JPH0285737A - 薄膜圧力センサ - Google Patents

薄膜圧力センサ

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Publication number
JPH0285737A
JPH0285737A JP25445987A JP25445987A JPH0285737A JP H0285737 A JPH0285737 A JP H0285737A JP 25445987 A JP25445987 A JP 25445987A JP 25445987 A JP25445987 A JP 25445987A JP H0285737 A JPH0285737 A JP H0285737A
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JP
Japan
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pressure sensor
sensor
thin film
film pressure
temperature
Prior art date
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Pending
Application number
JP25445987A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomotake Suzuki
鈴木朝岳
Atsushi Tachika
田近 淳
Makoto Kamaike
蒲池 誠
Aki Tabata
亜紀 田畑
Hiroshi Inagaki
宏 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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Publication date
Application filed by Komatsu Ltd filed Critical Komatsu Ltd
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Priority to PCT/JP1988/000486 priority patent/WO1989003592A1/ja
Priority to EP19880904621 priority patent/EP0380661A4/en
Priority to US07/474,759 priority patent/US5167158A/en
Publication of JPH0285737A publication Critical patent/JPH0285737A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、薄膜圧力センサにおいて、歪ゲージの温度補
償に関するものである。
(従来の技術) 半導体に歪を加えると大きな抵抗変化を示すというピエ
ゾ効果を利用した半導体歪ゲージを用いて、各種のセン
サが開発されている。
その・1つとして、ステンレスでダイヤフラムを構成し
、このダイヤフラム上にwiAa膜を介してアモルファ
スシリコン薄膜等の半導体薄膜からなる歪ゲージを形成
したgiM圧カセンサがある。
例えば、第3図(a)に示すように、この薄膜圧力セン
サは、ステンレス製のダイヤフラム!と、該ダイヤフラ
ム1の表面に絶縁膜2としての酸化シリコン(Si(1
g)膜2を介して形成された多結晶シリコン層パターン
からなる歪ゲージ3と、該歪ゲージ3に給電するための
アルミニウム層パターンからなる電極4と、歪ゲージ3
と電極4とからなるセンサ部5を被膜保護するための窒
化シリコン層からなるパンシベーション膜6とから構成
されている。
そして同図(b)に示すように、センサ部5は、4つの
歪ゲージパターンR1−R4と、これらに給電するため
の6つの電極配線パターンEl−E6とから構成されて
いる。
このセンサ部5を等価回路で示すと、第4図に示すよう
に、ブリッジ回路を構成しており、圧力に起因した歪に
よる多結晶シリコン層からなる歪ゲージ3の抵抗値変化
によって生じる電極配線パターンE2とR5との間の電
圧変化を検出することにより、圧力を測定するようにな
っている。
すなわち、無負荷時(歪のない時)、′各歪ゲージパタ
ーンR1−R4の抵抗値はすべて等しくRとしておく。
仮に、第5図に示すように、圧力Pがダイヤフラムlに
作用したとすると、歪ゲージパターンR1とR3がダイ
ヤフラムの周辺部に、そして歪ゲージパターンR2とR
4とが中央部に配される構造となっているため、歪ゲー
ジパターンR1とR3は、圧縮応力を受け、R十ΔRと
なる一方、歪ゲージパターンR2とR4は、引張り応力
を受けR−ΔRとなる。
電極配線パターンEl、E6間にVinを印加するもの
とすると、歪のない時には、4つの歪ゲージパターンR
1,R2、R3、R4はすべて等しいため、電極配線パ
ターンE2.85間の電位は等しく、これらの間の電圧
はv−0である。
従って、第5図に示す圧力Pのような負荷がかかったと
き、歪ゲージパターンR1,R3はR十ΔR1歪ゲージ
パターンR2、R4はR−ΔRとなり、電極配線パター
ンE2.85間の電圧は V=2 (ΔR/R)  ・Vin となる。このようにして圧力に応じた電圧が出力され、
アンプ部(図示せず)で増幅等の処理をして、外部回路
に出力される。
ところで、半導体素子には、特性の温度依存性が大きい
という欠点がある。しかし、温度に対する繰り返し再現
性も優れており、補償後は、この特性が逆に素子の信顛
性を高める結果になっている。半導体薄膜センサの場合
、半導体薄膜からなる歪ゲージの抵抗と、圧力による抵
抗の変化率とともに、温度で変化する。従って、歪ゲー
ジを組合わせたブリッジ回路では、圧力感度と零点がと
もに温度によって変化してしまう。
温度補償をいかに上手に行うかで圧力センサの精度が決
まるため、従来から、種々様々な方法が試みられてきた
次に示す方法は、定電圧駆動する圧力センサにおいて、
ダイオードまたは、トランジスタと抵抗をブリッジ回路
に組みあわせて歪ゲージの感度の温度変動を相殺するも
のである。
第6図(a)または(b)に示すように、電橋配線パタ
ーンE4、R6間にダイオードDまたは、トランジスタ
T「と抵抗Rとを接線する。
薄膜圧力センサの感度は、第7図(a)に示すように、
温度が高(なるにつれて、直線的に低下してしまう、一
方、ダイオードまたはトランジスタの電圧降下は、温度
が高(なるにつれて低くなり、つまり、第7図(b)に
示すようにダイオードまたはトランジスタを介してセン
サ部にかかる電圧が高くなっていく、センサ部にかかる
電圧が高くなると、感度は向上するので、このような温
度補償用の素子を組みこんだ薄膜圧力センサは温度によ
って感度の変化しない信鎖性の高いものとなる。
このような温度補償用の素子は、第8図に示すように薄
膜圧力センサの外部に組みこまれている。
薄膜圧力センサ100は、ケース101に組みこまれ、
そのケースlotと共に、外部回路のケース102に組
みこまれる。同ケース102の内部にはアンプ105と
、温度補償用素子106が接続されたプリント基板10
4があり、同ケース102は蓋によって閉じられている
プリント基板104上の温度補償用素子106により、
温度補償された薄膜圧力センサ100の出力は、アンプ
105によって増幅され、外部回路(図示せず)に出力
される。
(発明が解決しようとする問題点) 上記説明したような構成で、温度補償用のダイオードま
たはトランジスタと抵抗を、センサ部の外部に設けるこ
とは、センサ部の温度と、温度補償用の素子の温度に差
が生じてしまい、つまり温度補償が正確に行わなれなく
なってしまう。
例えば、温度によってダイオードの電圧降下が変化し、
それによって、センサ部にかかる電圧を変化させ、yI
膜膜圧上センサ感度を一定にしているが、ダイオードの
温度がセンサ部の温度と違うとすると、補償に必要な電
圧より不足して、または必要以上の電圧がセンサ部に印
加され、一定な感度を保つことが不可能となる。
本発明は、上記のべた問題点に鑑みなされたもので、温
度補償を正確に行うことのできる精度の優れたmH圧カ
センサを提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、次のような構造の薄膜圧力センサを提供する
(イ)ダイヤフラムの受圧面の1側に、絶縁膜を介して
歪ゲージを設けている。
(ロ)ダイヤフラムの歪ゲージ形成面に内側に凹部を形
成したシールキャップを前記歪ゲージを覆うように、か
つ、ダイヤフラムの周辺固定部分に接着している。
(ハ)前記シールキャンプの上面に、ポンディングパッ
ドと端子用バンドとからなる外部接続用配線と、温度補
償用素子接続用配線とを形成している。
(ニ)前記シールキャップの上面に、温度補償用素子を
設ける。
(作用) 本発明の薄膜圧力センサの構成では、センサ部と、温度
補償用素子が近接して設けられているため、その温度は
、はとんど等しくなっている。よって、正確な温度補償
を行うことができる。
(実施例) 以下、図面に従って、本発明の一実施例を説明する。
始めに薄膜圧力センサの製造方法を説明する。
第9図は、薄膜圧力センサの11造工程図である。同図
(a)に示すように、ステンレス製のダイヤフラムlの
上に、絶縁膜2として酸化シリコン膜を積層する0次に
、同図(b)に示すように、多結晶シリコン層3′をプ
ラズマCvD法で積層し、同図(C)に示すように、フ
ォトリソグラフィでバターニングし、歪ゲージ3を形成
する。続いて、電極4としてアルミニウム膜を蒸着し、
フォトリソグラフィでパターニングする。最後に、セン
サ部5を保護するためにパッンヘーンヨン6として窒化
シリコンを積層する。
以上で、rA薄膜圧力センサ完成する。同概要図は、第
3図(a)及び(b)のようになる。
次に第1図に示すように、北記完成した薄膜圧力センサ
100のセンサ部を外気から封1トするために、シール
キャップIOを歪ゲージを覆うように、そして周辺固定
部分1′に接着剤等を用いて接着する。
第2図に前記シールキャップ10の詳細を示す。第2図
(a)は、素子がダイオードの場合に於けるシールキャ
ップ10の平面図である第2図(b)のB−B断面図で
ある。また、第2図(C)は素子がトランジスタと抵抗
の場合に於けるシールキャップIOの平面図である第2
図(d)のA−A断面図である。内側に凹部11を設け
たシールキャップ10の上面に、外部接続用配線12と
、素子接続用配線13を形成している。それぞれ、ポン
ディングパッド12’、13’ と、端子用パッド12
#、13″、素子用パッド13′″とから構成されてい
る。
そして、外部接続用配線12の端子用パッド12’ と
、素子接続用配線13の端子パッド13’には、端子1
4がろう付されていて、外部回路に接続できるようにな
っている。
また、素子接続用配線13の素子用パッド134には、
温度補償用素子例えば同図(b)に示すように、ダイオ
ード15(D)が同図(d)に示すようにトランジスタ
l 5 (Tr)と厚膜抵抗15(R)が接続されてい
る。この薄膜圧力センサの回路図は、第6図(a)及び
(b)と同様である。
シールキャンプを接着後、第1図に示すように、薄膜圧
力センサの電極4と、シールキャップ10 kの配線1
2.13のポンディングパッド12’ 、+3’ とを
、各々ボンディングワイヤ16で接続する。この接続は
、超音波ボンディングにより穫めて容易に行うことがで
きる。
先に、端子14と素子15があらかじめ接続されている
ノールキャンプ10を説明したが、ボンディングワイヤ
6で接続後、端子14と素子 15をシールキャップ1
0に接続してもよい。
最後に、ダイヤフラムl上の外周にリング17を接着し
、その内部に樹脂ボッティング1日を充填する。前記ポ
ツティングにより、センサ部5の外気からの気密性は、
さらに完全なものとなる。
以上説明した構成の薄膜圧力センサは温度補償用の素子
がセンサ部5に近接して設けることができる。
(発明の効果) 本発明によれば、温度補償用素子を、シールキャンプ上
に設けたことにより、同素子は薄膜圧力センサのセンサ
部に近接している。よって、センサ部と同素子の温度は
、はぼ等しくなり、センサ部の感度の温度変動は、温度
補償用素子の電圧降下により、はぼ完全に相殺される。
このような構成の薄膜圧力センサは、信頼性が、大幅に
向上される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の薄膜圧力センサの概要図第2図は、
同、シールキャップの概要図第3図に於いて(a)は、
yI膜膜圧上センサ平面図である第3図(b)の断面図 第4図は、同、回路図 第5図は、同、圧力ががかっている状態を示す図 第6図は、温度補償用の素子を組みこんだ回路図 第7図は、(a)fll膜圧上センサ感度と温度の関係
を示す図 (b)温度補償用素子を介してセン サ部にかかる電圧と温度の関 係を示す図 第8図は、薄膜圧力センサを本体に組みこんだ状態を示
す図 7!49図は、薄膜圧力センサの製造工程図である第1
図 第2図(a) 第2日(b) 第2図 (c) 第2図(d) 第3図(b) 第4図 第5図 区   区 第7図(a) 第7図(b) 第8図 寸                ■手続補正書(方
式) %式% 2、発明の名称 薄膜圧力センサ 3、補正をする者 事件上の関係 特許出願人 電話(03)584−7111 4、補正命令の日付(発送口) 平成 1年 3月 7日 5、補正の対象 明細Sの図面の1F11ホな説明の欄 6、補正の内容 第13頁5ないし6行目の「第3図に・・・の断面図」
を「第3図(a)は薄膜圧力センサの断面図、(b)は
薄膜圧力センサの平面図」と補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ダイヤフラムの受圧面の裏側に絶縁膜を介して、歪ゲー
    ジを設けている薄膜圧力センサにおいて、 (イ)内側にダイヤフラム歪ゲージを収納する凹部を形
    成し、かつ上面に外部接続用配線と、温度補償用素子接
    続用配線とを有するシールキャップと (ロ)前記シールキャップ上に、温度補償用素子接続用
    配線を介して接続されている温度補償用素子とからなる
    薄膜圧力センサ。
JP25445987A 1987-10-07 1987-10-07 薄膜圧力センサ Pending JPH0285737A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25445987A JPH0285737A (ja) 1987-10-07 1987-10-07 薄膜圧力センサ
PCT/JP1988/000486 WO1989003592A1 (en) 1987-10-07 1988-05-23 Semiconducteur thin-film pressure sensor and method of producing the same
EP19880904621 EP0380661A4 (en) 1987-10-07 1988-05-23 Semiconducteur thin-film pressure sensor and method of producing the same
US07/474,759 US5167158A (en) 1987-10-07 1988-05-23 Semiconductor film pressure sensor and method of manufacturing same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25445987A JPH0285737A (ja) 1987-10-07 1987-10-07 薄膜圧力センサ

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JPH0285737A true JPH0285737A (ja) 1990-03-27

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ID=17265316

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JP (1) JPH0285737A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102172996A (zh) * 2011-02-14 2011-09-07 上海日进机床有限公司 浸晶切割方法

Cited By (1)

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CN102172996A (zh) * 2011-02-14 2011-09-07 上海日进机床有限公司 浸晶切割方法

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