いレベルの電圧がかかる。エミッタ側に取付
けた抵抗REの両端には、(Vap  V−s)の電圧
がかかり、ソースS入力端子403に印加した高電圧パ
ルスに関係なく、電流■oが流れる。これにより、トラ
ンジスタQllと抵抗REで電流源を構成する。
A ground voltage Vφ is applied to the transistor Qll,
Turn on. At this time, the emitter E of the transistor Qll
A bias voltage v-5 for operation is applied to the side. V from ■φ to the emitter E side of the transistor Qll.
A lower level voltage is applied only to BE. A voltage (Vap V-s) is applied to both ends of the resistor RE attached to the emitter side, and a current ■o flows regardless of the high voltage pulse applied to the source S input terminal 403. Thereby, the transistor Qll and the resistor RE constitute a current source.

上記電流10は、ソースS側に印加する高電圧パルス状
のソース電圧v8から抵抗401を通り、トランジスタ
QllのコレクタCからエミッタEを通って、電源v−
5へ流れ込む。抵抗401の両端には電流10により電
圧が発生し、この電圧がFET Q21の閾値電圧以内
の場合、FETQ21はオンする。オンする条件は前記
式(1)に従う。FET Q21をオン状態にし、ソー
ス入力端子403に高電圧パルス状のソース電圧■8の
IIH”レベル(V S H)を印加したときには、ト
ランジスタQllのエミッタE側がグランドレベルに近
いため、コレクタC,エミッタE間に高い電圧が加わる
。このため、トランジスタQllは耐圧の高いトランジ
スタを使用する。
The current 10 flows from the source voltage v8 in the form of a high voltage pulse applied to the source S side, passes through the resistor 401, passes from the collector C of the transistor Qll to the emitter E, and flows through the power source v-
Flows into 5. A voltage is generated across resistor 401 by current 10, and when this voltage is within the threshold voltage of FET Q21, FET Q21 is turned on. The conditions for turning on follow the above equation (1). When FET Q21 is turned on and a high voltage pulse-like source voltage ■8 IIH'' level (V S H) is applied to the source input terminal 403, since the emitter E side of the transistor Qll is close to the ground level, the collector C, A high voltage is applied between the emitter E. Therefore, a transistor with high breakdown voltage is used as the transistor Qll.

上記FETQ21がオンしたときには、ソースSウドレ
イン0間の抵抗値が下がり、ソース入力端子403に印
加された高電圧パルス状のソース電圧Vsを出力端子4
05へ通過させ、いわゆる、FETQ21が導通状態に
なったことを示す。これにより、出力端子405に接続
した容量性負荷CQにFETQ21のドレインDから導
通した出力電圧となるドレイン電圧■。のII H11
レベル(VDH)による電荷が蓄積する。
When the FET Q21 is turned on, the resistance value between source S and drain 0 decreases, and the high voltage pulsed source voltage Vs applied to the source input terminal 403 is transferred to the output terminal 4.
05 to indicate that the so-called FETQ21 has become conductive. As a result, the drain voltage (■) becomes the output voltage that conducts from the drain D of the FET Q21 to the capacitive load CQ connected to the output terminal 405. II H11
Charges are accumulated depending on the level (VDH).

次に、入力信号VBの遮断区間T21について説明する
Next, the cutoff section T21 of the input signal VB will be explained.

入力端子VBにv−5なる電圧を印加すると、トランジ
スタQllはオフする。従って、FET Q21もオフ
する。T11区間で容量性負荷CQに充電した電荷が、
T21区間中にボディドレインダイオード404を通し
て、高電圧パルス状のソース電圧veの“L”レベル(
V e L )へ放電する。これにより、容量性負荷に
蓄積している電荷は110 ++になり、出力端子40
5に現われる電圧も110”になる。
When a voltage of v-5 is applied to the input terminal VB, the transistor Qll is turned off. Therefore, FET Q21 is also turned off. The charge charged to the capacitive load CQ in the T11 section is
During the T21 interval, the high voltage pulse-like source voltage ve is brought to “L” level (
V e L ). As a result, the charge accumulated in the capacitive load becomes 110 ++, and the output terminal 40
The voltage appearing at 5 will also be 110''.

このように、低圧入力信号VBのTl1区間では、FE
TQ21は導通および遮断を繰り返し、動作する。第4
図における、ツェナーダイオード402は、FETQ2
1のゲートG、ソースS間の耐圧保護を目的とするもの
である。
In this way, in the Tl1 section of the low voltage input signal VB, the FE
TQ21 operates by repeatedly conducting and cutting off. Fourth
In the figure, Zener diode 402 is FETQ2
The purpose of this is to protect the breakdown voltage between the gate G and source S of 1.

上記実施例においては、アナログスイッチの負荷として
、容量性負荷について説明したが、抵抗または誘導負荷
についても同様である。
In the above embodiments, a capacitive load has been described as the load of the analog switch, but the same applies to a resistive or inductive load.

次に、先に第1図に示したアナログスイッチ回路に、電
圧ホールド回路を付加した場合について第6図、第7図
に基づいて説明する。
Next, a case where a voltage hold circuit is added to the analog switch circuit shown in FIG. 1 will be described based on FIGS. 6 and 7.

電圧ホールド回路素子として、NチャンネルFET(以
下、単にrFETJという)Q3を使用する場合につい
て述べる。
A case will be described in which an N-channel FET (hereinafter simply referred to as rFETJ) Q3 is used as a voltage hold circuit element.

電流源素子であるトランジスタQ1は、先に第1図に示
したトランジスタQ1と同等の作用を行うものであり、
ここでは、その入力端子80に、第7図に示す電圧VH
Fが印加される。区間T1ではこれも第2図に示した区
間T1と同様に、FETQ2がオンし、ドレインD側に
印加した高電圧パルス状のドレイン電圧V。を、ソース
S側のソース電圧■8として、容量性負荷C,に印加す
る。
The transistor Q1, which is a current source element, performs the same function as the transistor Q1 shown in FIG.
Here, a voltage VH shown in FIG. 7 is applied to the input terminal 80.
F is applied. In section T1, similarly to section T1 shown in FIG. 2, FET Q2 is turned on, and a high voltage pulsed drain voltage V is applied to the drain D side. is applied to the capacitive load C, as the source voltage (18) on the source S side.

次に、区間T2では、これも第2図に示した区間T2と
同様に FET  Q2がオフする。ゲート入力容量と
容量性負荷に、T1期間中蓄積していた電荷が、ボディ
ドレインダイオード8を通り、高電圧パルス状のトレイ
ン電圧■。の“L”レベル(Vat、)へ向って放電す
る。このとき FET Q2のソースS側電位を固定す
るため、電圧ホールト素子として、FET Q3のゲー
トG入力端子81に第7図のホールド入力信号■、を印
加する。■8の“H”レベルにより、FET Q3をオ
ンさせる。
Next, in section T2, FET Q2 is turned off similarly to section T2 shown in FIG. The charge accumulated in the gate input capacitance and capacitive load during the T1 period passes through the body drain diode 8, resulting in a high voltage pulse train voltage ■. is discharged toward the "L" level (Vat, ). At this time, in order to fix the potential on the source S side of the FET Q2, the hold input signal 2 shown in FIG. 7 is applied to the gate G input terminal 81 of the FET Q3 as a voltage hold element. ■Turn on FET Q3 by the "H" level of 8.

これにより、FET Q2のソースSの電位■6は、F
ET Q3のドレインD電位■やとなる。従って、第7
図に示す如く、FET Q2のソースSの電位■8は、
′L”レベル(vE)に固定され、ホールドされる。こ
こでは、FET Q2にNチャンネルFETを取上げて
説明したが、PチャンネルFETについても、同様に、
電圧ホールド回路を付けて動作させることが可能である
。また、FETでなく、トランジスタ(NPN、PNP
)でも同様に機能させることが可能である。
As a result, the potential ■6 of the source S of FET Q2 becomes F
The drain D potential of ET Q3 becomes ■. Therefore, the seventh
As shown in the figure, the potential ■8 of the source S of FET Q2 is
'L' level (vE) is fixed and held.Here, an N-channel FET was used as FET Q2 for explanation, but a P-channel FET is also explained in the same way.
It is possible to operate it by adding a voltage hold circuit. Also, it is not a FET, but a transistor (NPN, PNP
) can also function in the same way.

第8図は、本発明の他の実施例を示す回路構成図である
。先に、第1図に示した回路では、高電圧源側の信号に
より、FET Q2をスイッチしていたが1本実施例の
回路では、グランド電圧側からの信号により、FET 
Q2をスイッチしているものである。抵抗6およびツェ
ナーダイオードZDは、第1図で説明したと同じ働きを
する。
FIG. 8 is a circuit configuration diagram showing another embodiment of the present invention. Earlier, in the circuit shown in FIG. 1, the FET Q2 was switched by the signal from the high voltage source side, but in the circuit of this embodiment, the FET Q2 was switched by the signal from the ground voltage side.
This is what switches Q2. Resistor 6 and Zener diode ZD function in the same manner as described in FIG.

PチャネルFET Q3は第1図に示したトランジスタ
Q1と同様に、電流10をスイッチするための素子で、
この素子の駆動は、上述のFETQ3とカレントミラー
回路を構成しているPチャネルFETQ4とNチャネル
FETQ5により、グランド電圧と 76間の信号電圧
で制御できるようにレベルシフトしている。
P-channel FET Q3 is an element for switching current 10, similar to transistor Q1 shown in FIG.
The drive of this element is level-shifted so that it can be controlled by a signal voltage between the ground voltage and 76 by a P-channel FET Q4 and an N-channel FET Q5, which constitute a current mirror circuit with the FET Q3 described above.

■Hは上記FET Q4.Q3から構成されるカレント
ミラー回路に電流を送るための高圧電源であり、第1図
に示したと同じ役割をしている。また、ドレイン電圧V
。には第2図に示したと同じ波形を印加する。11はN
チャネルFET Q5を駆動するための信号回路で、例
えば、シフトレジスタ回路やラッチ回路を含み、シリア
ル入力される画像信号を直並列変換し、パラレル出力す
る機能を有しており、この信号回路の電源電圧は低圧電
源VLである。
■H is the above FET Q4. This is a high-voltage power supply for sending current to the current mirror circuit composed of Q3, and plays the same role as shown in Figure 1. Also, the drain voltage V
. The same waveform as shown in FIG. 2 is applied to . 11 is N
A signal circuit for driving channel FET Q5, which includes, for example, a shift register circuit and a latch circuit, and has the function of converting serially input image signals from serial to parallel and outputting them in parallel.The power supply of this signal circuit The voltage is a low voltage power supply VL.

本回路では、後述する如く、素子分離用半導体層を、グ
ランド電圧より低い電圧に設定し、たとえ、出力電圧V
。UTがグランド電圧以下に下がっても、素子分離のた
めのPN接合が順バイアスされないようにしているもの
である。
In this circuit, as described later, the element isolation semiconductor layer is set to a voltage lower than the ground voltage, and even if the output voltage V
. This prevents the PN junction for element isolation from being forward biased even if UT drops below the ground voltage.

なお、第8図のダイオードD1は、出力電圧VOUTが
グランド電圧以下に低下量を抑えるために設けたホール
ド回路して働くものである。
Note that the diode D1 in FIG. 8 functions as a hold circuit provided to suppress the amount of drop in the output voltage VOUT below the ground voltage.

第9図は、第8図に示した回路に使用可能な降圧回路の
一構成例を示すものである。キャパシタC2に印加する
クロック信号V。LKと このV。LKをNチャネルF
ET Q6とPチャネルFET Q7で構成されるイン
バータ回路により、符号反転させてダイオード D2の
カソード側に印加した信号とを用い、チャージポンプの
原理により、素子分離用のP型半導体層の電圧を、グラ
ンド電圧より約7■低下させることが可能である。
FIG. 9 shows a configuration example of a step-down circuit that can be used in the circuit shown in FIG. 8. Clock signal V applied to capacitor C2. LK and this V. LK to N channel F
An inverter circuit consisting of an ET Q6 and a P-channel FET Q7 uses a signal whose sign is inverted and applied to the cathode side of the diode D2, and uses the charge pump principle to control the voltage of the P-type semiconductor layer for element isolation. It is possible to lower the voltage by about 7μ below the ground voltage.

第10図に第8図のFET Q2およびダイオドD工を
集積回路化した状態の断面図を示す。前述の如く、ダイ
オードD、は出力電圧■。UTが、グランド電圧以下に
低下量を抑えるためのホールド回路して働く。第10図
に示した回路においては、素子分離用のP型半導体層1
003.1006を、グランド電圧より低い電圧に設定
し、たとえ、出力電圧VOUTがグランド電圧以下に下
がっても、素子分離のためのPN接合部1003と10
04とが順バイアスされないようにしているものである
FIG. 10 shows a sectional view of a state in which the FET Q2 and diode D shown in FIG. 8 are integrated into an integrated circuit. As mentioned above, the diode D has an output voltage ■. The UT functions as a hold circuit to suppress the amount of voltage drop below the ground voltage. In the circuit shown in FIG. 10, a P-type semiconductor layer 1 for element isolation is used.
003.1006 is set to a voltage lower than the ground voltage, and even if the output voltage VOUT falls below the ground voltage, the PN junctions 1003 and 1006 for element isolation are
04 is prevented from being forward biased.

更に詳述すると、本図は、第8図および第9図に示した
VSUBの接続点を示す半導体装置の断面図と電源の結
線図となっており、本図に示す半導体装置では、半導体
素子がP型半導体基板1003とP型拡散層1006に
より分離される構造となっている。本図の左側には、N
型拡散層1011をソースとし、P型拡散層1010を
ボディとしN型拡散層1007とN型埋込層1004を
ドレインとする縦型MoSトランジスタを示し、右側に
は、P型拡散層1010をアノードとし、N型拡散層1
005.1004.1007をカソードとする第8図の
ダイオードD1の断面図を示しているものである。
More specifically, this figure is a cross-sectional view of the semiconductor device showing the connection point of VSUB shown in FIGS. 8 and 9, and a wiring diagram of the power supply. is separated by a P-type semiconductor substrate 1003 and a P-type diffusion layer 1006. On the left side of this diagram, N
A vertical MoS transistor is shown in which the source is the type diffusion layer 1011, the body is the P type diffusion layer 1010, and the drain is the N type diffusion layer 1007 and the N type buried layer 1004. On the right side, the P type diffusion layer 1010 is used as the anode. and N-type diffusion layer 1
8 shows a cross-sectional view of the diode D1 of FIG. 8 with 005.1004.1007 as the cathode.

この半導体装置の断面図自体は、従来から知られている
ものであるが、本構成の特徴は、素子分離用のP型半導
体層1006.1003がグランド電圧と同じではなく
、グランド電圧よりvl、2だけ低く設定されVEII
JBとしである点である。例えば、第8図の出力電圧V
。UTがグランド電圧以下に低下したとき、第10図中
右側のダイオードのカソード領域(1005,1004
,1007)がグランド電圧以下に低下したことになる
The cross-sectional view of this semiconductor device itself has been known for a long time, but the feature of this configuration is that the P-type semiconductor layers 1006 and 1003 for element isolation are not at the same voltage as the ground voltage, but at vl, VEII is set lower by 2
This is a unique point for JB. For example, the output voltage V in FIG.
. When UT drops below ground voltage, the cathode region (1005, 1004) of the diode on the right side in FIG.
, 1007) has fallen below the ground voltage.

従来のように、P型半導体基板をグランド電圧に設定し
た場合には、P型層1003と上記カソード領域との間
のPN接合が順バイアスされ、素子分離用のP型半導体
層1003に電流が流れ、隣接素子の素子分離用PN接
合も順バイアスさせ、誤動作させてしまうという問題が
生ずることになったのを、本構成により防止できるわけ
である。
When the P-type semiconductor substrate is set to the ground voltage as in the conventional case, the PN junction between the P-type layer 1003 and the cathode region is forward biased, and current flows to the P-type semiconductor layer 1003 for element isolation. This configuration can prevent the problem of causing the device isolation PN junctions of adjacent devices to also be forward biased, causing malfunctions.

また、基板に対する接合容量、第10図の例で示せば、
MOSトランジスタのドレイン領域1004と基板10
03との容量が低くなるため、PN接合分離された素子
が高速に動作するという効果もある。
In addition, if the junction capacitance with respect to the substrate is shown in the example of Fig. 10,
MOS transistor drain region 1004 and substrate 10
Since the capacitance with 03 is lowered, there is also the effect that the element separated by the PN junction operates at high speed.

素子分離用のP型半導体層の電圧をグランド電圧よりv
142だけ低く設定するためには、外部電源を使用して
も良いが、先に、第9図に示した如き降圧回路を用いる
と、素子分離用のP型半導体層の電圧Vl’1tlBを
、外部の負電圧源を使用せずに目的を達成することがで
きる。
The voltage of the P-type semiconductor layer for element isolation is lower than the ground voltage by v
In order to set the voltage Vl'1tlB of the P-type semiconductor layer for element isolation as low as 142, an external power supply may be used, but if a step-down circuit as shown in FIG. The purpose can be achieved without using an external negative voltage source.

第11図は、上述の半導体装置の基板電圧印加法の他の
例を示す断面図と電源の結線図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view and a power supply connection diagram showing another example of the substrate voltage application method for the above-described semiconductor device.

本図に示す半導体装置は、N型基板をドレインとした縦
型MOSトランジスタ(図中左側)と、P型エピタキシ
ャル層1002とP型拡散層1006で素子分離された
第10図左側に示したと同様な構成の縦型MOSトラン
ジスタが共存する半導体装置であり、これへの基板電圧
印加法を示している。
The semiconductor device shown in this figure is similar to the one shown in the left side of FIG. 10, which has a vertical MOS transistor (on the left side in the figure) with an N-type substrate as a drain, and elements separated by a P-type epitaxial layer 1002 and a P-type diffusion layer 1006. This is a semiconductor device in which a vertical MOS transistor with a similar configuration coexists, and a method of applying a substrate voltage to this device is shown.

本図においては、上述の如く、P型エピタキシャル層1
002とP型拡散層1006が素子分離用のP型半導体
層であるため、この領域をグランド電圧より下げる結線
としている。本構成例においては、N型層1000をエ
ミッタ、P型層1002をベース、N型層1004をコ
レクタとする寄生バイポーラトランジスタが、元々動作
し易い構造となっている。
In this figure, as mentioned above, the P-type epitaxial layer 1
Since the P-type diffusion layer 1002 and the P-type semiconductor layer 1006 are P-type semiconductor layers for element isolation, this region is connected to a voltage lower than the ground voltage. In this configuration example, a parasitic bipolar transistor having an N-type layer 1000 as an emitter, a P-type layer 1002 as a base, and an N-type layer 1004 as a collector has a structure that is inherently easy to operate.

以上述べた如く、PN接合分離型半導体集積回路装置の
素子分離に用いるP型半導体層をグランド電圧より下げ
ると、出力端子が負荷の状態によりグランド電圧より下
がっても、それ以上グランド電圧を下げて設定すること
により、素子分離用のPN接合が順バイアスされること
により、寄生素子がオン状態になり誤動作することを防
止できるという効果がある。
As mentioned above, if the P-type semiconductor layer used for element isolation in a PN junction isolated semiconductor integrated circuit device is lowered below the ground voltage, even if the output terminal drops below the ground voltage due to the load condition, the ground voltage cannot be lowered any further. This setting has the effect of forward biasing the PN junction for element isolation, thereby preventing parasitic elements from turning on and malfunctioning.

次に、本アナログスイッチ回路を、表示装置に使用した
例について、第12図、第13図を用いて説明する。な
お、本実施例においては、容量性負荷として、放電セル
を使用している。
Next, an example in which the present analog switch circuit is used in a display device will be explained using FIGS. 12 and 13. Note that in this embodiment, a discharge cell is used as the capacitive load.

放電セルを画像信号により駆動する場合、放電セルを、
第12図に示す如く、縦横に配列し、各電極を駆動する
。本実施例の放電セルは、第12図に示す如く、三電極
構造で、アノード電極A、カソード電極にとサブアノー
ド電極SAから成る。本実施例では、放電セルを、第1
2図に示す如く、縦横3列に配置した場合について、説
明する。
When driving a discharge cell with an image signal, the discharge cell is
As shown in FIG. 12, the electrodes are arranged vertically and horizontally, and each electrode is driven. The discharge cell of this embodiment has a three-electrode structure, as shown in FIG. 12, and consists of an anode electrode A, a cathode electrode, and a sub-anode electrode SA. In this example, the discharge cell is
As shown in FIG. 2, a case where the cells are arranged in three rows and columns will be explained.

表示装置の基本構成は、アノード電極Aに供給するアノ
ード駆動系と、カソード電極にへ印加する信号を発生す
る走査信号発生部614と、サブアノード電極SAに印
加する表示信号発生部613から成っている。ここで、
アノード駆動系は、高電圧パルス■7Pを発生し、同時
に、電力を回収する回収回路600と、アノード電極A
の各ラインに与えるための、パルス分配機能を有するア
ナログスイッチ回路群60と、パルス分配信号を与える
ための抜取りパルス信号発生回路615から成る。
The basic configuration of the display device consists of an anode drive system that supplies the anode electrode A, a scanning signal generator 614 that generates a signal to be applied to the cathode electrode, and a display signal generator 613 that applies the signal to the sub-anode electrode SA. There is. here,
The anode drive system includes a recovery circuit 600 that generates a high voltage pulse 7P and at the same time recovers power, and an anode electrode A.
It consists of an analog switch circuit group 60 having a pulse distribution function for supplying pulse distribution signals to each line, and a sampling pulse signal generation circuit 615 for supplying a pulse distribution signal.

一般に、容量性負荷を駆動する場合、高電圧パルスの立
上がり時に、負荷容量と回路の浮遊容量を充電するため
、過渡電流が流れる。一方、高電圧パルスの立下がり時
にも、上記容量に蓄積していた電荷が放電されるため、
過渡電流が流れる。
Generally, when driving a capacitive load, a transient current flows at the rise of a high voltage pulse to charge the load capacitance and the stray capacitance of the circuit. On the other hand, when the high voltage pulse falls, the charge accumulated in the capacitance is discharged, so
Transient current flows.

負荷としての放電セルも容量性負荷であるため、過渡電
流が流れ、電力消費は著しく大きくなる。
Since the discharge cell as a load is also a capacitive load, transient current flows and power consumption becomes significantly large.

上述の如き表示装置の消費電力を少なくするため、一般
に、電力回収回路が使われる。ここで、電力回収回路と
は、例えば、特開昭61−132997号公報に記載さ
れている如き、コイル、コンデンサおよびスイッチング
素子で構成され、負荷に充電された電荷を抵抗で消費す
ることなく、上記コンデンサに蓄積する回路である。
In order to reduce the power consumption of display devices such as those described above, a power recovery circuit is generally used. Here, the power recovery circuit is composed of a coil, a capacitor, and a switching element, as described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 132997/1983, and is configured to prevent the electric charge charged in the load from being consumed by a resistor. This is a circuit that accumulates in the above capacitor.

上記電力回収を効率良く行うためには、電力回収回路を
一つ設け、各アノード電極Aからの高電圧信号を回収、
もしくは、各アノード電極Aへの分配を行うことである
。このためには、高電圧信号を双方向に回収1分配でき
るパルス分配器が必要となる。前述の、本発明に係るア
ナログスイッチは、以下に示す如く、この目的に用いる
ことが可能である。
In order to efficiently perform the above power recovery, one power recovery circuit is provided to recover the high voltage signal from each anode electrode A.
Alternatively, distribution to each anode electrode A may be performed. For this purpose, a pulse distributor that can bidirectionally collect and distribute high voltage signals is required. The aforementioned analog switch according to the present invention can be used for this purpose as shown below.

第12図に示す構成例では、アノード電極Aに印加する
信号の電力を少なくするため、電力回収回路を使用し、
その後段に、アナログスイッチ回路群60を設けている
。以下、画像信号により、放電セルを点灯する場合につ
いて詳細に説明する。
In the configuration example shown in FIG. 12, a power recovery circuit is used to reduce the power of the signal applied to the anode electrode A.
An analog switch circuit group 60 is provided at the subsequent stage. Hereinafter, a case in which a discharge cell is lit using an image signal will be described in detail.

画像信号を放電セルで点灯する場合、一般に、輝度を時
間の長さに変換して表示する方式、例えば、フィールド
内時間分割方式が用いられる。この方式は、1フイール
ドを7種類の期間に分割して、それぞれの長さの比を、
2°=21=22:23:24:25:26(ビットO
〜6)に選ぶ。これら7種類の期間を組合せることによ
り、27=128レベルの階調を表示することができる
When lighting an image signal in a discharge cell, a method is generally used in which luminance is converted into a time length and displayed, such as an intra-field time division method. This method divides one field into seven types of periods and calculates the length ratio of each period.
2°=21=22:23:24:25:26 (bit O
~6). By combining these seven types of periods, 27=128 levels of gradation can be displayed.

第13図に、この方式に基づいたタイムチャートを示す
。放電セルを点灯するには、アノード電極Aとカソード
電極にそれにサブアノード電極SAに電圧が印加されな
ければならない。更に、輝度の情報を表わすには、アノ
ード電極Aに放電を持続させるためのタウンゼントパル
ス■。を印加する必要がある。上記タウンゼントパルス
vTの数は、前述のフィールド内時間分割方式に従って
割当てられる。
FIG. 13 shows a time chart based on this method. In order to light up the discharge cell, a voltage must be applied to the anode electrode A, the cathode electrode, and the sub-anode electrode SA. Furthermore, in order to express brightness information, a Townsend pulse (■) is used to sustain the discharge in the anode electrode A. need to be applied. The number of Townsend pulses vT is allocated according to the intra-field time division scheme described above.

第13図に、上記割当て区間を表わす波形vAT□〜V
AT3を示す。ここでは、1フイールド内のOHから2
4H目までを示している。なお、ここで、IHは63.
5X10−′秒とする。
FIG. 13 shows a waveform vAT□~V representing the above-mentioned allocated section.
AT3 is shown. Here, from OH to 2 in 1 field.
It shows up to the 4th H. In addition, here, IH is 63.
Let it be 5×10-' seconds.

以下、第13図中の区間TDについて説明する。The section TD in FIG. 13 will be explained below.

この時間では、第12図に示した放電セルは、ビット2
情報を点灯する状態にある。すなわち、アノード電極A
の第1ラインA1がvAlで選択状態になり、サブアノ
ード電極SAの第1列SAIにVexパルス電圧70を
印加すると、放電セル604が点灯する。但し、カソー
ド電極Kに第1ラインに1に与えるパルス電圧VK1を
印加しているものとする。
At this time, the discharge cell shown in FIG.
It is in a state where the information is turned on. That is, anode electrode A
When the first line A1 of is in the selected state at vAl and the Vex pulse voltage 70 is applied to the first column SAI of the sub-anode electrodes SA, the discharge cells 604 are lit. However, it is assumed that a pulse voltage VK1 given to the first line 1 is applied to the cathode electrode K.

同様に、第2ラインと第2列、第3ラインと第3列と第
13図のタイムチャートに従って動作が進むと、サブア
ノード電極SAに対して印加パルス電圧71,72.7
3および74、アノード電極A上の電圧パルス列V T
x + V T2 + V T2、カソード電極に一ヒ
の電圧パルス■にxltVKztおよびV K 31に
より、放電セル604 、605 、606 、608
および611が点灯する。この状態を、第12図に斜線
を施して示している。
Similarly, when the operation proceeds according to the second line and the second column, the third line and the third column, and the time chart of FIG. 13, the pulse voltages 71, 72.7
3 and 74, voltage pulse train V T on anode electrode A
x + V T2 + V T2, one voltage pulse on the cathode electrode, xltVKzt and V K 31, discharge cells 604, 605, 606, 608
and 611 are lit. This state is shown with diagonal lines in FIG.

表示信号発生部613では、画像の輝度信号に応じた電
圧パルスV e x、 g V B□およびv83を発
生する。
The display signal generating section 613 generates voltage pulses V e x , g V B □, and v83 according to the brightness signal of the image.

また、走査信号発生部614は、カソード電極にの各ラ
インに加わる電圧パルスV Kl−I V K21 V
 K3を発生させる。更に、第13図の電圧パルスvA
□+VA2+VA3は、抜取りパルス発生回路615で
作る。回収回路600では、電力回収と第13図中の高
電圧パルス■TPを発生する。
Further, the scanning signal generating section 614 generates a voltage pulse V Kl-I V K21 V applied to each line of the cathode electrode.
Generate K3. Furthermore, the voltage pulse vA in FIG.
□+VA2+VA3 is generated by the sampling pulse generation circuit 615. The recovery circuit 600 recovers power and generates the high voltage pulse TP shown in FIG.

アナログスイッチ回路群60は、回収回路600からの
連続したパルス系列vTPを抜取りパルスvA1〜VA
3に従って抜取り、タウンゼントパルスvTを得る。上
記アナログスイッチ回路群60中のアナログスイッチ回
路601は、回収回路600がら高電圧パルスVTPを
端子62で受け、抜取りパルス発生回路615の制御ラ
インC1上に、抜取りパルス信号VA1を端子61で受
信し、高電圧パルスVTPを導通または遮断の制御を行
って、出力ラインA1上に、タウンゼントパルスvTと
して出力する。
The analog switch circuit group 60 extracts the continuous pulse series vTP from the recovery circuit 600 and converts it into pulses vA1 to VA.
3 to obtain Townsend pulse vT. The analog switch circuit 601 in the analog switch circuit group 60 receives the high voltage pulse VTP from the recovery circuit 600 at the terminal 62, and receives the sampling pulse signal VA1 at the terminal 61 on the control line C1 of the sampling pulse generation circuit 615. , conducts or cuts off the high voltage pulse VTP and outputs it as a Townsend pulse vT onto the output line A1.

上記アナログスイッチ回路群60中のアナログスイッチ
回路602および603も同様の動作をする。
Analog switch circuits 602 and 603 in the analog switch circuit group 60 operate similarly.

従って、アノード電極A、カソード電極Kに、第13図
に示す波形が印加され、サブアノード電極SAの信号に
従って、選択された放電セルが点灯し、画像を表示装置
上に再生することができる。
Therefore, the waveform shown in FIG. 13 is applied to the anode electrode A and the cathode electrode K, the selected discharge cell is lit according to the signal of the sub-anode electrode SA, and an image can be reproduced on the display device.

電力回収回路はインダクタを要するため、一般にはIC
化が困難であり、回収回路を各アノード電極毎に設ける
ことは、アノード駆動回路IC化に際しては好ましいこ
とではない。これに対して本発明に係るアナログスイッ
チ回路を設けた場合には、電力回収回路は一つしか要し
ないため、アノード駆動回路のIC化が容易になるとい
う効果がある。
Since power recovery circuits require inductors, they are generally ICs.
Therefore, providing a recovery circuit for each anode electrode is not preferable when implementing an anode drive circuit into an IC. On the other hand, when the analog switch circuit according to the present invention is provided, only one power recovery circuit is required, so there is an effect that the anode drive circuit can be easily integrated into an IC.

また、上記実施例においては、表示素子として放電セル
を用いた場合を説明したが、時系列的にパルス電圧を間
欠的に印加する方式の他の表示素子、例えば、EL(エ
レクトロルミネッセンス)。
Further, in the above embodiments, a discharge cell is used as the display element, but other display elements that apply pulse voltage intermittently in a time-series manner, such as EL (electroluminescence), may also be used.

液晶等のパネルの駆動にも使用することが可能であるこ
とは言うまでもない。
It goes without saying that it can also be used to drive panels such as liquid crystals.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べた如く、本発明によれば、電圧制御素子として
の電界効果トランジスタ、電流制御素子としてのトラン
ジスタ等の3端子制御素子を駆動素子として用い、その
ゲートまたはベースの電圧を、高電圧上に重畳された低
電圧信号で制御する如く構成したので、高電圧信号に対
して、出力段の駆動素子を低電圧により駆動することが
可能なアナログスイッチ回路を実現できるという顕著な
効果を奏するものである。
As described above, according to the present invention, a three-terminal control element such as a field effect transistor as a voltage control element and a transistor as a current control element is used as a drive element, and the voltage of the gate or base is increased above a high voltage. Since it is configured to be controlled by a superimposed low voltage signal, it has the remarkable effect of realizing an analog switch circuit that can drive the drive element of the output stage with a low voltage in response to a high voltage signal. be.

また、本発明に係るアナログスイッチ回路を、表示素子
駆動装置として用いた場合には、該表示素子駆動装置を
容易に半導体化することができ、IC化が可能となると
いう効果もある。なお、この場合には、画像表示装置の
電力回収回路と組合せて使用することができるので、画
像表示装置の表示電力の節減にも効果がある。
Further, when the analog switch circuit according to the present invention is used as a display element driving device, there is an effect that the display element driving device can be easily made into a semiconductor and can be made into an IC. In this case, since it can be used in combination with the power recovery circuit of the image display device, it is also effective in reducing the display power of the image display device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す回路構成図、第2図は
その動作タイミングを示すタイミングチャート、第3図
は第1図に示す回路の充電時の等価回路図、第4図は本
発明の他の実施例を示す回路構成図、第5図はその動作
を示すタイミングチャート、第6図は電圧ホールド回路
を含むアナログスイッチの回路構成図、第7図はその動
作を示すタイミングチャート、第8図は本発明の他の実
施例を示す回路構成図、第9図は第8図に示した回路に
使用可能な降圧回路の一構成例を示す図、第10図は第
8図に示す回路を集積回路化した状態を示す断面図、第
11図は集積回路化した状態を示す他の回路の断面図、
第12図は本発明の応用例としての表示装置の駆動回路
の構成図、第13図はその動作を示すタイミングチャー
トである。 1:入力端子、2:ホトカップラ、8:ボディドレイン
ダイオード、9ニゲランド、Ql e PNP形トラン
ジスタ、Q2:NチャンネルFET、Io:電流、CD
:容量性負荷、ZD:ツェナーダイオード、vA:低圧
入力信号、vDニドレイン電圧、■o:ゲート電圧。 特許出願人 株式会社日立製作所
Fig. 1 is a circuit configuration diagram showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a timing chart showing its operation timing, Fig. 3 is an equivalent circuit diagram of the circuit shown in Fig. 1 during charging, and Fig. 4 is A circuit configuration diagram showing another embodiment of the present invention, FIG. 5 is a timing chart showing its operation, FIG. 6 is a circuit configuration diagram of an analog switch including a voltage hold circuit, and FIG. 7 is a timing chart showing its operation. , FIG. 8 is a circuit configuration diagram showing another embodiment of the present invention, FIG. 9 is a diagram showing an example of the configuration of a step-down circuit that can be used in the circuit shown in FIG. 8, and FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state in which the circuit shown in FIG. 11 is integrated, and FIG.
FIG. 12 is a configuration diagram of a drive circuit for a display device as an application example of the present invention, and FIG. 13 is a timing chart showing its operation. 1: Input terminal, 2: Photocoupler, 8: Body drain diode, 9 Nigerland, Ql e PNP transistor, Q2: N-channel FET, Io: Current, CD
: capacitive load, ZD: Zener diode, vA: low voltage input signal, vD drain voltage, ■o: gate voltage. Patent applicant: Hitachi, Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、Nチャンネル形FETのドレイン側に高電圧パルス
を入力し、ゲートにスイッチング用駆動信号を印加する
如く構成したアナログスイッチ回路において、ソース、
ゲート間に少なくとも抵抗を設けるとともに、前記ゲー
トに印加する駆動信号を、低電圧入力信号をレベルシフ
トした高電圧信号としたことを特徴とするアナログスイ
ッチ回路。 2、Pチャンネル形FETのソース側に高電圧パルスを
入力し、ゲートにスイッチング用駆動信号を印加する如
く構成したアナログスイッチ回路において、ソース、ゲ
ート間に少なくとも抵抗を設けるとともに、前記ゲート
に印加する駆動信号を、低電圧入力信号をレベルシフト
した高電圧信号としたことを特徴とするアナログスイッ
チ回路。 3、前記ゲートに印加する駆動信号が、低電圧入力信号
を光結合素子を介して高電圧信号にレベルシフトし、該
高電圧信号を電流制御素子を介して電流信号としたもの
であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の
アナログスイッチ回路。 4、NPN形トランジスタのコレクタ側に高電圧パルス
を入力し、ベースにスイッチング用駆動信号を印加する
如く構成したアナログスイッチ回路において、エミッタ
、ベース間に少なくとも抵抗を設けるとともに、前記ベ
ースに印加する駆動信号を、低電圧入力信号をレベルシ
フトした高電圧信号としたことを特徴とするアナログス
イッチ回路。 5、PNP形トランジスタのエミッタ側に高電圧パルス
を入力し、ベースにスイッチング用駆動信号を印加する
如く構成したアナログスイッチ回路において、エミッタ
、ベース間に少なくとも抵抗を設けるとともに、前記ベ
ースに印加する駆動信号を、低電圧入力信号をレベルシ
フトした高電圧信号としたことを特徴とするアナログス
イッチ回路。 6、前記ベースに印加する駆動信号が、低電圧入力信号
を光結合素子を介して高電圧信号にレベルシフトし、該
高電圧信号を電流制御素子を介して電流信号としたもの
であることを特徴とする請求項4または請求項5記載の
アナログスイッチ回路。 7、前記FETのゲート入力容量をCi、ゲート、ソー
ス間の抵抗をR、高電圧パルス周期をTとするとき、R
<T/C_iであることを特徴とする請求項1〜請求項
3のいずれかに記載のアナログスイッチ回路。 8、前記トランジスタのベース入力容量をC_i、ベー
ス、エミッタ間の抵抗をR、高電圧パルス周期をTとす
るとき、R<T/C_iであることを特徴とする請求項
4〜請求項6のいずれかに記載のアナログスイッチ回路
。 9、前記FETのゲート閾値電圧をV_T_H、ゲート
、ソース間の耐電圧をV_G_Smax、ゲート、ソー
ス間の抵抗をR、ゲート入力容量をC_i、高電圧パル
ス周期をT、電流をいI_0とするとき、上記V_T_
H、R、C_i、T、I_0、V_G_Smaxの間に
、V_T_H/(1_−e−T/CiR)<I_0R<
V_G_Smax/(1_−e−T/CiR)が成立す
ることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記
載のアナログスイッチ回路。 10、前記トランジスタのベース閾値電圧をV_T_H
、ベース、エミッタ間の耐電圧をV_G_Smax、ベ
ース、エミッタ間の抵抗をR、ベース入力容量をC_i
、高電圧パルス周期をT、電流を1_0とするとき、上
記V_T_H、R、C_i、T、I_0およびV_G_
Smaxの間に、 V_T_H/(1_−e−T/CiR)<I_0R<V
_G_Smax/(1_−e−T/CiR)が成立する
ことを特徴とする請求項4〜請求項6のいずれかに記載
のアナログスイッチ回路。 11、前記FETのゲート閾値電圧をV_T_H、ゲー
ト、ソース間の耐電圧をV_G_Smax、ゲート、ソ
ース間の抵抗をR、ゲート入力容量をCi、ゲート印加
電圧と高電圧パルスの印加時間差をt_0、電流をI_
0とするとき、上記V_T_H、R、C_i、t_0、
V_T_H/(1_−e−T_0/CiR)<I_0R
<V_G_Smax/(1_−e−T_0/CiR)が
成立することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれ
かに記載のアナログスイッチ回路。 12、前記トランジスタのベース閾値電圧をV_T_H
、ベース、エミッタ間の耐電圧をV_G_Smax、ベ
ース、エミッタ間の抵抗をR、ベース入力容量をC_i
、ベース印加電圧と高電圧パルスの印加時間差をt_0
、電流をI_0とするとき、上記V_T_H、R、C_
i、t_0、I_0、V_G_Smaxの間に、V_T
_H/(1_−e−T_0/CiR)<I_0R<V_
G_Smax/(1_−e−T_0/CiR)が成立す
ることを特徴とする請求項4〜請求項6のいずれかに記
載のアナログスイッチ回路。 13、前記FETのソース側に容量性負荷を接続し、該
容量性負荷と並列に電圧ホールド回路を接続したことを
特徴とする請求項1記載のアナログスイッチ回路。 14、前記FETのドレイン側に容量性負荷を接続し、
該容量性負荷と並列に電圧ホールド回路を接続したこと
を特徴とする請求項2記載のアナログスイッチ回路。 15、前記電圧ホールド回路に、前記FETがオンとな
る期間ホールドする入力信号を印加することを特徴とす
る請求項13または請求項14記載のアナログスイッチ
回路。 16、前記トランジスタのエミッタ側に容量性負荷を接
続し、該容量性負荷と並列に電圧ホールド回路を接続し
たことを特徴とする請求項4記載のアナログスイッチ回
路。 17、前記トランジスタのコレクタ側に容量性負荷を接
続し、該容量性負荷と並列に電圧ホールド回路を接続し
たことを特徴とする請求項5記載のアナログスイッチ回
路。 18、集積回路化するに際して、素子分離に用いる半導
体層をグランド電位より下げるように構成したことを特
徴とする請求項1〜請求項17のいずれかに記載のアナ
ログスイッチ回路。 19、前記素子分離に用いる半導体層をグランド電位よ
り下げる手段として、チャージポンプ回路を用いること
を特徴とする請求項18記載のアナログスイッチ回路。 20、放電セルを画像信号により駆動する方式の表示装
置において、表示信号発生手段として、請求項1〜請求
項17のいずれかに記載されたアナログスイッチ回路を
用いることを特徴とする表示装置。 21、前記アナログスイッチ回路に加えて、電力回収回
路を設けたことを特徴とする請求項18記載の表示装置
[Claims] 1. In an analog switch circuit configured to input a high voltage pulse to the drain side of an N-channel FET and apply a switching drive signal to the gate, the source,
An analog switch circuit characterized in that at least a resistor is provided between the gates, and a drive signal applied to the gate is a high voltage signal level-shifted from a low voltage input signal. 2. In an analog switch circuit configured to input a high voltage pulse to the source side of a P-channel FET and apply a switching drive signal to the gate, at least a resistor is provided between the source and the gate, and a high voltage pulse is applied to the gate. An analog switch circuit characterized in that a drive signal is a high voltage signal level-shifted from a low voltage input signal. 3. The drive signal applied to the gate is one in which a low voltage input signal is level-shifted to a high voltage signal via an optical coupling element, and the high voltage signal is converted into a current signal via a current control element. The analog switch circuit according to claim 1 or claim 2, characterized in that: 4. In an analog switch circuit configured such that a high voltage pulse is input to the collector side of an NPN transistor and a switching drive signal is applied to the base, at least a resistor is provided between the emitter and the base, and a drive signal is applied to the base. An analog switch circuit characterized in that the signal is a high voltage signal obtained by level shifting a low voltage input signal. 5. In an analog switch circuit configured to input a high voltage pulse to the emitter side of a PNP transistor and apply a switching drive signal to the base, at least a resistor is provided between the emitter and the base, and the drive signal applied to the base is An analog switch circuit characterized in that the signal is a high voltage signal obtained by level shifting a low voltage input signal. 6. The drive signal applied to the base is one in which a low voltage input signal is level-shifted to a high voltage signal via an optical coupling element, and the high voltage signal is converted into a current signal via a current control element. The analog switch circuit according to claim 4 or claim 5. 7. When the gate input capacitance of the FET is Ci, the resistance between the gate and source is R, and the high voltage pulse period is T, then R
4. The analog switch circuit according to claim 1, wherein <T/C_i. 8. When the base input capacitance of the transistor is C_i, the resistance between the base and the emitter is R, and the high voltage pulse period is T, R<T/C_i. The analog switch circuit described in any of the above. 9. When the gate threshold voltage of the FET is V_T_H, the withstand voltage between the gate and source is V_G_Smax, the resistance between the gate and source is R, the gate input capacitance is C_i, the high voltage pulse period is T, and the current is I_0. , above V_T_
Between H, R, C_i, T, I_0, and V_G_Smax, V_T_H/(1_-e-T/CiR)<I_0R<
4. The analog switch circuit according to claim 1, wherein V_G_Smax/(1_-e-T/CiR) holds true. 10. The base threshold voltage of the transistor is V_T_H
, the withstand voltage between the base and emitter is V_G_Smax, the resistance between the base and emitter is R, and the base input capacitance is C_i
, when the high voltage pulse period is T and the current is 1_0, the above V_T_H, R, C_i, T, I_0 and V_G_
During Smax, V_T_H/(1_-e-T/CiR)<I_0R<V
7. The analog switch circuit according to claim 4, wherein _G_Smax/(1_-e-T/CiR) holds true. 11. The gate threshold voltage of the FET is V_T_H, the withstand voltage between the gate and the source is V_G_Smax, the resistance between the gate and the source is R, the gate input capacitance is Ci, the application time difference between the gate applied voltage and the high voltage pulse is t_0, and the current I_
0, the above V_T_H, R, C_i, t_0,
V_T_H/(1_-e-T_0/CiR)<I_0R
4. The analog switch circuit according to claim 1, wherein <V_G_Smax/(1_-e-T_0/CiR) holds true. 12. The base threshold voltage of the transistor is V_T_H
, the withstand voltage between the base and emitter is V_G_Smax, the resistance between the base and emitter is R, and the base input capacitance is C_i
, the application time difference between the base applied voltage and the high voltage pulse is t_0
, when the current is I_0, the above V_T_H, R, C_
Between i, t_0, I_0, V_G_Smax, V_T
_H/(1_-e-T_0/CiR)<I_0R<V_
7. The analog switch circuit according to claim 4, wherein G_Smax/(1_-e-T_0/CiR) holds true. 13. The analog switch circuit according to claim 1, further comprising a capacitive load connected to the source side of the FET, and a voltage hold circuit connected in parallel with the capacitive load. 14. Connect a capacitive load to the drain side of the FET,
3. The analog switch circuit according to claim 2, further comprising a voltage hold circuit connected in parallel with said capacitive load. 15. The analog switch circuit according to claim 13 or 14, wherein an input signal is applied to the voltage hold circuit to hold the FET for a period in which the FET is turned on. 16. The analog switch circuit according to claim 4, wherein a capacitive load is connected to the emitter side of the transistor, and a voltage hold circuit is connected in parallel with the capacitive load. 17. The analog switch circuit according to claim 5, wherein a capacitive load is connected to the collector side of the transistor, and a voltage hold circuit is connected in parallel with the capacitive load. 18. The analog switch circuit according to any one of claims 1 to 17, wherein the semiconductor layer used for element isolation is configured to have a potential lower than a ground potential when integrated into an integrated circuit. 19. The analog switch circuit according to claim 18, wherein a charge pump circuit is used as means for lowering the potential of the semiconductor layer used for element isolation below ground potential. 20. A display device of a type in which discharge cells are driven by image signals, characterized in that the analog switch circuit according to any one of claims 1 to 17 is used as display signal generating means. 21. The display device according to claim 18, further comprising a power recovery circuit in addition to the analog switch circuit.
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