JPH0287439A - 投射型ブラウン管の冷却装置 - Google Patents
投射型ブラウン管の冷却装置Info
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- JPH0287439A JPH0287439A JP63237976A JP23797688A JPH0287439A JP H0287439 A JPH0287439 A JP H0287439A JP 63237976 A JP63237976 A JP 63237976A JP 23797688 A JP23797688 A JP 23797688A JP H0287439 A JPH0287439 A JP H0287439A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明はプロジェクタ−型テレビにおける投射型ブラウ
ン管を冷却するための新規な冷媒を用いる冷却装置に関
する。
ン管を冷却するための新規な冷媒を用いる冷却装置に関
する。
「従来の技術」
プロジェクタ−型テレビにおける投射型ブラウン管はそ
の蛍光体に対する電子ビームのエネルギーを大きくして
高い輝度の光学像を得るようにしているが、この場合、
蛍光体が塗布された前面のガラスパネルは、その熱伝導
が低いので、特に熱放散がしにくいパネル中央部におけ
る温度上昇が顕著であって、このため蛍光体にいわゆる
温度消光なる現象が生じる。これを防止するために冷却
媒による冷却が多く行われている。
の蛍光体に対する電子ビームのエネルギーを大きくして
高い輝度の光学像を得るようにしているが、この場合、
蛍光体が塗布された前面のガラスパネルは、その熱伝導
が低いので、特に熱放散がしにくいパネル中央部におけ
る温度上昇が顕著であって、このため蛍光体にいわゆる
温度消光なる現象が生じる。これを防止するために冷却
媒による冷却が多く行われている。
ここで投射型ブラウン管の冷却装置に用いる液体として
は、低粘度で自然対流しやすく、熱安定性がよく、かつ
引火し難い透明液体が使用され、水を5〜50重量%含
有するエチレングリコールなどが公知である。
は、低粘度で自然対流しやすく、熱安定性がよく、かつ
引火し難い透明液体が使用され、水を5〜50重量%含
有するエチレングリコールなどが公知である。
また、ガラスの屈折率に近い冷却媒体として特公昭59
−10527号公報には、ベンジルアルコール、安息香
酸メチルなどの例示、特開昭82−102877号公報
には粘度30センチストークス以下のシリコーンオイル
の提案があるが、前記含水エチレングリコールを含めて
、いずれもガラスの屈折率1.53との間に大きな隔た
りがあるか、または用意が低すぎて安全性の点から冷却
媒体として満足する性状を有しない。
−10527号公報には、ベンジルアルコール、安息香
酸メチルなどの例示、特開昭82−102877号公報
には粘度30センチストークス以下のシリコーンオイル
の提案があるが、前記含水エチレングリコールを含めて
、いずれもガラスの屈折率1.53との間に大きな隔た
りがあるか、または用意が低すぎて安全性の点から冷却
媒体として満足する性状を有しない。
[発明が解決しようとする課題]
ここで、投射型ブラウン管用冷却媒体には、以下の特性
が要求される。
が要求される。
a、屈折率がガラスの屈折率1.53に近いことす、低
粘度であること C6難燃性もしくは難引火性であることd、高沸点であ
ること e、41にれた光透過性を有すること などである。
粘度であること C6難燃性もしくは難引火性であることd、高沸点であ
ること e、41にれた光透過性を有すること などである。
冷却媒体とガラスの屈折率が異なると、境界面における
屈折率差に基ずく多重反射が増加して、投射画像の画質
の劣化を招く。現在一般的に使用されている冷却媒体で
あるエチレングリコールと水の混合液(エチレングリコ
ール:水=CI)の屈折率は1.41であり、この場合
、境界面の反射率(R1、R2)は R+= RQ= (1,53−1,41/1.53+
1.41)X 100:0.17(%)となり、境界面
の反射率は計0.34%にも達する。
屈折率差に基ずく多重反射が増加して、投射画像の画質
の劣化を招く。現在一般的に使用されている冷却媒体で
あるエチレングリコールと水の混合液(エチレングリコ
ール:水=CI)の屈折率は1.41であり、この場合
、境界面の反射率(R1、R2)は R+= RQ= (1,53−1,41/1.53+
1.41)X 100:0.17(%)となり、境界面
の反射率は計0.34%にも達する。
したがって十分満足できる画像を得るためにはガラスの
屈折率!、53にできるだけ近い屈折率を有する冷却媒
体が要求される。
屈折率!、53にできるだけ近い屈折率を有する冷却媒
体が要求される。
また、強制循環させるのではないことから、密閉空間内
での自然対流が円滑に進行するために、25°Cにおけ
る粘度が40センチポアズ以下の低粘度品、安全性の点
から難燃性もしくは引火点カ月50℃以上、実作動時の
冷却媒体の温度上昇を考慮して沸点が100℃以上、可
視領域(400nm 〜700nm)に於ける透過率が
98%以上であること等が要求される。
での自然対流が円滑に進行するために、25°Cにおけ
る粘度が40センチポアズ以下の低粘度品、安全性の点
から難燃性もしくは引火点カ月50℃以上、実作動時の
冷却媒体の温度上昇を考慮して沸点が100℃以上、可
視領域(400nm 〜700nm)に於ける透過率が
98%以上であること等が要求される。
しかしながら上記要求性能を全て満足する冷却媒体は未
だ開発されていない。
だ開発されていない。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、下記一般式■の構造を有する化合物が、
前記冷却媒体としての要求特性を全て満足することを初
めて見いだした。
前記冷却媒体としての要求特性を全て満足することを初
めて見いだした。
〔式中、R1はC1〜C6の直鎖または分枝型飽和脂肪
族炭化水素残基、R2、R3’l R4% R5はC,
−C,のアルキル基、また化合物の合計の炭素数は!6
〜20である〕 上記式において化合物の合計の炭素数が15以下では冷
媒化合物の分子量が小さくなり引火点が低下し、一方2
1以上の炭素数では粘度が上昇し、いずれも本発明の冷
媒として適当でない。
族炭化水素残基、R2、R3’l R4% R5はC,
−C,のアルキル基、また化合物の合計の炭素数は!6
〜20である〕 上記式において化合物の合計の炭素数が15以下では冷
媒化合物の分子量が小さくなり引火点が低下し、一方2
1以上の炭素数では粘度が上昇し、いずれも本発明の冷
媒として適当でない。
上記一般式1と同様な基本骨格を存するジアリールアル
カン型の化合物では、その屈折率がガラスの屈折率1.
53より高すぎ、また例えば2個のベンゼン環とも完全
に核水素添加したナフテン型の化合物では屈折率が逆に
低く過ぎて好ましくないそこで上記の構造の化合物のよ
うにジアリールアルカンにおける片方のベンゼン環のみ
が核水素添加された構造の化合物が屈折率、その他の点
から好適な冷却媒体である。これは従来の冷却媒体に使
用されている化合物からは容易には予想できないことで
ある。
カン型の化合物では、その屈折率がガラスの屈折率1.
53より高すぎ、また例えば2個のベンゼン環とも完全
に核水素添加したナフテン型の化合物では屈折率が逆に
低く過ぎて好ましくないそこで上記の構造の化合物のよ
うにジアリールアルカンにおける片方のベンゼン環のみ
が核水素添加された構造の化合物が屈折率、その他の点
から好適な冷却媒体である。これは従来の冷却媒体に使
用されている化合物からは容易には予想できないことで
ある。
上記R2〜R5のアルキル基の具体例としては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、5e
C−ブチル、tert−ブチル等である。これらから適
宜選択すればよい。
、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、5e
C−ブチル、tert−ブチル等である。これらから適
宜選択すればよい。
I’llはメタン、エタン、プロパン、ブタン、イソブ
タンなどの直鎖または分枝型飽和脂肪族炭化水素から水
素が2個引き抜かれて誘導される2価の炭化水素残基で
ある。
タンなどの直鎖または分枝型飽和脂肪族炭化水素から水
素が2個引き抜かれて誘導される2価の炭化水素残基で
ある。
一般式1で示される化合物の代表例としては、次のもの
が挙げられる:フェニルアルキルシクロヘキシルメタン
、シクロへキシルアルキルフェニルメタン、アルキルフ
エニルアルキルシク口ヘキシルメタン、!−フェニルー
!−(アルキルシクロヘキシル)エタン、1−シクロへ
キシル−1−(アルキルフェニル)エタン、■−アルキ
ルフェニルー1−(アルキルフェニル)エタン、1−フ
ニルー2−(アルキルシクロへキシル)エタン、l−シ
クロヘキシル−2−(アルキルフェニル)エタン、l−
アルキルフェニル−2−(アルキルシクロ ルー3ーシクロヘキシルブタン、■ーシクロへキシル−
3−フェニルブタン、!ーアルキルフェニルー3ーシク
ロヘキシルブタン、l−アルキルシクロへキシル−3−
フェニルブタン、 l−フェニル−3−(アルキルシクロヘキシル)ブタン
、■ーシクロヘキシルー3−(アルキルフェニル)ブタ
ン、■ーフェニルー3ーメチルー3ーシクロヘキシルブ
タン、l−シクロへキシル−3−メチル−3−フェニル
ブタン、1−アルキルフェニル−3−メチル−3−シク
ロヘキシルブタン、l−アルキルシクロへキシル−3−
メチル−3−フェニルブタン、2−フェニル−4−シク
ロへキシルペンタン、2−アルキルフェニル−4−シク
ロへキシルペンタン、2−アルキルシクロヘキシルイー
4−フェニルペンタン、2−メチル−2−フェニル−4
−シクロへキシルペンタン、2−メチル−2−シクロへ
キシル−4−フェニルペンタン。
が挙げられる:フェニルアルキルシクロヘキシルメタン
、シクロへキシルアルキルフェニルメタン、アルキルフ
エニルアルキルシク口ヘキシルメタン、!−フェニルー
!−(アルキルシクロヘキシル)エタン、1−シクロへ
キシル−1−(アルキルフェニル)エタン、■−アルキ
ルフェニルー1−(アルキルフェニル)エタン、1−フ
ニルー2−(アルキルシクロへキシル)エタン、l−シ
クロヘキシル−2−(アルキルフェニル)エタン、l−
アルキルフェニル−2−(アルキルシクロ ルー3ーシクロヘキシルブタン、■ーシクロへキシル−
3−フェニルブタン、!ーアルキルフェニルー3ーシク
ロヘキシルブタン、l−アルキルシクロへキシル−3−
フェニルブタン、 l−フェニル−3−(アルキルシクロヘキシル)ブタン
、■ーシクロヘキシルー3−(アルキルフェニル)ブタ
ン、■ーフェニルー3ーメチルー3ーシクロヘキシルブ
タン、l−シクロへキシル−3−メチル−3−フェニル
ブタン、1−アルキルフェニル−3−メチル−3−シク
ロヘキシルブタン、l−アルキルシクロへキシル−3−
メチル−3−フェニルブタン、2−フェニル−4−シク
ロへキシルペンタン、2−アルキルフェニル−4−シク
ロへキシルペンタン、2−アルキルシクロヘキシルイー
4−フェニルペンタン、2−メチル−2−フェニル−4
−シクロへキシルペンタン、2−メチル−2−シクロへ
キシル−4−フェニルペンタン。
一般式!で示される化合物は種々の方法で製造できるが
、代表的にはジアリールアルカンの有する2個のベンゼ
ン環のうち1個のみを選択的に核水素添加する方法(以
下、−核部分核水添と呼称することがある)である。ジ
アリールアルカンの製造方法を含めてその例を次に示す
。
、代表的にはジアリールアルカンの有する2個のベンゼ
ン環のうち1個のみを選択的に核水素添加する方法(以
下、−核部分核水添と呼称することがある)である。ジ
アリールアルカンの製造方法を含めてその例を次に示す
。
例えば、鉱酸(硫酸等)、固体酸(活性白土、酸性白土
、シリカアルミナ等)、フリーデルクラフッ触媒等の酸
触媒の存在下で、アルキルベンゼン類をスチレン類でア
ルキル化し、得られた生成物であるジアリールアルカン
を一核部分核水添して得られるアルキルベンゼン類の例
としては、トルエン、エチルベンゼン、0−11−+p
ーキシレン、クメン、0−、m−、p−メチルエチルベ
ンゼン、1.2.3−、 1.2.4−、1,3。
、シリカアルミナ等)、フリーデルクラフッ触媒等の酸
触媒の存在下で、アルキルベンゼン類をスチレン類でア
ルキル化し、得られた生成物であるジアリールアルカン
を一核部分核水添して得られるアルキルベンゼン類の例
としては、トルエン、エチルベンゼン、0−11−+p
ーキシレン、クメン、0−、m−、p−メチルエチルベ
ンゼン、1.2.3−、 1.2.4−、1,3。
5−トリメチルベンゼン、その他のC.芳香族化合物、
c,o芳香族化合物が挙げられる。スチレン類の例とし
ては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン
、エチルスチレン等が挙げられる。
c,o芳香族化合物が挙げられる。スチレン類の例とし
ては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン
、エチルスチレン等が挙げられる。
他の製造例として、硫酸触媒の存在下、ホルムアルデヒ
ドまたはアセトアルデヒドを使用して、前記アルキルベ
ンゼン類を脱水縮合して得られる生成物であるジアリー
ルアルカンを一核部分核水添して得られる。
ドまたはアセトアルデヒドを使用して、前記アルキルベ
ンゼン類を脱水縮合して得られる生成物であるジアリー
ルアルカンを一核部分核水添して得られる。
また、前記スチレン類を、硫酸、スルホン酸、固体酸(
活性白土、酸性白土、シリカアルミナ等)、フリーゾル
タラフッ触媒等の酸触媒の存在下で、二量化した反応生
成物を、−核部分核水添して得られる。ただし、触媒と
して固体酸を用いる場合には生成した線杖二量体がさら
に分子内アルキル化して環状二量体が副生するのを防止
するためにセロソルブ類他の含酸素化合物による触媒の
活性制御が必要になる。
活性白土、酸性白土、シリカアルミナ等)、フリーゾル
タラフッ触媒等の酸触媒の存在下で、二量化した反応生
成物を、−核部分核水添して得られる。ただし、触媒と
して固体酸を用いる場合には生成した線杖二量体がさら
に分子内アルキル化して環状二量体が副生するのを防止
するためにセロソルブ類他の含酸素化合物による触媒の
活性制御が必要になる。
合成的に製造される以外に副生物として得られるジアリ
ールアルカンを一核部分核水添することもできる。例え
ば、ベンゼンとエチレンからエチルベンゼンを製造する
際に副生する蒸留残さの油状物を精留したものを、さら
に前記酸触媒の存在下で、ブテン、ヘキセン等によりア
ルキル化し、生成物を一核部分核水添して得られる。
ールアルカンを一核部分核水添することもできる。例え
ば、ベンゼンとエチレンからエチルベンゼンを製造する
際に副生する蒸留残さの油状物を精留したものを、さら
に前記酸触媒の存在下で、ブテン、ヘキセン等によりア
ルキル化し、生成物を一核部分核水添して得られる。
一核部分核水添反応には、白金、パラジウム、ニッケル
等の金属、またはその化合物から成る通常の芳香族環水
素化触媒が使用できるが、特に珪藻土担持のニッケル触
媒を使用すれば、水素圧、反応温度などを適宜調節する
ことにより容易に一核部分核水添反応を制御することが
できる。この場合、水添条件として水素圧!0〜30K
g/am2、反応温度100〜200℃が好ましい。
等の金属、またはその化合物から成る通常の芳香族環水
素化触媒が使用できるが、特に珪藻土担持のニッケル触
媒を使用すれば、水素圧、反応温度などを適宜調節する
ことにより容易に一核部分核水添反応を制御することが
できる。この場合、水添条件として水素圧!0〜30K
g/am2、反応温度100〜200℃が好ましい。
上記の水添条件を採用すれば前記ジアリールアルカン類
を選択的に一核部分核水添することは容易である。
を選択的に一核部分核水添することは容易である。
なお、冷却媒体としての水添反応生成物中に若干の未反
応物である未水添ジアリールアルカン類、または完全水
素添加物である三核水添ナフテン類などを含仔しても、
水添反応生成混合物の屈折率が1.53に極めて近けれ
ば何ら支障はない。
応物である未水添ジアリールアルカン類、または完全水
素添加物である三核水添ナフテン類などを含仔しても、
水添反応生成混合物の屈折率が1.53に極めて近けれ
ば何ら支障はない。
もちろん、溶解する限り本発明の目的の範囲内で他の公
知の冷媒化合物を混合することもできる。さらに、公知
の酸化防止剤、紫外線吸収剤等を添加することもできる
。
知の冷媒化合物を混合することもできる。さらに、公知
の酸化防止剤、紫外線吸収剤等を添加することもできる
。
[実施例]
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。な
お、以下の例ではジアリールアルカンの1個のベンゼン
核のみが核水素添加された化合物を一核水添物、2個の
ベンゼン核が核水素添加された化合物を三核水添物と呼
称する。
お、以下の例ではジアリールアルカンの1個のベンゼン
核のみが核水素添加された化合物を一核水添物、2個の
ベンゼン核が核水素添加された化合物を三核水添物と呼
称する。
製豆1ユ
200℃で窒素気流下、24時間乾燥したシリカアルミ
ナ(商品名; l5−28 、触媒化成社製) 200
ccを触媒とした流通系装置で、0−キシレンをスチレ
ンによりアルキル下した。反応条件は次のようである。
ナ(商品名; l5−28 、触媒化成社製) 200
ccを触媒とした流通系装置で、0−キシレンをスチレ
ンによりアルキル下した。反応条件は次のようである。
原料中のスチレン濃度 10%
反応温度 160°C
8/V 1.Ohr
m環 rrrm張り込b 4.0 (Mol/Mo
1)得られた生成物から、沸点290℃から305℃(
常圧換算)の留分を蒸留により回収した(収率 18%
)。
1)得られた生成物から、沸点290℃から305℃(
常圧換算)の留分を蒸留により回収した(収率 18%
)。
この留分に2重量%の珪藻土担持ニッケル触媒(商品名
; N−11381日揮化学社製)を加え、オートクレ
ーブ中で、160℃、水素圧10Kg/cm2で6時間
水素添加処理した。得られた生成物をGO1GO質量分
析装置を用いて分析した結果は次のようであった。
; N−11381日揮化学社製)を加え、オートクレ
ーブ中で、160℃、水素圧10Kg/cm2で6時間
水素添加処理した。得られた生成物をGO1GO質量分
析装置を用いて分析した結果は次のようであった。
トシクロへキシル−1−オルソキシリルエタン87%
1−シクロへキシル−■−(ジメチルシクロヘキシル)
エタン 4%l−フェニル−
1−オルソキシリルエタン 4%スチレンダイマーの一
核水添物 5%計 100% 製」L医1 製造例1のオルソキシレンをキシレン類に代え、スチレ
ンによりアラルキル化し、得られた生成物から沸点28
5℃から305°C(常圧換算)の留分を蒸留により回
収した(収率 17%)。回収留分の組成は次のようで
あった。
エタン 4%l−フェニル−
1−オルソキシリルエタン 4%スチレンダイマーの一
核水添物 5%計 100% 製」L医1 製造例1のオルソキシレンをキシレン類に代え、スチレ
ンによりアラルキル化し、得られた生成物から沸点28
5℃から305°C(常圧換算)の留分を蒸留により回
収した(収率 17%)。回収留分の組成は次のようで
あった。
1−フェニル−1−オルソキシリルエタン31%
■−フェニルー1−メタキシリルエタン36%
l−フェニル−1−バラキシリルエタン8%
1−フェニル−1−エチルフェニルエタン19%
スチレンダイマー
6%
計 100%
この留分を、製造例1と同様に水素添加処理をし一核水
添物92%、未水添物4%、三核水添物4%を得た。
添物92%、未水添物4%、三核水添物4%を得た。
鼠亘立1
120°Cで3日間乾燥した活性白土(商品名;ガレオ
ナイト236、水沢化学社製) 200ccを触媒とじ
た流通系装置で、α−メチルスチレンを二■化した。
ナイト236、水沢化学社製) 200ccを触媒とじ
た流通系装置で、α−メチルスチレンを二■化した。
なお触媒は前辺て2.2倍容量のメチルセロソルブで3
時間し湿潤し、活性を調整した。反応条件は次のようで
あった。
時間し湿潤し、活性を調整した。反応条件は次のようで
あった。
反応温度 115°C
8/V 2. 4hr循環/ ’t
RMi張す込h 2 、4 (Vol/vol)得
られた生成物から、沸点250℃(常圧換算)以下の留
分を留出させて、018以上の留分を回収した(収率8
0%)。回収留分をGClGPC、GC質量分析装置を
用いて分析したところ、α−メチルスチレンの二量体9
4%(3%の環状二量体を含む)、二量体6%であった
。
RMi張す込h 2 、4 (Vol/vol)得
られた生成物から、沸点250℃(常圧換算)以下の留
分を留出させて、018以上の留分を回収した(収率8
0%)。回収留分をGClGPC、GC質量分析装置を
用いて分析したところ、α−メチルスチレンの二量体9
4%(3%の環状二量体を含む)、二量体6%であった
。
この留分を製造例1と同様に、温度145°C1水素圧
30Kg/cm”で8時間水素添加処理した。軽質分を
除去し315°C(常圧換算)の留分を回収した。得ら
れた生成物の組成は次のようであった。
30Kg/cm”で8時間水素添加処理した。軽質分を
除去し315°C(常圧換算)の留分を回収した。得ら
れた生成物の組成は次のようであった。
2−メチル−2−フェニル−4−シクロヘキシルペンタ
ン + 2−メチル−2−シクロへキシル−4−フェニ
ルペンタン 75%2−メチル−2−
フェニル−4−フェニルペンタン10% 2−メチル−2−シクロへキシル−4−シクロへキシル
ペンタン 12%その他
39A計100% 製jL伝1 合成ゼオライト触媒を使用し、ベンゼンをエチレンでア
ルキル化した。反応条件は、圧力20Kg/cm”、温
度410℃であった。反応生成物から未反応のベンゼン
、主生成物であるエチルベンゼン、およびポリエチルベ
ンゼン留分を留去し、釜残油として沸点範囲255℃か
ら320℃の留分を得た。この留分をn−ブテン混合物
を用いシリカアルミナ触媒を使用して反応温度180℃
でアルキル化した。次いで反応生成物から減圧蒸留によ
り、常圧換算の沸点範囲が295°Cから330℃であ
る留分を得た。この留分は5ec−ブチルフェニルメタ
ンおよび5eQ−ブチルフェニルエタンを主成分とする
ものであった。
ン + 2−メチル−2−シクロへキシル−4−フェニ
ルペンタン 75%2−メチル−2−
フェニル−4−フェニルペンタン10% 2−メチル−2−シクロへキシル−4−シクロへキシル
ペンタン 12%その他
39A計100% 製jL伝1 合成ゼオライト触媒を使用し、ベンゼンをエチレンでア
ルキル化した。反応条件は、圧力20Kg/cm”、温
度410℃であった。反応生成物から未反応のベンゼン
、主生成物であるエチルベンゼン、およびポリエチルベ
ンゼン留分を留去し、釜残油として沸点範囲255℃か
ら320℃の留分を得た。この留分をn−ブテン混合物
を用いシリカアルミナ触媒を使用して反応温度180℃
でアルキル化した。次いで反応生成物から減圧蒸留によ
り、常圧換算の沸点範囲が295°Cから330℃であ
る留分を得た。この留分は5ec−ブチルフェニルメタ
ンおよび5eQ−ブチルフェニルエタンを主成分とする
ものであった。
この留分を製造例Iと同様に温度180℃、水素圧10
Kg/cm”で4時間水素添加処理を行った。得られた
生成物は一核水添物94%、三核水添物6%であった実
上11 本発明の投射型ブラウン管の一実施例を第1図に従って
説明する。
Kg/cm”で4時間水素添加処理を行った。得られた
生成物は一核水添物94%、三核水添物6%であった実
上11 本発明の投射型ブラウン管の一実施例を第1図に従って
説明する。
ブラウン管!とレンズ2の間に放熱板4を置き、バッキ
ング5でシールした中に液体3を注入する。
ング5でシールした中に液体3を注入する。
6は液体注入用の小穴である。
液体3のブラウン管1の側面側の部分は、蛍光面に電子
が当たって発生した熱を吸収して高温に成るため液体3
に対流が起こる。この熱は放熱板4に伝えられ放熱され
るので、液体3は蛍光面を冷却する働きをする。液体3
は、(1)放熱効果が良<、(2)一定時間における蒸
発量が少なり、(3)屈折率がガラスに極めて近く、か
つ(4)光透過性が良いことが必要条件である。
が当たって発生した熱を吸収して高温に成るため液体3
に対流が起こる。この熱は放熱板4に伝えられ放熱され
るので、液体3は蛍光面を冷却する働きをする。液体3
は、(1)放熱効果が良<、(2)一定時間における蒸
発量が少なり、(3)屈折率がガラスに極めて近く、か
つ(4)光透過性が良いことが必要条件である。
本発明においては、前記の四つの条件を滴定できる液体
3として、それぞれ製造例1〜4の化合物を使用した。
3として、それぞれ製造例1〜4の化合物を使用した。
製造例!〜4の化合物の物性値を第1表に示した。従来
の冷却媒体であるエチレグリコールと水との混合液(エ
チレグリコール:水=4:1)に比較し、屈折率がガラ
スの屈折率に極めて近くなり、液体3とブラウン管3お
よびレンズ2との境界面に於ける多重反射が殆どなくな
り、鮮明な高画質を得ることができた。
の冷却媒体であるエチレグリコールと水との混合液(エ
チレグリコール:水=4:1)に比較し、屈折率がガラ
スの屈折率に極めて近くなり、液体3とブラウン管3お
よびレンズ2との境界面に於ける多重反射が殆どなくな
り、鮮明な高画質を得ることができた。
(以下余白)
第1図は本発明の実施例を示す断面図であり、■はブラ
ウン管、2はレンズ、3は液体、4は放熱板、5はバッ
キング、6は小穴を示す。
ウン管、2はレンズ、3は液体、4は放熱板、5はバッ
キング、6は小穴を示す。
Claims (1)
- (1)ブラウン管を液体冷却媒によって冷却するプロジ
ェクター型テレビにおいて、該冷却媒体として次の一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼式 I 〔式中、R_1はC_1〜C_6の直鎖または分枝型飽
和脂肪族炭化水素残基、R_2、R_3、R_4、R_
5はC_1〜C_7のアルキル基、また化合物の合計の
炭素数は16〜20である〕 にて表わされる化合物を使用することを特徴とする投射
型ブラウン管の冷却装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23797688A JPH06105586B2 (ja) | 1988-09-22 | 1988-09-22 | 投射型ブラウン管の冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23797688A JPH06105586B2 (ja) | 1988-09-22 | 1988-09-22 | 投射型ブラウン管の冷却装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0287439A true JPH0287439A (ja) | 1990-03-28 |
JPH06105586B2 JPH06105586B2 (ja) | 1994-12-21 |
Family
ID=17023265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23797688A Expired - Fee Related JPH06105586B2 (ja) | 1988-09-22 | 1988-09-22 | 投射型ブラウン管の冷却装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06105586B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005328733A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Ccs Inc | 除湿機構及び植物育成装置 |
-
1988
- 1988-09-22 JP JP23797688A patent/JPH06105586B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005328733A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Ccs Inc | 除湿機構及び植物育成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06105586B2 (ja) | 1994-12-21 |
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